CN113937109A - 一种显示面板、显示装置、制备方法及掩膜版 - Google Patents

一种显示面板、显示装置、制备方法及掩膜版 Download PDF

Info

Publication number
CN113937109A
CN113937109A CN202111165558.1A CN202111165558A CN113937109A CN 113937109 A CN113937109 A CN 113937109A CN 202111165558 A CN202111165558 A CN 202111165558A CN 113937109 A CN113937109 A CN 113937109A
Authority
CN
China
Prior art keywords
routing
fan
line
trace
scanning signal
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN202111165558.1A
Other languages
English (en)
Other versions
CN113937109B (zh
Inventor
张坤锋
邓卓
吴昊
沈柏平
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Xiamen Tianma Microelectronics Co Ltd
Original Assignee
Xiamen Tianma Microelectronics Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Xiamen Tianma Microelectronics Co Ltd filed Critical Xiamen Tianma Microelectronics Co Ltd
Priority to CN202111165558.1A priority Critical patent/CN113937109B/zh
Priority to US17/549,000 priority patent/US20220100044A1/en
Publication of CN113937109A publication Critical patent/CN113937109A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN113937109B publication Critical patent/CN113937109B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/02Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
    • H01L27/12Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body
    • H01L27/1214Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body comprising a plurality of TFTs formed on a non-semiconducting substrate, e.g. driving circuits for AMLCDs
    • H01L27/124Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body comprising a plurality of TFTs formed on a non-semiconducting substrate, e.g. driving circuits for AMLCDs with a particular composition, shape or layout of the wiring layers specially adapted to the circuit arrangement, e.g. scanning lines in LCD pixel circuits
    • H01L27/1244Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body comprising a plurality of TFTs formed on a non-semiconducting substrate, e.g. driving circuits for AMLCDs with a particular composition, shape or layout of the wiring layers specially adapted to the circuit arrangement, e.g. scanning lines in LCD pixel circuits for preventing breakage, peeling or short circuiting
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362Active matrix addressed cells
    • G02F1/136286Wiring, e.g. gate line, drain line
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/1303Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1345Conductors connecting electrodes to cell terminals
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1345Conductors connecting electrodes to cell terminals
    • G02F1/13452Conductors connecting driver circuitry and terminals of panels
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1345Conductors connecting electrodes to cell terminals
    • G02F1/13458Terminal pads
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/02Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
    • H01L27/12Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body
    • H01L27/1214Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body comprising a plurality of TFTs formed on a non-semiconducting substrate, e.g. driving circuits for AMLCDs
    • H01L27/1259Multistep manufacturing methods
    • H01L27/1288Multistep manufacturing methods employing particular masking sequences or specially adapted masks, e.g. half-tone mask
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F2201/00Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00
    • G02F2201/56Substrates having a particular shape, e.g. non-rectangular

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Abstract

本发明实施例公开了一种显示面板、显示装置、制备方法及掩膜版。该显示面板包括阵列基板,阵列基板包括衬底基板和位于衬底基板一侧的第一走线和第二走线,第一走线所在膜层位于衬底基板和第二走线所在膜层之间;第一走线和第二走线分别在衬底基板所在平面上的正投影相交;在投影交叠位置处的第一走线的线宽小于在非投影交叠位置处的第一走线的至少部分位置处的线宽,和/或,在投影交叠位置处的第二走线的线宽大于在非投影交叠位置处的第二走线的至少部分位置处的线宽。本发明实施例解决了现有显示面板走线会因投影交叠位置曝光过量引起的线宽较窄导致的断线问题,可以有效保证走线质量,有助于实现显示面板的窄边框设计,提升产品竞争力。

