CN113735820A - 一种2,5-噻吩二羧酸的制备工艺 - Google Patents
一种2,5-噻吩二羧酸的制备工艺 Download PDFInfo
- Publication number
- CN113735820A CN113735820A CN202111090232.7A CN202111090232A CN113735820A CN 113735820 A CN113735820 A CN 113735820A CN 202111090232 A CN202111090232 A CN 202111090232A CN 113735820 A CN113735820 A CN 113735820A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- reaction
- producing
- thiophenedicarboxylic acid
- thiophenedicarboxylic
- acid according
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- YCGAZNXXGKTASZ-UHFFFAOYSA-N thiophene-2,5-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)S1 YCGAZNXXGKTASZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 25
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims abstract description 8
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 33
- 239000013067 intermediate product Substances 0.000 claims abstract description 22
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 16
- SXGFLAHBJSUHQY-UHFFFAOYSA-N 3-O-ethyl 4-O-methyl thiophene-3,4-dicarboxylate Chemical compound C(=O)(OCC)C=1C(=CSC=1)C(=O)OC SXGFLAHBJSUHQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- JPILDOOERAALDC-UHFFFAOYSA-N 3-o-ethyl 4-o-methyl 2-aminothiophene-3,4-dicarboxylate Chemical compound CCOC(=O)C1=C(N)SC=C1C(=O)OC JPILDOOERAALDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims abstract description 10
- 239000012467 final product Substances 0.000 claims abstract description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims description 37
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 18
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 238000001914 filtration Methods 0.000 claims description 10
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 238000010791 quenching Methods 0.000 claims description 9
- 230000000171 quenching effect Effects 0.000 claims description 9
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 9
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000012295 chemical reaction liquid Substances 0.000 claims description 8
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 8
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims description 7
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 7
- ZIUSEGSNTOUIPT-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-cyanoacetate Chemical compound CCOC(=O)CC#N ZIUSEGSNTOUIPT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 7
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 6
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 5
