CN114127026A

CN114127026A - 带表面层的物品

Info

Publication number: CN114127026A
Application number: CN202080051115.7A
Authority: CN
Inventors: 富依勇佑; 星野泰辉; 安乐英一郎; 石关健二; 秋山良司
Original assignee: Asahi Glass Co Ltd
Current assignee: AGC Inc
Priority date: 2019-07-18
Filing date: 2020-07-16
Publication date: 2022-03-01
Anticipated expiration: 2040-07-16
Also published as: CN114127026B; KR20220038281A; JPWO2021010448A1; WO2021010448A1; US20220106495A1

Abstract

提供：表面层的指纹污迹去除性、耐摩擦性以及与保护薄膜的密合性优异的带表面层的物品。一种带表面层的物品，其特征在于，具有基材及设置于基材的表面的表面层，表面层包含在碳数2以上的氟烷基的碳‑碳原子之间具有‑O‑的基团，以包含4.96质量％的氟原子的玻璃作为标准样品，通过荧光X射线分析装置，分别测定表面层中的氟原子强度和标准样品中的氟原子强度，表面层中的氟原子强度除以标准样品中的氟强度而得到的归一化F强度为0.38～0.53。

Description

带表面层的物品

技术领域

本发明涉及在基材的表面设置有包含氟原子的表面层的带表面层的物品。

背景技术

具有全氟聚醚链和水解性甲硅烷基的含氟醚化合物能够在基材的表面形成显示出高润滑性、拒水拒油性等的表面层，可适宜地用于表面处理剂。包含含氟醚化合物的表面处理剂可用作：要求长期维持即使用手指反复摩擦表面层、拒水拒油性也不易降低的性能(耐摩擦性)和通过擦拭而能够容易地去除附着于表面层的指纹的性能(指纹污迹去除性)的用途、例如构成触摸面板的手指触摸面的构件、眼镜片、可穿戴式终端的显示器的表面处理剂。

作为在基材的表面能够形成耐摩擦性和指纹污迹去除性优异的表面层的含氟醚化合物，提出了具有全氟聚醚链和多个水解性甲硅烷基的含氟醚化合物(专利文献1、2)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：国际公开第2017/038832号

专利文献2：国际公开第2017/187775号

发明内容

发明要解决的问题

使用表面处理剂在基材的表面形成表面层后，直到在接下来的工序中使用带表面层的物品的期间，为了保护表面层，有时在表面层的表面贴合能剥离的保护薄膜。

本发明人等对使用包含含氟醚化合物的表面处理剂对基材的整个主表面进行表面处理而得到的带表面层的物品进行了评价，结果证实了表面层与与保护薄膜的密合性不充分。例如，在保存、运输带表面层的物品时，担心保护薄膜从表面层剥离、或灰尘有可能进入保护薄膜与表面层之间形成的间隙中。

本发明的目的在于提供表面层的指纹污迹去除性、耐摩擦性以及与保护薄膜的密合性优异的带表面层的物品。

用于解决问题的方案

本发明提供具有下述[1]～[12]的构成的带表面层的物品。

[1]一种带表面层的物品，其特征在于，

具有基材及设置于前述基材的表面的表面层，

前述表面层包含在碳数2以上的氟烷基的碳-碳原子之间具有-O-的基团，

利用下述方法求出的前述表面层中的归一化F强度为0.38～0.53。

(归一化F强度的求法)

准备包含4.96质量％的氟原子的玻璃(Bureau of Analysed Samples Ltd.公司制、IGS G4 Fluoride Opal Glass)作为标准样品。通过荧光X射线分析装置，分别测定表面层中的氟原子强度和标准样品中的氟原子强度。将表面层中的氟原子强度除以标准样品中的氟强度而得到的值作为归一化F强度。

[2]根据[1]的带表面层的物品，其中，在前述碳数2以上的氟烷基的碳-碳原子之间具有-O-的基团的分子量为1500～4000。

[3]根据[1]或[2]的带表面层的物品，其中，前述表面层是由含氟醚化合物、或者含氟醚组合物形成的表面层，所述含氟醚化合物包含在碳数2以上的氟烷基的碳-碳原子之间具有-O-的基团及反应性甲硅烷基，所述含氟醚组合物包含所述含氟醚化合物。

[4]根据[3]的带表面层的物品，其中，前述含氟醚化合物为下式(1)所示的化合物。

[R^f-]_aQ[-T]_b (1)

其中，

R^f为在碳数2以上的氟烷基的碳-碳原子之间具有-O-的基团(其中，Q侧末端的碳原子上键合有至少1个氟原子。)，具有2个以上R^f时，2个以上的R^f任选相同或不同，

Q为a+b价的连接基团，

T为-Si(R)_3-c(L)_c，具有2个以上T时，2个以上的T任选相同或不同，

R为烷基，

L为水解性基团或羟基，T中的2个以上的L任选相同或不同，

a为1以上的整数，

b为1以上的整数，

c为2或3。

[5]根据[4]的带表面层的物品，其中，前述b为2～20的整数。

[6]根据[4]或[5]的带表面层的物品，其中，前述a为1～6的整数。

[7]根据[4]～[6]中任一项的带表面层的物品，其中，前述R^f为下式(g1)所示的基团。

R^f1-(OR^f2)_m- (g1)

其中，

R^f1为碳数1～6的氟烷基，

R^f2为碳数1～6的氟亚烷基(其中，与Q键合的R^f2的Q侧末端的碳原子上键合有至少1个氟原子。)，

m为1以上的整数，m为2以上时，(OR^f2)_m任选由2种以上的OR^f2构成。

[8]根据[7]的带表面层的物品，其中，前述R^f1为全氟烷基。

[9]根据[7]或[8]的带表面层的物品，其中，前述m为4～40的整数，全部R^f2中的全氟亚烷基的比例为60～100摩尔％。

[10]根据[4]～[9]中任一项的带表面层的物品，其中，前述Q为如下基团：式(g2-1)所示的基团(其中，a＝d1+d3和b＝d2+d4。)、式(g2-2)所示的基团(其中，a＝e1和b＝e2。)、式(g2-3)所示的基团(其中，a＝1和b＝2。)、式(g2-4)所示的基团(其中，a＝h1和b＝h2。)、式(g2-5)所示的基团(其中，a＝i1和b＝i2。)、或式(g2-6)所示的基团(其中，a＝1和b＝1。)。

(-A-Q¹²-)_e1C(R²)_4-e1-e2(-Q²²-)_e2 (g2-2)

-A-Q¹³-N(-Q²³-)₂ (g2-3)

(-A-Q¹⁴-)_h1Z(-Q²⁴-)_h2 (g2-4)

(-A-Q¹⁵-)_i1Si(R³)_4-i1-i2(-Q²⁵-)_i2 (g2-5)

-A-Q²⁶- (g2-6)

其中，

式(g2-1)～式(g2-6)中，A侧与R^f连接，Q²²、Q²³、Q²⁴、Q²⁵或Q²⁶侧与T连接，

A为单键、-C(O)NR⁶-、-C(O)-、-O-或-SO₂NR⁶-，

Q¹¹为单键、-O-、亚烷基、或者在碳数2以上的亚烷基的碳-碳原子之间具有-C(O)NR⁶-、-C(O)-、-NR⁶-或-O-的基团，

Q¹²为单键、亚烷基、或者在碳数2以上的亚烷基的碳-碳原子之间具有-C(O)NR⁶-、-C(O)-、-NR⁶-或-O-的基团，Q具有2个以上Q¹²时，2个以上的Q¹²任选相同或不同，

Q¹³为单键(其中，A仅限于-C(O)-。)、亚烷基、在碳数2以上的亚烷基的碳-碳原子之间具有-C(O)NR⁶-、-C(O)-、-NR⁶-或-O-的基团、或者在亚烷基的N侧的末端具有-C(O)-的基团，

Q¹⁴键合的Z中的原子为碳原子时，Q¹⁴为Q¹²，Q¹⁴键合的Z中的原子为氮原子时，Q¹⁴为Q¹³，Q具有2个以上Q¹⁴时，2个以上的Q¹⁴任选相同或不同，

Q¹⁵为亚烷基、或者在碳数2以上的亚烷基的碳-碳原子之间具有-C(O)NR⁶-、-C(O)-、-NR⁶-或-O-的基团，Q具有2个以上Q¹⁵时，2个以上的Q¹⁵任选相同或不同，

Q²²为亚烷基、在碳数2以上的亚烷基的碳-碳原子之间具有-C(O)NR⁶-、-C(O)-、-NR⁶-或-O-的基团、在亚烷基的未与Si连接一侧的末端具有-C(O)NR⁶-、-C(O)-、-NR⁶-或-O-的基团、或者在碳数2以上的亚烷基的碳-碳原子之间具有-C(O)NR⁶-、-C(O)-、-NR⁶-或-O-且在未与Si连接一侧的末端具有-C(O)NR⁶-、-C(O)-、-NR⁶-或-O-的基团，Q具有2个以上Q²²时，2个以上的Q²²任选相同或不同，

Q²³为亚烷基、或者在碳数2以上的亚烷基的碳-碳原子之间具有-C(O)NR⁶-、-C(O)-、-NR⁶-或-O-的基团，2个Q²³任选相同或不同，

Q²⁴键合的Z中的原子为碳原子时，Q²⁴为Q²²，Q²⁴键合的Z中的原子为氮原子时，Q²⁴为Q²³，Q具有2个以上Q²⁴时，2个以上的Q²⁴任选相同或不同，

Q²⁵为亚烷基、或者在碳数2以上的亚烷基的碳-碳原子之间具有-C(O)NR⁶-、-C(O)-、-NR⁶-或-O-的基团，Q具有2个以上Q²⁵时，2个以上的Q²⁵任选相同或不同，