Description

一种显示面板、显示装置、制备方法及掩膜版
技术领域
本发明实施例涉及显示技术领域,尤其涉及一种显示面板、显示装置、制备方法及掩膜版。
背景技术
显示面板是电子设备实现显示功能的主要部件。液晶显示面板是当今常用的一种显示面板。液晶显示面板包括显示区以及围绕显示区的边框区。随着液晶显示技术的发展,用户对液晶面板的性能以及外观的要求越来越高,导致液晶显示面板的边框区越来越小。
显示装置的边框区域会设置走线,例如扇出(Fan-out)区,用于向显示区的像素单元提供驱动信号。由于边框区的走线线宽较小,且部分走线不可避免会存在上下交叠的情况,交叠位置处的走线存在断线风险,容易出现断线问题。
发明内容
本发明提供一种显示面板、显示装置、制备方法及掩膜版,以防止曝光问题导致线宽过小引起断线,有效保证走线质量,使得显示面板能够正常工作。
第一方面,本发明实施例提供了一种显示面板,包括阵列基板,所述阵列基板包括衬底基板和位于所述衬底基板一侧的第一走线和第二走线,所述第一走线所在膜层位于所述衬底基板和所述第二走线所在膜层之间;
所述第一走线和所述第二走线分别在所述衬底基板所在平面上的正投影相交;在投影交叠位置处的所述第一走线的线宽小于在非投影交叠位置处的所述第一走线的至少部分位置处的线宽,和/或,在投影交叠位置处的所述第二走线的线宽大于在非投影交叠位置处的所述第二走线的至少部分位置处的线宽。
第二方面,本发明实施例还提供了一种显示装置,包括本发明实施例提供的任一项所述的显示面板。
第三方面,本发明实施例还提供了一种显示面板的制备方法,用于制备本发明实施例提供的任一项所述的显示面板,所述制备方法包括:
提供衬底基板,并在所述衬底基板上形成第一走线;
在所述第一走线所在膜层上形成第二走线;所述第一走线和所述第二走线分别在所述衬底基板所在平面上的正投影相交;在投影交叠位置处的所述第一走线的线宽小于在非投影交叠位置处的所述第一走线的至少部分位置处的线宽,和/或,在投影交叠位置处的所述第二走线的线宽大于在非投影交叠位置处的所述第二走线的至少部分位置处的线宽。
第四方面,本发明实施例还提供了一种掩膜版,用于制备本发明实施例提供的任一项所述的显示面板中的第一走线或第二走线;所述掩膜版包括透光区,所述透光区包括第一子透光区和第二子透光区;
所述第一子透光区用于制备所述第一走线中与所述第二走线投影交叠位置处的部分,所述第二子透光区用于制备所述第一走线中与所述第二走线非投影交叠位置处的部分;所述第一子透光区垂直延伸方向的宽度,小于所述第二子透光区至少部分位置处垂直延伸方向的宽度;
或者,所述第一子透光区用于制备所述第二走线中与所述第一走线投影交叠位置处的部分,所述第二子透光区用于制备所述第二走线中与所述第一走线非投影交叠位置处的部分;所述第一子透光区垂直延伸方向的宽度,大于所述第二子透光区至少部分位置处垂直延伸方向的宽度。
本发明实施例中,在阵列基板中设置包括衬底基板和位于衬底基板一侧的第一走线和第二走线,第一走线所在膜层位于衬底基板和第二走线所在膜层之间,第一走线和第二走线分别在衬底基板所在平面上的正投影相交;在投影交叠位置处的第一走线的线宽小于在非投影交叠位置处的第一走线的至少部分位置处的线宽,和/或,在投影交叠位置处的第二走线的线宽大于在非投影交叠位置处的第二走线的至少部分位置处的线宽。本发明实施例解决了现有显示面板走线会因投影交叠位置曝光过量引起的线宽较窄导致的断线问题,通过设置上层走线交叠位置处的线宽增加或下层走线交叠位置处的线宽减小,可以补偿交叠位置曝光过量问题,或减少交叠位置的曝光量,防止曝光问题导致线宽过小引起断线,有效保证了走线质量,使得显示面板能够正常工作。同时,本发明实施例可以在保证走线质量的前提下,在显示面板的边框区以较小的线宽进行布线,从而能够降低边框面积,实现显示面板的窄边框设计,提升产品竞争力。
附图说明
图1是现有显示面板的结构示意图;
图2是图1所示显示面板Fan-out区的局部放大示意图;
图3是图2所示显示面板沿AA’的剖面图;
图4是本发明实施例提供的一种显示面板的局部放大图;
图5是图4所示显示面板局部沿BB’的剖面结构示意图;
图6是本发明实施例提供的另一种显示面板的局部放大示意图;
图7是本发明实施例提供的又一种显示面板的局部放大示意图;
图8和图9是本发明实施例提供的又两种显示面板的结构示意图;
图10为图8所示显示面板沿垂直扇出走线延伸方向的剖面结构示意图;
图11为图9所示显示面板沿垂直扇出走线延伸方向的剖面结构示意图;
图12是本发明实施例提供的又一种显示面板的结构示意图;
图13是本发明实施例提供的又一种显示面板的结构示意图;
图14是图13所示扇出区的局部放大图;
图15和图16是图12所示显示面板沿扇出走线延伸方向的两种剖面结构示意图;
图17是本发明实施例提供的又一种显示面板的剖面结构示意图;
图18是本发明实施例提供的又一种显示面板的剖面结构示意图;
图19是本发明实施例提供的又一种显示面板的结构示意图;
图20是本发明实施例提供的又一种显示面板的结构示意图;
图21是本发明实施例提供的又一种显示面板的结构示意图;
图22是图21所示显示面板边框区的局部放大图;
图23是本发明实施例提供的又一种显示面板的结构示意图;
图24和图25是本发明实施例提供的两种显示装置的结构示意图;
图26是本发明实施例提供的一种显示面板的制备方法流程图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。可以理解的是,此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本发明,而非对本发明的限定。另外还需要说明的是,为了便于描述,附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部结构。
图1是现有显示面板的结构示意图,图2是图1所示显示面板Fan-out区的局部放大示意图,图3是图2所示显示面板沿AA’的剖面图,参考图1-图3,现有的车载显示产品中,边框区120’的Fan-out走线1201’一般呈斜向延伸且依次横向排布。Fan-out整体的纵向高度与该区域内走线的中心间距成正相关,如图2所示,走线之间中心间距L越大,在纵向上的分量L’越大,对于包括多条Fan-out走线的整个Fan-out区而言,其在纵向上占据面积也越大。因为Fan-out区在整个下边框的占比最大,为了使车载显示实现窄边框设计,则需要尽可能压缩Fan-out区走线的中心间距,Fan-out走线1201’的线宽尽可能设计的最小。
由于边框区120’除Fan-out走线1201’外还会设置其他信号走线例如扫描信号线124’等,扫描信号线124’会与Fan-out走线1201’存在投影交叠。因此,在制备Fan-out走线1201’时,会因为下方投影交叠的扫描信号线124’的反光作用,使得Fan-out走线1201’局部曝光过量,此交叠位置处最终形成的Fan-out走线线宽相较于其他位置处会变小。
在此基础上,当该线宽很小的Fan-out走线在制备过程中掺入灰尘颗粒时,极易导致走线的断裂。而且,该交叠位置处的走线线宽越小,则阻抗相对更大,在工作过程中也容易产生过多热量而熔断。另外,因为走线上下交叠的问题,如图3所示,下层走线的存在会使得表面呈现部分凸起,上层走线并非完全处于同一平面上,换言之,位于上层的走线需要跨越下层走线形成的凸起产生爬坡形态。而由于走线的膜层一般是通过沉积方式形成,此爬坡位置处的上层走线在制备时也会因沉积量不足而存在断线的风险。
基于Fan-out走线1201’的线宽本身设计已处于较小的水平,再因上述的曝光量不够准确的问题会使得Fan-out走线1201’线宽变得更小,即如背景技术部分所述,曝光问题会引起显示面板内一些走线断线风险的增加,会影响显示面板的正常工作。
针对上述问题,本发明实施例提供了一种显示面板。该显示面板包括阵列基板,阵列基板包括衬底基板和位于衬底基板一侧的第一走线和第二走线,第一走线所在膜层位于衬底基板和第二走线所在膜层之间;第一走线和第二走线分别在衬底基板所在平面上的正投影相交;在投影交叠位置处的第一走线的线宽小于在非投影交叠位置处的第一走线的至少部分位置处的线宽,和/或,在投影交叠位置处的第二走线的线宽大于在非投影交叠位置处的第二走线的至少部分位置处的线宽。
其中,第一走线和第二走线实质上位于阵列基板的不同膜层,第二走线位于第一走线的上层,第二走线和第一走线存在投影交叠。可以理解,当采用光刻工艺制备第二走线时,由于曝光过程中第一走线的反光作用,会使得第二走线中与第一走线投影交叠位置处曝光过量,从而导致该投影交叠位置处的第二走线的线宽,相较于设计值或其他未曝光过量位置处的线宽变小。而本发明实施例实质是基于曝光过量的问题,将第一走线和/或第二走线投影交叠位置处的线宽设计值进行适当调整,在实际制备过程中即使线宽因曝光问题发生变化,也可利用该设计值对此变化量进行补偿,避免实际形成的走线线宽过小引起断线问题。
具体地,本发明实施例提供了多种可选方案,其中,设置在投影交叠位置处的第一走线的线宽,小于在非投影交叠位置处的第一走线的至少部分位置处的线宽,实质是适当缩小位于下层的第一走线在投影交叠位置处的线宽。此时,位于下层的第一走线因线宽变小其反光能力降低,对于上层的第二走线的曝光影响降低,一定程度上可以避免上层的投影交叠位置处的第二走线的线宽减小,从而防止第二走线断线。而设置在投影交叠位置处的第二走线的线宽,大于在非投影交叠位置处的第二走线的至少部分位置处的线宽,则实质是适当增大位于上层的第二走线在投影交叠位置处的线宽。此时,即使下层的第一走线在曝光过程中存在反光现象,上层的投影交叠位置处的第二走线的线宽会存在一定程度地减小,但最终形成的第二走线线宽仍可以处于较大水平,从而能防止断线情况的发生。可以理解,当同时采用增大投影交叠位置处第二走线的线宽的方案和减小投影交叠位置处第一走线的线宽的方案,则可以更有效避免上述曝光过量引起的断线问题,保证显示面板的正常工作。