- CWKLZLBVOJRSOM-UHFFFAOYSA-N methyl pyruvate Chemical compound COC(=O)C(C)=O CWKLZLBVOJRSOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 claims description 5
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims description 5
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 4
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 claims description 4
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 3
- 239000005457 ice water Substances 0.000 claims description 3
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000012286 potassium permanganate Substances 0.000 claims description 3
- IOGXOCVLYRDXLW-UHFFFAOYSA-N tert-butyl nitrite Chemical compound CC(C)(C)ON=O IOGXOCVLYRDXLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000012414 tert-butyl nitrite Substances 0.000 claims description 3
- GSNUFIFRDBKVIE-UHFFFAOYSA-N DMF Natural products CC1=CC=C(C)O1 GSNUFIFRDBKVIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 claims description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 238000011031 large-scale manufacturing process Methods 0.000 abstract description 3
- 238000000746 purification Methods 0.000 abstract description 3
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 abstract description 3
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 6
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N N-Butyllithium Chemical compound [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N Trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical class [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 3
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 3
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 3
- 229940079593 drug Drugs 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 3
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002585 base Substances 0.000 description 2
- PNYWRAHWEIOAGK-UHFFFAOYSA-N 2,5-diiodothiophene Chemical compound IC1=CC=C(I)S1 PNYWRAHWEIOAGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005804 alkylation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 238000006138 lithiation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D333/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom
- C07D333/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings
- C07D333/04—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings not substituted on the ring sulphur atom
- C07D333/26—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings not substituted on the ring sulphur atom with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D333/38—Carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Heterocyclic Compounds Containing Sulfur Atoms (AREA)
- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Oxygen Or Sulfur (AREA)
Abstract
本发明涉及一种2,5‑噻吩二羧酸的制备工艺，包含以下步骤：先制备中间产物2‑氨基噻吩‑3,4‑二羧酸3‑乙酯4‑甲酯，在利用获得的中间产物2‑氨基噻吩‑3,4‑二羧酸3‑乙酯4‑甲酯制备中间产物噻吩‑3,4‑二羧酸3‑乙酯4‑甲酯，最后利用获得的中间产物噻吩‑3,4‑二羧酸3‑乙酯4‑甲酯得到最终产品2,5‑噻吩二羧酸；本发明所涉及原料价格低廉，反应温和且收率比较高，不需要过硅胶柱提纯，非常适合放大生产。
Description
技术领域
本发明涉及药物合成技术领域，特指一种2,5-噻吩二羧酸的制备工艺。
背景技术
2,5-噻吩二羧酸是一种重要的原料药中间体，在诸多新药合成中常有出现；现有的合成技术中，2,5-噻吩二羧酸主要由原料2,5-二碘噻吩与丁基锂发生锂化反应，再通入酸化的二氧化碳气体进行烷基化反应，得到产物。合成路线如下：
此方法得到的产物，不仅纯度低于60％，且涉及到的丁基锂性质很活泼，非常不稳定，大大增加了生产的危险性，具有一定的局限性。
发明内容
本发明目的是为了克服现有技术的不足而提供一种2,5-噻吩二羧酸的制备工艺。
为达到上述目的，本发明采用的技术方案是：一种2,5-噻吩二羧酸的制备工艺，包含以下步骤：
S1：将原料氰乙酸乙酯、丙酮酸甲酯、硫粉、有机溶剂加入反应瓶中，搅拌均匀，并滴加碱溶液，保持高温，搅拌定量时间；
S2:将步骤1中获得的反应液冷却至室温，加入淬灭剂淬灭，再加入饱和食盐水，搅拌至出现大量沉淀后过滤，得到的滤渣以溶剂清洗，并烘干，得到中间产物2-氨基噻吩-3,4-二羧酸3-乙酯4-甲酯；
S3:在反应装置中加入氧化剂和有机溶剂，搅拌均匀，将体系升至40℃，并缓慢滴加步骤2中获得的中间产物2-氨基噻吩-3,4-二羧酸3-乙酯4-甲酯的有机溶剂溶液，控制滴速，保持60℃，搅拌至TLC显示反应结束；
S4:将步骤3中获得的反应液降低至室温，减压浓缩去除溶剂后，减压蒸馏，收集固定温度的馏分，得到中间产物噻吩-3,4-二羧酸3-乙酯4-甲酯；
S5:将步骤4中获得的中间产物噻吩-3,4-二羧酸3-乙酯4-甲酯、碱溶液加入反应瓶中，搅拌均匀，加热至80℃，搅拌至TLC显示反应结束，降低体系至室温，并用酸调节体系的酸碱度，有大量不溶物析出，过滤后，得到最终产品2,5-噻吩二羧酸。
优选的，步骤S1中，所述氰乙酸乙酯与硫粉的摩尔比为1:0.5～1:3。
优选的，步骤S1中，所述碱为氢氧化钠、碳酸钾、三乙胺中的一种或者几种。
优选的，步骤S1中，所述高温为40～100℃，搅拌时间为10～24h。
优选的，步骤S2中，所述淬灭剂为乙醇、水、冰水中的一种或者几种。
优选的，步骤S2中，所述溶剂为乙醇、乙酸乙酯、二氯甲烷、水中的一种或者几种。
优选的，步骤S3中，所述反应装置为冷凝管、鼓泡器、索氏提取器中的一种或者几种。
优选的，步骤S3中，所述氧化剂为亚硝酸叔丁酯、高锰酸钾、双氧水中的一种或者几种。
优选的，步骤S1和S3中，所述有机溶剂为乙酸乙酯、二氯甲烷、四氢呋喃、甲醇、DMF中的一种或者几种。
优选的，步骤S4中，收集的馏分为90～110℃、110～150℃、150～200℃中的一种或者几种。
优选的，步骤S5中，所述碱溶液为2N的氢氧化钠溶液、1N的三乙胺溶液、10N的氢氧化钾溶液中的一种或者几种。
优选的，步骤S5中，所用酸为1N盐酸、5N硫酸、10N三氟醋酸中的一种或者几种。
优选的，步骤S5中，调节体系酸碱至pH为1～2、2～3、5～6中的一种。
由于上述技术方案的运用，本发明与现有技术相比具有下列优点：
本发明所涉及原料价格低廉，反应温和且收率比较高，不需要过硅胶柱提纯，非常适合放大生产。
附图说明
下面结合附图对本发明技术方案作进一步说明：
附图1为本发明实施例3中所述的2,5-噻吩二羧酸的制备工艺的核磁图。
具体实施方式
下面结合附图及具体实施例对本发明作进一步的详细说明。
本发明的合成路线如下：
实施例1：
将原料氰乙酸乙酯(200g,1.77mol)、丙酮酸甲酯(200g,1.96mol)、硫粉(39.65g,1.24mol)、DMF(1L)依次加入反应瓶中，搅拌均匀，保持搅拌并缓慢加入氢氧化钠固体(106.20g,2.66mol)，保持体系为50℃，搅拌反应10h；
将反应液冷却至室温，先加入无水乙醇(5L)淬灭，再加入3L饱和食盐水,反应瓶中出现大量的沉淀，然后过滤，以蒸馏水(500ml)清洗滤渣，重复3次，并烘干，得到中间产物2-氨基噻吩-3,4-二羧酸3-乙酯4-甲酯；
在添加了冷凝管的三颈烧瓶中分别加入亚硝酸叔丁酯(87.71g,0.85mol)和乙酸乙酯(500ml)，搅拌均匀，并将体系升至40℃，然后缓慢滴加中间产物2-氨基噻吩-3,4-二羧酸3-乙酯4-甲酯(150g,0.65mol)的乙酸乙酯(200ml)溶液，控制滴速，保持60℃，搅拌至TLC显示反应结束；
反应液降低至室温，减压浓缩去除溶剂后，减压蒸馏，收集90～110℃的馏分，得到中间产物噻吩-3,4-二羧酸3-乙酯4-甲酯。
将中间产物噻吩-3,4-二羧酸3-乙酯4-甲酯(150g,0.70mol)、2N的氢氧化钠溶液(1.05L,2.10mol)加入反应瓶中，搅拌均匀，并加热至80℃，搅拌至TLC显示反应结束，降低体系至室温，最后用1N的稀盐酸调节体系的酸碱度至1～2，过滤后，得到产品2,5-噻吩二羧酸。
此实施例1得到的纯度只有80％左右，收率76％。
实施例2：
将原料氰乙酸乙酯(200g,1.77mol)、丙酮酸甲酯(200g,1.96mol)、硫粉(169.92g,5.314mol)、甲醇(1L)依次加入反应瓶中，搅拌均匀，保持搅拌并缓慢加入三乙胺(269.17g,2.66mol)，保持体系为100℃，搅拌反应24h；