Q²⁶为亚烷基、或者在碳数2以上的亚烷基的碳-碳原子之间具有-C(O)NR⁶-、-C(O)-、-NR⁶-或-O-的基团，

Z为具有a+b价的环结构的基团，所述a+b价的环结构具有Q¹⁴直接键合的碳原子或氮原子且具有Q²⁴直接键合的碳原子或氮原子，

R¹为氢原子或烷基，Q具有2个以上R¹时，2个以上的R¹任选相同或不同，

R²为氢原子、羟基、烷基或酰氧基，

R³为烷基，

R⁶为氢原子、碳数1～6的烷基或苯基，

d1为0～3的整数，d2为0～3的整数，d1+d2为1～3的整数，

d3为0～3的整数，d4为0～3的整数，d3+d4为1～3的整数，

d1+d3为1～5的整数，d2+d4为1～5的整数，

e1为1～3的整数，e2为1～3的整数，e1+e2为3或4，

h1为1以上的整数，h2为1以上的整数，

i1为1～3的整数，i2为1～3的整数，i1+i2为3或4。

[11]根据[4]～[10]中任一项的带表面层的物品，其中，前述L为碳数1～4的烷氧基。

[12]根据[1]～[11]中任一项的带表面层的物品，其为构成触摸面板的手指触摸面的构件。

发明的效果

本发明的带表面层的物品的表面层的指纹污迹去除性、耐摩擦性以及与保护薄膜的密合性优异。

具体实施方式

本说明书中，将式(1)所示的化合物记为化合物(1)。由其它式所示的化合物也同样地记载。

另外，将式(g1)所示的基团记为基团(g1)。由其它式所示的基团也同样地记载。

氧氟亚烷基单元的化学式是氟亚烷基的左侧记载其氧原子而表示者。

本说明书中的以下术语的含义如下所述。

“表面层”是指形成于基材表面的层。

“反应性甲硅烷基”是指水解性甲硅烷基和硅烷醇基(Si-OH)的统称。反应性甲硅烷基为例如式(1)中的T、即-Si(R)_3-c(L)_c。

“水解性甲硅烷基”是指进行水解反应而能形成硅烷醇基的基团。

含氟醚化合物为在碳数2以上的氟烷基的碳-碳原子之间具有-O-的基团的(R^f)的链长不同的多个含氟醚化合物的混合物时，R^f的“分子量”是通过¹H-NMR及¹⁹F-NMR并以末端基为基准求出氧氟亚烷基单元的数量(平均值)而计算出的数均分子量。末端基为例如式(g1a)中的R^f1或式(1)中的T。

含氟醚化合物为单一R^f链长的含氟醚化合物时，R^f的“分子量”是通过¹H-NMR及¹⁹F-NMR来确定R^f的结构而计算出的分子量。

[带表面层的物品]

本发明的带表面层的物品具有基材及设置于基材表面的表面层。

表面层可以形成于基材的一部分表面，也可以形成于基材的整个表面。表面层可以在基材的表面以膜状扩散，也可以以点状分散。

作为基材，可列举出要求赋予拒水拒油性的基材。例如可列举出可能与其它物品(例如触针)、人的手指接触来使用的基材、在操作时可能用人手指握持的基材、可能置于其它物品(例如载置台)上的基材。

作为基材的材料，例如可列举出金属、树脂、玻璃、蓝宝石、陶瓷、石头、它们的复合材料。玻璃可以被化学强化。基材的表面也可以形成SiO₂膜等基底膜。

基底膜优选为含有至少包含硅的氧化物的层，进而可以具有其它元素。通过使基底膜含有氧化硅，从而后述的含氟醚化合物A的反应性甲硅烷基发生脱水缩合，在与基底膜之间形成Si-O-Si键而可形成耐磨耗性优异的表面层。

基底膜中的氧化硅的含量为65质量％以上即可，优选80质量％以上，更优选85质量％以上，进一步优选90质量％以上。氧化硅的含量若为前述范围的下限值以上，则在基底膜中充分地形成Si-O-Si键，充分地确保基底膜的机械特性。氧化硅的含量是从其它元素的总计含量(氧化物的情况进行氧化物换算后的量)的总计中去除了基底膜的质量后的余量。

从表面层的耐久性的方面考虑，基底膜中的氧化物优选进一步含有选自碱金属元素、碱土金属元素、铂族元素、硼、铝、磷、钛、锆、铁、镍、铬、钼和钨中的1种以上的元素。通过含有这些元素，从而使基底膜与前述本化合物的结合增强、耐磨耗性得到改善。

基底膜包含选自铁、镍和铬中的1种以上时，它们的总计含量相对于氧化硅的比例优选10～1100质量ppm，更优选50～1100质量ppm，进一步优选50～500质量ppm，特别优选50～250质量ppm。

基底膜包含选自铝和锆中的1种以上时，它们的总计含量优选10～2500质量ppm，更优选15～2000质量ppm，进一步优选20～1000质量ppm。

基底膜包含碱金属元素时，它们的总计含量优选0.05～15质量％，更优选0.1～13质量％，进一步优选1.0～10质量％。需要说明的是，作为碱金属元素，可列举出锂、钠、钾、铷和铯。

基底膜包含铂族元素时，它们的总计含量优选0.02质量ppm以上且800质量ppm以下，更优选0.04质量ppm以上且600质量ppm以下，进一步优选0.7质量ppm以上且200质量ppm以下。需要说明的是，作为铂族元素，可列举出铂、铑、钌、钯、锇、铱。

基底膜包含选自硼和磷中的1种以上时，从表面层的耐磨耗性的方面考虑，它们的总计含量以硼和磷的总计的摩尔浓度相对于硅的摩尔浓度的比计优选0.003～9，优选0.003～2，进一步优选0.003～0.5。

基底膜包含碱土金属元素时，从表面层的耐磨耗性的方面考虑，它们的总计含量以碱土金属元素的总计的摩尔浓度相对于硅的摩尔浓度的比计优选0.005～5，优选0.005～2，进一步优选0.007～2。需要说明的是，作为碱土金属元素，可列举出锂、钠、钾、铷和铯。

从改善含氟醚化合物A的粘接性、改善物品的拒水拒油性和耐磨耗性的方面考虑，基底膜优选为包含碱金属原子的氧化硅层。其中该氧化硅层中，距离与前述表面层接触的面的深度在0.1～0.3nm的区域内的碱金属原子的浓度的平均值优选为2.0×10¹⁹原子/cm³以上。另一方面，从充分确保氧化硅层的机械特性的方面考虑，前述碱金属原子的浓度的平均值优选为4.0×10²²原子/cm³以下。

基底膜的厚度优选1～200nm，特别优选2～20nm。基底膜的厚度若为前述范围的下限值以上，则容易充分地得到由基底膜带来的粘接性的改善效果。基底膜的厚度若为前述范围的上限值以下，则基底膜本身的耐磨耗性提高。作为测定基底膜的厚度的方法，可列举出基于电子显微镜(SEM、TEM等)观察基底膜的截面的方法、使用光干扰膜厚计、光谱椭偏仪、步进计等的方法。

作为基材，触摸面板用基材、显示器用基材、或眼镜片是适合的，触摸面板用基材是特别适合的。作为触摸面板用基材的材料，优选玻璃或透明树脂。

另外，作为基材，也优选手机(例如智能手机)、便携信息终端(例如平板终端)、游戏机、遥控器等设备中的外饰部分(显示部除外)中使用的、玻璃或树脂薄膜。

表面层包含在碳数2以上的氟烷基的碳-碳原子之间具有-O-的基团(以下也记为R^f。)。即R^f为具有醚性氧原子(-O-)的1价的氟烷基，其碳数为2以上。

作为R^f，从表面层的指纹污迹去除性进一步优异的方面考虑，优选具有多个碳-碳原子之间的-O-的氟聚醚链，从表面层的耐摩擦性和指纹污迹去除性进一步优异的方面考虑，更优选全氟聚醚链。

对于表面层，从表面层的指纹污迹去除性和耐摩擦性进一步优异的方面考虑，优选由后述的含氟醚化合物A、或包含含氟醚化合物A的含氟醚组合物形成。对于在此情况下的表面层，在含氟醚化合物A的水解性甲硅烷基的一部分或全部发生水解反应、且硅烷醇基发生脱水缩合反应的状态下包含具有R^f的含氟醚化合物A。

表面层中的归一化F强度为0.38～0.53、优选0.38～0.51，更优选0.40～0.50，特别优选0.42～0.48。表面层中的归一化F强度若为前述范围的下限值以上，则表面层的指纹污迹去除性和耐摩擦性优异。表面层中的归一化F强度若为前述范围的上限值以下，则表面层与保护薄膜的密合性优异。

表面层中的归一化F强度可利用以下的方法进行测定。将包含规定浓度的氟原子的玻璃作为标准样品。使用荧光X射线分析装置，分别测定表面层中的氟原子强度和标准样品中的氟原子强度。用表面层中的氟原子强度除以标准样品中的氟强度而计算出表面层中的归一化F强度。作为标准样品，使用包含4.96质量％的氟原子的玻璃(Bureau ofAnalysed Samples Ltd.公司制、IGS G4 Fluoride Opal Glass)。测定条件例如设为：使用荧光X射线分析装置(Rigaku Corporation制、ZSX100e)，测定直径：30mm、测定线：F-Kα、过滤器：OUT、狭缝：标准、光谱晶体：RX35(Rigaku Corporation制)、检测器：PC、PHA：100-300、峰角度：38.794deg.(20秒)、B.G.角度：43.000deg.(10秒)。

对于表面层中的归一化F强度，例如有减小R^f的分子量时变小的倾向，增大R^f的分子量时变大的倾向。

另外，对于表面层中的归一化F强度，例如有减少R^f中的氟原子的比例而增加氢原子的比例时变小的倾向，增加R^f中的氟原子的比例而减小氢原子的比例时变大的倾向。

另外，对于表面层中的归一化F强度，例如有减少后述的含氟醚化合物A中反应性甲硅烷基(T)相对于R^f的比例(例如化合物(1)中的b/a的比率)而增加R^f的比例时变大的倾向，增加反应性甲硅烷基(T)相对于R^f的比例而减少R^f的比例时变小的倾向。

R^f的分子量优选1500～4000，更优选1500～3500，特别优选2000～3500。R^f的分子量若为前述范围的下限值以上，则表面层的指纹污迹去除性和耐摩擦性优异。R^f的分子量若为前述范围的上限值以下，则表面层与保护薄膜的密合性优异。

表面层的厚度优选1～100nm，特别优选1～50nm。表面层的厚度若为前述范围的下限值以上，则容易充分地得到基于表面处理的效果。表面层的厚度若为前述范围的上限值以下，则利用效率高。表面层的厚度可以通过使用薄膜解析用X射线衍射计(RIGAKU公司制、ATX-G)，利用X射线反射率法得到反射X射线的干扰图案，并基于干扰图案的振动周期而计算。

使用本组合物所形成的表面层与保护薄膜的密合性优异。作为其理由，可认为原因在于，由于表面层中的氧氟亚烷基链的密度小，因此表面张力增大，与保护薄膜所具有的粘合剂的剥离性降低。作为保护薄膜，可列举出带有粘合剂的树脂薄膜。作为粘合剂，可列举出丙烯酸系粘合剂、氨酯系粘合剂和有机硅系粘合剂，从容易剥离的观点出发，优选丙烯酸系粘合剂。作为树脂薄膜，可列举出聚氯乙烯薄膜、聚乙烯薄膜、聚丙烯薄膜、聚碳酸酯薄膜、聚酯薄膜和聚氨酯薄膜，从容易剥离的观点出发，优选聚氯乙烯薄膜、聚乙烯薄膜和聚丙烯薄膜。

本发明的带表面层的物品例如可以利用下述的方法制造。

·通过使用了后述的含氟醚化合物A、包含含氟醚化合物A的含氟醚组合物、或包含含氟醚化合物A或者含氟醚组合物的涂覆液(优选使用含氟醚化合物A或包含含氟醚化合物A的含氟醚组合物)的干涂法对基材的表面进行处理，在基材的表面形成由含氟醚化合物A或者含氟醚组合物形成的表面层的方法。

·通过使用了含氟醚化合物A、包含含氟醚化合物A的含氟醚组合物、或包含含氟醚化合物A或者含氟醚组合物的涂覆液(优选使用包含含氟醚化合物A或者含氟醚组合物的涂覆液)的湿涂法，将含氟醚化合物A等涂布于基材的表面并进行干燥，在基材的表面形成由含氟醚化合物A或者含氟醚组合物形成的表面层的方法。

作为干涂法，可列举出真空蒸镀、CVD、溅射等方法。作为干涂法，从抑制含氟醚化合物A的分解的方面、及装置的简便性的方面考虑，优选真空蒸镀法。进行真空蒸镀时，可以使用将含氟醚化合物A或者含氟醚组合物浸渗于铁、钢等金属多孔体中而成的粒料状物质。将涂覆液浸渗于铁、钢等金属多孔体中并使液体介质干燥，也可以使用浸渗有含氟醚化合物A或者含氟醚组合物的粒料状物质。

作为湿涂法，可列举出旋转涂布法、擦涂法、喷涂法、刮板涂布法、浸涂法、挤压式涂布法、喷墨法、流涂法、辊涂法、浇铸法、Langmuir-Blodgett膜法、凹印涂布法等。

(含氟醚化合物A)

含氟醚化合物A是具有R^f和反应性甲硅烷基的化合物。

含氟醚化合物A在末端具有R^f。具有R^f的含氟醚化合物A能够形成指纹污迹去除性优异的表面层。

含氟醚化合物A在末端具有反应性甲硅烷基。在末端具有反应性甲硅烷基的含氟醚化合物A与基材进行牢固地化学键合，因此能够形成耐摩擦性优异的表面层。

作为反应性甲硅烷基，为水解性基团和羟基中的任一者或两者与硅原子键合的基团。作为反应性甲硅烷基，例如可列举出后述的式(1)中的T、即-Si(R)_3-c(L)_c。

作为含氟醚化合物A，从表面层的耐摩擦性和指纹污迹去除性进一步优异的方面考虑，优选化合物(1)。

[R^f-]_aQ[-T]b (1)

其中，R^f为在碳数2以上的氟烷基的碳-碳原子之间具有-O-的基团(其中，Q侧末端的碳原子上键合有至少1个氟原子。)，具有2个以上R^f时，2个以上的R^f任选相同或不同，Q为a+b价的连接基团，T为-Si(R)_3-c(L)_c，具有2个以上T时，2个以上的T任选相同或不同，R为烷基，L为水解性基团或羟基，T中的2个以上的L任选相同或不同，a为1以上的整数，b为1以上的整数，c为2或3。

化合物(1)在末端具有R^f。在末端具有R^f的化合物(1)能够形成指纹污迹去除性优异的表面层。

化合物(1)在末端具有反应性甲硅烷基。在末端具有反应性甲硅烷基的化合物(1)与基材进行牢固地化学键合，因此能够形成耐摩擦性优异的表面层。

从容易制造化合物(1)的方面、及表面层的耐摩擦性和指纹污迹去除性进一步优异的方面考虑，a优选1～6，更优选1～4，特别优选为1或2。

从容易制造化合物(1)的方面、以及表面层的耐摩擦性、指纹污迹去除性以及与保护薄膜的密合性的平衡优异的方面考虑，b优选2～20，更优选3～10，特别优选4～8。

减小表面层中的归一化F强度来提高表面层与保护薄膜的密合性时，表面层的耐摩擦性会降低，但通过增加b的数量、即反应性甲硅烷基的数量而容易维持表面层的耐摩擦性。

作为R^f，从表面层的指纹污迹去除性进一步优异的方面考虑，优选基团(g1)。

R^f1-(OR^f2)m- (g1)

其中，R^f1为碳数1～6的氟烷基，R^f2为碳数1～6的氟亚烷基(其中，与Q键合的R^f2的Q侧末端的碳原子上键合有至少1个氟原子。)，m为1以上的整数，m为2以上时，(OR^f2)_m任选由2种以上的OR^f2构成。

R^f1的碳数若为1～6，则表面层的耐摩擦性和指纹污迹去除性进一步优异。从表面层的耐摩擦性和指纹污迹去除性进一步优异的方面考虑，R^f1的氟烷基的碳数优选1～4，特别优选1～3。

作为R^f1，从表面层的耐摩擦性和指纹污迹去除性进一步优异的方面考虑，优选全氟烷基。R^f1为全氟烷基的化合物(1)的末端为CF₃-。根据末端为CF₃-的化合物(1)，由此能够形成低表面能的表面层，因此表面层的耐摩擦性和指纹污迹去除性进一步优异。

作为R^f1，可列举出CF₃-、CF₃CF₂-、CF₃CF₂CF₂-、CF₃CF₂CF₂CF₂-、CF₃CF₂CF₂CF₂CF₂-、CF₃CF₂CF₂CF₂CF₂CF₂-、CF₃CF(CF₃)-等。

R^f2的碳数若为1～6，则表面层的耐摩擦性和指纹污迹去除性进一步优异。

作为R^f2，可以是直链状、支链状和环状中的任意者。从表面层的耐摩擦性和指纹污迹去除性进一步优异的方面考虑，R^f2优选直链的氟亚烷基。

作为R^f2，从表面层的耐摩擦性和指纹污迹去除性进一步优异的方面考虑，优选全氟亚烷基。

从表面层的耐摩擦性和指纹污迹去除性进一步优异的方面考虑，全部R^f2中的全氟亚烷基的比例优选60～100摩尔％，更优选80～100摩尔％，特别优选100摩尔％。

m优选1～50的整数，更优选4～40的整数，特别优选5～30的整数。m若为前述范围的下限值以上，则表面层的耐摩擦性和指纹污迹去除性进一步优异。m若为前述范围的上限值以下，则表面层与保护薄膜的密合性进一步优异。

作为OR^f2、即氧氟亚烷基单元，可列举出OCHF、OCF₂CHF、OCHFCF₂、OCF₂CH₂、OCH₂CF₂、OCF₂CF₂CHF、OCHFCF₂CF₂、OCF₂CF₂CH₂、OCH₂CF₂CF₂、OCF₂CF₂CF₂CH₂、OCH₂CF₂CF₂CF₂、OCF₂CF₂CF₂CF₂CH₂、OCH₂CF₂CF₂CF₂CF₂、OCF₂CF₂CF₂CF₂CF₂CH₂、OCH₂CF₂CF₂CF₂CF₂CF₂、OCF₂、OCF₂CF₂、OCF₂CF₂CF₂、OCF(CF₃)CF₂、OCF₂CF₂CF₂CF₂、OCF(CF₃)CF₂CF₂、OCF₂CF₂CF₂CF₂CF₂、OCF₂CF₂CF₂CF₂CF₂CF₂、-O-cycloC₄F₆-、-O-cycloC₅F₈-、-O-cycloC₆F₁₀-等。

此处，-cycloC₄F₆-是指全氟环丁烷二基，作为其具体例，可列举出全氟环丁烷-1,2-二基。-cycloC₅F₈-是指全氟环戊烷二基，作为其具体例，可列举出全氟环戊烷-1,3-二基。-cycloC₆F₁₀-是指全氟环己烷二基，作为其具体例，可列举出全氟环己烷-1,4-二基。

(OR^f2)_m中，存在2种以上的OR^f2时，各OR^f2的结合顺序没有限定。例如，存在OCF₂和OCF₂CF₂时，可以以无规、交替、嵌段的方式配置OCF₂和OCF₂CF₂。

存在2种以上的OR^f2是指：存在碳数不同的2种以上的OR^f2、存在氢原子数不同的2种以上的OR^f2、存在氢原子的位置不同的2种以上的OR^f2、及存在碳数相同但侧链的有无、侧链的种类(侧链的数目、侧链的碳数等)不同的2种以上的OR^f2。

对于2种以上的OR^f2的配置，例如，{(OCF₂)_m1(OCF₂CF₂)_m2}所示的结构表示无规地配置m1个(OCF₂)和m2个(OCF₂CF₂)。另外，(OCF₂CF₂-OCF₂CF₂CF₂CF₂)_m5所示的结构表示交替地配置m5个(OCF₂CF₂)和m5个(OCF₂CF₂CF₂CF₂)。

作为(OR^f2)_m，至少一部分优选具有下述的结构。

{(OCF₂)_m1(OCF₂CF₂)_m2}、

(OCF₂CF₂)_m3、

(OCF₂CF₂CF₂)_m4、

(OCF₂CF₂-OCF₂CF₂CF₂CF₂)_m5、

(OCF₂CF₂CF₂CF₂CF₂)_m6(OCF₂)_m7、

(OCF₂CF₂CF₂CF₂CF₂)_m6(OCF₂CF₂)_m7、

(OCF₂CF₂CF₂CF₂CF₂CF₂)_m6(OCF₂)_m7、

(OCF₂CF₂CF₂CF₂CF₂CF₂)_m6(OCF₂CF₂)_m7、

(OCF₂CF₂CF₂CF₂CF₂-OCF₂)_m8、

(OCF₂CF₂CF₂CF₂CF₂-OCF₂CF₂)_m8、

(OCF₂CF₂CF₂CF₂CF₂CF₂-OCF₂)_m8、

(OCF₂CF₂CF₂CF₂CF₂CF₂-OCF₂CF₂)_m8、

(OCF₂-OCF₂CF₂CF₂CF₂CF₂)_m8、

(OCF₂-OCF₂CF₂CF₂CF₂CF₂CF₂)_m8、

(OCF₂CF₂-OCF₂CF₂CF₂CF₂CF₂)_m8、

(OCF₂CF₂-OCF₂CF₂CF₂CF₂CF₂CF₂)_m8、

(OCF(CF₃)CF₂)_m9、

(-O-cycloC₄F₆-)_m10、

(-O-cycloC₅F₈-)_m10、

(-O-cycloC₆F₁₀-)_m10。

其中，m1、m2、m3、m4、m5、m6、m7、m8、m9和m10为1以上的整数。m1、m2、m3、m4、m5、m6、m7、m8、m9和m10的上限值根据m的上限值进行调整。

作为(OR^f2)_m，从容易制造化合物(1)的方面考虑，优选下述者。

{(OCF₂)_m1(OCF₂CF₂)_m2}OCF₂、

(OCF₂CF₂)_m3OCF₂、

(OCF₂CF₂CF₂)_m4OCF₂CF₂、

(OCF₂CF₂)₂{(OCF₂)_m1(OCF₂CF₂)_m2}OCF₂、

(OCF₂CF₂-OCF₂CF₂CF₂CF₂)_m5OCF₂CF₂OCF₂CF₂CF₂、

(OCF₂-OCF₂CF₂CF₂CF₂CF₂)_m8OCF₂OCF₂CF₂CF₂CF₂、

(OCF₂-OCF₂CF₂CF₂CF₂CF₂CF₂)_m8OCF₂OCF₂CF₂CF₂CF₂CF₂、

(OCF₂CF₂-OCF₂CF₂CF₂CF₂CF₂)_m8OCF₂CF₂OCF₂CF₂CF₂CF₂、

(OCF₂CF₂-OCF₂CF₂CF₂CF₂CF₂CF₂)_m8OCF₂CF₂OCF₂CF₂CF₂CF₂CF₂、

(OCF(CF₃)CF₂)_m9OCF(CF₃)。

特别是{(CF₂O)_m1(CF₂CF₂O)_m2}中，从表面层的耐摩擦性和指纹污迹去除性进一步优异的方面考虑，m2/m1优选0.1～10，更优选0.2～5.0，进一步优选0.2～2.0，特别优选0.2～1.5，最优选0.2～0.85。

Q是a+b价的直链状或支链状的连接基团。Q优选不具有氟原子。

Q中，a+b为3以上时，优选进一步具有选自由C、N、Si、环结构和a+b价的有机聚硅氧烷残基组成的组中的至少1种的分支点(以下记为“分支点P”。)。需要说明的是，在链内具有R^f或T的链与分支点P结合。

作为环结构，从容易制造化合物(1)的方面、及表面层的耐摩擦性、耐光性和耐化学药品性进一步优异的方面考虑，优选选自由3～8元环的脂肪族环、3～8元环的芳香族环、3～8元环的杂环、和由这些环中的2个以上构成的稠合环组成的组中的1种，特别优选下式所列举的环结构。环结构可以具有卤素原子、烷基(在碳-碳原子之间也可以包含醚性氧原子。)、环烷基、烯基、烯丙基、烷氧基、氧代基(＝O)等取代基。

作为a+b价的有机聚硅氧烷残基，例如可列举出下式的基团。其中，下式中的R⁵为氢原子、烷基、烷氧基、或苯基。R⁵的烷基和烷氧基的碳数优选1～10，特别优选1。

Q可以进一步具有选自由-C(O)NR⁶-、-NR⁶C(O)-、-C(O)O-、-OC(O)-、-C(O)-、-O-、-NR⁶-、-S-、-NHC(O)O-、-OC(O)-NH-、-NHC(O)NR⁶-、-NR⁶C(O)NH-、-SO₂NR⁶-、-NR⁶SO₂-、-Si(R⁶)₂-、-OSi(R⁶)₂-、-Si(CH₃)_2-Ph-Si(CH₃)₂-和2价的有机聚硅氧烷残基组成的组中的至少1种键(以下记为“键B”。)。其中，R⁶为氢原子、碳数1～6的烷基或苯基，Ph为亚苯基。从容易制造化合物(1)的方面考虑，R⁶的烷基的碳数优选1～3，特别优选1或2。

作为2价的有机聚硅氧烷残基，例如可列举出下式的基团。其中，下式中的R⁷为氢原子、烷基、烷氧基、或苯基。R⁷的烷基和烷氧基的碳数优选1～10，特别优选1。

作为键B，从容易制造化合物(1)的方面考虑，优选选自由-C(O)NR⁶-、-C(O)-、-NR⁶-和-O-组成的组中的至少1种键，从表面层的耐光性和耐化学药品性进一步优异的方面考虑，特别优选-C(O)NR⁶-或-C(O)-。

作为Q，可列举出2个以上的2价的烃基与1个以上的分支点P的组合、或2个以上的2价的烃基与1个以上的分支点P与1个以上的键B的组合。

2价的烃基可以具有羟基、烷氧基等取代基。作为2价的烃基，可列举出2价的脂肪族烃基(亚烷基、环亚烷基等)、2价的芳香族烃基(亚苯基等)等。2价的烃基的碳数优选1～10，更优选1～6，特别优选1～4。

作为前述组合的Q，从容易制造化合物(1)的方面考虑，优选基团(g2-1)(其中，a＝d1+d3和b＝d2+d4。)、基团(g2-2)(其中，a＝e1和b＝e2。)、基团(g2-3)(其中，a＝1和b＝2。)、基团(g2-4)(其中，a＝h1和b＝h2。)、基团(g2-5)(其中，a＝i1和b＝i2。)、和基团(g2-6)(其中，a＝1和b＝1。)。

(-A-Q¹²-)_e1C(R²)_4-e1-e2(-Q²²-)_e2 (g2-2)

-A-Q¹³-N(-Q²³-)₂ (g2-3)

(-A-Q¹⁴-)_h1Z(-Q²⁴-)_h2 (g2-4)

(-A-Q¹⁵-)_i1Si(R³)_4-i1-i2(-Q²⁵-)_i2 (g2-5)

-A-Q²⁶- (g2-6)

其中，式(g2-1)～式(g2-6)中，A侧与R^f连接，Q²²、Q²³、Q²⁴、Q²⁵或Q²⁶侧与T连接，A为单键、-C(O)NR⁶-、-C(O)-、-O-或-SO₂NR⁶-，Q¹¹为单键、-O-、亚烷基、或者在碳数2以上的亚烷基的碳-碳原子之间具有-C(O)NR⁶-、-C(O)-、-NR⁶-或-O-的基团，Q¹²为单键、亚烷基、或者在碳数2以上的亚烷基的碳-碳原子之间具有-C(O)NR⁶-、-C(O)-、-NR⁶-或-O-的基团，Q具有2个以上Q¹²时，2个以上的Q¹²任选相同或不同，Q¹³为单键(其中，A仅限于-C(O)-。)、亚烷基、在碳数2以上的亚烷基的碳-碳原子之间具有-C(O)NR⁶-、-C(O)-、-NR⁶-或-O-的基团、或者在亚烷基的N侧的末端具有-C(O)-的基团，Q¹⁴键合的Z中的原子为碳原子时，Q¹⁴为Q¹²，Q¹⁴键合的Z中的原子为氮原子时，Q¹⁴为Q¹³，Q具有2个以上Q¹⁴时，2个以上的Q¹⁴任选相同或不同，Q¹⁵为亚烷基、或者在碳数2以上的亚烷基的碳-碳原子之间具有-C(O)NR⁶-、-C(O)-、-NR⁶-或-O-的基团，Q具有2个以上Q¹⁵时，2个以上的Q¹⁵任选相同或不同，Q²²为亚烷基、在碳数2以上的亚烷基的碳-碳原子之间具有-C(O)NR⁶-、-C(O)-、-NR⁶-或-O-的基团、在亚烷基的未与Si连接一侧的末端具有-C(O)NR⁶-、-C(O)-、-NR⁶-或-O-的基团、或者在碳数2以上的亚烷基的碳-碳原子之间具有-C(O)NR⁶-、-C(O)-、-NR⁶-或-O-且在未与Si连接一侧的末端具有-C(O)NR⁶-、-C(O)-、-NR⁶-或-O-的基团，Q具有2个以上Q²²时，2个以上的Q²²任选相同或不同，Q²³为亚烷基、或者在碳数2以上的亚烷基的碳-碳原子之间具有-C(O)NR⁶-、-C(O)-、-NR⁶-或-O-的基团，2个Q²³任选相同或不同，Q²⁴键合的Z中的原子为碳原子时，Q²⁴为Q²²，Q²⁴键合的Z中的原子为氮原子时，Q²⁴为Q²³，Q具有2个以上Q²⁴时，2个以上的Q²⁴任选相同或不同，Q²⁵为亚烷基、或者在碳数2以上的亚烷基的碳-碳原子之间具有-C(O)NR⁶-、-C(O)-、-NR⁶-或-O-的基团，Q具有2个以上Q²⁵时，2个以上的Q²⁵任选相同或不同，Q²⁶为亚烷基、或者在碳数2以上的亚烷基的碳-碳原子之间具有-C(O)NR⁶-、-C(O)-、-NR⁶-或-O-的基团，Z为具有a+b价的环结构的基团，所述a+b价的环结构具有Q¹⁴直接键合的碳原子或氮原子且具有Q²⁴直接键合的碳原子或氮原子，R¹为氢原子或烷基，Q具有2个以上R¹时，2个以上的R¹任选相同或不同，R²为氢原子、羟基、烷基或酰氧基，R³为烷基，R⁶为氢原子、碳数1～6的烷基或苯基，d1为0～3的整数，优选1或2，d2为0～3的整数，优选1或2，d1+d2为1～3的整数，d3为0～3的整数，优选0或1，d4为0～3的整数，优选2或3，d3+d4为1～3的整数，d1+d3为1～5的整数，优选1或2，d2+d4为1～5的整数，优选3～5的整数，e1为1～3的整数，优选1或2，e2为1～3的整数，优选2或3，e1+e2为3或4，h1为1以上的整数，优选1或2，h2为1以上的整数，优选2或3，i1为1～3的整数，优选1或2，i2为1～3的整数，优选2或3，i1+i2为3或4。