以上是本发明的核心思想,下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下,所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
图4是本发明实施例提供的一种显示面板的局部放大图,图5是图4所示显示面板局部沿BB’的剖面结构示意图,参考图4和图5,该显示面板包括阵列基板100,阵列基板100包括衬底基板10和位于衬底基板10一侧的第一走线11和第二走线12,第一走线11所在膜层位于衬底基板10和第二走线12所在膜层之间;第一走线11和第二走线12分别在衬底基板10所在平面上的正投影相交;在投影交叠位置处的第一走线11的线宽C1’小于在非投影交叠位置处的第一走线11的至少部分位置处的线宽C1,在投影交叠位置处的第二走线12的线宽C2’大于在非投影交叠位置处的第二走线12的至少部分位置处的线宽C2。
首先,本实施例所述的走线可以是直线,也可以是曲线,其任意位置处的线宽,表示该位置的走线在垂直走线延伸方向上的宽度。可以理解,走线的线宽可以为固定值,即不同位置的线宽相同,也可以为非定值,即走线在不同位置处的线宽可能不同。本实施例中投影交叠是指将走线正投影在衬底基板所在平面后产生的交叠,投影交叠位置处表示第一走线11和第二走线12投影交叠的区域,非投影交叠位置处则表示第一走线11和第二走线12投影未交叠的区域。
对于减小位于下层的第一走线11投影交叠位置处的线宽的方案而言,本发明实施例中第一走线11在投影交叠位置处的线宽,如图4所示,可以设置为相较于包括相邻位置在内的其他位置处的线宽呈断崖式变化,即,仅对第一走线11的投影交叠位置处的线宽作相应减小。当然,也可以设计第一走线在投影交叠位置处线宽最小,在其他位置处线宽逐渐增大或者保持较小线宽一段长度后再逐渐增大。换言之,本发明实施例的方案目的在于设计第一走线11在投影交叠位置处的线宽相对原设计值减小,其他位置处的线宽可按需进行设计,故而在实际的显示面板产品中,第一走线11在投影交叠位置处的线宽会小于其他某些位置处的线宽。同理,对于增大位于上层的第二走线12在投影交叠位置处的线宽的方案而言,本发明实施例中第二走线12在投影交叠位置处相对原设计值增大,其他位置处的线宽可按需进行设计,故而在实际的显示面板产品中,第二走线12在投影交叠位置处的线宽会大于其他某些位置处的线宽。
本发明实施例中,在阵列基板中设置包括衬底基板和位于衬底基板一侧的第一走线和第二走线,第一走线所在膜层位于衬底基板和第二走线所在膜层之间,第一走线和第二走线分别在衬底基板所在平面上的正投影相交;在投影交叠位置处的第一走线的线宽小于在非投影交叠位置处的第一走线的至少部分位置处的线宽,和/或,在投影交叠位置处的第二走线的线宽大于在非投影交叠位置处的第二走线的至少部分位置处的线宽。本发明实施例解决了现有显示面板走线会因投影交叠位置曝光过量引起的线宽较窄导致的断线问题,通过设置上层走线交叠位置处的线宽增加或下层走线交叠位置处的线宽减小,可以补偿交叠位置曝光过量问题,或减少交叠位置的曝光量,防止曝光问题导致线宽过小引起断线,有效保证了走线质量,使得显示面板能够正常工作。同时,本发明实施例可以在保证走线质量的前提下,在显示面板的边框区以较小的线宽进行布线,从而能够降低边框面积,实现显示面板的窄边框设计,提升产品竞争力。
需要说明的是,上述图4所示显示面板中,同时有对投影交叠位置处的第一走线11和第二走线12的线宽进行设计,本领域技术人员也可选择仅设置在第一走线的线宽小于在非投影交叠位置处的第一走线的至少部分位置处的线宽,或者,仅设置在投影交叠位置处的第二走线的线宽大于在非投影交叠位置处的第二走线的至少部分位置处的线宽,本实施例对此并不限定。
图6是本发明实施例提供的另一种显示面板的局部放大示意图,参考图6,在一具体实施例中,可选第一走线11包括第一子走线101和第二子走线102,第二走线12包括第三子走线103和第四子走线104;第一子走线101与第三子走线103分别在衬底基板10所在平面上的正投影相交,第一子走线101的线宽小于第二子走线102的线宽,第三子走线103的线宽大于第四子走线104的线宽。
其中,第一子走线101、第二子走线102、第三子走线103和第四子走线104可以是如图6所示线宽保持不变的一段走线,也可以是线宽存在变化的一段走线。该实施例中,第一走线11中包括第一子走线101和第二子走线102,第二走线12包括第三子走线103和第四子走线104,表示第一走线11和第二走线12均被分成两段线宽存在明显区别的走线。第一走线11和第二走线12的投影交叠,实际是按照线宽划分后的某两段走线的投影交叠。如图6所示,第一子走线101与第三子走线103投影交叠,此时,位于下层的第一子走线101会影响第三子走线103制备过程中的曝光量,因而可以理解,本实施例中设置第一子走线101的线宽小于第二子走线102的线宽,第三子走线103的线宽大于第四子走线104的线宽,实质是设计第一子走线101的线宽相较于第一走线11在该位置处的原设计线宽值减小,设计第三子走线103的线宽相较于在该位置处的原设计线宽值增大,从而削弱走线反光对曝光的影响,保证走线质量。
同样地,该实施例中示例了同时对第一走线11和第二走线12局部的线宽设计,在该实施例中也可选仅设置第一子走线101的线宽小于第二子走线102的线宽,或者,仅设置第三子走线103的线宽大于第四子走线104的线宽,此处不再赘述。
如上图6所示第一走线11和第二走线12均被分割为两段线宽不一致的走线,且两段走线的线宽呈断崖式变化。考虑到走线形状的美观和实用,本发明实施例还提供了又一种显示面板。图7是本发明实施例提供的又一种显示面板的局部放大示意图,参考图7,该实施例中,第一走线11还包括第五子走线105,第五子走线105的第一端连接第一子走线101,第二端连接第二子走线102,第一端的线宽与第一子走线101的线宽相等,第二端的线宽与第二子走线102的线宽相等,第五子走线105的线宽由第一端至第二端逐渐增大;第二走线12还包括第六子走线106,第六子走线106的第一端连接第三子走线103,第二端连接第四子走线104,第一端的线宽与第三子走线103的线宽相等,第二端的线宽与第四子走线104的线宽相等,第六子走线106的线宽由第一端至第二端逐渐减小。
其中,第五子走线105实质是第一走线11中负责连接第一子走线101和第二子走线102的一段走线,第六子走线106实质是第二走线12中负责连接第三子走线103和第四子走线104的一段走线。该实施例中设置第五子走线105和第六子走线106表示在对第一走线11和第二走线12进行线宽设计时,可以按照渐变式的线宽变化进行设计。
需要说明的是,本发明实施例中第一走线和第二走线可不限定位于显示区或非显示区,也不限于显示面板中的任意两种信号走线,其需要满足的两个必要条件为投影交叠和采用光刻曝光工艺制备。下面以第一走线和第二走线为显示面板非显示区中的信号走线为例,对其应用场景进行介绍。图8和图9是本发明实施例提供的又两种显示面板的结构示意图,图10为图8所示显示面板沿垂直扇出走线延伸方向的剖面结构示意图,图11为图9所示显示面板沿垂直扇出走线延伸方向的剖面结构示意图,参考图8-图11,首先,该显示面板包括显示区110和围绕显示区110的非显示区120,第一走线11和第二走线12均位于非显示区120。非显示区120包括扇出区,扇出区包括多条扇出走线1201;至少部分扇出走线1201包括第一走线11(如图8和图10所示)或第二走线12(如图9和图11所示)。
其中,扇出区中的扇出走线1201可以理解为显示面板非显示区120中的数据信号线,当然也可以是触控显示面板非显示区120中的触控信号线,换言之,扇出走线1201负责向显示面板显示区110中的数据信号线提供数据信号,或者,负责向触控显示面板显示区110中的触控信号线提供触控信号。本发明实施例中,考虑到显示面板非显示区120中设置的扇出区会与其他走线例如扫描信号线投影交叠,扇出走线1201与上层或下层的其他走线投影交叠,在制备扇出走线或其他投影交叠的走线时,必然会产生曝光过量的问题。下面对扇出走线在投影交叠情景下所属上层或下层的不同情况分别进行介绍。
参考图8和图10,当扇出走线1201包括第一走线11时,在投影交叠位置处的扇出走线1201的线宽D1’小于非投影交叠位置处的扇出走线1201的至少部分位置处的线宽D1。参考图9和图11,当扇出走线1201包括第二走线12时,在投影交叠位置处的扇出走线1201的线宽D2’大于非投影交叠位置处的扇出走线1201的至少部分位置处的线宽D2。
