CN114011816A - 一种单晶炉排气管路自清洁系统及其装置 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种单晶炉排气管路自清洁系统及其装置,其中,单晶炉排气管路自清洁装置包括壳体、闸板阀、清洁头、第一驱动机构和第二驱动机构;壳体第一端为开口结构;闸板阀第一端用于连接排气管道的工艺孔,第二端与壳体第一端连接;清洁头设置于壳体内;第一驱动机构用于在闸板阀打开时,驱使清洁头由壳体内伸入排气管道内;第二机构用于驱使清洁头旋转。在本方案中,通过第一驱动机构将清洁头带入排气管道内,并通过第二驱动机构带动清洁头进行旋转清洁,以实现排气管道内挥发物的清洁,确保排气管道通畅,加快挥发物排出速率,进而降低了挥发物在硅液中的溶解几率,从而有效降低了氧含量,以此可有助于避免对电池端和组件端带来影响。
Description
技术领域
本发明涉及单晶制造技术领域,特别涉及一种单晶炉排气管路自清洁系统及其装置。
背景技术
传统能源由于储量、环保等问题,各个国家碳达峰碳中和目标,需求逐步下降,而清洁能源的需求与日俱增。其中,太阳能光伏具有高效低成本优势,较其他风能、潮汐能等拥有更大的发展前景。
目前直拉单晶技术开发过程中,高品质、低成本是当前主流技术方向。大尺寸硅片因其更优的性价比,市场占比逐步增大。
然而,随着大热场运行时间延长,单晶炉排气管路容易沉积大量挥发物,使得挥发物在硅液中的溶解几率增加,增加了氧含量,氧含量的增大在电池端则带来同心圆比例增大,漏电等异常现象,在组件端则表现为光衰比例较大,不利于终端电站后期发电收益。
发明内容
有鉴于此,本发明提供了一种单晶炉排气管路自清洁装置,首先在排气管道内外等压的情况下打开闸板阀,然后通过第一驱动机构将清洁头带入排气管道内,并通过第二驱动机构带动清洁头进行旋转清洁,以便于实现排气管道内挥发物的清洁,确保排气管道通畅,加快挥发物排出速率,进而降低了挥发物在硅液中的溶解几率,从而有效降低了氧含量,以此可有助于避免对电池端和组件端带来影响。
为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:
一种单晶炉排气管路自清洁装置,包括壳体、闸板阀、清洁头、第一驱动机构和第二驱动机构;
所述壳体第一端为开口结构;所述闸板阀第一端用于连接排气管道的工艺孔,第二端与所述壳体第一端连接;所述清洁头设置于所述壳体内,且相对于所述壳体可活动;所述第一驱动机构用于在所述闸板阀打开时,驱使所述清洁头由所述壳体内伸入所述排气管道内;所述第二机构用于驱使所述清洁头旋转。
优选地,所述壳体包括腔体和伸缩管;
所述腔体第一端为开口结构;所述伸缩管第一端与所述闸板阀第二端连接,第二端与所述腔体第一端连接;所述清洁头沿所述伸缩管轴向设置于所述腔体内,且至少部分位于所述伸缩管内;所述第一驱动机构用于在所述闸板阀打开时,驱使所述腔体沿所述伸缩管轴向压缩所述伸缩管,以使得所述清洁头能够由所述壳体内伸入所述排气管道内;所述第二驱动机构设置于所述腔体外,且用于驱使所述清洁头绕所述伸缩管的轴向旋转。
优选地,所述伸缩管为波纹管。
优选地,所述第一驱动机构包括丝杠传动机构;
所述丝杠传动机构沿平行于所述伸缩管轴向的方向设置,且所述丝杠传动机构的活动端与所述腔体外壁连接。
优选地,所述第二驱动机构包括旋转电机;
所述旋转电机设置于所述腔体第二端,且其旋转轴穿过所述腔体的腔壁并与所述清洁头连接。
优选地,还包括真空表;所述真空表设置于所述腔体内;
所述腔体分别设有氩气进气口和氩气出气口。
优选地,所述闸板阀设有水冷流道,和分别设有均连通于所述水冷流道的进水口和出水口。
优选地,所述清洁头包括清洁头本体和清洁毛刷;
所述清洁头本体设置于所述壳体内,所述清洁毛刷设置于所述清洁头本体。