对于Q¹¹、Q¹²、Q¹³、Q¹⁴、Q¹⁵、Q²²、Q²³、Q²⁴、Q²⁵和Q²⁶的亚烷基的碳数，从容易制造化合物(1)的方面、及表面层的耐摩擦性、耐光性和耐化学药品性进一步优异的方面考虑，优选1～10，更优选1～6，特别优选1～4。其中，在碳-碳原子之间具有特定的键时的亚烷基的碳数的下限值为2。

作为Z中的环结构，可列举出上述的环结构，优选的方式也是同样的。需要说明的是，由于Q¹⁴和Q²⁴直接与Z中的环结构键合，因此例如亚烷基与环结构连接，而Q¹⁴或Q²⁴不与该亚烷基连接。

对于R¹、R²和R³的烷基的碳数，从容易制造化合物(1)的方面考虑，优选1～6，更优选1～3，特别优选1或2。

对于R²的酰氧基的烷基部分的碳数，从容易制造化合物(1)的方面考虑，优选1～6，更优选1～3，特别优选1或2。

从容易制造化合物(1)的方面、及表面层的耐摩擦性和指纹污迹去除性进一步优异的方面考虑，h1优选1～6，更优选1～4，进一步优选1或2，特别优选1。

从容易制造化合物(1)的方面、及表面层的耐摩擦性和指纹污迹去除性进一步优异的方面考虑，h2优选2～6，更优选2～4，特别优选2或3。

作为Q的其它方式，可列举出基团(g2-7)(其中，a＝d1+d3和b＝k的总和。)、基团(g2-8)(其中，a＝e1和b＝e2。)、基团(g2-9)(其中，a＝1和b＝k的总和。)、基团(g2-10)(其中，a＝h1和b＝k的总和。)、基团(g2-11)(其中，a＝i1和b＝k的总和。)、和基团(g2-12)(其中，a＝1和b＝k。)。

(-A-Q¹²-)_e1C(R2)_4-e1-e2(-Q²²-G)_e2 (g2-8)

-A-Q¹³-N(-Q²³-G)₂ (g2-9)

(-A-Q¹⁴-)_h1Z(-Q²⁴-G)_h2 (g2-10)

(-A-Q¹⁵-)_i1Si(R3)_4-i1-i2(-Q²⁵-G)_i2 (g2-11)

-A-Q²⁶-G (g2-12)

其中，式(g2-7)～式(g2-12)中，A侧与R^f连接，G侧与T连接，G为基团(g3)，Q所具有的2个以上的G任选相同或不同，除G以外的符号与式(g2-1)～式(g2-6)中的符号相同。

-Si(R⁸)_3-k(-Q³-)_k (g3)

其中，式(g3)中，Si侧与Q²²、Q²³、Q²⁴、Q²⁵或Q²⁶连接，Q³侧与T连接，R⁸为烷基，Q³为亚烷基、在碳数2以上的亚烷基的碳-碳原子之间具有-C(O)NR⁶-、-C(O)-、-NR⁶-或-O-的基团、或-(OSi(R⁹)₂)_p-O-，2个以上的Q³任选相同或不同，k为2或3，R⁶为氢原子、碳数1～6的烷基或苯基，R⁹为烷基、苯基或烷氧基，2个R⁹任选相同或不同，p为0～5的整数，p为2以上时，2个以上的(OSi(R⁹)₂)任选相同或不同。

对于Q³的亚烷基的碳数，从容易制造化合物(1)的方面、以及表面层的耐摩擦性、耐光性和耐化学药品性进一步优异的方面考虑，优选1～10，更优选1～6，特别优选1～4。其中，在碳-碳原子之间具有特定的键时的亚烷基的碳数的下限值为2。

对于R⁸的烷基的碳数，从容易制造化合物(1)的方面考虑，优选1～6，更优选1～3，特别优选1或2。

对于R⁹的烷基的碳数，从容易制造化合物(1)的方面考虑，优选1～6，更优选1～3，特别优选1或2。

对于R⁹的烷氧基的碳数，从化合物(1)的保存稳定性优异的方面考虑，优选1～6，更优选1～3，特别优选1或2。

p优选0或1。

T为-Si(R)_3-c(L)_c，为反应性甲硅烷基。

对于R的烷基的碳数，从容易制造化合物(1)的方面考虑，优选1～6，更优选1～3，特别优选1或2。

L的水解性基团是通过水解反应而成为羟基的基团。即，水解性甲硅烷基通过水解反应而成为硅烷醇基(Si-OH)。硅烷醇基进而在分子间发生脱水缩合反应而形成Si-O-Si键。另外，硅烷醇基与基材的表面的羟基(基材-OH)发生脱水缩合反应而形成化学键(基材-O-Si)。

作为水解性基团，例如可列举出烷氧基、芳基氧基、卤素原子、酰基、酰氧基、异氰氧基。作为烷氧基，优选碳数1～6的烷氧基。作为卤素原子，优选氯原子。作为酰基，优选碳数1～6的酰基。作为酰氧基，优选碳数1～6的酰氧基。

作为L，从容易制造化合物(1)的方面考虑，优选为烷氧基或卤素原子。作为L，从涂布时的释气少、化合物(1)的保存稳定性优异的方面考虑，优选碳数1～4的烷氧基，需要化合物(1)的长期的保存稳定性时，特别优选乙氧基，预缩短涂覆后的反应时间时，特别优选甲氧基。

从表面层与基材的密合性变得更牢固的方面考虑，c特别优选3。

化合物(1)中的多个T任选相同或不同。从容易制造化合物(1)的方面考虑，优选为相同的基团。

作为化合物(1)，例如可列举出下式的化合物。从工业上容易制造、处理容易、表面层的拒水拒油性、耐摩擦性、指纹污迹去除性、耐化学药品性、耐光性和耐化学药品性进一步优异、其中耐光性特别优异的方面考虑，优选下式的化合物。下式的化合物中的R^f与上述的式(1)中的R^f同样，优选的方式也是同样的。

对于Q为基团(g2-1)的化合物(1)，例如可列举出下式的化合物。

对于Q为基团(g2-2)的化合物(1)，例如可列举出下式的化合物。

对于Q为基团(g2-3)的化合物(1)，例如可列举出下式的化合物。

对于Q为基团(g2-4)的化合物(1)，例如可列举出下式的化合物。

对于Q为基团(g2-5)的化合物(1)，例如可列举出下式的化合物。

对于Q为基团(g2-6)的化合物(1)，例如可列举出下式的化合物。

对于Q为基团(g2-7)的化合物(1)，例如可列举出下式的化合物。

对于Q为基团(g2-8)的化合物(1)，例如可列举出下式的化合物。

对于Q为基团(g2-9)的化合物(1)，例如可列举出下式的化合物。

对于Q为基团(g2-10)的化合物(1)，例如可列举出下式的化合物。

对于Q为基团(g2-11)的化合物(1)，例如可列举出下式的化合物。

对于Q为基团(g2-12)的化合物(1)，例如可列举出下式的化合物。

化合物(1)例如可以通过使化合物(2)与化合物(3a)或化合物(3b)发生氢化硅烷化反应的方法而制造。

[R^f-]_aQ¹[-CH＝CH₂]_b (2)

其中，式(2)中，Q¹为a+b价的连接基团，除Q¹以外的符号与式(1)中的符号相同。

Q¹[-CH＝CH₂]_b在氢化硅烷化后成为化合物(1)中的Q。作为Q¹，可列举出与Q同样的基团，优选的方式也是同样的。

HSi(R)_3-c(L)_c (3a)

HSi(R⁸)_3-k[-(OSi(R⁹)₂)_p-O-Si(R)_3-c(L)_c]_k (3b)

其中，式(3a)和式(3b)中的符号与式(1)和式(g3)中的符号相同。化合物(3b)例如可以通过日本特愿2018-085493号的说明书中记载的方法而制造。

作为Q¹[-CH＝CH₂]_b，从容易制造化合物(1)的方面考虑，优选基团(g4-1)(其中，a＝d1+d3和b＝d2+d4。)、基团(g4-2)(其中，a＝e1和b＝e2。)、基团(g4-3)(其中，a＝1和b＝2。)、基团(g4-4)(其中，a＝h1和b＝h2。)、基团(g4-5)(其中，a＝i1和b＝i2。)、或基团(g4-6)(其中，a＝1和b＝1。)。

(-A-Q¹²-)_e1C(R²)_4-e1-e2(-Q²²⁰-CH＝CH₂)_e2 (g4-2)

-A-Q¹³-N(-Q²³⁰-CH＝CH₂)₂ (g4-3)

(-A-Q¹⁴-)_h1Z(-Q²⁴⁰-CH＝CH₂)_h2 (g4-4)

(-A-Q¹⁵-)_i1Si(R³)_4-i1-i2(-Q²⁵⁰-CH＝CH₂)_i2 (g4-5)

-A-Q²⁶⁰-CH＝CH₂ (g4-6)

其中，Q²²⁰为亚烷基、在碳数2以上的亚烷基的碳-碳原子之间具有-C(O)NR⁶-、-C(O)-、-NR⁶-或-O-的基团、在亚烷基的未与Si连接一侧的末端具有-C(O)NR⁶-、-C(O)-、-NR⁶-或-O-的基团、或者在碳数2以上的亚烷基的碳-碳原子之间具有-C(O)NR⁶-、-C(O)-、-NR⁶-或-O-且在未与Si连接一侧的末端具有-C(O)NR⁶-、-C(O)-、-NR⁶-或-O-的基团，Q¹具有2个以上Q²²⁰时，2个以上的Q²²⁰任选相同或不同，Q²³⁰为亚烷基、或者在碳数2以上的亚烷基的碳-碳原子之间具有-C(O)NR⁶-、-C(O)-、-NR⁶-或-O-的基团，2个Q²³⁰任选相同或不同，Q²⁴⁰键合的Z中的原子为碳原子时，Q²⁴⁰为Q²²⁰，Q²⁴⁰键合的Z中的原子为氮原子时，Q²⁴⁰为Q²³⁰，Q¹具有2个以上Q²⁴⁰时，2个以上的Q²⁴⁰任选相同或不同，Q²⁵⁰为亚烷基、或者在碳数2以上的亚烷基的碳-碳原子之间具有-C(O)NR⁶-、-C(O)-、-NR⁶-或-O-的基团，Q¹具有2个以上Q²⁵⁰时，2个以上的Q²⁵⁰任选相同或不同，Q²⁶⁰为亚烷基、或者在碳数2以上的亚烷基的碳-碳原子之间具有-C(O)NR⁶-、-C(O)-、-NR⁶-或-O-的基团，除Q²²⁰、Q²³⁰、Q²⁴⁰、Q²⁵⁰和Q²⁶⁰以外的符号与式(g2-1)～式(g2-6)中的符号相同。

Q²²⁰-CH＝CH₂在氢化硅烷化后成为化合物(1)中的Q²²。作为Q²²⁰，可列举出与Q²²同样的基团，优选的方式也是同样的。

Q²³⁰-CH＝CH₂在氢化硅烷化后成为化合物(1)中的Q²³。作为Q²³⁰，可列举出与Q²³同样的基团，优选的方式也是同样的。

Q²⁴⁰-CH＝CH₂在氢化硅烷化后成为化合物(1)中的Q²⁴。作为Q²⁴⁰，可列举出与Q²⁴同样的基团，优选的方式也是同样的。

Q²⁵⁰-CH＝CH₂在氢化硅烷化后成为化合物(1)中的Q²⁵。作为Q²⁵⁰，可列举出与Q²⁵同样的基团，优选的方式也是同样的。

Q²⁶⁰-CH＝CH₂在氢化硅烷化后成为化合物(1)中的Q²⁶。作为Q²⁶⁰，可列举出与Q²⁶同样的基团，优选的方式也是同样的。

作为Q¹[-CH＝CH₂]_b的其它方式，可列举出基团(g4-7)(其中，a＝d1+d3和b＝k的总和。)、基团(g4-8)(其中，a＝e1和b＝k的总和。)、基团(g4-9)(其中，a＝1和b＝k的总和。)、基团(g4-10)(其中，a＝h1和b＝k的总和。)、基团(g4-11)(其中，a＝i1和b＝k的总和。)、或基团(g4-12)(其中，a＝1和b＝k。)。

(-A-Q¹²-)_e1C(R2)_4-e1-e2(-Q²²-G¹)_e2 (g4-8)

-A-Q¹³-N(-Q²³-G¹)₂ (g4-9)

(-A-Q¹⁴-)_h1Z(-Q²⁴-G¹)_h2 (g4-10)

(-A-Q¹⁵-)_i1Si(R³)_4-i1-i2(-Q²⁵-G¹)_i2 (g4-11)

-A-Q²⁶-G¹ (94-12)

其中，G¹为基团(g5)，Q¹[-CH＝CH₂]_b所具有的2个以上的G¹任选相同或不同，除G¹以外的符号与式(g2-1)～式(g2-6)中的符号相同。

-Si(R⁸)_3-k(-Q³⁰-CH＝CH₂)_k (g5)

其中，Q³⁰为亚烷基、或者在碳数2以上的亚烷基的碳-碳原子之间具有-C(O)NR⁶-、-C(O)-、-NR⁶-或-O-的基团，2个以上的Q³⁰任选相同或不同，除Q³⁰以外的符号与式(g3)中的符号相同。

Q³⁰-CH＝CH₂在氢化硅烷化后成为基团(g3)中的Q³。作为Q³⁰，可列举出与Q³同样的基团(其中，-(OSi(R⁹)₂)_p-O-除外。)，优选的方式也是同样的。

Q¹[-CH＝CH₂]_b为基团(g4-1)的化合物(2)例如可以通过专利文献2中记载的方法而制造。

Q¹[-CH＝CH₂]_b为基团(g4-2)的化合物(2)例如可以通过日本特开2015-199906号公报中记载的方法、日本特开2016-037541号公报中记载的方法、日本特开2016-204656号公报中记载的方法、日本特开2016-222859号公报中记载的方法、国际公开第2017/038830号中记载的方法、专利文献2中记载的方法、日本特愿2017-159696号的说明书中记载的方法而制造。

Q¹[-CH＝CH₂]_b为基团(g4-3)的化合物(2)例如可以通过专利文献1中记载的方法而制造。

Q¹[-CH＝CH₂]_b为基团(g4-4)的化合物(2)例如可以通过日本特愿2017-159698号的说明书中记载的方法而制造。

Q¹[-CH＝CH₂]_b为基团(g4-5)的化合物(2)例如可以通过日本特开2016-037541号公报中记载的方法、国际公开第2016/121211号中记载的方法而制造。

Q¹[-CH＝CH₂]_b为基团(g4-6)的化合物(2)例如可以通过日本特开2012-072272号公报、国际公开第2013/121984号中记载的方法、国际公开第2013/121986号中记载的方法而制造。

Q¹[-CH＝CH₂]_b为基团(g4-7)～基团(g4-12)的化合物(2)例如可以通过日本特愿2017-251611号的说明书中记载的方法而制造。

(含氟醚组合物)

含氟醚组合物包含含氟醚化合物A中的1种以上、及其它含氟化合物。

作为其它含氟化合物，可列举出在碳数2以上的氟亚烷基的碳-碳原子之间具有-O-的基团的两端通过连接基团键合有反应性甲硅烷基的含氟醚化合物、在含氟醚化合物A的制造工序中副产的含氟醚化合物(以下也记为“副产含氟醚化合物”。)、在与含氟醚化合物A同样的用途中使用的公知的含氟化合物等。

作为其它含氟化合物，优选不用担心使含氟醚化合物A的特性降低的化合物。

作为副产含氟醚化合物，可列举出未反应的化合物(2)、在化合物(1)的制造过程中氢化硅烷化时一部分烯丙基异构化为内烯烃的含氟醚化合物等。

作为公知的含氟化合物，可列举出市售的含氟化合物等作为表面处理剂。含氟醚组合物包含公知的含氟化合物时，有时可发挥补充含氟醚化合物A的特性等新型作用效果。

含氟醚化合物A的含量优选含氟醚组合物中的60质量％以上且低于100质量％，更优选70质量％以上且低于100质量％，特别优选80质量％以上且低于100质量％。

其它含氟化合物的含量优选含氟醚组合物中的超过0质量％且为40质量％以下，更优选超过0质量％且为30质量％以下，特别优选超过0质量％且为20质量％以下。

含氟醚化合物A的含量和其它含氟化合物的含量的总计优选含氟醚组合物中的80～100质量％，特别优选85～100质量％。

含氟醚化合物A的含量和其它含氟化合物的含量若在前述范围内，则表面层的耐摩擦性、指纹污迹去除性、耐光性和耐化学药品性进一步优异。

在不损害本发明的效果的范围内，含氟醚组合物也可以包含除含氟醚化合物A和其它含氟化合物以外的成分。

作为其它成分，可列举出在含氟醚化合物A的制造工序中生成的副产物(其中，副产含氟醚化合物除外。)、未反应的原料等在制造上不可避免的化合物。

另外，作为其它成分，可列举出促进水解性甲硅烷基的水解和缩合反应的酸催化剂、碱性催化剂等添加剂。作为酸催化剂，可列举出盐酸、硝酸、乙酸、硫酸、磷酸、磺酸、甲磺酸、对甲苯磺酸等。作为碱性催化剂，可列举出氢氧化钠、氢氧化钾、氨等。

其它成分的含量优选含氟醚组合物中的0～9.999质量％，特别优选0～0.99质量％。

(涂覆液)

涂覆液包含含氟醚化合物A或者含氟醚组合物且包含液体介质。涂覆液可以为溶液也可以为分散液。

作为液体介质，优选有机溶剂。有机溶剂可以为含氟有机溶剂或无氟有机溶剂，也可以包含两种溶剂。

作为含氟有机溶剂，可列举出氟化烷烃、氟化芳香族化合物、氟烷基醚、氟化烷基胺、氟醇等。

作为氟化烷烃，优选碳数4～8的化合物。作为市售品，可列举出C₆F₁₃H(AGC公司制、Asahiklin(注册商标)AC-2000)、C₆F₁₃C₂H₅(AGC公司制、Asahiklin(注册商标)AC-6000)、C₂F₅CHFCHFCF₃(Chemours公司制、Vertrel(注册商标)XF)等。

作为氟化芳香族化合物，可列举出六氟苯、三氟甲苯、全氟甲苯、双(三氟甲基)苯等。

作为氟烷基醚，优选碳数4～12的化合物。作为市售品，可列举出CF₃CH₂OCF₂CF₂H(AGC公司制、Asahiklin(注册商标)AE-3000)、C₄F₉OCH₃(3M公司制、Novec(注册商标)7100)、C₄F₉OC₂H₅(3M公司制、Novec(注册商标)7200)、C₂F₅CF(OCH₃)C₃F₇(3M公司制、Novec(注册商标)7300)等。

作为氟化烷基胺，可列举出全氟三丙胺、全氟三丁胺等。

作为氟醇，可列举出2,2,3,3-四氟丙醇、2,2,2-三氟乙醇、六氟异丙醇等。

作为无氟有机溶剂，优选仅由氢原子和碳原子构成的化合物、及仅由氢原子、碳原子和氧原子构成的化合物，可列举出烃、醇、酮、醚、酯。

液体介质可以是将2种以上混合而成的混合介质。

含氟醚化合物A或者含氟醚组合物的含量在涂覆液中优选0.001～10质量％，特别优选0.01～1质量％。

液体介质的含量在涂覆液中优选90～99.999质量％，特别优选99～99.99质量％。

实施例

以下使用实施例对本发明进行进一步详细地说明，但本发明不限定于这些实施例。以下“％”只要没有特别声明则为“质量％”。需要说明的是，例1～4、9～12为实施例，例5～8、13～16为比较例。

[例1]

参考国际公开第2013/121984号的实施例的例7中记载的方法，得到化合物(4-1)。x的平均值为6。

CF₃-(OCF₂CF₂-OCF₂CF₂CF₂CF₂)_xOCF₂CF₂-OCF₂CF₂CF₂-CH₂-OH (4-1)

将专利文献2的例1中的R^f-CH₂-OH变更为化合物(4-1)，除此以外与专利文献2的例1同样地得到化合物(1-1)。x的平均值为6。R^f的分子量为2400。

R^f＝CF₃-(OCF₂CF₂-OCF₂CF₂CF₂CF₂)_xOCF₂CF₂-OCF₂CF₂CF₂-

[例2]

参考国际公开第2013/121984号的实施例的例7中记载的方法，得到化合物(4-2)。x的平均值为9。

CF₃-(OCF₂CF₂-OCF₂CF₂CF₂CF₂)_×OCF₂CF₂-OCF₂CF₂CF₂-CH₂-OH (4-2)

将专利文献2的例1中的R^F-CH₂-OH变更为化合物(4-2)，除此以外与专利文献2的例1同样地得到化合物(1-2)。x的平均值为9。R^F的分子量为3400。

R^F＝CF₃-(OCF₂CF₂-OCF₂CF₂CF₂CF₂)_xOCF₂CF₂-OCF₂CF₂CF₂-

[例3]

参考国际公开第2013/121984号的实施例11中记载的方法，得到化合物(4-3)。x1的平均值为7，x2的平均值为8。

CF₃CF₂CF₂-{(OCF₂)_×1(OCF₂CF₂)_×2}OCF₂-CH₂-OH (4-3)

将专利文献2的例1中的R^F-CH₂-OH变更为化合物(4-3)，除此以外与专利文献2的例1同样地得到化合物(1-3)。x1的平均值为7，x2的平均值为8。R^F的分子量为1900。

R^f＝CF₃CF₂CF₂-{(OCF_2)×1(OC₂CF₂)_×2}OC₂-

[例4]

参考国际公开第2018/043166号的实施例9中记载的方法，得到化合物(4-4)。x的平均值为15。

CF₃CF₂CF₂-{OCF(CF₃)CF₂}_×OCF(CF₃)-CH₂-OH (4-4)

将专利文献2的例1中的R^F-CH₂-OH变更为化合物(4-4)，除此以外与专利文献2的例1同样地得到化合物(1-4)。x的平均值为15。R^F的分子量为2900。

R^f＝CF₃CF₂CF₂-{OCF(CF₃)C₂}_×OCF(CF₃)-

[例5]

依据专利文献1的实施例的例3中记载的方法，得到化合物(1-5)。x的平均值为13。R^F的分子量为4700。

R^f＝CF₃-(OCF₂CF₂-OCF₂Cf₂CF₂Cf₂)_×OCF₂CF₂-OCF₂CF₂CF₂-

[例6]

参考国际公开第2013/121984号的实施例的例7中记载的方法，得到化合物(4-6)。x的平均值为13。

CF₃-(OCF₂CF₂-OCF₂Cf₂CF₂Cf₂)_×OCF₂CF₂-OCF₂CF₂CF₂-CH₂-OH (4-6)

将专利文献2的例1中的R^f-CH₂-OH变更为化合物(4-6)，除此以外与专利文献2的例1同样地得到化合物(1-6)。x的平均值为13。R^f的分子量为4700。

R^f＝CF₃-(OCF₂CF₂-OCF₂CF₂CF₂CF₂)_×OCF₂CF₂-OCF₂CF₂CF₂-

[例7]

参考国际公开第2013/121984号的实施例的例7中记载的方法，得到化合物(4-7)。x的平均值为3。

CF₃-(OCF₂CF₂-OCF₂CF₂Cf₂CF₂)_×OCF₂CF₂-OCF₂CF₂CF₂-CH₂-OH (4-7)

将专利文献2的例1中的R^f-CH₂-OH变更为化合物(4-7)，除此以外与专利文献2的例1同样地得到化合物(1-7)。x的平均值为3。R^F的分子量为1400。

R^F＝CF₃-(OCF₂CF₂-OCF₂CF₂CF₂CF₂)_×OCF₂CF₂-OCF₂CF₂CF₂-

[例8]

参考国际公开第2013/121984号的实施例的例6-1中记载的方法，得到化合物(4-8)。x的平均值为13。

CH₃-(OCF₂CFH-OCF₂CF₂CF₂CH₂)_×OCF₂CFH-OCF₂CF₂CF₂-CH₂-OH (4-8)

在50mL的茄形烧瓶中放入8.0g的化合物(4-8)、0.34g的烯丙基溴、0.08g的四丁基溴化铵和0.60g的48质量％氢氧化钾水溶液，将混合物在80℃下搅拌5小时。将混合物冷却至23℃，放入10g的AC-6000，进行2次水洗。利用硅胶柱色谱法对得到的粗液进行精制，得到7.9g的化合物(2-8)。x的平均值为13。

CH₃-(OCF₂CFH-OCF₂CF₂CF₂CH₂)_×OCF₂CFH-OCF₂CF₂CF₂-CH₂-OCH₂CH＝CH₂ (2-8)

在10mL的玻璃制样品瓶中放入6.0g的化合物(2-8)、0.06g的铂/1，3-二乙烯基-1，1，3，3-四甲基二硅氧烷络合物的二甲苯溶液(铂含量：2质量％)、1.01g的HSi(OCH₃)₃、0.02g的苯胺、1.0g的1，3-双(三氟甲基)苯(东京化成工业公司制)，将混合物在40℃下搅拌8小时。反应结束后，减压馏去溶剂等，用1.0μm孔径的膜滤器进行过滤，得到6.5g的化合物(1-8)。x的平均值为13。R^F的分子量为4000。

R^f＝CH₃-(OCF₂CFH-OCF₂CF₂Cf₂CH₂)_×OCF₂CFH-OCF₂CF₂CF₂-

[例9]

(合成例9-0)

依据国际公开第2013/121984号的实施例的例2中记载的方法(具体而言例2-3中记载的方法)得到化合物(9-0)。

CF₃(OCF₂CF₂OCf₂CF₂CF₂Cf₂)_mOCf₂CF₂OCf₂CF₂CF₂-C(＝O)OCH₃ (9-0)

m的平均值：13

(合成例9-1)

在100mL的茄形烧瓶中放入50g的化合物(9-0)、50g的AC2000、1.5g的H₂NCH₂(C＝O)CH(CH₂CH＝CH₂)₂，在40℃下搅拌6小时。然后，利用二氧化硅凝胶色谱法将反应粗液精制而得到目标化合物(9-1)26g。

Cf₃(OCf₂Cf₂OCF₂CF₂CF₂Cf₂)_mOCF₂Cf₂OCf₂CF₂CF₂-CH₂NHCH₂(C＝O)CH(CH₂CH＝CH₂)₂ (9-1)

化合物(9-1)的NMR光谱：

¹H-NMR：6.4(1H)、5.6(2H)、4.9(4H)、3.2(2H)、2.0(4H)、1.6(1H)

¹⁹F-NMR：-55(3F)、-82(34F)、-87(32F)、-115(2F)、-126(34F)

(合成例9-2)

在具备蛇形冷凝器的300mL的三颈烧瓶中，在干燥氮气气氛下加入26g的化合物(9-1)、46g的1，3-双三氟甲苯，在冰浴下进行搅拌。然后，缓慢加入2.5M氢化铝锂-四氢呋喃溶液7mL，在室温下搅拌30分钟后，在100℃下搅拌5小时。然后加入硫酸钠十水合物直至发泡消失，用硅藻土过滤去除固体。将得到的滤液浓缩，得到目标化合物(9-2)25g。

CF₃(OCF₂CF₂OCF₂CF₂CF₂CF₂)_mOCF₂CF₂OCF₂CF₂CF₂-CH₂NHCH₂CH₂CH(CH₂CH＝CH₂)₂ (9-2)

化合物(9-2)的NMR光谱：

¹H-NMR：6.0(2H)、5.3(4H)、3.5(2H)、2.9(2H)、2.3(4H)、1.8(1H)

¹⁹F-NMR：：-55(3F)、-82(34F)、-87(32F)、-115(2F)、-126(34F)

(合成例9-3)

在50mL的三颈烧瓶中，在干燥氮气气氛下加入10g的化合物(9-2)、1.1g的三乙胺、10g的1，3-双三氟甲苯，在室温下边搅拌边加入1.0g的Cl(C＝O)CH(CH₂CH＝CH₂)₂。在室温下搅拌24小时。然后，利用二氧化硅凝胶色谱法将反应粗液精制而得到目标化合物(9-3)2.7g。

CF₃(OCF₂CF₂OCF₂CF₂CF₂CF₂)_mOCF₂CF₂OCF₂CF₂CF₂-CH₂N[CH₂CH₂CH(CH₂CH＝CH₂)₂](C＝O)CH(CH₂CH＝CH₂)₂ (9-3)

化合物(9-3)的NMR光谱：

¹H-NMR：5.8(4H)、5.0(8H)、4.3(2H)、3.5(2H)、3.0(1H)、2.5(2H)、2.3(2H)、2.2(2H)

¹⁹F-NMR：-55(3F)、-82(34F)、-87(32F)、-115(2F)、-126(34F)

(合成例9-4)

在氮气置换的10mL的茄形烧瓶中加入1.0g的化合物(9-3)、0.004g的铂/1，3-二乙烯基-1，1，3，3-四甲基二硅氧烷络合物的二甲苯溶液(铂含量：3质量％)、0.009g的苯胺、1.0g的AC-6000后，加入0.14g的三甲氧基硅烷并在40℃下搅拌4小时。然后，馏去溶剂，得到1.1g的化合物(1-9)。

CF₃(OCF₂CF₂OCF₂CF₂CF₂CF₂)_mOCF₂CF₂OCF₂CF₂CF₂-CH₂N[CH₂CH(CH₂CH₂CH₂Si(OCH₃)₃)₂](C＝O)CH[CH₂CH₂CH₂Si(OCH₃)₃]₂ (1-9)

化合物(1-9)的NMR光谱：

¹H-NMR：4.5(2H)、3.8(36H)、3.0(1H)、2.0(3H)、1.7(8H)、1.5(8H)、0.7(8H)

¹⁹F-NMR：-55(3F)、-82(34F)、-87(32F)、-115(2F)、-126(34F)

m的平均为13。

[例11～19：带表面层的物品的制造和评价]

使用例1～9中得到的各化合物对基材进行表面处理，得到例11～19的带表面层的物品。作为表面处理方法，各例中使用下述的干涂法和湿涂法。作为基材，使用化学钢化玻璃。对于得到的物品，利用下述的方法进行评价。将结果示于表1。

(干涂法)

干涂使用真空蒸镀装置(ULVAC公司制、VTR350M)来进行(真空蒸镀法)。将例1～8中得到的各化合物的0.5g填充于真空蒸镀装置内的钼制舟中，将真空蒸镀装置内排气至1×10^-3Pa以下。将配置了化合物的舟在升温速度10℃/分钟以下的速度下加热，利用晶振式膜厚仪在蒸镀速度超过1nm/秒的时间点打开闸门开始进行在基材表面的制膜。在膜厚为约50nm的时间点关闭闸门并结束在基材表面的制膜。将沉积有化合物的基材在200℃下进行30分钟加热处理，利用二氯五氟丙烷(AGC公司制、AK-225)进行清洗而得到在基材的表面具有表面层的物品。

(湿涂法)

将例1～8中得到的各化合物与作为介质的C₄F₉OC₂H₅(3M公司制、Novec(注册商标)7200)混合，制备了固体成分浓度0.05％的涂覆液。将基材浸渍于涂覆液中，放置30分钟后，提起基材(浸涂法)。将涂膜在200℃下干燥30分钟，利用AK-225进行清洗，得到在基材的表面具有表面层的物品。

(评价方法)

<归一化F强度的求法>

将包含4.96质量％的氟原子的玻璃(Bureau of Analysed Samples Ltd.公司制、IGS G4 Fluoride Opal Glass)作为标准样品。使用荧光X射线分析装置(RigakuCorporation制、ZSX100e)，在测定直径：30mm、测定线：F-Kα、过滤器：OUT、狭缝：标准、光谱晶体：RX35(Rigaku Corporation制)、检测器：PC、PHA：100-300、峰角度：38.794deg.(20秒)、B.G.角度：43.000deg.(10秒)的条件下，分别测定了表面层中的氟原子强度和标准样品中的氟原子强度。将标准样品中的氟强度除以表面层中的氟原子强度而计算出基材表面层中的归一化F强度。需要说明的是，对于标准样品，使用在测定前利用AGC公司制、Asahiklin(注册商标)AE-3000进行清洗并进行充分干燥者。

<指纹污迹去除性>

将人工指纹液(包含油酸和角鲨烯的液体)附着于硅橡胶栓的平坦面上后，用无纺布(旭化成公司制、BEMCOT(注册商标)M-3)擦拭多余的油分，准备了指纹的印模。将指纹印模置于表面层上，以载荷：9.8N按压10秒。利用浊度计测定附着有指纹的位置的雾度，作为初始值。对于附着有指纹的位置，使用安装有薄绵纸的往复式移动试验机(KNT Co.,Ltd.制)，以载荷：4.9N进行擦拭。测定每往复擦拭一次的雾度值，测定了雾度从初始值至成为10％以下的擦拭次数。擦拭次数越少，越能容易地去除指纹污迹，指纹污迹擦拭性越优异。评价基准如下所述。

◎(优)：擦拭次数为3次以下。

○(良)：擦拭次数为4～5次。

△(及格)：擦拭次数为6～8次。

×(不及格)：擦拭次数为9次以上。

<耐摩擦性>

对于表面层，依据JIS L0849：2013(ISO105-X12：2001)使用往复式移动试验机(KNT Co.,Ltd.制)，使毛毡(JIS L 3201：2002R33W)以载荷：9.8N、摩擦长：4cm、速度：40rpm往复1万5千次后，评价了耐摩擦性。对于耐摩擦性，对上述摩擦后的样品实施上述指纹去除性的评价试验，依据同样的评价基准评价了指纹去除性。耐摩擦试验后的指纹去除性越优异，由摩擦所致的性能降低越小、耐摩擦性越优异。

<密合性>

将具有丙烯酸系粘合层的聚氯乙烯薄膜(日东电工公司制、ELEP Masking N-380、胶带宽度：50mm)的丙烯酸系粘合层贴合于表面层，依据JIS K6854-1：1999(ISO8510-1：1990)，使用90度剥离试验机(日新科学公司制)，在23℃的条件下以100mm/分钟的剥离速度测定了剥离聚氯乙烯薄膜时的90度剥离力。评价基准如下所述。剥离力越大，密合性越优异。

◎(优)：剥离力为550mN/50mm以上。

○(良)：剥离力为370mN/50mm以上且低于550mN/50mm。

△(及格)：剥离力为250mN/50mm以上且低于370mN/50mm。

×(不及格)：剥离力低于250mN/50mm。

[表1]

确认了：表面层中的归一化F强度为0.38～0.53的例11～14、19的指纹污迹去除性、耐摩擦性以及与保护薄膜的密合性优异。

产业上的可利用性

本发明的带表面层的物品能够用作要求赋予拒水拒油性的各种物品。作为表面层，例如可列举出触摸面板等显示输入装置的表面保护涂层、透明的玻璃制或透明的塑料制构件的表面保护涂层、厨房用防污涂层、电子设备、换热器、电池等的拒水防湿涂层、防污涂层、浴室用品用防污涂层、在需要边导通边拒液的构件上的涂层、热交换机的拒水/防水/滑水涂层、振动筛、气缸内部等的表面低摩擦涂层等。作为更具体的使用例，可列举出显示器的前面保护板、防反射板、偏光板、防眩板、或在它们的表面实施了防反射膜处理者、手机、便携信息终端等设备的触摸面板片、触摸面板显示器等具有用人的手指或手掌进行屏幕上的操作的显示输入装置的各种设备的表面保护涂层、洗手间、浴室、洗脸池、厨房等水周围的装饰建筑材料、布线板用防水涂层、热交换机的拒水/防水涂层、太阳能电池的拒水涂层、印刷布线板的防水/拒水涂层、电子设备外壳、电子部件用的防水/拒水涂层、输电线的绝缘性改善涂层、各种过滤器的防水/拒水涂层、电波吸收材料、吸音材料的防水性涂层、浴室、厨房设备、浴室用品用防污涂层、热交换机的拒水/防水/滑水涂层、振动筛、气缸内部等的表面低摩擦涂层、机械部件、真空设备部件、轴承部件、汽车部件、工具等的表面保护涂层。

需要说明的是，将2019年07月18日申请的日本专利申请2019-133052号的说明书、权利要求书和说明书摘要的全部内容作为本发明的说明书的公开内容援用至此。

Claims

1.一种带表面层的物品，其特征在于，

具有基材及设置于所述基材的表面的表面层，

所述表面层包含在碳数2以上的氟烷基的碳-碳原子之间具有-O-的基团，

利用下述方法求出的所述表面层中的归一化F强度为0.38～0.53，

归一化F强度的求法如下：

准备包含4.96质量％的氟原子的玻璃作为标准样品，通过荧光X射线分析装置，分别测定表面层中的氟原子强度和标准样品中的氟原子强度，将表面层中的氟原子强度除以标准样品中的氟强度而得到的值作为归一化F强度，所述包含4.96质量％的氟原子的玻璃为Bureau of Analysed Samples Ltd.公司制的IGS G4 Fluoride Opal Glass。

2.根据权利要求1所述的带表面层的物品，其中，在所述碳数2以上的氟烷基的碳-碳原子之间具有-O-的基团的分子量为1500～4000。

3.根据权利要求1或2所述的带表面层的物品，其中，所述表面层是由含氟醚化合物、或者含氟醚组合物形成的表面层，所述含氟醚化合物包含在碳数2以上的氟烷基的碳-碳原子之间具有-O-的基团及反应性甲硅烷基，所述含氟醚组合物包含所述含氟醚化合物。

4.根据权利要求3所述的带表面层的物品，其中，所述含氟醚化合物为下式(1)所示的化合物，

[R^f-]_aQ[-T]_b (1)

其中，

R^f为在碳数2以上的氟烷基的碳-碳原子之间具有-O-的基团，其中，Q侧末端的碳原子上键合有至少1个氟原子，具有2个以上R^f时，2个以上的R^f任选相同或不同，

Q为a+b价的连接基团，

R为烷基，

L为水解性基团或羟基，T中的2个以上的L任选相同或不同，

a为1以上的整数，

b为1以上的整数，

c为2或3。

5.根据权利要求4所述的带表面层的物品，其中，所述b为2～20的整数。

6.根据权利要求4或5所述的带表面层的物品，其中，所述a为1～6的整数。

7.根据权利要求4～6中任一项所述的带表面层的物品，其中，所述R^f为下式(g1)所示的基团，

R^f1-(OR^f2)_m- (g1)

其中，

R^f1为碳数1～6的氟烷基，

R^f2为碳数1～6的氟亚烷基，其中，与Q键合的R^f2的Q侧末端的碳原子上键合有至少1个氟原子，

8.根据权利要求7所述的带表面层的物品，其中，所述R^f1为全氟烷基。

9.根据权利要求7或8所述的带表面层的物品，其中，所述m为4～40的整数，全部R^f2中的全氟亚烷基的比例为60～100摩尔％。

10.权利要求4～9中任一项所述的带表面层的物品，其中，所述Q为式(g2-1)所示的基团、式(g2-2)所示的基团、式(g2-3)所示的基团、式(g2-4)所示的基团、式(g2-5)所示的基团或式(g2-6)所示的基团，式(g2-1)中，a＝d1+d3和b＝d2+d4，式(g2-2)中，a＝e1和b＝e2，式(g2-3)中，a＝1和b＝2，式(g2-4)中，a＝h1和b＝h2，式(g2-5)中，a＝i1和b＝i2，式(g2-6)中，a＝1和b＝1，

(-A-Q¹²-)_e1C(R²)_4-e1-e2(-Q²²-)_e2 (g2-2)

-A-Q¹³-N(-Q²³-)₂ (g2-3)

(-A-Q¹⁴-)_h1Z(-Q²⁴-)_h2 (g2-4)

(-A-Q¹⁵-)_i1Si(R³)_4-i1-i2(-Q²⁵-)_i2 (g2-5)

-A-Q²⁶- (g2-6)

其中，

A为单键、-C(O)NR⁶-、-C(O)-、-O-或-SO₂NR⁶-，

Q¹³为单键、亚烷基、在碳数2以上的亚烷基的碳-碳原子之间具有-C(O)NR⁶-、-C(O)-、-NR⁶-或-O-的基团、或者在亚烷基的N侧的末端具有-C(O)-的基团，其中，Q¹³为单键时A仅限于-C(O)-，

Z为具有a+b价的环结构的基团，所述a+b价的环结构具有直接与Q¹⁴键合的碳原子或氮原子、且具有直接与Q²⁴键合的碳原子或氮原子，

R²为氢原子、羟基、烷基或酰氧基，

R³为烷基，

R⁶为氢原子、碳数1～6的烷基或苯基，

d1为0～3的整数，d2为0～3的整数，d1+d2为1～3的整数，

d3为0～3的整数，d4为0～3的整数，d3+d4为1～3的整数，

d1+d3为1～5的整数，d2+d4为1～5的整数，

e1为1～3的整数，e2为1～3的整数，e1+e2为3或4，

h1为1以上的整数，h2为1以上的整数，

i1为1～3的整数，i2为1～3的整数，i1+i2为3或4。

11.根据权利要求4～10中任一项所述的带表面层的物品，其中，所述L为碳数1～4的烷氧基。

12.根据权利要求1～11中任一项所述的带表面层的物品，其为构成触摸面板的手指触摸面的构件。