参考图8和图10,其中扇出走线1201包括第一走线11,即可以表示部分扇出走线1201与其他走线存在投影交叠,且此扇出走线1201属于投影交叠情景下的下层膜层,其会影响上层膜层中走线在制备过程中的曝光,导致上层膜层中走线的线宽减小。同时,考虑到扇出走线可能为多段首尾连接的子走线(图10未示出),不同段的子走线位于不同膜层,则扇出走线1201包括第一走线11也可以表示扇出走线1201中的某段子走线与其他走线存在投影交叠,且此扇出走线的该段子走线属于投影交叠情景下的下层膜层,其同样会影响上层膜层中走线在制备过程中的曝光,导致上层膜层中走线的线宽减小。此处,扇出走线或其中的与其他上层走线投影交叠的子走线用第一走线的概念来表示,基于此,该扇出走线或其中的子走线可以作为第一走线的概念进行线宽设计,即,将扇出走线与其他走线投影交叠位置处的线宽相较于原设计值减小,小于非投影交叠位置处的扇出走线至少部分位置处的线宽。
同样地,参考图9和图11,在另一投影交叠情景下,扇出走线1201可作为上层走线与下层的其他走线投影交叠。此时,扇出走线1201中包括第二走线12,表示扇出走线或其中的某段子走线与其他下层走线存在投影交叠,扇出走线在制备过程中会被下层走线影响曝光量,导致线宽减小。此处,扇出走线或其中的与其他下层走线投影交叠的子走线用第二走线的概念来表示。基于此,该扇出走线或其中的子走线可以作为第二走线的概念进行线宽设计,即,将扇出走线与其他走线投影交叠位置处的线宽相较于原设计值增大,大于非投影交叠投影位置处的扇出走线的至少部分位置处的线宽。
图12是本发明实施例提供的又一种显示面板的结构示意图,参考图12,扇出区包括第一扇出区1211和第二扇出区1212,第一扇出区1211中扇出走线1201的布线密度大于第二扇出区1212中扇出走线1201的布线密度。此实施例中,扇出走线1201包括第二走线12,第二走线12和第二扇出区1212至少部分投影交叠,第一走线11和第二扇出区1212中的第二走线12至少部分投影交叠。
第二走线12和第二扇出区1212至少部分投影交叠表示第二走线12经过第二扇出区1212,第二走线12的部分结构位于第二扇出区1212中。而第一走线11和第二扇出区1212中的第二走线12至少部分投影交叠,表示第一走线11会与位于第二扇出区1212中的第二走线12的部分结构存在投影交叠,且第一走线11此时位于第二走线12的下层。该实施例实质是第二扇出区1212中的扇出走线1201的部分可作为第二走线12与第一走线11投影交叠,基于此,该实施例中可选择对位于上层的第二扇出区1212中的扇出走线1201的线宽进行设计,即,至少增加第二扇出区1212中的扇出走线1201与第一走线11投影交叠位置处的线宽。具体地,本实施例中可设置第一扇出区1211包括第一扇出走线12011,第二扇出区1212包括第二扇出走线12012,第二扇出走线12012的线宽大于第一扇出走线12011的线宽。此时,与第一走线11相交叠的位于上层的第二扇出走线12012的线宽相较于原设计值增大,能够一定程度上补偿曝光过量引起的线宽变窄,保证第二扇出走线12012的质量。
如上实施例实质上是基于第二扇出区1212中的第二扇出走线12012作为第二走线12与其他位于下层的走线投影相交叠,对第二扇出走线12012的线宽进行地设计。而考虑到实际阵列基板中走线较为复杂,也可针对第二扇出走线作为第一走线,与其他位于上层的走线投影相交叠的情景进行合理地线宽设计。具体地,可选扇出走线包括第一走线,第一走线和第二扇出区至少部分投影交叠,第二走线和第二扇出区中的第一走线至少部分投影交叠。
图13是本发明实施例提供的又一种显示面板的结构示意图,图14是图13所示扇出区的局部放大图,在如图12所示的显示面板设计的基础上,参考图13和图14,可选扇出区还包括第三扇出区1213,第三扇出区1213中扇出走线1201的布线密度介于第一扇出区1211中扇出走线1201的布线密度和第二扇出区1212扇出走线1201的布线密度之间。进一步地,第一扇出区1211包括第一扇出走线12011,第二扇出区1212包括第二扇出走线12012,第三扇出区1213包括第三扇出走线12013,至少部分第一扇出走线12011对应通过第三扇出走线12013与第二扇出走线12012一一对应电连接;第三扇出走线12013的线宽E3大于第一扇出走线12011的线宽E1,小于或等于第二扇出走线12012的线宽E2。
其中,第三扇出走线12013负责过渡线宽不一致的第一扇出走线12011和第二扇出走线12012,第三扇出走线12013可以是线宽渐变的一段子走线,也可以如图14所示为线宽固定的一段子走线。换言之,本发明实施例中的显示面板中,可存在部分扇出走线1201根据不同区域仅划分为相互连接的第一扇出走线12011和第二扇出走线12012,也可存在部分扇出走线1201会根据不同区域划分为三段子走线,即首尾依次连接的第一扇出走线12011、第三扇出走线12013和第二扇出走线12012。该实施例中,第三扇出走线仅负责连接第二扇出走线和第一扇出走线,故线宽应处于第一扇出走线和第二扇出走线之间。在该实施例中,示例性地,由于第二扇出走线12012作为第二走线12与其他位于下层的走线投影相交叠,故而设置第二扇出走线12012的线宽大于第一扇出走线12011的线宽,从而可以弥补下层走线反光导致曝光量增大而引起的线宽减小的问题。当然,该设置第三扇出区和第三扇出走线的实施例也可适用于第二扇出走线作为第一走线与其他位于上层走线投影相交叠的情景,通过合理设计第二扇出走线的线宽,来补偿投影交叠引起上层走线线宽变化,避免造成断线。
在上述图12和图13所示的显示面板中,可选第一扇出走线12011的线宽范围为1.5-4μm;第二扇出走线12012的线宽范围2-8μm。此时,在第一扇出走线12011的线宽小于第二扇出走线12012的基础上,可以保证第一扇出走线12011的线宽在工艺制备允许条件下处于较小水平,有助于扇出区面积的减小,实现窄边框。而同时,2-8μm范围的第二扇出走线12012的线宽相对第一扇出走线12011有一定程度的增大,从而能够补偿曝光量增大引起的线宽减小的问题。在此基础上,对于第一扇出走线12011而言,其线宽设置不小于1.5μm,能够避免因线宽过小而导致的阻抗过大的问题,也能防止因线宽过小在制备过程中产生衍射现象导致线宽不准确的问题,能够满足当前的制备工艺要求;而同时,线宽设置不大于4μm,可以减小第一扇出走线12011之间的中心间距,也即能够增大第一扇出区1211的布线密度,使第一扇出区1211面积更紧凑,适应绑定区中绑定焊盘的排布。对于第二扇出走线12012而言,其线宽设置不小于2μm,同样能够保证相对较大的阻抗,避免线宽引起的阻抗问题;而线宽设置不大于8μm,同样是在考虑第二扇出区1212位于边框区,其中扇出走线数量虽然比第一扇出区1211相等,但面积仅比第一扇出区1211略大,此时能够有效降低边框面积。
进一步地,可选相邻的任意两条第一扇出走线12011之间的线间距小于或等于相邻的任意两条第二扇出走线12012之间的线间距。如前所示(见附图2),两条扇出走线之间的中心间距越大,其在纵向上的分量也越大,此处设置两条第一扇出走线12011的线间距小于两条第二扇出走线12012的线间距,本质是从通过线间距来缩小第一扇出区中扇出走线的中心间距,从而能够缩小第一扇出区扇出走线在纵向上占据的长度。此时,设置在第一扇出区中的扇出走线之间的间距更小,有助于显示面板下边框的纵向缩短,实现窄边框。可选地,可设置任意相邻的两条第一扇出走线12011的间距为4-7μm,任意相邻的两条第二扇出走线12012的间距为5-10μm。同样地,上述对于第一扇出走线12011和第二扇出走线12012的线间距范围设置,可以保证第一扇出走线12011和第二扇出走线12012的线间距在工艺制备允许条件下处于较小水平,有助于扇出区面积的减小,实现窄边框。更具体地,对于第一扇出走线12011而言,其线间距设置不小于4μm,能够为扇出走线之间提供适当的空间,避免扇出走线上的信号受相邻走线的干扰;而设置间距不大于7μm,能够有效提高第一扇出走线布线密度,避免第一扇出区面积过大,同时也能适应绑定区绑定焊盘的排布设计。对于第二扇出走线12012而言,其走线的间距设置不小于5μm且不大于10μm,能够在适应第二扇出区1212的较小面积的基础上,相对第一扇出走线12011适当增大第二扇出走线12012的线间距,改善布线密度,有效避免上述走线之间信号干扰等问题。
继续参考图12和图13,该实施例中,非显示区120包括绑定区122,绑定区122包括多个绑定焊盘(图中未示出);显示区110还包括多条数据信号线111或多条触控信号线(图中未示出);扇出走线1201的一端连接数据信号线111或触控信号线(图中未示出),另一端连接绑定焊盘。
如图12和图13所示,当扇出走线1201包括第二走线12时,第二走线12的一端连接数据信号线111或触控信号线,另一端连接绑定焊盘。而可以理解,本发明实施例中的扇出走线也可以是与上层的某些走线投影交叠的情况,此时扇出走线实质上包括第一走线,第一走线的一端连接数据信号线或触控信号线,另一端连接绑定焊盘。
具体地,第一扇出走线12011可包括直线部S和斜线部O,直线部S的一端与绑定焊盘一一对应电连接,直线部S的另一端与斜线部O的一端一一对应电连接,斜线部O的另一端与第二扇出走线12012电连接。
进一步地,以图12和图13所示显示面板为例,第二扇出区1212包括第二扇出走线12012;可选由显示区110朝向非显示区120的方向上,多条第二扇出走线12012包括多个第二扇出走线组,每个第二扇出走线组包括至少一条第二扇出走线12012;越远离显示区110的第二扇出走线组中的第二扇出走线12012的线宽越宽。