将反应液冷却至室温，先加入冰水(5L)淬灭，再加入3L饱和食盐水,反应瓶中出现大量的沉淀，然后过滤，以蒸馏水(500ml)清洗滤渣，重复3次，并烘干，得到中间产物2-氨基噻吩-3,4-二羧酸3-乙酯4-甲酯；
在添加了索氏提取器的三颈烧瓶中分别加入30％的双氧水(80ml,0.85mol)和四氢呋喃(500ml)，搅拌均匀，并将体系升至40℃，然后缓慢滴加滴加中间产物2-氨基噻吩-3,4-二羧酸3-乙酯4-甲酯(150g,0.65mol)的四氢呋喃(200ml)溶液，控制滴速，保持60℃，搅拌至TLC显示反应结束；
反应液降低至室温，减压浓缩去除溶剂后，减压蒸馏，收集150～200℃的馏分，得到中间产物噻吩-3,4-二羧酸3-乙酯4-甲酯；
将中间产物噻吩-3,4-二羧酸3-乙酯4-甲酯(150g,0.70mol)、10N的氢氧化钾溶液(0.21L,2.10mol)加入反应瓶中，搅拌均匀，并加热至80℃，搅拌至TLC显示反应结束，降低体系至室温，最后用10N的三氟乙酸调节体系的酸碱度至5～6，过滤后，得到产品2,5-噻吩二羧酸。
此实施例2得到的产品纯度只有85％左右，收率70％。
实施例3：
将原料氰乙酸乙酯(200g,1.77mol)、丙酮酸甲酯(200g,1.96mol)、硫粉(56.64g,1.77mol)、二氯甲烷(1L)依次加入反应瓶中，搅拌均匀，保持搅拌并缓慢加入碳酸钾固体(367.61g,2.66mol)，保持体系为80℃，搅拌反应18h；
将反应液冷却至室温，先加入水(5L)淬灭，再加入3L饱和食盐水,反应瓶中出现大量的沉淀，然后过滤，以蒸馏水(500ml)清洗滤渣，重复3次，并烘干，得到中间产物2-氨基噻吩-3,4-二羧酸3-乙酯4-甲酯；
在添加了鼓泡器和冷凝管的三颈烧瓶中分别加入高锰酸钾固体(134.33g,0.85mol)和二氯甲烷(500ml)，搅拌均匀，并将体系升至40℃，然后缓慢滴加滴加中间产物2-氨基噻吩-3,4-二羧酸3-乙酯4-甲酯(150g,0.65mol)的二氯甲烷(200ml)溶液，控制滴速，保持60℃，搅拌至TLC显示反应结束；
反应液降低至室温，减压浓缩去除溶剂后，减压蒸馏，收集110～150℃的馏分，得到中间产物噻吩-3,4-二羧酸3-乙酯4-甲酯；
将中间产物噻吩-3,4-二羧酸3-乙酯4-甲酯(150g,0.70mol)、三乙胺(212.50g,2.10mol)加入反应瓶中，搅拌均匀，并加热至80℃，搅拌至TLC显示反应结束，降低体系至室温，最后用5N的硫酸调节体系的酸碱度至2～3，过滤后，得到产品2,5-噻吩二羧酸。
此实施例3得到的产品纯度95％左右，收率90％，如图1所示。
本发明所涉及原料价格低廉，反应温和且收率比较高，不需要过硅胶柱提纯，非常适合放大生产。
以上仅是本发明的具体应用范例，对本发明的保护范围不构成任何限制。凡采用等同变换或者等效替换而形成的技术方案，均落在本发明权利保护范围之内。
Claims (10)
1.一种2,5-噻吩二羧酸的制备工艺，其特征在于：包含以下步骤：
S1：将原料氰乙酸乙酯、丙酮酸甲酯、硫粉、有机溶剂加入反应瓶中，搅拌均匀，并滴加碱溶液，保持高温，搅拌定量时间；
S2:将步骤1中获得的反应液冷却至室温，加入淬灭剂淬灭，再加入饱和食盐水，搅拌至出现大量沉淀后过滤，得到的滤渣以溶剂清洗，并烘干，得到中间产物2-氨基噻吩-3,4-二羧酸3-乙酯4-甲酯；
S3:在反应装置中加入氧化剂和有机溶剂，搅拌均匀，将体系升至40℃，并缓慢滴加步骤2中获得的中间产物2-氨基噻吩-3,4-二羧酸3-乙酯4-甲酯的有机溶剂溶液，控制滴速，保持60℃，搅拌至TLC显示反应结束；
S4:将步骤3中获得的反应液降低至室温，减压浓缩去除溶剂后，减压蒸馏，收集固定温度的馏分，得到中间产物噻吩-3,4-二羧酸3-乙酯4-甲酯；
S5:将步骤4中获得的中间产物噻吩-3,4-二羧酸3-乙酯4-甲酯、碱溶液加入反应瓶中，搅拌均匀，加热至80℃，搅拌至TLC显示反应结束，降低体系至室温，并用酸调节体系的酸碱度，有大量不溶物析出，过滤后，得到最终产品2,5-噻吩二羧酸。
2.根据权利要求1所述的2,5-噻吩二羧酸的制备工艺，其特征在于：步骤S1中，所述氰乙酸乙酯与硫粉的摩尔比为1:0.5～1:3。
3.根据权利要求1所述的2,5-噻吩二羧酸的制备工艺，其特征在于：步骤S1中，所述碱为氢氧化钠、碳酸钾、三乙胺中的一种或者几种。
4.根据权利要求1所述的2,5-噻吩二羧酸的制备工艺，其特征在于：步骤S1中，所述高温为40～100℃，搅拌时间为10～24h。
5.根据权利要求1所述的2,5-噻吩二羧酸的制备工艺，其特征在于：步骤S2中，所述淬灭剂为乙醇、水、冰水中的一种或者几种。
6.根据权利要求1所述的2,5-噻吩二羧酸的制备工艺，其特征在于：步骤S2中，所述溶剂为乙醇、乙酸乙酯、二氯甲烷、水中的一种或者几种。
7.根据权利要求1所述的2,5-噻吩二羧酸的制备工艺，其特征在于：步骤S3中，所述反应装置为冷凝管、鼓泡器、索氏提取器中的一种或者几种。
8.根据权利要求1所述的2,5-噻吩二羧酸的制备工艺，其特征在于：步骤S3中，所述氧化剂为亚硝酸叔丁酯、高锰酸钾、双氧水中的一种或者几种。
9.根据权利要求1所述的2,5-噻吩二羧酸的制备工艺，其特征在于：步骤S1和S3中，所述有机溶剂为乙酸乙酯、二氯甲烷、四氢呋喃、甲醇、DMF中的一种或者几种。
10.根据权利要求1所述的2,5-噻吩二羧酸的制备工艺，其特征在于：步骤S5中，所述碱溶液为2N的氢氧化钠溶液、1N的三乙胺溶液、10N的氢氧化钾溶液中的一种或者几种。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202111090232.7A CN113735820A (zh) | 2021-09-16 | 2021-09-16 | 一种2,5-噻吩二羧酸的制备工艺 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202111090232.7A CN113735820A (zh) | 2021-09-16 | 2021-09-16 | 一种2,5-噻吩二羧酸的制备工艺 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN113735820A true CN113735820A (zh) | 2021-12-03 |
Family
ID=78739462
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202111090232.7A Pending CN113735820A (zh) | 2021-09-16 | 2021-09-16 | 一种2,5-噻吩二羧酸的制备工艺 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN113735820A (zh) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110294734A (zh) * | 2019-07-01 | 2019-10-01 | 上海吉奉生物科技有限公司 | 一种2-氨基噻吩-3, 4-二羧酸衍生物的制备方法 |
-
2021
- 2021-09-16 CN CN202111090232.7A patent/CN113735820A/zh active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110294734A (zh) * | 2019-07-01 | 2019-10-01 | 上海吉奉生物科技有限公司 | 一种2-氨基噻吩-3, 4-二羧酸衍生物的制备方法 |
Non-Patent Citations (2)
| Title |
|---|
| LUKE CARTWRIGHT等: "Anthracene-thieno[3,4-c]pyrrole-4,6-dione based donor–acceptor conjugated copolymers for applications in optoelectronic devices", 《POLYM. ADV. TECHNOL.》, 5 November 2015 (2015-11-05), pages 525 - 531 * |
| PHILIPPE BERROUARD等: "Low-Cost Synthesis and Physical Characterization of Thieno[3,4‑c]pyrrole-4,6-dione-Based Polymers", 《J. ORG. CHEM.》, 4 September 2012 (2012-09-04), pages 8167 - 8173 * |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN112592356A (zh) | 氯诺昔康的合成方法 | |
| CN104341370B (zh) | 一种西替利司他的制备方法 | |
| CN104561217A (zh) | 6a-甲基泼尼松龙的合成方法 | |
| CN113735820A (zh) | 一种2,5-噻吩二羧酸的制备工艺 | |
| CN110981779B (zh) | R-2-(2,5-二氟苯基)吡咯烷的合成方法 | |
| CN109369611B (zh) | 一种4-氯噻吩-2-羰基衍生物的合成方法 | |
| CN110903217A (zh) | 一种减少n,n’-二环己基碳二亚胺产品废渣的方法 | |
| CN104072369B (zh) | 一种制备丙二酸二异丙酯的工艺 | |
| CN101565428A (zh) | 普卢利沙星的制备方法 | |
| CN112552231B (zh) | 一种2-(3-氯-5-(三氟甲基)吡啶-2-基)乙胺的合成方法 | |
| CN111116593B (zh) | 一种连续的伊鲁替尼的制备方法 | |
| CN109879273B (zh) | 碘-碱体系中选择性制备不同环状富勒烯衍生物的方法 | |
| CN103896938B (zh) | 一种琥珀酸索利那新的制备方法 | |
| CN107501171B (zh) | 一种2-氯-3-吡啶甲醛的合成方法 | |
| CN109678858A (zh) | 一种叶酸的制备方法 | |
| CN117510328B (zh) | 一种4-氯丁酸甲酯的制备方法 | |
| CN111533752A (zh) | 一种叔丁基-7-溴-5-氧杂-2-氮杂螺[3.4]辛烷-2-甲酸基酯的制备方法 | |
| CN111440191A (zh) | 一种a-d-a型引达省并二噻吩核端甲基的小分子及其制备方法 | |
| CN111499504A (zh) | 一种α-萘乙酸的制备方法 | |
| CN111362878B (zh) | 一种4-氨基-1,3-二氢-苯并咪唑-2-酮的制备方法 | |
| CN115181120B (zh) | 一种2-甲基-3-苯基苯乙烯基硼酸频那醇酯的制备方法 | |
| CN109305958B (zh) | 一种高纯度艾普拉唑钠二水合物的制备方法 | |
| CN102993167B (zh) | 一种硒辛酸的制备方法 | |
| CN110016030B (zh) | 一种5-氟-1H-吡咯-[2,3-b]吡啶-4-甲醛的制备方法 | |
| CN102408374A (zh) | 1-甲磺酰基2-咪唑烷酮的合成方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| RJ01 | Rejection of invention patent application after publication | ||
| RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20211203 |