CN113777836B - 显示面板及其制作方法、显示装置 - Google Patents
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Abstract
本发明公开一种显示面板及其制作方法、显示装置，显示面板包括相对设置的阵列基板和彩膜基板，以及位于阵列基板与彩膜基板之间的液晶层，阵列基板包括阵列基底以及设于阵列基底上的多条平行的数据线，阵列基底上形成有显示区和围绕显示区的周边区，数据线从显示区延伸至周边区，周边区包括设有修复线的修复区，每条修复线对应多条数据线，每条数据线在阵列基底上的正投影与该数据线对应的修复线在阵列基底上的正投影具有两个交叠区域；阵列基板包括与液晶层贴合设置的第一配向膜，第一配向膜包括第一部分和除第一部分之外的第二部分，第一部分的厚度大于第二部分的厚度，第一部分在阵列基底上的正投影与修复区在阵列基底上的正投影重合。
Description
技术领域
本发明一般涉及显示技术领域，具体涉及一种显示面板及其制作方法、显示装置。
背景技术
薄膜晶体管-液晶显示器(Thin Film Transistor Liquid Crystal Display，简称TFT-LCD)作为一种平板显示装置，因其具有体积小、功耗低、无辐射以及制作成本相对较低等特点，而越来越多地被应用于高性能显示领域当中。TFT-LCD的制程包括分别单独制作阵列基板和彩膜基板，然后再将阵列基板和彩膜基板对盒并填充液晶，形成液晶面板。其中在阵列基板的制作过程中，会出现数据线断路(Open)，导致阵列基板的良品率降低，从而影响使用该基板的显示装置的品质。
图1和图2分别为现有技术中阵列基板进行修补前后的电路示意图。图1中阵列基板上设有多条交叉分布的数据线01和栅极线02，阵列基板的外围区域预先设有多条修补线R0，当数据线01处有一Open处03时，数据信号从图1的上方传递至03处终止，Open处03下方的像素单元就无法接收到数据信号而不能显示。参照图2，通过对04处、05处激光熔接使得修补线与数据线连接在一起，图2中数据信号可由修补线传递至Open处03下方的像素单元，以便Open处03下方的像素单元能够正常显示。然而，在激光熔接时，参照图3，会因激光能力不稳定造成欲熔接的两金属线与彩膜基板的公共电极06发生短路，导致修复良率降低，影响显示装置的品质。
发明内容
鉴于现有技术中的上述缺陷或不足，期望提供一种显示面板及其制作方法、显示装置。
第一方面，本发明实施例提供一种显示面板，包括相对设置的阵列基板和彩膜基板，以及位于所述阵列基板与所述彩膜基板之间的液晶层，所述阵列基板包括阵列基底以及设于所述阵列基底上的多条平行的数据线，所述阵列基底上形成有显示区和围绕所述显示区的周边区，所述数据线从所述显示区延伸至所述周边区，所述周边区包括设有修复线的修复区，每条所述修复线对应多条所述数据线，每条所述数据线在所述阵列基底上的正投影与该数据线对应的修复线在所述阵列基底上的正投影具有两个交叠区域；
所述阵列基板包括与所述液晶层贴合设置的第一配向膜，所述第一配向膜包括第一部分和除所述第一部分之外的第二部分，所述第一部分的厚度大于所述第二部分的厚度，所述第一部分在所述阵列基底上的正投影与所述修复区在所述阵列基底上的正投影重合。
可选地，所述第一部分的厚度为0.1μm至0.3μm。
可选地，所述第二部分的厚度为0.05μm至0.15μm。
可选地，所述彩膜基板和所述液晶层之间设有第二配向膜，所述第一配向膜和所述第二配向膜在所述阵列基板和所述彩膜基板的对接方向上呈互补结构。
可选地，所述第一配向膜和所述第二配向膜的相对介电常数为2.5至4.0。
第二方面，本发明实施例提供一种显示装置，包括如上所述的显示面板。
第三方面，本发明实施例一种显示面板的制作方法，用于制作如上所述的液晶面板，所述方法包括：
形成阵列基板，所述阵列基板包括第一配向膜；
形成彩膜基板；
将所述阵列基板和所述彩膜基板对盒，并在所述阵列基板和所述彩膜基板之间填充液晶层；其中，