其中,非显示区120中的多条扇出走线是沿非显示区120和显示区110的交界线并行延伸,换言之,多条扇出走线是在显示区110朝向非显示区120依次排布。本实施例中设置多条扇出走线12012包括多个第二扇出走线组,每个第二扇出走线组中包括至少一条第二扇出走线12012,其本质是将多条第二扇出走线12012划分为多个第二扇出走线组,每个第二扇出走线组中可以设置相同数量或不同数量的第二扇出走线,且至少为一条。此外,相较而言,越远离显示区110的第二扇出走线组中的第二扇出走线12012需要在边框区延伸的长度越长,而本实施例将越长的第二扇出走线12012的线宽设置越宽,则实际是在降低该第二扇出走线12012的阻抗,利用线宽设计对不同长度的第二扇出走线进行阻抗的补偿,能够保证不同长度的第二扇出走线能够具备相对均匀的阻抗,避免不同第二扇出走线阻抗差异过大导致的显示区像素单元显示不均匀的问题。
此外,需要注意的是,本发明实施例中扇出区的扇出走线可以设置位于某一固定膜层中,也可以出于减小阻抗、方便扇出等等原因,通过跳线的方式设置同一扇出走线由一层膜层跳线至其他膜层中。基于此,本发明实施例也进行了详细地示例。图15和图16是图12所示显示面板沿扇出走线延伸方向的两种剖面结构示意图,参考图15和图16,进一步地,可选阵列基板100还包括位于衬底基板10一侧的第三走线13,如图15所示,第三走线13与第一走线11位于阵列基板10的不同膜层,至少部分扇出走线1201包括相互连接的第一走线11和第三走线13;第一走线11的另一端连接数据信号线或触控信号线(图中未示出),第三走线13的另一端连接绑定焊盘(图中未示出)。或者,如图16所示,第三走线13与第二走线12位于阵列基板10的不同膜层;至少部分扇出走线1201包括相互连接的第二走线12和第三走线13;第二走线12的另一端连接数据信号线或触控信号线(图中未示出),第三走线13的另一端连接绑定焊盘(图中未示出)。
对比图15和图16所示的扇出走线可知,本发明实施例中的扇出走线1201可以包括位于两层膜层且相互连接的两段子走线,而由于该两段子走线的存在,其与阵列基板中的其他走线投影交叠的情况可以是与上层走线投影交叠,也可以是与下层走线投影交叠。以部分扇出走线1201包括第一走线11和第三走线13为例,则表示该扇出走线1201中存在一段子走线可以作为第一走线11与其他上层走线投影交叠。同理,对于图16中所示,部分扇出走线1201包括第二走线12和第三走线13的情况而言,则表示扇出走线1201中存在一段走线可以作为第二走线12与其他下层走线投影交叠。基于此,本发明实施例针对扇出走线中与其他层的走线相交叠的一段子走线进行线宽设计,能够补偿投影交叠导致的线宽变化,此处不再赘述。
需要说明的是,上述仅为示例的两种具体可能存在的情况,其图15中第一走线11的另一端连接数据信号线或触控信号线,第三走线13的另一端连接绑定焊盘,则可以变换为第三走线13的另一端连接数据信号线或触控信号线,第一走线11的另一端连接绑定焊盘。同样地,图16中第二走线12的另一端连接数据信号线或触控信号线,第三走线13的另一端连接绑定焊盘,可以变换为第三走线13的另一端连接数据信号线或触控信号线,第二走线12的另一端连接绑定焊盘。
另外,还需要说明的是,本发明实施例中对于扇出走线的具体跳线方式不做过多限制,可以理解的是,本发明适用于因各种原因提供的各种跳线设计,例如包括同一扇出走线进行多次不同膜层的跳线,或者,不同扇出走线采用不同方式的跳线等情况。
下面参考实际的阵列基板膜层结构,对本发明实施例提供的扇出走线膜层设计进行介绍和示例。在一具体实施例中,可选阵列基板还包括位于衬底基板一侧层叠设置的第一金属层和第二金属层,至少部分扇出走线位于第二金属层。
图17是本发明实施例提供的又一种显示面板的剖面结构示意图,参考图17,阵列基板100还包括位于衬底基板10一侧层叠设置的第一金属层101和第二金属层102,至少部分扇出走线1201位于第二金属层102。
本领域技术人员可以理解,显示面板中阵列基板包括像素驱动电路,其中包括晶体管和电容,一般而言,晶体管的栅极所在金属层为第一金属层101,晶体管的源漏极所在金属层为第二金属层102,第一金属层101和第二金属层102之间设置有层间绝缘层进行隔绝,此外,阵列基板中会设置扫描信号线与晶体管栅极电连接,并在第一金属层101中设置该扫描信号线。同时会设置数据信号线与晶体管的源漏极电连接,在第二金属层中102中设置该数据信号线。在该实施例中,扇出走线1201可以选择跳线方式,仅设置一部分子走线段形成于第二金属层102中,以与数据信号线直接连接,其与部分子走线段可以跳线至第一金属层101或其他金属层中。或者,也可以选择将扇出走线1201完全设置由第二金属层102形成。该实施例中的扇出走线1201实质上负责传输数据信号。
在另一具体实施例中,可选阵列基板还包括位于衬底基板一侧层叠设置的第一金属层、第二金属层和第三金属层,至少部分扇出走线位于第二金属层或位于第三金属层。图18是本发明实施例提供的又一种显示面板的剖面结构示意图,参考图18,阵列基板100还包括位于衬底基板10一侧层叠设置的第一金属层101、第二金属层102和第三金属层103,至少部分扇出走线1201位于第三金属层103。
如上所述,第一金属层101和第二金属层102一般而言用于分别形成像素驱动电路中晶体管的栅极和源漏极,该实施例中提供的显示面板还包括第三金属层103,可用于在阵列基板上形成触控功能层,即利用第三金属层103形成触控电极以及触控信号线。本实施例中则可将扇出走线1201的部分子走线段设置在第三金属层103中,以与第三金属层103中的触控信号线直接电连接。此时,该扇出走线1201实质上负责传输触控信号。当然,在本发明的其他实施例中,也可选在阵列基板中设置第三金属层103作为下层金属层走线的跳线层,也即,可选将扇出走线1201的部分子走线段跳线至第三金属层103,此时扇出走线1201的部分走线位于第二金属层102,扇出走线1201实质上负责传输数据信号。
如上实施例中针对显示面板扇出区的扇出走线可能存在的走线投影交叠提供的具体示例方案,本发明同样考虑到非显示区存在的扫描信号线也可能存在走线投影交叠的问题,故而,下面针对扫描信号线的走线投影交叠对应的方案进行介绍和示例。
在本发明的其他实施例中,显示面板的非显示区还包括多个移位寄存器和多条扫描信号线,显示区包括多条栅极信号线,扫描信号线的一端连接移位寄存器,另一端连接栅极信号线;至少部分扫描信号线包括第一走线或第二走线。
与上述的扇出走线同理,扫描信号线也可能存在部分子走线段与上层走线或下层走线投影交叠,导致其他走线或自身走线因曝光量问题而实际制备形成的线宽产生变化,即扫描信号线的部分走线可以作为第一走线或第二走线,进而对扫描信号线的走线线宽进行相应设计。具体地,当扫描信号线包括第一走线时,在投影交叠位置处的扫描信号线的线宽小于非投影交叠位置处的扫描信号走线的至少部分位置的线宽;当扫描信号线包括第二走线时,在投影交叠位置处的扫描信号线的线宽大于非投影交叠位置处的扫描信号的至少部分位置处的线宽。
下面继续以图12、图13所示显示面板为例,非显示区120还包括多个移位寄存器123和多条扫描信号线124,显示区110包括多条栅极信号线113,扫描信号线124的一端连接移位寄存器123,另一端连接栅极信号线113;至少部分扫描信号线124包括第一走线11。
此时,扫描信号线124实质上与上层的扇出走线1201投影交叠,因而扇出走线1201在制备时会因曝光量问题而实际制备形成的线宽产生变化,此处设置在投影交叠位置处的扫描信号线124的线宽小于非投影交叠位置处的扫描信号走线124的至少部分位置的线宽,则实质是缩小扫描信号线124在投影交叠位置处的线宽设计值,以适当减小制备扇出走线1201时曝光过程中的反光,避免扇出走线1201线宽过多减小,防止扇出走线1201断线。
继续参考图12和图13,进一步地,在本发明的一具体实施例中,在栅极信号线113的延伸方向上,多条扫描信号线124包括多个扫描信号线组,可选每个扫描信号线组包括至少一条扫描信号线124;扫描信号线组中的扫描信号线124对应电连接的栅极信号线113越长,扫描信号线组中的扫描信号线124的线宽越大。
本领域技术人员可以理解的是,相互电连接的非显示区的扫描信号线124和显示区的栅极信号线113,实质上负责依次传输同一扫描信号至显示区110的像素单元,而扫描信号线124和栅极信号线113本身具备一定的阻抗,会影响实际到达像素单元的扫描信号。并且,扫描信号线124和栅极信号线113的阻抗一定程度上还取决于其长度,即线长越长则阻抗越大,像素单元受影响越严重。本实施例中在上述扫描信号线124线宽设计的基础上,基于显示区栅极信号线的线长,将多条扫描信号线124划分为多个扫描信号线组,每个扫描信号线组中扫描信号线124数量可以相同,也可以不同,且至少包括一条扫描信号线124,进一步将不同扫描信号线组按照其对应的栅极信号线113的长度设计线宽,即栅极信号线113越长,扫描信号线组中的扫描线124线宽越大,能够补偿相对较长的栅极信号线113产生的相对较大的阻抗,使各栅极信号线113上的阻抗保持平衡,使其上传输的扫描信号不会因阻抗问题而产生区别,进一步能够保证显示区的均匀显示,改善显示效果。
图19是本发明实施例提供的又一种显示面板的结构示意图,参考图19,扫描信号线124包括第一扫描信号线1241和第二扫描信号线1242,第一扫描信号线1241和第二扫描信号线1242一一对应电连接,且第一扫描信号线1241远离第二扫描信号线1242的一端连接移位寄存器123,第二扫描信号线1242远离第一扫描信号线1241的一端连接栅极信号线113;第一扫描信号线1241包括第一走线11,扇出走线1201包括第二走线12,第二扫描信号线1242与扇出走线1201在衬底基板10所在平面上的正投影不相交;第一扫描信号线1241的线宽小于第二扫描信号线1242的至少部分位置处的线宽。