优选地,还包括法兰;
所述法兰第一端用于连接所述排气管路工艺孔,第二端与所述闸板阀第一端连接。
一种单晶炉排气管路自清洁系统,包括如上所述的单晶炉排气管路自清洁装置;
所述单晶炉排气管路自清洁装置的数量为两个,且用于一一对应设置于所述排气管道的两个支路的工艺孔。
从上述的技术方案可以看出,本发明提供的单晶炉排气管路自清洁装置中,首先在排气管道内外等压的情况下打开闸板阀,然后通过第一驱动机构将清洁头带入排气管道内,并通过第二驱动机构带动清洁头进行旋转清洁,以便于实现排气管道内挥发物的清洁,确保排气管道通畅,加快挥发物排出速率,进而降低了挥发物在硅液中的溶解几率,从而有效降低了氧含量,以此可有助于避免对电池端和组件端带来影响。
本发明还提供了一种单晶炉排气管路自清洁系统,由于采用了上述的单晶炉排气管路自清洁装置,因此其也就具有相应的有益效果,具体可以参照前面说明,在此不再赘述。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例提供的单晶炉排气管路自清洁装置的安装示意图;
图2为本发明实施例提供的单晶炉排气管路自清洁装置的结构示意图;
图3为本发明实施例提供的丝杠传动机构的结构示意图。
其中,10为自清洁装置,11为腔体,11.1为氩气进气口,11.2为氩气出气口,12为闸板阀,12.1为进水口,12.2为出水口,13为清洁头,13.1为清洁头本体,13.2为清洁毛刷,14为伸缩管,15为旋转电机,16为丝杠传动机构,16.1为底座,16.2为第一丝杠滑轨,16.3为第二丝杠滑轨,16.4为丝杠,16.5为第一固定支座,16.6为传动支座,16.7为第二固定支座,16.8为电机支架,16.9为电机;20为法兰;30为排气管道。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
本发明实施例提供的单晶炉排气管路自清洁装置,如图2所示,包括壳体、闸板阀12、清洁头13、第一驱动机构和第二驱动机构;
壳体第一端为开口结构;闸板阀12第一端用于连接排气管道30的工艺孔,第二端与壳体第一端连接;清洁头13设置于壳体内,且相对于壳体可活动;第一驱动机构用于在闸板阀12打开时,驱使清洁头13由壳体内伸入排气管道30内;第二驱动机构用于驱使清洁头13旋转。
需要说明的是,排气管道30的工艺孔,可为用于安装闸板阀12或法兰20的预设孔。闸板阀12用于隔离排气管道30与自清洁装置主体,而且只有当壳体内压强控制至与排气管道30内炉压保持一致时,方可才能打开闸板阀12。此外,闸板阀12阀孔的孔径大于清洁头13的尺寸,确保清洁头13能够顺利通过闸板阀12。另外,清洁头13相对于壳体是可活动的,以便于通过第一驱动机构带动清洁头的移动,和通过第二驱动机构带动清洁头13的转动。与此同时,第一驱动机构还用于在闸板阀12打开时,驱使清洁头13由排气管道30内退回至壳体内;也就是说,第一驱动机构是双向驱动机构,确保清洁头13清洁后的复位。除此之外,第二驱动机构用于在清洁头13伸进至排气管道30内时,驱使其进行旋转清洁排气管道30内的挥发物。
从上述的技术方案可以看出,本发明实施例提供的单晶炉排气管路自清洁装置中,首先在排气管道内外等压的情况下打开闸板阀,然后通过第一驱动机构将清洁头带入排气管道内,并通过第二驱动机构带动清洁头进行旋转清洁,以便于实现排气管道内挥发物的清洁,确保排气管道通畅,加快挥发物排出速率,进而降低了挥发物在硅液中的溶解几率,从而有效降低了氧含量,以此可有助于避免对电池端和组件端带来影响。
在本方案中,如图2所示,壳体包括腔体11和伸缩管14;
腔体11第一端为开口结构;伸缩管14第一端与闸板阀12第二端连接,第二端与腔体11第一端连接;清洁头13沿伸缩管14轴向设置于腔体11内,且至少部分位于伸缩管14内;其中,如图2所示,清洁头13的头部位于伸缩管14内;第一驱动机构用于在闸板阀12打开时,驱使腔体11沿伸缩管14轴向压缩伸缩管14,以使得清洁头13能够由壳体内伸入排气管道30内;第二驱动机构设置于腔体11外,且用于驱使清洁头13绕伸缩管14的轴向旋转。也就是说,本方案在闸板阀12打开的情况下,通过第一驱动机构带动腔体11压缩伸缩管14,使得清洁头13也被同时带动穿过伸缩管14并伸入排气管道30内。本方案如此设计,使得清洁头13的运动较平稳可靠,自清洁装置的气密性较好。
具体地,为了确保伸缩管14的抗拉强度、使用寿命和密封性;作为优选,伸缩管14为波纹管。
在本方案中,如图2所示,第一驱动机构包括丝杠传动机构16;
丝杠传动机构16沿平行于伸缩管14轴向的方向设置,且丝杠传动机构16的活动端与腔体11外壁连接。也就是说,本方案通过丝杠传动机构16的活动端带动腔体11沿伸缩管14的轴向移动,以便于实现清洁头13的进给移动;其中,如图3所示,丝杠传动机构16包括底座16.1、第一丝杠滑轨16.2、第二丝杠滑轨16.3、丝杠16.4、第一固定支座16.5、传动支座16.6(作为活动端)、第二固定支座16.7、电机支架16.8和电机16.9。底座16.1用于设置在炉底基座(图中未示出),确保丝杠传动机构16作业稳定性;第一固定支座16.5和第二固定支座16.7分别设置于底座16.1,两个固定支座之间分别用于支撑第一丝杠滑轨16.2、丝杠16.4和第二丝杠滑轨16.3;传动支座16.6分别与两个丝杠滑轨导向配合,而且与丝杠16.4螺纹配合,并且其外端与腔体11外壁连接;电机16.9通过电机支架16.8安装于底座16.1,且其转动轴与丝杠16.4传动连接。具体地,如图1所示,本方案通过丝杠传动机构16的传动支座16.6以带动腔体11向上运动,以便于将清洁头13送入排气管道30内;而且本方案选用丝杠传动机构16作为清洁头13的进给移动机构,具有结构简便、移动稳定可靠、移动精度高等特点。
进一步地,如图2所示,第二驱动机构包括旋转电机15;
旋转电机15设置于腔体11第二端,且其旋转轴穿过腔体11的腔壁并与清洁头13连接。本方案的第二驱动机构如此设计,具有结构简单、易于设计和旋转可靠等特点。
再进一步地,为了确保自清洁装置内压强与排气管道30内炉压保持一致,以便于闸板阀12的打开,这就需要对自清洁装置内的压强进行调节。相应地,本发明实施例提供的单晶炉排气管路自清洁装置还包括真空表;真空表设置于腔体11内;
腔体11分别设有氩气进气口11.1和氩气出气口11.2。其中,腔体11的氩气进气口11.1用于连接氩气进气管,氩气出气口11.2用于连接氩气出气管。也就是说,本方案的自清洁装置通过增设真空表以及氩气进出气口,以实现自清洁装置内压强的监测和调节,从而以便于将自清洁装置内压强调节至匹配排气管道30内炉压。
在本方案中,由于闸板阀12用于对接排气管道30,为了减少排气管道30高温对于闸板阀12影响,这就需要对闸板阀12进行水冷散热处理;相应地,如图2所示,闸板阀12设有水冷流道,和分别设有均连通于水冷流道的进水口12.1和出水口12.2。其中,水冷流道为环形流道,且与闸板阀12的轴心同心。
具体地,为了确保清洁头13的使用寿命和清洁效果;相应地,如图2所示,清洁头13包括清洁头本体13.1和清洁毛刷13.2;
清洁头本体13.1设置于壳体内,清洁毛刷13.2设置于清洁头本体13.1。其中,如图2所示,清洁头本体13.1沿伸缩管14轴向设置于腔体11内,其第一端位于伸缩管14内,且设有清洁毛刷13.2,第二端设置于腔体11内,且与第二驱动机构(即为清洁头本体13.1第二端与旋转电机的旋转轴连接)配合。此外,清洁毛刷13.2的材质可以为不锈钢、或者其它耐高温材质。
进一步地,如图1所示,本发明实施例提供的单晶炉排气管路自清洁装置还包括法兰20;
法兰20第一端用于连接排气管道30工艺孔,第二端与闸板阀12第一端连接。其中,法兰20的孔径大于清洁头13的尺寸,确保清洁头13能够顺利通过法兰20,而且法兰20的外径与闸板阀12的外径相同。本方案如此设计,以便于排气管道30形成外延法兰接口,从而便于自清洁装置的对接。
本发明实施例还提供了一种单晶炉排气管路自清洁系统,包括如上所述的单晶炉排气管路自清洁装置;
如图1所示,单晶炉排气管路自清洁装置的数量为两个,且用于一一对应设置于排气管道30的两个支路的工艺孔。由于本方案采用了上述的单晶炉排气管路自清洁装置,因此其也就具有相应的有益效果,具体可以参照前面说明,在此不再赘述。除此之外,本方案还有助于提高了排气管路的清洁效率。其中,为了避免排气管道30发生堵塞,两个支路只能择一进行清洁。
此外,本发明实施例还提供了一种单晶炉排气管路自清洁系统工艺控制方法,用于对上述的单晶炉排气管路自清洁系统的工艺进行控制,如图1所述,该方法包括:
步骤1、将两个单晶炉排气管路自清洁装置中的第一单晶炉排气管路自清洁装置打开,第二单晶炉排气管路自清洁装置关闭;其中,打开第一闸板阀,关闭第二闸板阀;启动第一驱动机构将第一清洁头伸进排气管路的第一支路内,且速率控制在10-200mm/min;第一清洁头伸进到位后关闭第一驱动机构,并启动第二驱动机构将第一清洁头旋转,且转速控制在10-100r/min,旋转过程为5-15min;第一清洁头旋转到时后,再次启动第一驱动机构将清洁头退出至壳体内,并关闭第一闸板阀;
步骤2、打开第二单晶炉排气管路自清洁装置,重复类似第一单晶炉排气管路自清洁装置的操作。
需要说明的是,在进行步骤1之前,先将两个单晶炉排气管路自清洁装置内的压强调整至与排气管道内炉压一致;具体可通过加注氩气来实现其内部压强的调节。
下面结合具体实施例对本方案作进一步介绍:
本发明的技术方案:
1、排气管路外延一法兰接口,法兰接口尺寸与自清洁装置闸板阀一致,内径控制在80-200mm,旋转清洁头外径控制在60-200mm,即旋转清洁头与排气管直径差控制在2-5mm,确保清洁效果;
2、自清洁装置由电机(旋转电机)、壳体(腔体、波纹管、100torr级真空表)、旋转清洁头(清洁头本体+耐高温清洁毛刷)、丝杠传动机构、气动闸板阀(用于连接法兰)组成;其中,耐高温清洁毛刷材质可以为不锈钢、或者其它耐高温材质;
3、根据工艺要求,一般在拉晶时间≥200h,晶棒收尾过程中,将自清洁装置抽空捡漏合格后,将自清洁装置内压力控制与炉压一致并保压;
4、为确保整个过程安全,当晶棒进入副室开始隔离操作后,将左边闸板阀打开,右边闸板阀关闭。丝杠传动机构驱动腔体运动,将旋转清洁头送入管内,上下移动范围在20-500mm,速率控制在10-200mm/min;当旋转清洁头进入炉体后,旋转电机驱动旋转清洁头旋转,转速控制在10-100r/min,整个清洁过程5-15min,之后将清洁头退出排气管,关闭闸板阀;同时将右边闸板阀开启,重复左边自清洁装置的过程,且整个过程氩气流量较正常运行增加10-100SPLM,避免自清洁过程影响单晶拉制过程;
5、自清洁工艺完成后,旋转清洁头退回腔体,关闭闸板阀;后续晶棒均依照此方案自清洁处理。
本发明的优点:
1、低氧:大热场运行时间延长,排气管道沉积大量挥发物,通过定期清洁排气管路,确保排气管路通畅,加快挥发物排出速率,降低了挥发物在硅液中的溶解几率,进而降低氧含量;
2、产能提升:降低氧含量,可以提高成晶率;另一方面,排气通道的顺畅,提高引放成功率,从而提高单产。
本说明书中各个实施例采用递进的方式描述,每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处,各个实施例之间相同相似部分互相参见即可。
对所公开的实施例的上述说明,使本领域专业技术人员能够实现或使用本发明。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的,本文中所定义的一般原理可以在不脱离本发明的精神或范围的情况下,在其它实施例中实现。因此,本发明将不会被限制于本文所示的这些实施例,而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。
Claims (10)
1.一种单晶炉排气管路自清洁装置,其特征在于,包括壳体、闸板阀(12)、清洁头(13)、第一驱动机构和第二驱动机构;
所述壳体第一端为开口结构;所述闸板阀(12)第一端用于连接排气管道(30)的工艺孔,第二端与所述壳体第一端连接;所述清洁头(13)设置于所述壳体内,且相对于所述壳体可活动;所述第一驱动机构用于在所述闸板阀(12)打开时,驱使所述清洁头(13)由所述壳体内伸入所述排气管道(30)内;所述第二机构用于驱使所述清洁头(13)旋转。
2.根据权利要求1所述的单晶炉排气管路自清洁装置,其特征在于,所述壳体包括腔体(11)和伸缩管(14);
所述腔体(11)第一端为开口结构;所述伸缩管(14)第一端与所述闸板阀(12)第二端连接,第二端与所述腔体(11)第一端连接;所述清洁头(13)沿所述伸缩管(14)轴向设置于所述腔体(11)内,且至少部分位于所述伸缩管(14)内;所述第一驱动机构用于在所述闸板阀(12)打开时,驱使所述腔体(11)沿所述伸缩管(14)轴向压缩所述伸缩管(14),以使得所述清洁头(13)能够由所述壳体内伸入所述排气管道(30)内;所述第二驱动机构设置于所述腔体(11)外,且用于驱使所述清洁头(13)绕所述伸缩管(14)的轴向旋转。
3.根据权利要求2所述的单晶炉排气管路自清洁装置,其特征在于,所述伸缩管(14)为波纹管。
4.根据权利要求2所述的单晶炉排气管路自清洁装置,其特征在于,所述第一驱动机构包括丝杠传动机构(16);
所述丝杠传动机构(16)沿平行于所述伸缩管(14)轴向的方向设置,且所述丝杠传动机构(16)的活动端与所述腔体(11)外壁连接。
5.根据权利要求2所述的单晶炉排气管路自清洁装置,其特征在于,所述第二驱动机构包括旋转电机(15);
所述旋转电机(15)设置于所述腔体(11)第二端,且其旋转轴穿过所述腔体(11)的腔壁并与所述清洁头(13)连接。
6.根据权利要求1所述的单晶炉排气管路自清洁装置,其特征在于,还包括真空表;所述真空表设置于所述腔体(11)内;
所述腔体(11)分别设有氩气进气口(11.1)和氩气出气口(11.2)。
7.根据权利要求1所述的单晶炉排气管路自清洁装置,其特征在于,所述闸板阀(12)设有水冷流道,和分别设有均连通于所述水冷流道的进水口(12.1)和出水口(12.2)。
8.根据权利要求1所述的单晶炉排气管路自清洁装置,其特征在于,所述清洁头(13)包括清洁头本体(13.1)和清洁毛刷(13.2);
所述清洁头本体(13.1)设置于所述壳体内,所述清洁毛刷(13.2)设置于所述清洁头本体(13.1)。
9.根据权利要求1所述的单晶炉排气管路自清洁装置,其特征在于,还包括法兰(20);
所述法兰(20)第一端用于连接所述排气管路(30)工艺孔,第二端与所述闸板阀(12)第一端连接。
10.一种单晶炉排气管路自清洁系统,其特征在于,包括如权利要求1-9任意一项所述的单晶炉排气管路自清洁装置;
所述单晶炉排气管路自清洁装置的数量为两个,且用于一一对应设置于所述排气管道(30)的两个支路的工艺孔。
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