所述阵列基板包括阵列基底和位于所述阵列基底上的多条数据线，所述阵列基底上形成有显示区和围绕所述显示区的周边区，所述数据线从所述显示区延伸至所述周边区，所述周边区包括设有修复线的修复区，每条所述修复线对应多条所述数据线，每条所述数据线在所述阵列基底上的正投影与该数据线对应的修复线在所述阵列基底上的正投影具有两个交叠区域；
所述第一配向膜与所述液晶层贴合设置，所述第一配向膜包括第一部分和除所述第一部分之外的第二部分，所述第一部分的厚度大于所述第二部分的厚度，所述第一部分在所述阵列基底上的正投影与所述修复区在所述阵列基底上的正投影重合。
可选地，所述第一部分的厚度为0.1μm至0.3μm。
可选地，所述第二部分的厚度为0.05μm至0.15μm。
可选地，所述彩膜基板包括第二配向膜，所述第二配向膜与所述液晶层贴合设置，所述第二配向膜和所述第一配向膜在所述阵列基板和所述彩膜基板的对接方向上呈互补结构。
本发明的实施例提供的技术方案可以包括以下有益效果：
本发明实施例提供的显示面板，阵列基板内设有第一配向膜，在激光熔接修复线和数据线时，第一配向膜的第一部分有效防止彩膜基板内的公共电极被熔融短路，从而提高显示面板的修复良率；另外第一配向膜、彩膜基板内的第二配向膜的设置有效降低修复线与公共电极之间的电容，增加讯号传输速度。
附图说明
通过阅读参照以下附图所作的对非限制性实施例所作的详细描述，本发明的其它特征、目的和优点将会变得更明显：
图1为现有技术中阵列基板修补前的电路示意图；
图2为现有技术中阵列基板修补后的电路示意图；
图3为现有技术中显示面板在异常激光熔接修复下的结构示意图；
图4为本发明实施例提供的显示面板的电路示意图；
图5为本发明实施例提供的显示面板被激光熔接修复的结构示意图；
图6为本发明实施例提供的显示面板被激光熔接修复的另一结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释相关发明，而非对该发明的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与发明相关的部分。
需要说明的是，在不冲突的情况下，本发明中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本发明。
如图4和图5所示，本发明实施例提供一种显示面板，包括相对设置的阵列基板10和彩膜基板20，以及位于阵列基板10与彩膜基板20之间的液晶层30，阵列基板10包括阵列基底11以及设于阵列基底11上的多条平行的数据线12，阵列基底11上形成有显示区111(即虚线框P内的区域)和围绕显示区111的周边区，数据线12从显示区111延伸至周边区，周边区包括设有修复线13的修复区112(即虚线框P与虚线框Q之间的区域)，每条修复线13对应多条数据线12，每条数据线12在阵列基底11上的正投影与该数据线12对应的修复线13在阵列基底11上的正投影具有两个交叠区域；
阵列基板10包括与液晶层30贴合设置的第一配向膜14，第一配向膜14包括第一部分141和除第一部分141之外的第二部分142，第一部分141的厚度大于第二部分142的厚度，第一部分141在阵列基底11上的正投影与修复区112在阵列基底11上的正投影重合。
第一配向膜14覆盖修复线的第一部分141的厚度大于第一配向膜14覆盖修复线之外的第二部分142的厚度，在激光熔接修复线与数据线形成修复点时，第一部分保护公共电极21不被激光熔融短路，从而提升修复良率。
本实施例中，阵列基底11上还设有多条平行的栅线15，多条数据线12和多条栅线15纵横交叉分布限定出多个像素区域，每条数据线12沿第一方向(例如图4中的水平方向)延伸，多条数据线12沿第二方向(例如图4中的竖直方向)并列排布；每条栅线15沿第二方向延伸，多条栅线15沿第一方向并列排布；
每个像素区域内设有薄膜晶体管和像素电极，薄膜晶体管包括自阵列基底11向第一配向膜14所在方向依次层叠设置的有源层、栅绝缘层、栅电极、层间绝缘层、源漏电极和钝化层，像素电极设置在钝化层远离阵列基底的一侧，像素电极通过钝化层的过孔与薄膜晶体管的漏电极连接，第一配向膜14覆盖像素电极。此处薄膜晶体管以顶栅结构为例，当然薄膜晶体管的结构也可以为底栅结构。
其中，修复线与栅线同层设置，数据线与源漏电极同层设置。
本实施例中，彩膜基板20包括依次层叠设置的彩膜基底、滤光片、公共电极21以及第二配向膜22，第二配向膜22贴合液晶层30设置。
本实施例中阵列基板10的周边区内预设有一条或多条修复线，用于对出现断路的数据线进行修复。例如图4中周边区内设有两条修复线，可用于修复两个断线点，某条数据线出现断路时，通过激光熔接A点和B点处形成连接点。在A点、B点激光熔接数据线和修复线形成修复点，通过较厚的第一配向膜14避免彩膜基板内的公共电极发生熔融，从而避免数据线、修复线这两金属线与公共电极发生短路，有效提升该液晶显示面板的修复良率；第二配向膜22与第一配向膜14在阵列基板10和彩膜基板20的对接方向上呈互补结构，使得液晶分子按照预设方向以及角度偏转。
在一些实施例中，第一配向膜14的厚度大于0.05μm，能够有效防止因激光强度不稳定造成彩膜基板的公共电极被熔融短路的情况发生，保证修复后的电路不存在断路、短路等问题，有效提升显示面板的修复良率。
其中，第一部分141的厚度为0.1μm至0.3μm，对彩膜基板内的公共电极形成保护，提升修复良率；第二部分142的厚度为0.05μm至0.15μm。第二部分142覆盖修复区之外的部分，第一部分141和第二部分142构成的第一配向膜14覆盖阵列基板10面向液晶层30的一侧，第二配向膜22覆盖彩膜基板20面向液晶层30的一侧，第一配向膜和第二配向膜配合，使得液晶层的液晶分子按一定方向有规律的排列。
进一步地，第一配向膜14和第二配向膜22的相对介电常数为2.5至4.0。液晶层的相对介电常数在7至15之间，而第一配向膜、第二配向膜的相对介电常数在2.5至4.0之间，通过设置较厚的第一配向膜以及第二配向膜，可以降低修复线与公共电极之间的寄生电容，有效避免修复线信号延迟的问题。
图5中激光熔接修复线和数据线形成修复点时，正好熔融了修复线和数据线，使得断线的数据线得到修复。而在一些实施例中，如图6所示，激光强度不稳定时，在激光熔接修复线和数据线时击坏但未击穿第一配向膜，第一配向膜对公共电极形成良好的阻隔，避免公共电极熔融与修复点形成短路。
本发明实施例提供还一种显示面板的制作方法，用于制作上述液晶面板，该方法包括：
形成阵列基板10，阵列基板10包括第一配向膜14；
形成彩膜基板20；
在阵列基板10和彩膜基板20之间设置液晶层30，将阵列基板10和彩膜基板20对盒；其中，
阵列基板10包括阵列基底11和位于阵列基底11上的多条数据线12，阵列基底11上形成有显示区111和围绕显示区111的周边区，数据线12从显示区111延伸至周边区，周边区包括设有修复线13的修复区112，每条修复线13对应多条数据线12，每条数据线12在阵列基底11上的正投影与该数据线12对应的修复线13在阵列基底11上的正投影具有两个交叠区域；
第一配向膜贴合液晶层设置，第一配向膜14包括第一部分141和除第一部分141之外的第二部分142，第一部分141的厚度大于第二部分142的厚度，第一部分141在阵列基底11上的正投影与修复区112在阵列基底11上的正投影重合。
通过较厚的第一部分覆盖修复区，在激光熔接数据线和修复线形成修复点时，第一部分有效阻隔激光破坏彩膜基板中的公共电极。
该实施例中制备阵列基板时，在阵列基板的像素电极的一侧涂覆配向液，通过第一配向版进行印刷形成第一配向膜图形，经固化稳定形成第一配向膜。
彩膜基板还包括第二配向膜，第二配向膜与液晶层贴合设置，第二配向膜和第一配向膜在阵列基板和彩膜基板的对接方向上呈互补结构。
制备彩膜基板时，在彩膜基板的公共电极的一侧涂覆配向液。通过第二配向版进行印刷形成第二配向膜图形，经固化稳定形成第二配向膜。
该实施例中可根据需要形成的第一配向膜、第二配向膜，分别提供合适的第一配向版、第二配向版。
在一些实施例中，第一部分141的厚度为0.1μm至0.3μm，有效形成对彩膜基板内公共电极的保护，提升修复良率；和/或，第二部分142的厚度为0.05μm至0.15μm，提升修复良率的同时减小修复线与公共电极之间的寄生电容，确保修复线传输讯号的速度。
本发明实施例还提供一种显示装置，包括上述显示面板。该显示装置可以为手机、电视、电脑、显示器、数码相框、导航仪等具有显示功能的产品或部件，本发明实施例对比并不做任何限定。
需要理解的是，术语“长度”、“宽度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。
此外，本发明采用第一、第二等来描述各种信息，但这些信息不应局限于这些术语。这些术语仅用来将同一类型的信息彼此区分开。例如在不脱离本发明范围的情况下，第一信息也可以被称为第二信息，类似地，第二信息也可以被称为第一信息。
在本发明的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
以上描述仅为本发明的较佳实施例以及对所运用技术原理的说明。本领域技术人员应当理解，本发明中所涉及的发明范围，并不限于上述技术特征的特定组合而成的技术方案，同时也应涵盖在不脱离发明构思的情况下，由上述技术特征或其等同特征进行任意组合而形成的其它技术方案。例如上述特征与本发明中公开的(但不限于)具有类似功能的技术特征进行互相替换而形成的技术方案。
Claims (8)
1.一种显示面板，包括相对设置的阵列基板和彩膜基板，以及位于所述阵列基板与所述彩膜基板之间的液晶层，其特征在于，所述阵列基板包括阵列基底以及设于所述阵列基底上的多条平行的数据线，所述阵列基底上形成有显示区和围绕所述显示区的周边区，所述数据线从所述显示区延伸至所述周边区，所述周边区包括设有修复线的修复区，每条所述修复线对应多条所述数据线，每条所述数据线在所述阵列基底上的正投影与该数据线对应的修复线在所述阵列基底上的正投影具有两个交叠区域；
所述阵列基板包括与所述液晶层贴合设置的第一配向膜，所述第一配向膜包括第一部分和除所述第一部分之外的第二部分，所述第一部分的厚度大于所述第二部分的厚度，所述第一部分在所述阵列基底上的正投影与所述修复区在所述阵列基底上的正投影重合；
所述彩膜基板和所述液晶层之间设有第二配向膜，所述第一配向膜和所述第二配向膜在所述阵列基板和所述彩膜基板的对接方向上呈互补结构。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一部分的厚度为0.1μm至0.3μm。
3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第二部分的厚度为0.05μm至0.15μm。
4.根据权利要求1-3任一项所述的显示面板，其特征在于，所述第一配向膜和所述第二配向膜的相对介电常数为2.5至4.0。
5.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-4任一项所述的显示面板。
6.一种显示面板的制作方法，其特征在于，用于制作权利要求1-4任一项所述的显示面板，所述方法包括：
形成阵列基板，所述阵列基板包括第一配向膜；
形成彩膜基板；
将所述阵列基板和所述彩膜基板对盒，并在所述阵列基板和所述彩膜基板之间填充液晶层；其中，
所述阵列基板包括阵列基底和位于所述阵列基底上的多条数据线，所述阵列基底上形成有显示区和围绕所述显示区的周边区，所述数据线从所述显示区延伸至所述周边区，所述周边区包括设有修复线的修复区，每条所述修复线对应多条所述数据线，每条所述数据线在所述阵列基底上的正投影与该数据线对应的修复线在所述阵列基底上的正投影具有两个交叠区域；
所述第一配向膜与所述液晶层贴合设置，所述第一配向膜包括第一部分和除所述第一部分之外的第二部分，所述第一部分的厚度大于所述第二部分的厚度，所述第一部分在所述阵列基底上的正投影与所述修复区在所述阵列基底上的正投影重合；
所述彩膜基板包括第二配向膜，所述第二配向膜与所述液晶层贴合设置，所述第二配向膜和所述第一配向膜在所述阵列基板和所述彩膜基板的对接方向上呈互补结构。
7.根据权利要求6所述的显示面板制作方法，其特征在于，所述第一部分的厚度为0.1μm至0.3μm。
8.根据权利要求6所述的显示面板制作方法，其特征在于，所述第二部分的厚度为0.05μm至0.15μm。
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