图20是本发明实施例提供的又一种显示面板的结构示意图,参考图20,在本发明的另一实施例中,扫描信号线124包括第一扫描信号线1241和第二扫描信号线1242,可选第一扫描信号线1241和第二扫描信号线1242一一对应电连接,且第一扫描信号线1241远离第二扫描信号线1242的一端连接移位寄存器123,第二扫描信号线1242远离第一扫描信号线1241的一端连接栅极信号线113;第二扫描信号线1242包括第一走线11,扇出走线1201包括第二走线12,第一扫描信号线1241与扇出走线1201在衬底基板10所在平面上的正投影不相交;第二扫描信号线1242的线宽小于第一扫描信号线1241的至少部分位置处的线宽。
图21是本发明实施例提供的又一种显示面板的结构示意图,参考图21,在本发明的又一实施例中,扫描信号线124包括第三扫描信号线1243、第四扫描信号线1244和第五扫描信号线1245,第三扫描信号线1243、第四扫描信号线1244和第五扫描信号线1245一一对应首尾电连接,且第三扫描信号线1243远离第四扫描信号线1244的一端连接移位寄存器123,第五扫描信号线1245远离第四扫描信号线1244的一端连接栅极信号线113;第四扫描信号线1244包括第一走线11,扇出走线1201包括第二走线12,第三扫描信号线1243和第五扫描信号线1245分别与扇出走线1201在衬底基板10所在平面上的正投影不相交;第四扫描信号线1244的线宽小于第三扫描信号线1243和第五扫描信号1245线的至少部分位置处的线宽。
图22是图21所示显示面板边框区的局部放大图,参考图21和图22,非显示区120还包括多个多路选择器125,多路选择器125的一端电连接至少两条数据信号线111,多路选择器125的另一端电连接扇出走线1201;进一步可选地,任意一条扫描信号线124与多路选择器125分别在衬底基板10所在平面的正投影的距离F大于或等于4μm。
此时,扫描信号线124与多路选择器125之间存在较大的距离,可以理解,扫描信号线124在显示时会实时提供扫描信号,该扫描脉冲信号在距离较近时一定程度上会对多路选择器125产生电磁干扰。本发明实施例设置扫描信号线124在非显示区120中延伸时与多路选择器125保持4μm及以上的距离,能够有效削弱扫描脉冲信号对多路选择器125的影响,使得多路选择器125正常选通数据线111向数据线111中传输数据信号。需要说明的是,此处对于扫描信号线124和多路选择器125的位置关系不限于上图21所示实施例,在方案不冲突的前提下,也可以应用于本发明的其他任意一种实施例中。
如上实施例中可知,本发明所针对的显示面板可以为标准形状例如圆形、椭圆形、矩形以及带有圆角的矩形等,还可以是异形显示面板。图23是本发明实施例提供的又一种显示面板的结构示意图,参考图23,本发明实施例可应用于异形显示面板,该异形显示面板包括显示区110和围绕显示区110的非显示区120,非显示区120还包括绑定区122,绑定区122包括多个绑定焊盘,多个绑定焊盘依次沿第一方向1排列;显示区110包括第一显示区1101和第二显示区1102,第一显示区1101位于第二显示区1102远离绑定区122的一侧;在第一方向1上,第一显示区1101的宽度大于第二显示区1102的宽度。
需要说明是,如图23中所示第一显示区1101和第二显示区1102仅用于表示显示面板的显示区中存在部分区域(定义为第一显示区1101)的横向宽度大于相邻的且靠近绑定区122的部分区域(定义为第二显示区1102)的横向宽度,可以理解,此时第一显示区1101的横向边缘区域由第二显示区1101的边缘突出,此突出部分中的像素单元在进行显示驱动时所需的数据信号,只能在横向侧边的非显示区120布置扇出走线1201提供。显然,该扇出走线1201必然会与横向延伸的扫描信号线124发生投影交叠。基于此,本发明实施例中即可对于该异形显示面板非显示区的投影交叠的扇出走线和扫描信号线进行线宽设计,避免投影交叠影响实际获得的线宽而产生断路。扇出走线和扫描信号线线宽的具体设计方式如上实施例所述,此处不再赘述。
基于同一发明构思,本发明实施例还提供了一种显示装置以及显示面板的制备方法。图24和图25是本发明实施例提供的两种显示装置的结构示意图,参考图24和图25,该显示装置包括上述实施例提供的任意一种显示面板。因此,本发明实施例提供的显示装置具备本发明实施例提供的显示面板相应的有益效果,这里不再赘述。示例性的,该显示装置可以是手机、电脑、智能可穿戴设备(例如,智能手表)以及车载显示设备等电子设备,本发明实施例对此不作限定。
具体地,参考图24,显示装置还包括驱动芯片200,显示面板中阵列基板的非显示区120包括绑定区122,绑定区122包括多个绑定焊盘(图中未示出);非显示区120包括扇出区,扇出区包括多条扇出走线1201,扇出走线1201一一对应电连接一个绑定焊盘;驱动芯片200绑定在多个绑定焊盘上。
参考图25,在本发明的另一实施例中,可选显示装置还包括柔性线路板300和绑定于柔性线路板300上的驱动芯片200,显示面板中的阵列基板的非显示区120包括绑定区122,绑定区122包括多个绑定焊盘(图中未示出);柔性线路板300的一端绑定于多个绑定焊盘上,另一端弯折至阵列基板背离设置绑定焊盘的一侧。
可以理解,将驱动芯片200设置在显示面板的非显示区120上,或者,将驱动芯片200设置在柔性线路板300上,其仅为两种驱动芯片200的设计方式,对于将驱动芯片200设置在柔性线路板300上,其可以节省驱动芯片200布置在显示面板上的空间,从而有助于缩短显示面板下边框的纵向长度,也即有助于实现窄边框设计。对于将驱动芯片200设置在显示面板的非显示区上,其仍需要在显示面板的非显示区绑定柔性线路板。上述两种设计方案,均需利用柔性线路板将相应的控制信号传输至驱动芯片200中,再由驱动芯片200向显示区的数据线、栅极线等信号线提供相应的数据信号或驱动信号等。
图26是本发明实施例提供的一种显示面板的制备方法流程图,参考图26,该显示面板的制备方法,用于制备上述任意实施例提供的显示面板,该制备方法包括:
S110、提供衬底基板,并在衬底基板上形成第一走线;
S120、在第一走线所在膜层上形成第二走线;第一走线和第二走线分别在衬底基板所在平面上的正投影相交;在投影交叠位置处的第一走线的线宽小于在非投影交叠位置处的第一走线的至少部分位置处的线宽,和/或,在投影交叠位置处的第二走线的线宽大于在非投影交叠位置处的第二走线的至少部分位置处的线宽。
可以理解,上述制备方法仅表示本发明的核心思想,对于本发明实施例提供的任意一种具体的显示面板,其相应细化的制备方法同样落入本发明实施例的保护范围,此处不再详细列举。
同样地,基于相同的构思,本发明实施例还提供了一种掩膜版,该掩膜版用于制备如本发明实施例提供的任意一种显示面板中的第一走线或第二走线;掩膜版包括透光区,透光区包括第一子透光区和第二子透光区;第一子透光区用于制备第一走线中与第二走线投影交叠位置处的部分,第二子透光区用于制备第一走线中与第二走线非投影交叠位置处的部分;第一子透光区垂直延伸方向的宽度,小于第二子透光区至少部分位置处垂直延伸方向的宽度;或者,第一子透光区用于制备第二走线中与第一走线投影交叠位置处的部分,第二子透光区用于制备第二走线中与第一走线非投影交叠位置处的部分;第一子透光区垂直延伸方向的宽度,大于第二子透光区至少部分位置处垂直延伸方向的宽度。
如前所述,本发明实施例针对显示面板的位于下层膜层的第一走线,与上层膜层存在投影交叠时在制备过程中会影响上层膜层走线的线宽,因而提供了一掩膜版,该掩膜版可用于在制备第一走线。具体地,可选将掩膜版中对应走线投影交叠位置的第一子透光区的线宽,相对原设计值适当缩小,可以减小第一走线投影交叠位置处的线宽,从而削弱第一走线在曝光过程中的反射,避免过强的曝光量对上层走线线宽的影响。此时,用于形成第一走线交叠位置处部分的第一子透光区的线宽,相对用于形成第一走线非交叠位置处部分的第二子透光区的线宽较小。
本发明实施例针对显示面板的位置上层膜层的第二走线,与下层膜层存在投影交叠时在制备过程中线宽会受下层膜层走线的影响,因而提供了另一种掩膜版,可用于制备第二走线。具体地,可将掩膜版中对应走线投影交叠位置的第一子透光区的线宽,相对原设计值适当增大,可以增加第二走线投影交叠位置处的线宽,从而补偿下层走线增加的曝光量对上层走线线宽的影响。此时,用于形成第二走线交叠位置处部分的第一子透光区的线宽,相对用于形成第一走线非交叠位置处部分的第二子透光区的线宽较大。
需要说明的是,本发明实施例提供的掩膜版可用于制备显示面板显示区或非显示区存在投影交叠的走线,可不限于本发明实施例中所提及的扇出走线、扫描信号线、触控信号线等,其具体走线类型、材料等均不作限制。
注意,上述仅为本发明的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解,本发明不限于这里所述的特定实施例,对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整、相互结合和替代而不会脱离本发明的保护范围。因此,虽然通过以上实施例对本发明进行了较为详细的说明,但是本发明不仅仅限于以上实施例,在不脱离本发明构思的情况下,还可以包括更多其他等效实施例,而本发明的范围由所附的权利要求范围决定。

Claims (33)

1.一种显示面板,其特征在于,包括阵列基板,所述阵列基板包括衬底基板和位于所述衬底基板一侧的第一走线和第二走线,所述第一走线所在膜层位于所述衬底基板和所述第二走线所在膜层之间;
所述第一走线和所述第二走线分别在所述衬底基板所在平面上的正投影相交;在投影交叠位置处的所述第一走线的线宽小于在非投影交叠位置处的所述第一走线的至少部分位置处的线宽,和/或,在投影交叠位置处的所述第二走线的线宽大于在非投影交叠位置处的所述第二走线的至少部分位置处的线宽。
2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述第一走线包括第一子走线和第二子走线,所述第二走线包括第三子走线和第四子走线;
所述第一子走线与所述第三子走线分别在所述衬底基板所在平面上的正投影相交,所述第一子走线的线宽小于所述第二子走线的线宽,和/或,所述第三子走线的线宽大于所述第四子走线的线宽。
3.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述第一走线还包括第五子走线,所述第五子走线的第一端连接所述第一子走线,第二端连接所述第二子走线,第一端的线宽与所述第一子走线的线宽相等,第二端的线宽与所述第二子走线的线宽相等,所述第五子走线的线宽由第一端至第二端逐渐增大;
所述第二走线还包括第六子走线,所述第六子走线的第一端连接所述第三子走线,第二端连接所述第四子走线,第一端的线宽与所述第三子走线的线宽相等,第二端的线宽与所述第四子走线的线宽相等,所述第六子走线的线宽由第一端至第二端逐渐减小。
4.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板包括显示区和围绕所述显示区的非显示区,所述第一走线和所述第二走线均位于所述非显示区。
5.根据权利要求4所述的显示面板,其特征在于,所述非显示区包括扇出区,所述扇出区包括多条扇出走线;至少部分所述扇出走线包括所述第一走线或所述第二走线。
6.根据权利要求5所述的显示面板,其特征在于,
当所述扇出走线包括所述第一走线时,在投影交叠位置处的所述扇出走线的线宽小于非投影交叠位置处的所述扇出走线的至少部分位置处的线宽;
当所述扇出走线包括所述第二走线时,在投影交叠位置处的所述扇出走线的线宽大于非投影交叠位置处的所述扇出走线的至少部分位置处的线宽。
7.根据权利要求5所述的显示面板,其特征在于,所述扇出区包括第一扇出区和第二扇出区,所述第一扇出区中所述扇出走线的布线密度大于所述第二扇出区中所述扇出走线的布线密度;
当所述扇出走线包括所述第一走线时,所述第一走线和所述第二扇出区至少部分投影交叠,所述第二走线和所述第二扇出区中的所述第一走线至少部分投影交叠;
或者,当所述扇出走线包括所述第二走线时,所述第二走线和所述第二扇出区至少部分投影交叠,所述第一走线和所述第二扇出区中的所述第二走线至少部分投影交叠。
8.根据权利要求7所述的显示面板,其特征在于,所述扇出区还包括第三扇出区,所述第三扇出区中所述扇出走线的布线密度介于所述第一扇出区中所述扇出走线的布线密度和所述第二扇出区所述扇出走线的布线密度之间。
9.根据权利要求8所述的显示面板,其特征在于,所述第一扇出区包括第一扇出走线,所述第二扇出区包括第二扇出走线,所述第三扇出区包括第三扇出走线,至少部分所述第一扇出走线对应通过所述第三扇出走线与所述第二扇出走线一一对应电连接;
所述第三扇出走线的线宽大于所述第一扇出走线的线宽,小于或等于所述第二扇出走线的线宽。
10.根据权利要求9所述的显示面板,其特征在于,所述第一扇出走线的线宽范围为1.5-4μm;所述第二扇出走线的线宽范围2-8μm。
11.根据权利要求9所述的显示面板,其特征在于,相邻的任意两条所述第一扇出走线之间的线间距小于或等于相邻的任意两条所述第二扇出走线之间的线间距。
12.根据权利要求9所述的显示面板,其特征在于,任意相邻的两条所述第一扇出走线的间距为4-7μm,任意相邻的两条所述第二扇出走线的间距为5-10μm。
13.根据权利要求7所述的显示面板,其特征在于,所述非显示区还包括绑定区,所述绑定区包括多个绑定焊盘;
所述第一扇出区包括第一扇出走线,至少部分所述第一扇出走线包括直线部和斜线部,所述直线部的一端与所述绑定焊盘一一对应电连接,所述直线部的另一端与所述斜线部的一端一一对应电连接,所述斜线部的另一端与所述第二扇出走线电连接。
14.根据权利要求7所述的显示面板,其特征在于,所述第二扇出区包括第二扇出走线;由所述显示区朝向所述非显示区的方向上,多条所述第二扇出走线包括多个第二扇出走线组,每个所述第二扇出走线组包括至少一条所述第二扇出走线;
越远离所述显示区的所述第二扇出走线组中的所述第二扇出走线的线宽越宽。
15.根据权利要求5所述的显示面板,其特征在于,所述非显示区还包括绑定区,所述绑定区包括多个绑定焊盘;所述显示区还包括多条数据信号线或多条触控信号线;
所述扇出走线的一端连接所述数据信号线或所述触控信号线,另一端连接所述绑定焊盘。
16.根据权利要求15所述的显示面板,其特征在于,
当所述扇出走线包括所述第一走线时,所述第一走线的一端连接所述数据信号线或所述触控信号线,另一端连接所述绑定焊盘;
当所述扇出走线包括所述第二走线时,所述第二走线的一端连接所述数据信号线或所述触控信号线,另一端连接所述绑定焊盘。
17.根据权利要求15所述的显示面板,其特征在于,所述阵列基板还包括位于衬底基板一侧的第三走线,所述第三走线与所述第一走线位于所述阵列基板的不同膜层,或,所述第三走线与所述第二走线位于所述阵列基板的不同膜层;
至少部分所述扇出走线包括相互连接的所述第一走线和所述第三走线;所述第一走线的另一端连接所述数据信号线或所述触控信号线,所述第三走线的另一端连接所述绑定焊盘;或者,所述第三走线的另一端连接所述数据信号线或所述触控信号线,所述第一走线的另一端连接所述绑定焊盘;
或者,至少部分所述扇出走线包括相互连接的所述第二走线和所述第三走线;所述第二走线的另一端连接所述数据信号线或所述触控信号线,所述第三走线的另一端连接所述绑定焊盘;或者,所述第三走线的另一端连接所述数据信号线或所述触控信号线,所述第二走线的另一端连接所述绑定焊盘。
18.根据权利要求5所述的显示面板,其特征在于,所述阵列基板还包括位于所述衬底基板一侧层叠设置的第一金属层和第二金属层,至少部分所述扇出走线位于所述第二金属层。
19.根据权利要求5所述的显示面板,其特征在于,所述阵列基板还包括位于所述衬底基板一侧层叠设置的第一金属层、第二金属层和第三金属层,至少部分所述扇出走线位于所述第二金属层或位于所述第三金属层。
20.根据权利要求15所述的显示面板,其特征在于,所述非显示区还包括多个移位寄存器和多条扫描信号线,所述显示区包括多条栅极信号线,所述扫描信号线的一端连接所述移位寄存器,另一端连接所述栅极信号线;至少部分所述扫描信号线包括所述第一走线或所述第二走线。
21.根据权利要求20所述的显示面板,其特征在于,
当所述扫描信号线包括所述第一走线时,在投影交叠位置处的所述扫描信号线的线宽小于非投影交叠位置处的所述扫描信号走线的至少部分位置的线宽;
当所述扫描信号线包括所述第二走线时,在投影交叠位置处的所述扫描信号线的线宽大于非投影交叠位置处的所述扫描信号的至少部分位置处的线宽。
22.根据权利要求20所述的显示面板,其特征在于,在所述栅极信号线的延伸方向上,多条所述扫描信号线包括多个扫描信号线组,每个所述扫描信号线组包括至少一条所述扫描信号线;
所述扫描信号线组中的所述扫描信号线对应电连接的所述栅极信号线越长,所述扫描信号线组中的所述扫描信号线的线宽越大。
23.根据权利要求20所述的显示面板,其特征在于,所述扫描信号线包括第一扫描信号线和第二扫描信号线,所述第一扫描信号线和所述第二扫描信号线一一对应电连接,且所述第一扫描信号线远离所述第二扫描信号线的一端连接所述移位寄存器,所述第二扫描信号线远离所述第一扫描信号线的一端连接所述栅极信号线;
所述第一扫描信号线包括所述第一走线,所述扇出走线包括所述第二走线,所述第二扫描信号线与所述扇出走线在所述衬底基板所在平面上的正投影不相交;所述第一扫描信号线的线宽小于所述第二扫描信号线的至少部分位置处的线宽。
24.根据权利要求20所述的显示面板,其特征在于,所述扫描信号线包括第一扫描信号线和第二扫描信号线,所述第一扫描信号线和所述第二扫描信号线一一对应电连接,且所述第一扫描信号线远离所述第二扫描信号线的一端连接所述移位寄存器,所述第二扫描信号线远离所述第一扫描信号线的一端连接所述栅极信号线;
所述第二扫描信号线包括所述第一走线,所述扇出走线包括所述第二走线,所述第一扫描信号线与所述扇出走线在所述衬底基板所在平面上的正投影不相交;所述第二扫描信号线的线宽小于所述第一扫描信号线的至少部分位置处的线宽。
25.根据权利要求20所述的显示面板,其特征在于,所述扫描信号线包括第三扫描信号线、第四扫描信号线和第五扫描信号线,所述第三扫描信号线、所述第四扫描信号线和所述第五扫描信号线一一对应首尾电连接,且所述第三扫描信号线远离所述第四扫描信号线的一端连接所述移位寄存器,所述第五扫描信号线远离所述第四扫描信号线的一端连接所述栅极信号线;
所述第四扫描信号线包括所述第一走线,所述扇出走线包括所述第二走线,所述第三扫描信号线和所述第五扫描信号线分别与所述扇出走线在所述衬底基板所在平面上的正投影不相交;所述第四扫描信号线的线宽小于所述第三扫描信号线和所述第五扫描信号线的至少部分位置处的线宽。
26.根据权利要求20所述的显示面板,其特征在于,所述非显示区还包括多个多路选择器,所述多路选择器的一端电连接至少两条所述数据信号线,所述多路选择器的另一端电连接所述扇出走线;
任意一条所述扫描信号线与所述多路选择器分别在所述衬底基板所在平面的正投影的距离大于或等于4μm。
27.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板为异形显示面板。
28.根据权利要求27所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板包括显示区和围绕所述显示区的非显示区,所述非显示区还包括绑定区,所述绑定区包括多个绑定焊盘,多个所述绑定焊盘依次沿第一方向排列;
所述显示区包括第一显示区和第二显示区,所述第一显示区位于所述第二显示区远离所述绑定区的一侧;在所述第一方向上,所述第一显示区的宽度大于所述第二显示区的宽度。
29.一种显示装置,其特征在于,包括如权利要求1-28任一项所述的显示面板。
30.根据权利要求29所述的显示装置,其特征在于,所述显示装置还包括驱动芯片,所述显示面板中阵列基板的非显示区包括绑定区,所述绑定区包括多个绑定焊盘;所述非显示区包括扇出区,所述扇出区包括多条扇出走线,所述扇出走线一一对应电连接一个所述绑定焊盘;所述驱动芯片绑定在多个所述绑定焊盘上。
31.根据权利要求29所述的显示装置,其特征在于,所述显示装置还包括柔性线路板和绑定于所述柔性线路板上的驱动芯片,所述显示面板中的阵列基板的非显示区包括绑定区,所述绑定区包括多个绑定焊盘;所述柔性线路板的一端绑定于多个所述绑定焊盘上,另一端弯折至所述阵列基板背离设置所述绑定焊盘的一侧。
32.一种显示面板的制备方法,其特征在于,用于制备如权利要求1-28任一项所述的显示面板,所述制备方法包括:
提供衬底基板,并在所述衬底基板上形成第一走线;
在所述第一走线所在膜层上形成第二走线;所述第一走线和所述第二走线分别在所述衬底基板所在平面上的正投影相交;在投影交叠位置处的所述第一走线的线宽小于在非投影交叠位置处的所述第一走线的至少部分位置处的线宽,和/或,在投影交叠位置处的所述第二走线的线宽大于在非投影交叠位置处的所述第二走线的至少部分位置处的线宽。
33.一种掩膜版,其特征在于,用于制备如权利要求1-28任一项所述的显示面板中的第一走线或第二走线;所述掩膜版包括透光区,所述透光区包括第一子透光区和第二子透光区;
所述第一子透光区用于制备所述第一走线中与所述第二走线投影交叠位置处的部分,所述第二子透光区用于制备所述第一走线中与所述第二走线非投影交叠位置处的部分;所述第一子透光区垂直延伸方向的宽度,小于所述第二子透光区至少部分位置处垂直延伸方向的宽度;
或者,所述第一子透光区用于制备所述第二走线中与所述第一走线投影交叠位置处的部分,所述第二子透光区用于制备所述第二走线中与所述第一走线非投影交叠位置处的部分;所述第一子透光区垂直延伸方向的宽度,大于所述第二子透光区至少部分位置处垂直延伸方向的宽度。
CN202111165558.1A 2021-09-30 2021-09-30 一种显示面板、显示装置、制备方法及掩膜版 Active CN113937109B (zh)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202111165558.1A CN113937109B (zh) 2021-09-30 2021-09-30 一种显示面板、显示装置、制备方法及掩膜版
US17/549,000 US20220100044A1 (en) 2021-09-30 2021-12-13 Display panel, display device, and mask

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202111165558.1A CN113937109B (zh) 2021-09-30 2021-09-30 一种显示面板、显示装置、制备方法及掩膜版

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN113937109A true CN113937109A (zh) 2022-01-14
CN113937109B CN113937109B (zh) 2022-09-20

Family

ID=79277610

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202111165558.1A Active CN113937109B (zh) 2021-09-30 2021-09-30 一种显示面板、显示装置、制备方法及掩膜版

Country Status (2)

Country Link
US (1) US20220100044A1 (zh)
CN (1) CN113937109B (zh)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114419996A (zh) * 2022-01-21 2022-04-29 武汉华星光电技术有限公司 显示面板
CN115327824A (zh) * 2022-02-22 2022-11-11 北京京东方光电科技有限公司 阵列基板、显示面板及显示装置
US20230043478A1 (en) * 2015-10-30 2023-02-09 Japan Display Inc. Liquid crystal display device

Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106647071A (zh) * 2017-02-15 2017-05-10 上海中航光电子有限公司 一种阵列基板、显示面板及显示装置
CN106711150A (zh) * 2016-12-30 2017-05-24 武汉华星光电技术有限公司 一种ltps阵列基板及其制作方法
US20180197932A1 (en) * 2017-01-12 2018-07-12 Everdisplay Optronics (Shanghai) Limited Array substrate and display panel
CN110164359A (zh) * 2019-06-28 2019-08-23 上海天马有机发光显示技术有限公司 显示面板及显示装置
CN110265410A (zh) * 2019-06-21 2019-09-20 京东方科技集团股份有限公司 一种显示面板的制作方法,以及显示面板和显示装置
US10490620B1 (en) * 2018-06-29 2019-11-26 Xiamen Tianma Micro-Electronics Co., Ltd. Array substrate, display panel and display device
CN111244113A (zh) * 2020-01-21 2020-06-05 京东方科技集团股份有限公司 一种显示用基板及显示装置
CN111509012A (zh) * 2020-04-27 2020-08-07 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 具有线宽变化的电极引线的显示面板
CN212675531U (zh) * 2020-06-29 2021-03-09 富士胶片株式会社 触摸面板用电极部件、触摸面板及图像显示装置
CN112768478A (zh) * 2021-01-19 2021-05-07 Tcl华星光电技术有限公司 一种显示面板以及显示面板的制作方法

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106773389A (zh) * 2016-12-30 2017-05-31 惠科股份有限公司 液晶显示装置及其面板、显示面板与系统电路的连接结构
CN115113762A (zh) * 2018-03-05 2022-09-27 瀚宇彩晶股份有限公司 触控显示装置
CN112415817A (zh) * 2019-08-22 2021-02-26 群创光电股份有限公司 电子装置

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106711150A (zh) * 2016-12-30 2017-05-24 武汉华星光电技术有限公司 一种ltps阵列基板及其制作方法
US20180197932A1 (en) * 2017-01-12 2018-07-12 Everdisplay Optronics (Shanghai) Limited Array substrate and display panel
CN106647071A (zh) * 2017-02-15 2017-05-10 上海中航光电子有限公司 一种阵列基板、显示面板及显示装置
US10490620B1 (en) * 2018-06-29 2019-11-26 Xiamen Tianma Micro-Electronics Co., Ltd. Array substrate, display panel and display device
CN110265410A (zh) * 2019-06-21 2019-09-20 京东方科技集团股份有限公司 一种显示面板的制作方法,以及显示面板和显示装置
CN110164359A (zh) * 2019-06-28 2019-08-23 上海天马有机发光显示技术有限公司 显示面板及显示装置
CN111244113A (zh) * 2020-01-21 2020-06-05 京东方科技集团股份有限公司 一种显示用基板及显示装置
CN111509012A (zh) * 2020-04-27 2020-08-07 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 具有线宽变化的电极引线的显示面板
CN212675531U (zh) * 2020-06-29 2021-03-09 富士胶片株式会社 触摸面板用电极部件、触摸面板及图像显示装置
CN112768478A (zh) * 2021-01-19 2021-05-07 Tcl华星光电技术有限公司 一种显示面板以及显示面板的制作方法

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20230043478A1 (en) * 2015-10-30 2023-02-09 Japan Display Inc. Liquid crystal display device
US11914256B2 (en) * 2015-10-30 2024-02-27 Japan Display Inc. Liquid crystal display device
CN114419996A (zh) * 2022-01-21 2022-04-29 武汉华星光电技术有限公司 显示面板
CN115327824A (zh) * 2022-02-22 2022-11-11 北京京东方光电科技有限公司 阵列基板、显示面板及显示装置

Also Published As

Publication number Publication date
CN113937109B (zh) 2022-09-20
US20220100044A1 (en) 2022-03-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN113937109B (zh) 一种显示面板、显示装置、制备方法及掩膜版
CN109976051B (zh) 显示面板
CN108254984B (zh) 一种显示面板及显示装置
CN108388054B (zh) 显示面板与显示装置
CN111384066B (zh) 阵列基板、显示装置
US20210104594A1 (en) Display panel, preparation method thereof and display device
US20210183327A1 (en) Display panel and display device
JP2007011368A (ja) 表示パネル、それを具備する表示装置、及びその製造方法
CN113299218B (zh) 一种显示面板和显示装置
JP7341352B2 (ja) アレイ基板、液晶表示パネル及び液晶表示装置
CN113341600B (zh) 显示面板及显示装置
CN210324966U (zh) 一种显示装置
CN111651087A (zh) 显示面板及显示装置
CN112867244B (zh) 一种显示面板和显示装置
CN112582430B (zh) 覆晶薄膜及显示面板
CN114419996A (zh) 显示面板
CN210181359U (zh) 显示面板
CN114284302A (zh) 阵列基板、显示面板及显示装置
CN115132760A (zh) 显示面板及显示装置
CN215494978U (zh) 一种触控模组和触控显示装置
CN217157253U (zh) 一种触控显示面板及电子设备
CN114509886B (zh) 显示面板和显示装置
CN112349714B (zh) 一种显示面板及显示装置
CN112086424B (zh) 接合垫结构
CN114241914B (zh) 一种显示面板和显示装置

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant