CN114012605A - 一种抛光垫修整装置 - Google Patents

一种抛光垫修整装置 Download PDF

Info

Publication number
CN114012605A
CN114012605A CN202210004130.7A CN202210004130A CN114012605A CN 114012605 A CN114012605 A CN 114012605A CN 202210004130 A CN202210004130 A CN 202210004130A CN 114012605 A CN114012605 A CN 114012605A
Authority
CN
China
Prior art keywords
polishing pad
connecting arm
conditioning apparatus
adjusting
pad conditioning
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN202210004130.7A
Other languages
English (en)
Other versions
CN114012605B (zh
Inventor
何红秀
杨渊思
周智鹏
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hangzhou Zhonggui Electronic Technology Co ltd
Original Assignee
Hangzhou Zhonggui Electronic Technology Co ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hangzhou Zhonggui Electronic Technology Co ltd filed Critical Hangzhou Zhonggui Electronic Technology Co ltd
Priority to CN202210004130.7A priority Critical patent/CN114012605B/zh
Publication of CN114012605A publication Critical patent/CN114012605A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN114012605B publication Critical patent/CN114012605B/zh
Priority to TW111139164A priority patent/TWI820968B/zh
Priority to PCT/CN2022/144028 priority patent/WO2023131075A1/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B53/00Devices or means for dressing or conditioning abrasive surfaces
    • B24B53/017Devices or means for dressing, cleaning or otherwise conditioning lapping tools
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P70/00Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
    • Y02P70/10Greenhouse gas [GHG] capture, material saving, heat recovery or other energy efficient measures, e.g. motor control, characterised by manufacturing processes, e.g. for rolling metal or metal working

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Grinding-Machine Dressing And Accessory Apparatuses (AREA)
  • Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
  • Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)

Abstract

本发明公开了一种抛光垫修整装置,包括:连接臂,水平延伸;修整头单元,设于连接臂的一端,用于修整抛光垫;基座单元,设于连接臂的另一端,与连接臂活动连接,用于驱动连接臂带着修整头单元垂直上下移动,以使得修整头单元沿趋于垂直的方向靠近或远离抛光垫。本发明可以稳定实现修整过程中的均匀稳定的正压力,保证了抛光修整过程的一致性;不是一个运动放大机构,可以有效减轻修整头单元在运动至抛光垫过程中对抛光垫的冲击作用;无放大作用,更容易保证修整头单元工位状态的一致性。

Description

一种抛光垫修整装置
技术领域
本发明属于半导体集成电路芯片制造设备领域,尤其是涉及一种抛光垫修整装置。
背景技术
化学机械抛光平坦化 (Chemical Mechanical Planarization,CMP) 设备中晶圆在粗糙的抛光垫表面抛光晶圆,随着抛光时间的延长,抛光垫表面被磨平,失去抛光的效果,需要有带有金刚石砂轮盘的修整器对抛光垫表面修整,使抛光垫表面粗糙有摩擦力,使之继续拥有抛光的功能。
为了完成整个抛光过程,抛光垫修整器需要有一个在高度方向上接近抛光垫的过程,目前抛光垫修整器的这种UP/Down的过程基本通过杠杆的原理实现,动力装置通过控制杠杆的短力臂一端来实现杠杆的长力臂一端的俯仰,如图1所示,即实现抛光垫修整器修整头UP/Down的过程。
此种方式有几个缺陷:首先,在抛光垫磨损的过程中,由于抛光垫高度的变化,支撑抛光垫修整器的机械臂的空间角度α是一个不断变化的过程,换而言之,抛光垫修整器施加给抛光垫的压力方向F2在不断变化,这就导致修整后的抛光垫状态无法保证在一个相对稳定的状态,最终导致在抛光垫上完成抛光的晶圆也就无法保证一致性;其次,由于杠杆原理本身的特性,α角大多数情况下不为零,抛光垫修整器给抛光垫的压力大多情况下并不为正压力,即抛光垫修整器不同区域的抛光压力不一致,而抛光垫修整器工作过程中的摆动速度有限,这就导致了抛光垫不同区域的修整程度不一致,即无法保证抛光垫形貌的一致性,影响完成抛光的晶圆的一致性;再者,此杠杆原理的UP/Down实现方式实际上是一个运动放大机构,将动力装置的位移放大以实现抛光垫修整器头部的运动,但同时也大大降低了抛光垫修整器的空间位置稳定性,容易把动力装置的波动加倍放大然后传递到抛光垫修整器的修整头上,带来的结果就是在抛光垫修整器接近抛光垫的过程中的运动冲击被放大,加大抛光垫被冲击损伤的可能;最后,抛光垫修整器在UP/Down运动过程中存在UP/Down的极限位置,需要设定硬限位,而硬限位在加工、安装、调试过程中的误差都会被杠杆机构放大,从而无法保证不同工位上抛光垫修整器的一致性。
发明内容
为了克服现有技术的不足,本发明提供一种动力方向和运动方向一致,使得连接臂带着修整头单元以平动的方式实现抛光垫的修整,修整压力更加均匀的抛光垫修整装置。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:一种抛光垫修整装置,包括:
连接臂,水平延伸;
修整头单元,设于连接臂的一端,用于修整抛光垫;
基座单元,设于连接臂的另一端,与连接臂活动连接,用于驱动连接臂带着修整头单元垂直上下移动,以使得修整头单元沿趋于垂直的方向靠近或远离抛光垫。
本发明利用基座单元驱动连接臂垂直上下移动,以使得修整头单元垂直向下对抛光垫进行修整,保证了动力方向和运动方向的一致性,通过平动的方式实现修整头单元的上下运动,实现修整过程中均匀的、稳定的抛光压力,解决了现有技术杠杆原理存在的修整头单元施加给抛光垫的压力不断变化的问题,也没有作用力的放大问题,保证抛光垫形貌的一致性。
进一步的,所述连接臂以水平的姿态带着修整头单元垂直上下移动。
进一步的,所述修整头单元垂直上下移动以与抛光垫面接触,并保持面接触的状态完成抛光垫的修整。
进一步的,所述基座单元至少包括,
安装座;
接头,可相对安装座垂直上下活动,其与连接臂相连;
活动连接板,与连接臂相连,在连接臂的带动下可沿安装座垂直上下活动。
活动连接板可以承受修整头单元与连接臂带来的弯矩,保证整个结构的稳定性。
进一步的,所述基座单元还包括调节组件,其穿过连接臂与活动连接板顶面相抵,以调节连接臂和活动连接板之间的间隙大小,保证连接臂处于水平的姿态。调节组件的设置可以辅助调节实现连接臂的水平姿态,可以相对降低零部件的加工精度。
进一步的,所述调节组件包括至少两个第一调节件,该第一调节件沿着连接臂的长度方向间隔布设,至少两个第一调节件配合形成连接臂和活动连接板之间的第一夹角,以克服连接臂长度方向上的倾斜姿态。
进一步的,所述调节组件包括至少两个第二调节件,该第二调节件沿着连接臂的宽度方向间隔布设,至少两个第二调节件配合形成连接臂和活动连接板之间的第二夹角,以克服连接臂宽度方向上的倾斜姿态。
进一步的,所述第一调节件和第二调节件相互垂直布设。
进一步的,所述第一调节件和第二调节件的总数量为六个,其分为以连接臂的中心轴线对称设置的两组。
进一步的,所述连接臂和活动连接板之间通过紧固件相连,该紧固件靠近所述第一调节件和第二调节件。
进一步的,所述安装座上设有垂直延伸的导向机构,所述活动连接板沿导向机构垂直上下活动。
进一步的,所述导向机构和修整头单元分别设于所述安装座的两侧。修整头单元、接头和导向机构从左往右依次布设,接头设置在修整头单元和导向机构之间,在工作过程中,动力机构对接头的推力可以一定程度上克服修整头单元自重对导向机构的弯矩,减小导向机构的负荷,增加导向机构的寿命。
进一步的,所述导向机构的上下两端分别形成限位块,以限制活动连接板的上下活动行程。限位块在整个UP/Down运动过程中起限位作用,保证修整头单元的安全工作范围。
进一步的,所述接头与活动连接板分体设置,或者,所述接头与活动连接板一体设置。
进一步的,所述接头在动力机构的驱动下上下活动,所述接头和动力机构之间形成活动间隙;
或者,所述接头与动力机构一体连接。
活动间隙的存在可以对接头和动力机构之间形成保护作用,增加两者的灵活性;接头和动力机构一体连接则使得整体结构更加简单。
进一步的,所述动力机构为气缸。
进一步的,所述连接臂的端部形成下部开口的罩体,所述接头、活动连接板分别与罩体的内顶面相连;所述罩体顶面形成镂空部。
进一步的,所述修整头单元包括驱动单元和修整片。
进一步的,所述基座单元与摆动单元相连,摆动单元与固定座相连,该摆动单元用于带动基座单元、连接臂和修整头单元整体周向摆动。
本发明的有益效果是,1)相对于原转动UP/Down结构,平动UP/Down结构可以稳定实现修整过程中的均匀稳定的正压力,保证了抛光修整过程的一致性;2)相对于原转动UP/Down结构,平动UP/Down结构不是一个运动放大机构,可以有效减轻修整头单元在运动至抛光垫过程中对抛光垫的冲击作用;3)相对于原转动UP/Down结构,在硬限位结构位置误差上,平动UP/Down结构无放大作用,更容易保证修整头单元工位状态的一致性。
附图说明
图1为现有技术的作用机制示意图,此时修整头单元以A为支点实现上下运动。
图2为本发明的作用机制示意图,此时修整头单元上下平移。
图3为本发明的结构示意图。
图4为本发明的基座单元的立体图一。
图5为本发明的基座单元的立体图二。
图6为本发明的基座单元局部透视图。
图7为本发明的基座单元的俯视图。
图8为本发明的第一调节件工作原理示意图。
图9为本发明的俯视图。
图10为图9中的D-D剖视图。
具体实施方式
为了使本技术领域的人员更好的理解本发明方案,下面将结合本发明实施例中的附图,对发明实施例中的技术方案进行清楚、完整的描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都应当属于本发明保护的范围。
如图2-图3所示,一种抛光垫修整装置,包括水平延伸的连接臂1,设置在连接臂1的一端、用于修整抛光垫的修整头单元2,及设置在连接臂1的另一端的基座单元2,该基座单元2与连接臂1活动连接,用于驱动连接臂1带着修整头单元2垂直上下移动,以使得修整头单元2沿着趋于垂直抛光垫的方向靠近或远离抛光垫,当然也可以说是沿着垂直抛光垫的方向靠近或远离抛光垫。上述修整头单元2不仅在上下移动接触抛光垫的过程与抛光垫面接触,而且在接触后的整个修整过程也是以面接触的状态,即修整头单元与抛光垫保持面接触的状态完成抛光垫的修整。
而且连接臂1是以水平的姿态带着修整头单元2垂直上下移动,即上下移动的过程连接臂1不会发生倾斜。
如图4、图5所示,基座单元3包括安装座31,接头32,活动连接板33,及调节组件34。
安装座31相对固定,其负责其他零件的安装固定,为一体式零件构成,可避免多体零件安装过程中带来的安装误差,保证修整头单元2工作过程中的精度需求。
接头32与连接臂1通过螺栓固定连接,且可以相对安装座31垂直上下活动,即接头21带着连接臂1垂直上下活动;
接头32在动力机构36的驱动下上下活动,接头32和动力机构36之间形成活动间隙37,如图5所示,上述活动间隙37包括横向活动的间隙,包括竖直方向活动的间隙,也包括周向旋转活动的间隙。在本实施例中,动力机构36选用气缸,其垂直安装以实现接头32的垂直上下平移。当然,接头32和动力机构36也可以设置为一体结构。
活动连接板33与连接臂1相连,具体是活动连接板33连接在连接臂1的下方,其在连接臂1的带动下可以沿着安装座31垂直上下活动;
活动连接板33可以是与接头32分体设置,也可以是两者连接为一体结构;
为了保证活动连接板33的垂直上下平移,在安装座31上设置有垂直延伸的导向机构311,活动连接板33沿着该导向机构311垂直上下活动。为了防止活动连接板33脱离导向机构311,在导向机构311的上下两端分别形成限位块312,从而可以限制活动连接板33的上下活动行程。在本实施例中,导向机构311采用平行设置的双导轨四滑块结构,保证稳定性和强度。
而且导向机构311和修整头单元2分别设置在安装座31的两侧,即修整头单元2、接头32和导向机构311从左往右依次布设。
调节组件34穿过连接臂1与活动连接板33顶面相抵,从而调节连接臂1和活动连接板33之间的间隙大小,保证连接臂1一直是处于水平的姿态。当然在理想状态下,保证各个工件的加工精度的前提下,连接臂1也能一直处于水平的姿态,此时调节组件34也可以省略。
具体的,如图6、图7所示,调节组件34包括至少两个第一调节件341,该第一调节件341沿着连接臂1的长度方向间隔布设,而且第一调节件341最好是位于连接臂1的中心轴线方向上。从而至少两个第一调节件341配合形成连接臂1和活动连接板33之间的第一夹角,从而克服连接臂1长度方向上的倾斜姿态。如图8所示的β角即为上述的第一夹角,以图2所示方向为例进行说明,在连接臂1的自重作用下,其有逆时针旋转的趋势,通过将第一调节件341向下旋转抵接活动连接板33的顶面, 使得连接臂1的右端将其左端相对向上翘起,以克服连接臂1的自重带来的倾斜,即克服连接臂1长度方向上的倾斜姿态,保证连接臂1轴向的水平姿态。
调节组件34还包括至少两个第二调节件342,该第二调节件342沿着连接臂1的宽度方向间隔布设,而且第二调节件342最好是位于连接臂1宽度方向的一条水平线上,从而至少两个第二调节件342配合形成连接臂1和活动连接板33之间的第二夹角,从而克服连接臂1宽度方向上的倾斜姿态,具体原理与长度方向相同,不再赘述。
为了方便调节,也为了第一调节件341和第二调节件342配合使得连接臂1达到一个水平的姿态,第一调节件341和第二调节件342相互垂直布设,即将所有第一调节件341的中心连线,将所有第二调节件342的中心连线,两个连线相互垂直。
在本实施例中,如图7所示,第一调节件341和第二调节件342的总数量为六个,其分为以连接臂1的中心轴线对称设置的两组,每组三个,此时第一调节件341和第二调节件342没有明确的分界,部分调节件既可以作为调整长度方向姿态的第一调节件341用,也可以作为调整宽度方向姿态的第二调节件342用。
连接臂1和活动连接板33之间通过紧固件35相连,该紧固件35靠近上述的第一调节件341和第二调节件342设置,在本实施例中,紧固件35的数量为四个,布设在调节组件34的外围。具体装配时可以先装配调节组件34,再装配紧固件35。
连接臂1的端部形成下部开口的罩体11,接头32、活动连接板33分别与罩体11的内顶面相连,从而接头32、活动连接板33、安装座31、动力机构36、导向机构311都被罩设在罩体11内;在罩体11的顶面形成镂空部111,以减轻连接臂1的重量。
如图9、图10所示,修整头单元2为修整过程的执行机构,其包括驱动单元21和修整片22,修整片22在驱动单元21的驱动下垂直上下活动,通过修整片22自转实现抛光垫的修整。
如图3所示,基座单元3与摆动单元4相连,摆动单元4与固定座5相连,该摆动单元4用于带动基座单元3、连接臂1和修整头单元2整体周向摆动,以实现抛光垫各处的修整。
上述具体实施方式用来解释说明本发明,而不是对本发明进行限制,在本发明的精神和权利要求的保护范围内,对本发明作出的任何修改和改变,都落入本发明的保护范围。

Claims (19)

1.一种抛光垫修整装置,其特征在于,包括:
连接臂(1),水平延伸;
修整头单元(2),设于连接臂(1)的一端,用于修整抛光垫;
基座单元(3),设于连接臂(1)的另一端,与连接臂(1)活动连接,用于驱动连接臂(1)带着修整头单元(2)垂直上下移动,以使得修整头单元(2)沿趋于垂直的方向靠近或远离抛光垫。
2.根据权利要求1所述的抛光垫修整装置,其特征在于:所述连接臂(1)以水平的姿态带着修整头单元(2)垂直上下移动。
3.根据权利要求1所述的抛光垫修整装置,其特征在于:所述修整头单元(2)垂直上下移动以与抛光垫面接触,并保持面接触的状态完成抛光垫的修整。
4.根据权利要求1或2或3所述的抛光垫修整装置,其特征在于:所述基座单元(3)至少包括,
安装座(31);
接头(32),可相对安装座(31)垂直上下活动,其与连接臂(1)相连;
活动连接板(33),与连接臂(1)相连,在连接臂(1)的带动下可沿安装座(31)垂直上下活动。
5.根据权利要求4所述的抛光垫修整装置,其特征在于:所述基座单元(3)还包括调节组件(34),其穿过连接臂(1)与活动连接板(33)顶面相抵,以调节连接臂(1)和活动连接板(33)之间的间隙大小,保证连接臂(1)处于水平的姿态。
6.根据权利要求5所述的抛光垫修整装置,其特征在于:所述调节组件(34)包括至少两个第一调节件(341),该第一调节件(341)沿着连接臂(1)的长度方向间隔布设,至少两个第一调节件(341)配合形成连接臂(1)和活动连接板(33)之间的第一夹角,以克服连接臂(1)长度方向上的倾斜姿态。
7.根据权利要求6所述的抛光垫修整装置,其特征在于:所述调节组件(34)包括至少两个第二调节件(342),该第二调节件(342)沿着连接臂(1)的宽度方向间隔布设,至少两个第二调节件(342)配合形成连接臂(1)和活动连接板(33)之间的第二夹角,以克服连接臂(1)宽度方向上的倾斜姿态。
8.根据权利要求7所述的抛光垫修整装置,其特征在于:所述第一调节件(341)和第二调节件(342)相互垂直布设。
9.根据权利要求7所述的抛光垫修整装置,其特征在于:所述第一调节件(341)和第二调节件(342)的总数量为六个,其分为以连接臂(1)的中心轴线对称设置的两组。
10.根据权利要求7所述的抛光垫修整装置,其特征在于:所述连接臂(1)和活动连接板(33)之间通过紧固件(35)相连,该紧固件(35)靠近所述第一调节件(341)和第二调节件(342)。
11.根据权利要求4所述的抛光垫修整装置,其特征在于:所述安装座(31)上设有垂直延伸的导向机构(311),所述活动连接板(33)沿导向机构(311)垂直上下活动。
12.根据权利要求11所述的抛光垫修整装置,其特征在于:所述导向机构(311)和修整头单元(2)分别设于所述安装座(31)的两侧。
13.根据权利要求11所述的抛光垫修整装置,其特征在于:所述导向机构(311)的上下两端分别形成限位块(312),以限制活动连接板(33)的上下活动行程。
14.根据权利要求4所述的抛光垫修整装置,其特征在于:所述接头(32)与活动连接板(33)分体设置,或者,所述接头(32)与活动连接板(33)一体设置。
15.根据权利要求4所述的抛光垫修整装置,其特征在于:所述接头(32)在动力机构(36)的驱动下上下活动,所述接头(32)和动力机构(36)之间形成活动间隙(37);
或者,所述接头(32)与动力机构(36)一体连接。
16.根据权利要求15所述的抛光垫修整装置,其特征在于:所述动力机构(36)为气缸。
17.根据权利要求4所述的抛光垫修整装置,其特征在于:所述连接臂(1)的端部形成下部开口的罩体(11),所述接头(32)、活动连接板(33)分别与罩体(11)的内顶面相连;所述罩体(11)顶面形成镂空部(111)。
18.根据权利要求1或2或3所述的抛光垫修整装置,其特征在于:所述修整头单元(2)包括驱动单元(21)和修整片(22)。
19.根据权利要求1或2或3所述的抛光垫修整装置,其特征在于:所述基座单元(3)与摆动单元(4)相连,摆动单元(4)与固定座(5)相连,该摆动单元(4)用于带动基座单元(3)、连接臂(1)和修整头单元(2)整体周向摆动。
CN202210004130.7A 2022-01-05 2022-01-05 一种抛光垫修整装置 Active CN114012605B (zh)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202210004130.7A CN114012605B (zh) 2022-01-05 2022-01-05 一种抛光垫修整装置
TW111139164A TWI820968B (zh) 2022-01-05 2022-10-17 一種拋光墊修整裝置
PCT/CN2022/144028 WO2023131075A1 (zh) 2022-01-05 2022-12-30 一种抛光垫修整装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202210004130.7A CN114012605B (zh) 2022-01-05 2022-01-05 一种抛光垫修整装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN114012605A true CN114012605A (zh) 2022-02-08
CN114012605B CN114012605B (zh) 2022-05-17

Family

ID=80069520

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202210004130.7A Active CN114012605B (zh) 2022-01-05 2022-01-05 一种抛光垫修整装置

Country Status (3)

Country Link
CN (1) CN114012605B (zh)
TW (1) TWI820968B (zh)
WO (1) WO2023131075A1 (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2023131075A1 (zh) * 2022-01-05 2023-07-13 杭州众硅电子科技有限公司 一种抛光垫修整装置

Citations (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3005606A1 (de) * 1980-02-15 1981-08-20 Hauni-Werke Körber & Co KG, 2050 Hamburg Schleifmaschine
JPH07256554A (ja) * 1994-03-23 1995-10-09 Mitsubishi Materials Corp ウェーハ研磨パッドのツルーイング装置
JPH11114803A (ja) * 1997-10-14 1999-04-27 Satoshi Inoue ラッピング定盤のフェーシング装置
JP2000288908A (ja) * 1999-04-06 2000-10-17 Sony Corp 研磨装置及び研磨方法
CN101191720A (zh) * 2006-12-01 2008-06-04 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 影像量测装置
CN101218067A (zh) * 2005-07-09 2008-07-09 Tbw工业有限公司 用于cmp垫修整的增强式末端执行臂装置
CN101604616A (zh) * 2008-06-10 2009-12-16 细美事有限公司 单一型基片处理装置和方法
CN101623849A (zh) * 2009-07-31 2010-01-13 清华大学 一种用于对抛光垫进行修整的修整装置
US20100210187A1 (en) * 2009-02-13 2010-08-19 Supfina Grieshaber Gmbh & Co. Kg Device and method for fine or finest processing of a rotationally symmetric work piece surface
JP2011224697A (ja) * 2010-04-19 2011-11-10 Disco Corp 研磨パッドの修正方法
CN103522191A (zh) * 2013-09-26 2014-01-22 中国电子科技集团公司第四十五研究所 应用在晶圆化学机械平坦化设备中的抛光垫修整装置
CN204831778U (zh) * 2015-08-28 2015-12-02 东南大学 新型多功能可调平试验底座
CN110605657A (zh) * 2018-05-28 2019-12-24 三星电子株式会社 调节器和包括该调节器的化学机械抛光设备
CN110744450A (zh) * 2019-10-21 2020-02-04 西安奕斯伟硅片技术有限公司 一种抛光垫的修整器及修整方法
CN112223744A (zh) * 2020-09-30 2021-01-15 深圳市创想三维科技有限公司 一种简易装置平台及具有其的3d打印机
CN112405215A (zh) * 2020-11-11 2021-02-26 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 抛光盘的离线修整装置及修整方法
CN113187988A (zh) * 2021-04-29 2021-07-30 广船国际有限公司 一种船载设备的辅助调平机构及其使用方法

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10217102A (ja) * 1997-01-30 1998-08-18 Toshiba Mach Co Ltd 研磨布のドレッシング方法およびその装置
CN107350961B (zh) * 2016-12-20 2019-09-13 北京航空航天大学 一种角度可调保偏光纤尾纤块研磨夹具
JP2018134710A (ja) * 2017-02-22 2018-08-30 株式会社荏原製作所 基板の研磨装置および研磨方法
CN114012605B (zh) * 2022-01-05 2022-05-17 杭州众硅电子科技有限公司 一种抛光垫修整装置

Patent Citations (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3005606A1 (de) * 1980-02-15 1981-08-20 Hauni-Werke Körber & Co KG, 2050 Hamburg Schleifmaschine
JPH07256554A (ja) * 1994-03-23 1995-10-09 Mitsubishi Materials Corp ウェーハ研磨パッドのツルーイング装置
JPH11114803A (ja) * 1997-10-14 1999-04-27 Satoshi Inoue ラッピング定盤のフェーシング装置
JP2000288908A (ja) * 1999-04-06 2000-10-17 Sony Corp 研磨装置及び研磨方法
CN101218067A (zh) * 2005-07-09 2008-07-09 Tbw工业有限公司 用于cmp垫修整的增强式末端执行臂装置
CN101191720A (zh) * 2006-12-01 2008-06-04 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 影像量测装置
CN101604616A (zh) * 2008-06-10 2009-12-16 细美事有限公司 单一型基片处理装置和方法
US20100210187A1 (en) * 2009-02-13 2010-08-19 Supfina Grieshaber Gmbh & Co. Kg Device and method for fine or finest processing of a rotationally symmetric work piece surface
CN101623849A (zh) * 2009-07-31 2010-01-13 清华大学 一种用于对抛光垫进行修整的修整装置
JP2011224697A (ja) * 2010-04-19 2011-11-10 Disco Corp 研磨パッドの修正方法
CN103522191A (zh) * 2013-09-26 2014-01-22 中国电子科技集团公司第四十五研究所 应用在晶圆化学机械平坦化设备中的抛光垫修整装置
CN204831778U (zh) * 2015-08-28 2015-12-02 东南大学 新型多功能可调平试验底座
CN110605657A (zh) * 2018-05-28 2019-12-24 三星电子株式会社 调节器和包括该调节器的化学机械抛光设备
CN110744450A (zh) * 2019-10-21 2020-02-04 西安奕斯伟硅片技术有限公司 一种抛光垫的修整器及修整方法
CN112223744A (zh) * 2020-09-30 2021-01-15 深圳市创想三维科技有限公司 一种简易装置平台及具有其的3d打印机
CN112405215A (zh) * 2020-11-11 2021-02-26 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 抛光盘的离线修整装置及修整方法
CN113187988A (zh) * 2021-04-29 2021-07-30 广船国际有限公司 一种船载设备的辅助调平机构及其使用方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2023131075A1 (zh) * 2022-01-05 2023-07-13 杭州众硅电子科技有限公司 一种抛光垫修整装置

Also Published As

Publication number Publication date
WO2023131075A1 (zh) 2023-07-13
TWI820968B (zh) 2023-11-01
CN114012605B (zh) 2022-05-17
TW202327808A (zh) 2023-07-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN114012605B (zh) 一种抛光垫修整装置
CN101786262A (zh) 用于修整研磨垫的设备、化学机械研磨设备和方法
CN111347303B (zh) 用于阀盖上圆孔打磨整形的自循迹变径加工机器人整机
CN116330110B (zh) 一种车载透明曲面显示屏异形加工装置
CN110893576A (zh) 抛光机
CN104708509B (zh) 弹簧端面磨床
CN113146391B (zh) 一种建筑装饰用的墙面处理装置
CN114310649A (zh) 一种研磨超精机
CN207127675U (zh) 一种可翻转的x轴伺服砂带机
KR200227514Y1 (ko) 유리 가공장치
CN220389108U (zh) 一种研磨垫的修整装置及晶圆研磨装置
CN2644094Y (zh) 石材磨光机的摆动横梁自适应调整水平装置
CN218827027U (zh) 一种采用全方位保护的芯片排出机构
CN217097104U (zh) 一种砂带抛光机
CN216707107U (zh) 一种研磨超精机
JPH1133898A (ja) 研磨装置
CN218984325U (zh) 一种机械臂式自动打磨机
CN118010547B (zh) 一种工件接触面耐磨性能测试系统
CN115464479B (zh) 立轴圆台平面磨床
CN218947145U (zh) 一种带数显模块的平面磨床
CN216465422U (zh) 一种五轴桥切机
CN217800783U (zh) 内燃机气阀钢锻磨削装置
CN214869290U (zh) 一种汽车起动机单向器的磨边加工装置
JP2555319B2 (ja) 研摩機における砥石の加圧装置
CN214265185U (zh) 一种圆弧修整器微调结构

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant