CN113677731A - 石墨烯纳米带及其制备方法 - Google Patents
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- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 199
- 229910021389 graphene Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 195
- 239000002074 nanoribbon Substances 0.000 title claims abstract description 192
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 31
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 82
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims abstract description 73
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims abstract description 67
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims abstract description 59
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 claims abstract description 53
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 claims abstract description 48
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 46
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 claims abstract description 45
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical group C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 336
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 129
- -1 acetylene compound Chemical class 0.000 claims description 118
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 74
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 58
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims description 57
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 37
- VRGCYEIGVVTZCC-UHFFFAOYSA-N 3,4,5,6-tetrachlorocyclohexa-3,5-diene-1,2-dione Chemical compound ClC1=C(Cl)C(=O)C(=O)C(Cl)=C1Cl VRGCYEIGVVTZCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- 150000002941 palladium compounds Chemical class 0.000 claims description 21
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 21
- 229940100890 silver compound Drugs 0.000 claims description 21
- 150000003379 silver compounds Chemical class 0.000 claims description 21
- FCEHBMOGCRZNNI-UHFFFAOYSA-N 1-benzothiophene Chemical compound C1=CC=C2SC=CC2=C1 FCEHBMOGCRZNNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 claims description 11
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 claims description 11
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 10
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000007818 Grignard reagent Substances 0.000 claims description 9
- ZADPBFCGQRWHPN-UHFFFAOYSA-N boronic acid Chemical compound OBO ZADPBFCGQRWHPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 150000004795 grignard reagents Chemical class 0.000 claims description 9
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 claims description 9
- 229910001544 silver hexafluoroantimonate(V) Inorganic materials 0.000 claims description 9
- IANQTJSKSUMEQM-UHFFFAOYSA-N 1-benzofuran Chemical compound C1=CC=C2OC=CC2=C1 IANQTJSKSUMEQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- CZYWAPBZHJZHJD-UHFFFAOYSA-N dibenzocyclooctadiene Chemical compound C1CCCC2=CC=CC=C2C2=CC=CC=C21 CZYWAPBZHJZHJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N (2s)-2-[[4-[2-(2,4-diaminoquinazolin-6-yl)ethyl]benzoyl]amino]-4-methylidenepentanedioic acid Chemical compound C1=CC2=NC(N)=NC(N)=C2C=C1CCC1=CC=C(C(=O)N[C@@H](CC(=C)C(O)=O)C(O)=O)C=C1 NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N 0.000 claims description 7
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910001494 silver tetrafluoroborate Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 150000002506 iron compounds Chemical class 0.000 claims description 4
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims description 4
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 claims description 2
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 abstract description 5
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 88
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 76
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 76
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 46
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 41
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 40
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 40
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N Furan Chemical group C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 39
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 38
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 37
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 35
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 34
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 33
- 238000001542 size-exclusion chromatography Methods 0.000 description 32
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 30
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 30
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 30
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 27
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 26
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 25
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 25
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 24
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N n-Butyllithium Substances [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 24
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 24
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 24
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N palladium Substances [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 21
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 21
- HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N Trichloro(2H)methane Chemical compound [2H]C(Cl)(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N 0.000 description 20
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 20
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 20
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 20
- 239000007832 Na2SO4 Substances 0.000 description 18
- 239000012267 brine Substances 0.000 description 18
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 18
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 description 18
- HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M sodium;chloride;hydrate Chemical compound O.[Na+].[Cl-] HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 18
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 17
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 16
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 16
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 235000019439 ethyl acetate Nutrition 0.000 description 14
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 13
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 13
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 13
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000012230 colorless oil Substances 0.000 description 12
- 150000003967 siloles Chemical group 0.000 description 12
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical group 0.000 description 11
- QARVLSVVCXYDNA-UHFFFAOYSA-N bromobenzene Chemical compound BrC1=CC=CC=C1 QARVLSVVCXYDNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 11
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 11
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 11
- PWYVVBKROXXHEB-UHFFFAOYSA-M trimethyl-[3-(1-methyl-2,3,4,5-tetraphenylsilol-1-yl)propyl]azanium;iodide Chemical compound [I-].C[N+](C)(C)CCC[Si]1(C)C(C=2C=CC=CC=2)=C(C=2C=CC=CC=2)C(C=2C=CC=CC=2)=C1C1=CC=CC=C1 PWYVVBKROXXHEB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 11
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000003818 flash chromatography Methods 0.000 description 10
- JRMUNVKIHCOMHV-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium bromide Chemical compound [Br-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC JRMUNVKIHCOMHV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 10
- PBKONEOXTCPAFI-UHFFFAOYSA-N 1,2,4-trichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=C(Cl)C(Cl)=C1 PBKONEOXTCPAFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 8
- YMWUJEATGCHHMB-DICFDUPASA-N dichloromethane-d2 Chemical compound [2H]C([2H])(Cl)Cl YMWUJEATGCHHMB-DICFDUPASA-N 0.000 description 8
- 238000004896 high resolution mass spectrometry Methods 0.000 description 8
- DLEDOFVPSDKWEF-UHFFFAOYSA-N lithium butane Chemical compound [Li+].CCC[CH2-] DLEDOFVPSDKWEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 8
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 8
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 8
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 8
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 8
- 239000002516 radical scavenger Substances 0.000 description 8
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000004721 Polyphenylene oxide Chemical group 0.000 description 7
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 7
- 229920000570 polyether Chemical group 0.000 description 7
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 7
- GETTZEONDQJALK-UHFFFAOYSA-N (trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=CC=C1 GETTZEONDQJALK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LVEYOSJUKRVCCF-UHFFFAOYSA-N 1,3-Bis(diphenylphosphino)propane Substances C=1C=CC=CC=1P(C=1C=CC=CC=1)CCCP(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 LVEYOSJUKRVCCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000001644 13C nuclear magnetic resonance spectroscopy Methods 0.000 description 6
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 6
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 6
- 238000010265 fast atom bombardment Methods 0.000 description 6
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 6
- 238000001840 matrix-assisted laser desorption--ionisation time-of-flight mass spectrometry Methods 0.000 description 6
- QJPQVXSHYBGQGM-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 QJPQVXSHYBGQGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- SCVFZCLFOSHCOH-UHFFFAOYSA-M potassium acetate Chemical compound [K+].CC([O-])=O SCVFZCLFOSHCOH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 238000010791 quenching Methods 0.000 description 6
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- QABCGOSYZHCPGN-UHFFFAOYSA-N chloro(dimethyl)silicon Chemical compound C[Si](C)Cl QABCGOSYZHCPGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 5
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 5
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 5
- LYGJENNIWJXYER-UHFFFAOYSA-N nitromethane Chemical compound C[N+]([O-])=O LYGJENNIWJXYER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 5
- COHWGJMHCMOXLL-UHFFFAOYSA-N (1-bromonaphthalen-2-yl) trifluoromethanesulfonate Chemical compound C1=CC=CC2=C(Br)C(OS(=O)(=O)C(F)(F)F)=CC=C21 COHWGJMHCMOXLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WRFBOPORVNUHDU-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-methoxyethoxy)ethoxy]naphthalene Chemical compound COCCOCCOC1=CC2=CC=CC=C2C=C1 WRFBOPORVNUHDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 4
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 4
- RFRXIWQYSOIBDI-UHFFFAOYSA-N benzarone Chemical compound CCC=1OC2=CC=CC=C2C=1C(=O)C1=CC=C(O)C=C1 RFRXIWQYSOIBDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 4
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 4
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000000171 quenching effect Effects 0.000 description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 4
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004809 thin layer chromatography Methods 0.000 description 4
- YWDUZLFWHVQCHY-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-tribromobenzene Chemical compound BrC1=CC(Br)=CC(Br)=C1 YWDUZLFWHVQCHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RVOOSNDEUMYWSD-UHFFFAOYSA-N 3-chloro-3-ethylundecane Chemical compound ClC(CC)(CCCCCCCC)CC RVOOSNDEUMYWSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IVDFJHOHABJVEH-UHFFFAOYSA-N HOCMe2CMe2OH Natural products CC(C)(O)C(C)(C)O IVDFJHOHABJVEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 3
- 229910021605 Palladium(II) bromide Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910021606 Palladium(II) iodide Inorganic materials 0.000 description 3
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical group C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical compound ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CUJRVFIICFDLGR-UHFFFAOYSA-N acetylacetonate Chemical compound CC(=O)[CH-]C(C)=O CUJRVFIICFDLGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 125000006615 aromatic heterocyclic group Chemical group 0.000 description 3
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 3
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 3
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 3
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 3
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 3
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000001254 matrix assisted laser desorption--ionisation time-of-flight mass spectrum Methods 0.000 description 3
- 239000002127 nanobelt Substances 0.000 description 3
- INIOZDBICVTGEO-UHFFFAOYSA-L palladium(ii) bromide Chemical compound Br[Pd]Br INIOZDBICVTGEO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- HNNUTDROYPGBMR-UHFFFAOYSA-L palladium(ii) iodide Chemical compound [Pd+2].[I-].[I-] HNNUTDROYPGBMR-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 3
- YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N phenanthrene Chemical group C1=CC=C2C3=CC=CC=C3C=CC2=C1 YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 3
- 239000012488 sample solution Substances 0.000 description 3
- 238000010898 silica gel chromatography Methods 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 3
- OIASAVWSBWJWBR-UKTHLTGXSA-N trans-2-[3-(4-tert-butylphenyl)-2-methyl-2-propenylidene]malononitrile Chemical compound N#CC(C#N)=CC(/C)=C/C1=CC=C(C(C)(C)C)C=C1 OIASAVWSBWJWBR-UKTHLTGXSA-N 0.000 description 3
- WJKHJLXJJJATHN-UHFFFAOYSA-N triflic anhydride Chemical compound FC(F)(F)S(=O)(=O)OS(=O)(=O)C(F)(F)F WJKHJLXJJJATHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 3
- DDLGBIXUIPVPIR-UHFFFAOYSA-N 1-bromo-2-(4-chlorophenyl)naphthalene Chemical compound BrC1=C(C=CC2=CC=CC=C12)C1=CC=C(C=C1)Cl DDLGBIXUIPVPIR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OIRHKGBNGGSCGS-UHFFFAOYSA-N 1-bromo-2-iodobenzene Chemical compound BrC1=CC=CC=C1I OIRHKGBNGGSCGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HZNVUJQVZSTENZ-UHFFFAOYSA-N 2,3-dichloro-5,6-dicyano-1,4-benzoquinone Chemical compound ClC1=C(Cl)C(=O)C(C#N)=C(C#N)C1=O HZNVUJQVZSTENZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JWAZRIHNYRIHIV-UHFFFAOYSA-N 2-naphthol Chemical compound C1=CC=CC2=CC(O)=CC=C21 JWAZRIHNYRIHIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N Acetic anhydride Chemical compound CC(=O)OC(C)=O WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical group [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGBVYXVSXJSDOU-UHFFFAOYSA-N BrC1=C(C=CC=C1)C1=CC2=CC=C(C=C2C=C1)C(CC)(CCCCCCCC)CC Chemical compound BrC1=C(C=CC=C1)C1=CC2=CC=C(C=C2C=C1)C(CC)(CCCCCCCC)CC QGBVYXVSXJSDOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JSRUPKQFSDYFKJ-UHFFFAOYSA-N C(C)C(CC)(CCCCCCCC)C=1C=C2C=CC(=CC2=CC1)B1OC(C(O1)(C)C)(C)C Chemical compound C(C)C(CC)(CCCCCCCC)C=1C=C2C=CC(=CC2=CC1)B1OC(C(O1)(C)C)(C)C JSRUPKQFSDYFKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BTRZDGXYAFHZOM-UHFFFAOYSA-N C(C)C(CC)(CCCCCCCC)C=1C=C2C=CC(=CC2=CC1)C1=C(C=CC=C1)[SiH](C)C Chemical compound C(C)C(CC)(CCCCCCCC)C=1C=C2C=CC(=CC2=CC1)C1=C(C=CC=C1)[SiH](C)C BTRZDGXYAFHZOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WNAZQHBAJMVVNJ-UHFFFAOYSA-N C(C)C(CC)(CCCCCCCC)C=1C=C2C=CC(=CC2=CC1)O Chemical compound C(C)C(CC)(CCCCCCCC)C=1C=C2C=CC(=CC2=CC1)O WNAZQHBAJMVVNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GMFULGCHNPOKFS-UHFFFAOYSA-N ClC1=CC=C(C=C1)C1=C(C2=CC=CC=C2C=C1)[SiH](C)C Chemical compound ClC1=CC=C(C=C1)C1=C(C2=CC=CC=C2C=C1)[SiH](C)C GMFULGCHNPOKFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005698 Diels-Alder reaction Methods 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PCJXANLIRXPBPM-UHFFFAOYSA-N FC(S(=O)(=O)OC1=CC2=CC=C(C=C2C=C1)C(CC)(CCCCCCCC)CC)(F)F Chemical compound FC(S(=O)(=O)OC1=CC2=CC=C(C=C2C=C1)C(CC)(CCCCCCCC)CC)(F)F PCJXANLIRXPBPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- 101150003085 Pdcl gene Proteins 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001237 Raman spectrum Methods 0.000 description 2
- 125000005595 acetylacetonate group Chemical group 0.000 description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N anisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1 RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 2
- 238000005102 attenuated total reflection Methods 0.000 description 2
- IPWKHHSGDUIRAH-UHFFFAOYSA-N bis(pinacolato)diboron Chemical compound O1C(C)(C)C(C)(C)OB1B1OC(C)(C)C(C)(C)O1 IPWKHHSGDUIRAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N boron trifluoride Chemical compound FB(F)F WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003575 carbonaceous material Substances 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N di-tert-butyl peroxide Chemical compound CC(C)(C)OOC(C)(C)C LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WMKGGPCROCCUDY-PHEQNACWSA-N dibenzylideneacetone Chemical compound C=1C=CC=CC=1\C=C\C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 WMKGGPCROCCUDY-PHEQNACWSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000004992 fast atom bombardment mass spectroscopy Methods 0.000 description 2
- 238000002189 fluorescence spectrum Methods 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000004491 isohexyl group Chemical group C(CCC(C)C)* 0.000 description 2
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 150000002632 lipids Chemical class 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- AMXOYNBUYSYVKV-UHFFFAOYSA-M lithium bromide Chemical compound [Li+].[Br-] AMXOYNBUYSYVKV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- IOOQQIVFCFWSIU-UHFFFAOYSA-M magnesium;octane;bromide Chemical compound [Mg+2].[Br-].CCCCCCC[CH2-] IOOQQIVFCFWSIU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- CUONGYYJJVDODC-UHFFFAOYSA-N malononitrile Chemical compound N#CCC#N CUONGYYJJVDODC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NUJOXMJBOLGQSY-UHFFFAOYSA-N manganese dioxide Chemical compound O=[Mn]=O NUJOXMJBOLGQSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 2
- 125000001160 methoxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC(*)=O 0.000 description 2
- 239000000693 micelle Substances 0.000 description 2
- 239000002070 nanowire Substances 0.000 description 2
- 125000001971 neopentyl group Chemical group [H]C([*])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 2
- FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N pentan-3-one Chemical compound CCC(=O)CC FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 2
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000011056 potassium acetate Nutrition 0.000 description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 2
- 238000012746 preparative thin layer chromatography Methods 0.000 description 2
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 2
- QBERHIJABFXGRZ-UHFFFAOYSA-M rhodium;triphenylphosphane;chloride Chemical compound [Cl-].[Rh].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 QBERHIJABFXGRZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- NDVLTYZPCACLMA-UHFFFAOYSA-N silver oxide Chemical compound [O-2].[Ag+].[Ag+] NDVLTYZPCACLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N silver(1+) nitrate Chemical compound [Ag+].[O-]N(=O)=O SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- VNFWTIYUKDMAOP-UHFFFAOYSA-N sphos Chemical compound COC1=CC=CC(OC)=C1C1=CC=CC=C1P(C1CCCCC1)C1CCCCC1 VNFWTIYUKDMAOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000967 suction filtration Methods 0.000 description 2
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 125000002088 tosyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1C([H])([H])[H])S(*)(=O)=O 0.000 description 2
- 230000005641 tunneling Effects 0.000 description 2
- JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L zinc dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Zn+2] JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- CYPYTURSJDMMMP-WVCUSYJESA-N (1e,4e)-1,5-diphenylpenta-1,4-dien-3-one;palladium Chemical compound [Pd].[Pd].C=1C=CC=CC=1\C=C\C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1.C=1C=CC=CC=1\C=C\C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1.C=1C=CC=CC=1\C=C\C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 CYPYTURSJDMMMP-WVCUSYJESA-N 0.000 description 1
- POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M (z)-4-oxopent-2-en-2-olate Chemical compound C\C([O-])=C\C(C)=O POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M 0.000 description 1
- UGUHFDPGDQDVGX-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-thiadiazole Chemical group C1=CSN=N1 UGUHFDPGDQDVGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PAAZPARNPHGIKF-UHFFFAOYSA-N 1,2-dibromoethane Chemical compound BrCCBr PAAZPARNPHGIKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KEIFWROAQVVDBN-UHFFFAOYSA-N 1,2-dihydronaphthalene Chemical group C1=CC=C2C=CCCC2=C1 KEIFWROAQVVDBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OIXUJRCCNNHWFI-UHFFFAOYSA-N 1,2-dioxane Chemical compound C1CCOOC1 OIXUJRCCNNHWFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FTNJQNQLEGKTGD-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzodioxole Chemical group C1=CC=C2OCOC2=C1 FTNJQNQLEGKTGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ABADUMLIAZCWJD-UHFFFAOYSA-N 1,3-dioxole Chemical group C1OC=CO1 ABADUMLIAZCWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWSCKHWSVNTKRH-UHFFFAOYSA-N 1-bromo-2h-naphthalen-1-ol Chemical compound C1=CC=C2C(O)(Br)CC=CC2=C1 FWSCKHWSVNTKRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHDODQWIKUYWMW-UHFFFAOYSA-N 1-bromo-4-chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=C(Br)C=C1 NHDODQWIKUYWMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FQJZPYXGPYJJIH-UHFFFAOYSA-N 1-bromonaphthalen-2-ol Chemical compound C1=CC=CC2=C(Br)C(O)=CC=C21 FQJZPYXGPYJJIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VMKOFRJSULQZRM-UHFFFAOYSA-N 1-bromooctane Chemical compound CCCCCCCCBr VMKOFRJSULQZRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIMPAOAAAYDUKQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxy-4-(4-methoxyphenyl)benzene Chemical group C1=CC(OC)=CC=C1C1=CC=C(OC)C=C1 UIMPAOAAAYDUKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AKEXVWKYUAMNKL-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethylpropanoic acid;silver Chemical compound [Ag].CC(C)(C)C(O)=O AKEXVWKYUAMNKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OVSKIKFHRZPJSS-UHFFFAOYSA-N 2,4-D Chemical compound OC(=O)COC1=CC=C(Cl)C=C1Cl OVSKIKFHRZPJSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IUDNRKGPFWUYIC-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-methoxyethoxy)ethoxy]ethyl 4-methylbenzenesulfonate Chemical compound COCCOCCOCCOS(=O)(=O)C1=CC=C(C)C=C1 IUDNRKGPFWUYIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JKFYKCYQEWQPTM-UHFFFAOYSA-N 2-azaniumyl-2-(4-fluorophenyl)acetate Chemical compound OC(=O)C(N)C1=CC=C(F)C=C1 JKFYKCYQEWQPTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006276 2-bromophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(Br)=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- MSBVBOUOMVTWKE-UHFFFAOYSA-N 2-naphthalen-2-ylnaphthalene Chemical group C1=CC=CC2=CC(C3=CC4=CC=CC=C4C=C3)=CC=C21 MSBVBOUOMVTWKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQVCMVNZSHJMRA-UHFFFAOYSA-N 2H-borole Chemical group C1B=CC=C1 NQVCMVNZSHJMRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PKXHXOTZMFCXSH-UHFFFAOYSA-N 3,3-dimethylbut-1-ene Chemical compound CC(C)(C)C=C PKXHXOTZMFCXSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NOUZOVBGCDDMSX-UHFFFAOYSA-N 3,5-ditert-butylcyclohexa-3,5-diene-1,2-dione Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(=O)C(=O)C(C(C)(C)C)=C1 NOUZOVBGCDDMSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QXBICICNPXFSCC-UHFFFAOYSA-N 3-ethylundecan-3-ol Chemical compound CCCCCCCCC(O)(CC)CC QXBICICNPXFSCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLDFTMJPQJXGSS-UHFFFAOYSA-N 6-bromo-2-naphthol Chemical compound C1=C(Br)C=CC2=CC(O)=CC=C21 YLDFTMJPQJXGSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UVRDIFOZBJEFGI-UHFFFAOYSA-N 6-methylsulfanyl-1h-1,3,5-triazine-2,4-dithione Chemical compound CSC1=NC(=S)NC(=S)N1 UVRDIFOZBJEFGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910015900 BF3 Inorganic materials 0.000 description 1
- JTNVTLUMXPCSRY-UHFFFAOYSA-M C(CCCCCCC)C1=CC=C(C=C1)[Mg]Cl Chemical compound C(CCCCCCC)C1=CC=C(C=C1)[Mg]Cl JTNVTLUMXPCSRY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- 229910021591 Copper(I) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- VTLYFUHAOXGGBS-UHFFFAOYSA-N Fe3+ Chemical compound [Fe+3] VTLYFUHAOXGGBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005033 Fourier transform infrared spectroscopy Methods 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical group [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BYJXGLZAHQULFE-UHFFFAOYSA-N OBO.CCCCC1=CC=CC=C1 Chemical compound OBO.CCCCC1=CC=CC=C1 BYJXGLZAHQULFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FFJQEBWLOFIREW-UHFFFAOYSA-N OBO.OBO Chemical compound OBO.OBO FFJQEBWLOFIREW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002666 PdCl2 Inorganic materials 0.000 description 1
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N Phosphine Chemical group P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 238000003841 Raman measurement Methods 0.000 description 1
- 238000001069 Raman spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 229910021607 Silver chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021612 Silver iodide Inorganic materials 0.000 description 1
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical group C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Thiophene Chemical group C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021627 Tin(IV) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- YZCKVEUIGOORGS-NJFSPNSNSA-N Tritium Chemical compound [3H] YZCKVEUIGOORGS-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- FAERCJFAEOYPRX-UHFFFAOYSA-M [Br-].CCCCCCCCC1=CC=C([Mg+])C=C1 Chemical compound [Br-].CCCCCCCCC1=CC=C([Mg+])C=C1 FAERCJFAEOYPRX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OJUNDVWJGXVXGJ-UHFFFAOYSA-M [Cl-].CCCCC(CC)C[Mg+] Chemical compound [Cl-].CCCCC(CC)C[Mg+] OJUNDVWJGXVXGJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- XAMLRHLCKYZXQM-UHFFFAOYSA-M [Cl-].CCCCC1=CC=C([Mg+])C=C1 Chemical compound [Cl-].CCCCC1=CC=C([Mg+])C=C1 XAMLRHLCKYZXQM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 1
- 229910052946 acanthite Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004054 acenaphthylenyl group Chemical group C1(=CC2=CC=CC3=CC=CC1=C23)* 0.000 description 1
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 150000001350 alkyl halides Chemical class 0.000 description 1
- 150000004791 alkyl magnesium halides Chemical class 0.000 description 1
- 125000005577 anthracene group Chemical group 0.000 description 1
- VMPVEPPRYRXYNP-UHFFFAOYSA-I antimony(5+);pentachloride Chemical compound Cl[Sb](Cl)(Cl)(Cl)Cl VMPVEPPRYRXYNP-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012300 argon atmosphere Substances 0.000 description 1
- 125000003828 azulenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001555 benzenes Chemical class 0.000 description 1
- 229950011260 betanaphthol Drugs 0.000 description 1
- 125000002529 biphenylenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3C12)* 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- XQIMLPCOVYNASM-UHFFFAOYSA-N borole Chemical group B1C=CC=C1 XQIMLPCOVYNASM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000707 boryl group Chemical group B* 0.000 description 1
- 238000011088 calibration curve Methods 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- CZKMPDNXOGQMFW-UHFFFAOYSA-N chloro(triethyl)germane Chemical compound CC[Ge](Cl)(CC)CC CZKMPDNXOGQMFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LNAMMBFJMYMQTO-FNEBRGMMSA-N chloroform;(1e,4e)-1,5-diphenylpenta-1,4-dien-3-one;palladium Chemical compound [Pd].[Pd].ClC(Cl)Cl.C=1C=CC=CC=1\C=C\C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1.C=1C=CC=CC=1\C=C\C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1.C=1C=CC=CC=1\C=C\C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 LNAMMBFJMYMQTO-FNEBRGMMSA-N 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M copper(I) chloride Chemical compound [Cu]Cl OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 125000001995 cyclobutyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000582 cycloheptyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- LNZMEOLVTKHUAS-UHFFFAOYSA-N cyclohexane;dichloromethane Chemical compound ClCCl.C1CCCCC1 LNZMEOLVTKHUAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006547 cyclononyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000640 cyclooctyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 1
- 230000007812 deficiency Effects 0.000 description 1
- 238000003795 desorption Methods 0.000 description 1
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 1
- YWEUIGNSBFLMFL-UHFFFAOYSA-N diphosphonate Chemical compound O=P(=O)OP(=O)=O YWEUIGNSBFLMFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- DQYBDCGIPTYXML-UHFFFAOYSA-N ethoxyethane;hydrate Chemical compound O.CCOCC DQYBDCGIPTYXML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 230000005669 field effect Effects 0.000 description 1
- 125000003983 fluorenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)* 0.000 description 1
- 238000001506 fluorescence spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 239000012634 fragment Substances 0.000 description 1
- 125000002192 heptalenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 150000002467 indacenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000003427 indacenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003454 indenyl group Chemical group C1(C=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 1
- 230000009878 intermolecular interaction Effects 0.000 description 1
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FBAFATDZDUQKNH-UHFFFAOYSA-M iron chloride Chemical compound [Cl-].[Fe] FBAFATDZDUQKNH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- CFPKVQBKKLRQHZ-UHFFFAOYSA-M magnesium;3-methanidylheptane;bromide Chemical compound [Mg+2].[Br-].CCCCC([CH2-])CC CFPKVQBKKLRQHZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- IWCVDCOJSPWGRW-UHFFFAOYSA-M magnesium;benzene;chloride Chemical compound [Mg+2].[Cl-].C1=CC=[C-]C=C1 IWCVDCOJSPWGRW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LWLPYZUDBNFNAH-UHFFFAOYSA-M magnesium;butane;bromide Chemical compound [Mg+2].[Br-].CCC[CH2-] LWLPYZUDBNFNAH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- QUXHCILOWRXCEO-UHFFFAOYSA-M magnesium;butane;chloride Chemical compound [Mg+2].[Cl-].CCC[CH2-] QUXHCILOWRXCEO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- GMDVPPVFTDVJOF-UHFFFAOYSA-M magnesium;butylbenzene;bromide Chemical compound [Mg+2].[Br-].CCCCC1=CC=[C-]C=C1 GMDVPPVFTDVJOF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NXPHGHWWQRMDIA-UHFFFAOYSA-M magnesium;carbanide;bromide Chemical compound [CH3-].[Mg+2].[Br-] NXPHGHWWQRMDIA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CCERQOYLJJULMD-UHFFFAOYSA-M magnesium;carbanide;chloride Chemical compound [CH3-].[Mg+2].[Cl-] CCERQOYLJJULMD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LZFCBBSYZJPPIV-UHFFFAOYSA-M magnesium;hexane;bromide Chemical compound [Mg+2].[Br-].CCCCC[CH2-] LZFCBBSYZJPPIV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- GBRJQTLHXWRDOV-UHFFFAOYSA-M magnesium;hexane;chloride Chemical compound [Mg+2].[Cl-].CCCCC[CH2-] GBRJQTLHXWRDOV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- HQDAZWQQKSJCTM-UHFFFAOYSA-M magnesium;octane;chloride Chemical compound [Mg+2].[Cl-].CCCCCCC[CH2-] HQDAZWQQKSJCTM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N mesitylene Substances CC1=CC(C)=CC(C)=C1 AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001827 mesitylenyl group Chemical group [H]C1=C(C(*)=C(C([H])=C1C([H])([H])[H])C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Substances CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LRMHVVPPGGOAJQ-UHFFFAOYSA-N methyl nitrate Chemical compound CO[N+]([O-])=O LRMHVVPPGGOAJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000386 microscopy Methods 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 238000003541 multi-stage reaction Methods 0.000 description 1
- 125000003136 n-heptyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 239000012454 non-polar solvent Substances 0.000 description 1
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 125000002971 oxazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L palladium(II) chloride Chemical compound Cl[Pd]Cl PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- GPNDARIEYHPYAY-UHFFFAOYSA-N palladium(II) nitrate Inorganic materials [Pd+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O GPNDARIEYHPYAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YJVFFLUZDVXJQI-UHFFFAOYSA-L palladium(ii) acetate Chemical compound [Pd+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O YJVFFLUZDVXJQI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- JKDRQYIYVJVOPF-FDGPNNRMSA-L palladium(ii) acetylacetonate Chemical compound [Pd+2].C\C([O-])=C\C(C)=O.C\C([O-])=C\C(C)=O JKDRQYIYVJVOPF-FDGPNNRMSA-L 0.000 description 1
- 125000005582 pentacene group Chemical group 0.000 description 1
- GUVXZFRDPCKWEM-UHFFFAOYSA-N pentalene group Chemical group C1=CC=C2C=CC=C12 GUVXZFRDPCKWEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N pentamethylene Natural products C1CCCC1 RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004817 pentamethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 1
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 1
- 125000001828 phenalenyl group Chemical group C1(C=CC2=CC=CC3=CC=CC1=C23)* 0.000 description 1
- ANRQGKOBLBYXFM-UHFFFAOYSA-M phenylmagnesium bromide Chemical compound Br[Mg]C1=CC=CC=C1 ANRQGKOBLBYXFM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000004437 phosphorous atom Chemical group 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- DLYUQMMRRRQYAE-UHFFFAOYSA-N phosphorus pentoxide Inorganic materials O1P(O2)(=O)OP3(=O)OP1(=O)OP2(=O)O3 DLYUQMMRRRQYAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 125000003373 pyrazinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005581 pyrene group Chemical group 0.000 description 1
- PBMFSQRYOILNGV-UHFFFAOYSA-N pyridazine Chemical group C1=CC=NN=C1 PBMFSQRYOILNGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000714 pyrimidinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000168 pyrrolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002943 quinolinyl group Chemical group N1=C(C=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 238000007363 ring formation reaction Methods 0.000 description 1
- 102220039487 rs72546668 Human genes 0.000 description 1
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- JPJALAQPGMAKDF-UHFFFAOYSA-N selenium dioxide Chemical compound O=[Se]=O JPJALAQPGMAKDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQLFBEKRDQMJLZ-UHFFFAOYSA-M silver acetate Chemical compound [Ag+].CC([O-])=O CQLFBEKRDQMJLZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940071536 silver acetate Drugs 0.000 description 1
- ADZWSOLPGZMUMY-UHFFFAOYSA-M silver bromide Chemical compound [Ag]Br ADZWSOLPGZMUMY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940096017 silver fluoride Drugs 0.000 description 1
- 229940045105 silver iodide Drugs 0.000 description 1
- HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M silver monochloride Chemical compound [Cl-].[Ag+] HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- REYHXKZHIMGNSE-UHFFFAOYSA-M silver monofluoride Chemical compound [F-].[Ag+] REYHXKZHIMGNSE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910001961 silver nitrate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001923 silver oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- YPNVIBVEFVRZPJ-UHFFFAOYSA-L silver sulfate Chemical compound [Ag+].[Ag+].[O-]S([O-])(=O)=O YPNVIBVEFVRZPJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000367 silver sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940056910 silver sulfide Drugs 0.000 description 1
- XUARKZBEFFVFRG-UHFFFAOYSA-N silver sulfide Chemical compound [S-2].[Ag+].[Ag+] XUARKZBEFFVFRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CLDWGXZGFUNWKB-UHFFFAOYSA-M silver;benzoate Chemical compound [Ag+].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1 CLDWGXZGFUNWKB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 1
- 229920001059 synthetic polymer Polymers 0.000 description 1
- PUGUQINMNYINPK-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 4-(2-chloroacetyl)piperazine-1-carboxylate Chemical compound CC(C)(C)OC(=O)N1CCN(C(=O)CCl)CC1 PUGUQINMNYINPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 125000005579 tetracene group Chemical group 0.000 description 1
- NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N tetrahydropyridine hydrochloride Natural products C1CCNCC1 NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZDYPVPMEAXLPK-UHFFFAOYSA-N tetramethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)C CZDYPVPMEAXLPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VJYJJHQEVLEOFL-UHFFFAOYSA-N thieno[3,2-b]thiophene Chemical group S1C=CC2=C1C=CS2 VJYJJHQEVLEOFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001196 time-of-flight mass spectrum Methods 0.000 description 1
- HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J tin(iv) chloride Chemical compound Cl[Sn](Cl)(Cl)Cl HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 125000001889 triflyl group Chemical group FC(F)(F)S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 125000005580 triphenylene group Chemical group 0.000 description 1
- LWIHDJKSTIGBAC-UHFFFAOYSA-K tripotassium phosphate Chemical compound [K+].[K+].[K+].[O-]P([O-])([O-])=O LWIHDJKSTIGBAC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229910000404 tripotassium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- NHDIQVFFNDKAQU-UHFFFAOYSA-N tripropan-2-yl borate Chemical compound CC(C)OB(OC(C)C)OC(C)C NHDIQVFFNDKAQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 239000011592 zinc chloride Substances 0.000 description 1
- 235000005074 zinc chloride Nutrition 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B32/00—Carbon; Compounds thereof
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- C01B32/00—Carbon; Compounds thereof
- C01B32/15—Nano-sized carbon materials
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Abstract
Description
技术领域
本发明涉及一种石墨烯纳米带及其制备方法。
背景技术
石墨烯纳米带(GNR)由于具有高空穴迁移率、半导体特性、透明性、机械强度、柔软性等,其在半导体、太阳能电池、透明电极、高速晶体管、有机EL元件等中的应用受到期待。
作为GNR的合成方法,有大致被区分为自上而下(Top-down)法与自下而上(Bottom-up)法的两种合成方法。特别是后者的魅力点在于,能够精密地控制边缘结构及宽度并大量合成GNR。然而,长度较短的GNR缺乏溶解性,因此无法采用在合成长度较短的GNR后将其作为中间体并进一步使其进行反应的方法。因此,要求一种以较少的工序数由溶解性高的基质化合物引发聚合反应而合成长度较长的GNR的方法。
作为通常的纳米石墨烯的合成,运用芳香环成分的偶联反应、Diels-Alder(狄尔斯-阿尔德)反应,最后基于脱氢环化反应而转化成石墨烯(例如,参考非专利文献1)。GNR的合成中也采用相同的方法。
此外,近年来,还知晓一种在钯化合物及邻四氯苯醌的存在下,使具有K区及噻咯骨架的多环芳香族化合物进行反应的方法、使具有K区的多环芳香族化合物与具有噻咯骨架的多环芳香族化合物进行反应的方法(例如,参考专利文献1)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:国际公开第2017/131190号
非专利文献
非专利文献1:Nat.Chem.2014,6,126
发明内容
本发明要解决的技术问题
然而,上述非专利文献1的方法为多阶段反应,因此收率低,且由于会发生副反应,并非通用性高的方法。
因此,本发明的目的在于,通过工序数少且抑制了副反应的方法来提供GNR。
解决技术问题的技术手段
本发明的发明人为了解决上述技术问题进行了认真研究,结果发现,通过一种在钯化合物及邻四氯苯醌以及根据需要的银化合物的存在下,使特定的引发剂与特定的噻咯化合物进行反应的、工序数少且能够抑制副反应的方法,能够合成具有特定结构的GNR。进一步,通过重复多次该反应,还能够合成在现有的方法中难以合成的为嵌段共聚物的GNR,并且通过适当选择引发剂,还能够合成控制了宽度及长度并减小了多分散系数PDI的GNR。本发明的发明人基于上述见解进一步进行研究,完成了本发明。即,本发明包括以下的构成。
项1.一种石墨烯纳米带,其具有至少一种由下述通式(1)表示的结构单元,
[化学式1]
式中,虚线相同或不同,且表示不存在键或表示单键;*1表示键合点;当与*2键合的虚线为单键时,*2表示键合点;R3a、R3b、R3c及R3d相同或不同,且表示氢原子、卤素原子、烷基、环烷基、(聚)醚基、酯基、一价芳香族烃基或一价杂环基;R3a与R3b和/或R3c与R3d任选相互键合而形成环。
项2.根据项1所述的石墨烯纳米带,其具有至少一种由下述通式(3)表示的结构单元,
[化学式2]
式中,虚线相同或不同,且表示不存在键或表示单键;*5表示键合点;当与*6键合的虚线为单键时,*6表示键合点;R5a、R5b、R5c及R5d相同或不同,且表示氢原子、卤素原子、烷基、环烷基、(聚)醚基、酯基、一价芳香族烃基或一价杂环基;R5a与R5b和/或R5c与R5d任选相互键合而形成环。
项3.根据项1或2所述的石墨烯纳米带,其进一步具有至少一种由下述通式(2)表示的结构单元,
[化学式3]
式中,虚线相同或不同,且表示不存在键或表示单键;*3表示键合点;当与*4键合的虚线为单键时,*4表示键合点;R4a、R4b、R4c及R4d相同或不同,且表示氢原子、卤素原子、烷基、环烷基、(聚)醚基、酯基、一价芳香族烃基或一价杂环基;R4a与R4b和/或R4c与R4d任选相互键合而形成环;其中,R4a与R3a不同、R4b与R3b不同、R4c与R3c不同且R4d与R3d不同。
项4.根据项1~3中任一项所述的石墨烯纳米带,其进一步具有下述通式(11)所表示的结构单元、下述通式(12)所表示的结构单元及下述通式(13)所表示的结构单元中的至少一种结构单元,
[化学式4]
式中,虚线与所述虚线相同;*1表示键合点;当与*2键合的虚线为单键时,*2表示键合点;R1a、R1b、R1c、R1d、R2a及R2b相同或不同,且表示氢原子、卤素原子、烷基、环烷基、(聚)醚基、酯基、烃基硼酸(boronic acid)或其酯基、一价芳香族烃基或一价杂环基;a1及a2相同或不同,且表示碳原子或氮原子;R1c与R1d任选相互键合而形成环,
[化学式5]
式中,*7表示键合点,
[化学式6]
式中,*8表示键合点;a3表示氧原子或硫原子。
项5.根据项4所示的石墨烯纳米带,其由下述通式(4)、通式(14)或通式(15)表示,
[化学式7]
式中,虚线、R1a、R1b、R1c、R1d、R2a、R2b、R3a、R3b、R3c、R3d、a1及a2所述虚线、R1a、R1b、R1c、R1d、R2a、R2b、R3a、R3b、R3c、R3d、a1及a2相同;键合在同一个苯环上的R3a与R3b任选相互键合而形成环;键合在同一个苯环上的R3c与R3d任选相互键合而形成环;n表示0以上的整数,
[化学式8]
式中,R3a、R3b、R3c、R3d及n与所述R3a、R3b、R3c、R3d及n相同;键合在同一个苯环上的R3a与R3b任选相互键合而形成环;键合在同一个苯环上的R3c与R3d任选相互键合而形成环,
[化学式9]
式中,R3a、R3b、R3c、R3d、n及a3与所述R3a、R3b、R3c、R3d、n及a3相同;键合在同一个苯环上的R3a与R3b任选相互键合而形成环;键合在同一个苯环上的R3c与R3d任选相互键合而形成环。
项6.根据项4或5所示的石墨烯纳米带,其由下述通式(4A)、下述通式(14A)或下述通式(15A)表示,
[化学式10]
式中,虚线、R1a、R1b、R1c、R1d、R2a、R2b、R3a、R3b、R3c、R3d、a1及a2与所述虚线、R1a、R1b、R1c、R1d、R2a、R2b、R3a、R3b、R3c、R3d、a1及a2相同;R4a、R4b、R4c及R4d相同或不同,且表示氢原子、卤素原子、烷基、环烷基、(聚)醚基、酯基、一价芳香族烃基或一价杂环基;键合在同一个苯环上的R3a与R3b任选相互键合而形成环;键合在同一个苯环上的R3c与R3d任选相互键合而形成环;键合在同一个苯环上的R4a与R4b任选相互键合而形成环;键合在同一个苯环上的R4c与R4d任选相互键合而形成环;其中,R4a与R3a不同、R4b与R3b不同、R4c与R3c不同且R4d与R3d不同;n及m相同或不同,且表示0以上的整数,
[化学式11]
式中,R3a、R3b、R3c、R3d、R4a、R4b、R4c、R4d、n及m与所述R3a、R3b、R3c、R3d、R4a、R4b、R4c、R4d、n及m相同;键合在同一个苯环上的R3a与R3b任选相互键合而形成环;键合在同一个苯环上的R3c与R3d任选相互键合而形成环;键合在同一个苯环上的R4a与R4b任选相互键合而形成环;键合在同一个苯环上的R4c与R4d任选相互键合而形成环,
[化学式12]
式中,R3a、R3b、R3c、R3d、R4a、R4b、R4c、R4d、n、m及a3与所述R3a、R3b、R3c、R3d、R4a、R4b、R4c、R4d、n、m及a3相同;键合在同一个苯环上的R3a与R3b任选相互键合而形成环;键合在同一个苯环上的R3c与R3d任选相互键合而形成环;键合在同一个苯环上的R4a与R4b任选相互键合而形成环;键合在同一个苯环上的R4c与R4d任选相互键合而形成环。
项7.根据项4~6中任一项所述的石墨烯纳米带,其由下述通式(4A1)、下述通式(14A1)或下述通式(15A1)表示,
[化学式13]
R1a、R1b、R1c、R1d、R2a、R2b、R3a、R3b、R3c、R3d、a1及a2与所述R1a、R1b、R1c、R1d、R2a、R2b、R3a、R3b、R3c、R3d、a1及a2相同;R5a、R5b、R5c及R5d相同或不同,且表示氢原子、卤素原子、烷基、环烷基、(聚)醚基、酯基、一价芳香族烃基或一价杂环基;键合在同一个苯环上的R3a与R3b任选相互键合而形成环;键合在同一个苯环上的R3c与R3d任选相互键合而形成环;键合在同一个苯环上的R5a与R5b任选相互键合而形成环;键合在同一个苯环上的R5c与R5d任选相互键合而形成环;n及m相同或不同,且表示0以上的整数,
[化学式14]
式中,R3a、R3b、R3c、R3d、R5a、R5b、R5c、R5d、n及m与所述R3a、R3b、R3c、R3d、R5a、R5b、R5c、R5d、n及m相同;键合在同一个苯环上的R3a与R3b任选相互键合而形成环;键合在同一个苯环上的R3c与R3d任选相互键合而形成环;键合在同一个苯环上的R5a与R5b任选相互键合而形成环;键合在同一个苯环上的R5c与R5d任选相互键合而形成环,
[化学式15]
式中,R3a、R3b、R3c、R3d、R5a、R5b、R5c、R5d、n、m及a3与所述R3a、R3b、R3c、R3d、R5a、R5b、R5c、R5d、n、m及a3相同;键合在同一个苯环上的R3a与R3b任选相互键合而形成环;键合在同一个苯环上的R3c与R3d任选相互键合而形成环;键合在同一个苯环上的R5a与R5b任选相互键合而形成环;键合在同一个苯环上的R5c与R5d任选相互键合而形成环。
项8.根据项1~7中任一项所述的石墨烯纳米带,其数均分子量为10000以上。
项9.根据项1~8中任一项所述的石墨烯纳米带,其多分散系数PDI为1.00~1.40。
项10.根据项1~9中任一项所述的石墨烯纳米带,其宽度为0.1~2.0nm,长度为10nm以上。
项11.一种项1~10中任一项所述的石墨烯纳米带的制备方法,其具备:
(1)在钯化合物及邻四氯苯醌的存在下,使下述通式(5A)所表示的炔化合物、下述通式(5B)所表示的含K区的芳香族化合物、二苯并环辛二炔(Dibenzocyclooctadiyn)、苯并噻吩或苯并呋喃与、下述通式(6)所表示的噻咯化合物进行反应的第一聚合工序,
[化学式16]
式中,R1a及R1b相同或不同,且表示氢原子、卤素原子、烷基、环烷基、(聚)醚基、酯基、烃基硼酸或其酯基、一价芳香族烃基或一价杂环基;k1及k2相同或不同,且表示1~3的整数;当k1及k2为2以上的整数时,各R1a和/或R1b任选相同或不同,
[化学式17]
式中,R1a、R1b、R1c、R1d、R2a及R2b相同或不同,且表示氢原子、卤素原子、烷基、环烷基、(聚)醚基、酯基、烃基硼酸或其酯基、一价芳香族烃基或一价杂环基;a1及a2相同或不同,且表示碳原子或氮原子;
[化学式18]
式中,R3a、R3b、R3c及R3d与所述R3a、R3b、R3c及R3d相同;R6a及R6b相同或不同,且表示氢原子或烷基。
项12.根据项11所述的制备方法,其中,在所述第一聚合工序之后,进一步具备:
(2)在钯化合物及邻四氯苯醌的存在下,使在工序(1)中得到的含K区的聚合物与下述通式(7)所表示的噻咯化合物进行反应的第二聚合工序,
[化学式19]
式中,R6a及R6b与所述R6a及R6b相同;R4a、R4b、R4c及R4d相同或不同,且表示氢原子、卤素原子、烷基、环烷基、(聚)醚基、酯基、一价芳香族烃基或一价杂环基;R4a与R4b和/或R4c与R4d任选相互键合而形成环;其中,R4a与R3a不同、R4b与R3b不同、R4c与R3c不同且R4d与R3d不同。
项13.根据项12所述的制备方法,其中,所述通式(7)所表示的噻咯化合物为下述通式(7A)所表示的噻咯化合物,
[化学式20]
式中,R6a及R6b与所述R6a及R6b相同;R5a、R5b、R5c及R5d相同或不同,且表示氢原子、卤素原子、烷基、环烷基、(聚)醚基、酯基、一价芳香族烃基或一价杂环基;R5a与R5b和/或R5c与R5d任选相互键合而形成环。
项14.根据项11~13中任一项所述的制备方法,其中,相对于1摩尔的所述噻咯化合物,与所述噻咯化合物反应的化合物的用量为0.0005~0.5摩尔。
项15.根据项11~14中任一项所述的制备方法,其中,所述第一聚合工序或第二聚合工序在银化合物的存在下进行。
项16.根据项15所述的制备方法,其中,所述银化合物含有AgSbF6或AgBF4。
项17.根据项15或16所述的制备方法,其中,相对于1摩尔的所述噻咯化合物,所述银化合物的用量为0.5~5.0摩尔。
项18.根据项11~17中任一项所述的制备方法,其中,相对于1摩尔的所述噻咯化合物,所述钯化合物的用量为0.1~3.0摩尔。
项19.一种噻咯化合物,其由下述通式(6)表示,
[化学式21]
式中,R3a、R3b、R3c及R3d相同或不同,且表示氢原子、卤素原子、烷基、环烷基、(聚)醚基、酯基、一价芳香族烃基或一价杂环基;其中,R3a、R3b、R3c及R3d并不全部为氢原子;R3a与R3b和/或R3c与R3d任选相互键合而形成环;R6a及R6b相同或不同,且表示氢原子或烷基。
项20.一种项19所述的噻咯化合物的制备方法,其具备:
使下述通式(8)所表示的含卤素的噻咯化合物与下述通式(9)所表示的格氏试剂或下述通式(10)所表示的烃基硼酸化合物进行反应的工序,
[化学式22]
式中,R3c、R3d、R6a及R6b与所述R3c、R3d、R6a及R6b相同;X1及X2相同或不同,且表示氢原子或卤素原子;X1与X2任选键合而形成含有卤素原子的环;其中,X1及X2并不全部为氢原子,
通式(9):
R7MgX3 (9)
式中,R7表示烷基;X3表示卤素原子,
[化学式23]
式中,R8表示一价芳香族烃基;R9及R10相同或不同,且表示氢原子或烷基;R9与R10任选相互键合而与邻接的-O-B-O-一同形成环。
项21.一种含卤素的噻咯化合物,其由下述通式(8)表示,
[化学式24]
式中,R3c及R3d相同或不同,且表示氢原子、卤素原子、烷基、环烷基、(聚)醚基、酯基、一价芳香族烃基或一价杂环基;R3c与R3d任选相互键合而形成环;R6a及R6b相同或不同,且表示氢原子或烷基;X1及X2相同或不同,且表示氢原子或卤素原子;X1与X2任选键合而形成含有卤素原子的环;其中,X1及X2并不全部为氢原子。
项22.一种扶手椅型石墨烯纳米带的制备方法,该扶手椅型石墨烯纳米带具有至少一种由下述通式(1-1)表示的结构单元,该制备方法具备:在铁化合物的存在下,对具有至少一种由下述通式(1-2)表示的结构单元的Fjord型石墨烯纳米带实施缩环反应的工序,
[化学式25]
式中,*表示键合点;R3a、R3b、R3c及R3d相同或不同,且表示氢原子、卤素原子、烷基、环烷基、(聚)醚基、酯基、一价芳香族烃基或一价杂环基;R3a与R3b和/或R3c与R3d任选相互键合而形成环,
[化学式26]
式中,*表示键合点;R3a、R3b、R3c及R3d与所述R3a、R3b、R3c及R3d相同。
项23.一种扶手椅型石墨烯纳米带的制备方法,该扶手椅型石墨烯纳米带由下述通式(4-1)表示,该制备方法具备:在铁化合物的存在下,对下述通式(4-2)所表示的Fjord型石墨烯纳米带实施缩环反应的工序,
[化学式27]
式中,R1a、R1b、R1c、R1d、R2a及R2b相同或不同,且表示氢原子、卤素原子、烷基、环烷基、(聚)醚基、酯基、烃基硼酸或其酯基、一价芳香族烃基或一价杂环基;a1及a2相同或不同,且表示碳原子或氮原子;R1c与R1d任选相互键合而形成环;R3a、R3b、R3c及R3d相同或不同,且表示氢原子、卤素原子、烷基、环烷基、(聚)醚基、酯基、一价芳香族烃基或一价杂环基;键合在同一个苯环上的R3a与R3b任选相互键合而形成环;键合在同一个苯环上的R3c与R3d任选相互键合而形成环;n表示0以上的整数,
[化学式28]
式中,虚线相同或不同,且表示不存在键或表示单键;R1a、R1b、R1c、R1d、R2a、R2b、R3a、R3b、R3c、R3d、a1、a2及n与所述R1a、R1b、R1c、R1d、R2a、R2b、R3a、R3b、R3c、R3d、a1、a2及n相同;键合在同一个苯环上的R3a与R3b任选相互键合而形成环;键合在同一个苯环上的R3c与R3d任选相互键合而形成环。
发明效果
根据本发明,可通过工序数少且抑制了副反应的方法来提供GNR。该GNR能够通过在钯化合物及邻四氯苯醌、以及根据需要的银化合物的存在下,使特定的引发剂与特定的噻咯化合物进行反应而得到,通过重复多次该反应,还能够合成为嵌段共聚物的GNR,并且通过适当选择引发剂,还能够合成控制了宽度及长度并减小了多分散系数PDI的GNR。
附图说明
图1为GNR7的MALDI-TOF质谱(基质辅助激光解吸飞行时间质谱)。
图2为GNR8的MALDI-TOF质谱。
图3表示GNR2及GNR8的STM图像;其中,a为堆积在HOPG上的Fjord型GNR2(Mn=1.5×105,Mw/Mn=1.22)的STM图像(电压U=1.0V,电流I=50pA,温度T=78K);b为沿着与a中观察到的丝垂直的方向截取的截面的高度轮廓;c为堆积在HOPG上的扶手椅型GNR8(Mn=2.4×104,Mw/Mn=1.32)的STM图像(电压U=1.0V,电流I=250pA,温度T=78K);d中的(i)为沿着与c中观察到的丝垂直的方向截取的截面的高度轮廓,(ii)为沿着与c中观察到的丝水平的方向截取的截面的高度轮廓;e为GNR8的二聚体组装模型。
具体实施方式
在本说明书中,“含有”为包含“含有(comprise)”、“基本上仅由……组成(consistessentially of)”及“仅由……组成(consist of)”中的任意一种的概念。此外,本说明书中,以“A~B”表示数值范围时,是指A以上B以下。
1.石墨烯纳米带
本发明的石墨烯纳米带为具有至少一种由下述通式(1)表示的结构单元的聚合物。
[化学式29]
式中,虚线相同或不同,且表示不存在键合或表示单键。*1表示键合点;当与*2键合的虚线为单键时,*2表示键合点。R3a、R3b、R3c及R3d相同或不同,且表示氢原子、卤素原子、烷基、环烷基、(聚)醚基、酯基、一价芳香族烃基或一价杂环基。R3a与R3b和/或R3c与R3d任选相互键合而形成环。
在通式(1)中,作为R3a、R3b、R3c及R3d所表示的卤素原子,例如可列举出氟原子、氯原子、溴原子、碘原子等。
在通式(1)中,作为R3a、R3b、R3c及R3d所表示的烷基,例如优选碳原子数为1~20(优选为1~15,更优选为1~13)的直链或支链烷基,例如可列举出甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、仲丁基、叔丁基、正戊基、异戊基、新戊基、正己基、异己基、1,1-二甲基丁基、2,2-二甲基丁基、3,3-二甲基丁基、正庚基、正辛基、正壬基、正癸基等。
当上述烷基被取代时,取代基没有特别限制,可列举出上述卤素原子等。被取代基取代时,取代基数量没有特别限定,例如可设为1~3个。
在通式(1)中,作为R3a、R3b、R3c及R3d所表示的环烷基,例如优选碳原子数为3~20(优选为4~15,更优选为5~13)的环烷基,例如可列举出环丙基、环丁基、环戊基、环己基、环庚基、环辛基、环壬基、环癸基等。
当上述环烷基被取代时,取代基没有特别限制,可列举出上述卤素原子、碳原子数为1~20的烃基(例如甲基、乙基、正丙基等)等。被取代基取代时,取代基数量没有特别限定,例如可设为1~3个。
在通式(1)中,R3a、R3b、R3c及R3d所表示的(聚)醚基是指醚基或聚醚基。作为醚基,例如可列举出由-OR11c(R11c表示上述的烷基)表示的基团等。作为R11c,可优选采用具有碳原子数为1~4的烷基的醚基。作为聚醚基,例如可列举出由-(OR11a)k-OR11b(R11a及R11b相同或不同,且表示烷基;k表示1~20的整数)表示的基团等。这些重复单元OR11a不仅包含相同的重复单元,还可包含两种以上的不同的重复单元。可优选采用具有作为R11a及R11b的碳原子数为1~4的烷基的聚醚基。
R11a及R11b均为烷基,可列举出上述的烷基,对于具有取代基时的种类及个数,也可列举出上述的种类及个数。此外,k优选为1~20的整数,更优选为1~15的整数,进一步优选为1~5的整数。
作为上述聚醚基,例如可列举出-(OC2H5)2OCH3、-(OC2H5)3OCH3、-(OC2H5)4OCH3、-(OC2H5)11OCH3、-(OC2H5)12OCH3、-(OC2H5)13OCH3等。
在采用了上述聚醚基时,能够进一步提高所得到的石墨烯纳米带的水溶性。
在通式(1)中,作为R3a、R3b、R3c及R3d所表示的酯基,例如可列举出由-COOR11d(R11d表示上述的烷基)表示的基团等。可优选采用具有作为R11d的碳原子数为1~4的烷基的酯基。
在通式(1)中,R3a、R3b、R3c及R3d所表示的一价芳香族烃基是指具备芳香族烃环的一价基团,为使键合在构成该芳香族烃环的一个碳原子上的一个氢原子脱离而形成的基团。另外,至少一个键合在构成该芳香族烃环的碳上的氢原子可被取代基取代。
作为上述一价芳香族烃环,不仅有苯环,还可列举出对多个苯环进行缩合而形成的环(苯缩合环)、使苯环与其他芳香族烃环进行缩合而形成的环等(以下,有时将多个苯环进行缩合而形成的环及使苯环与其他环进行缩合而形成的环一并简称为“缩合烃环”)。作为上述缩合烃环,例如可列举出戊搭烯环、茚环、萘环、二氢萘环、蒽环、并四苯环、并五苯环、芘环、苝环、三亚苯环、薁环、庚搭烯环、亚联苯环、引达省(indacene)环、苊烯环、芴环、非那烯环、菲环等。
当上述一价芳香族烃基被取代时,取代基没有特别限制,可列举出上述卤素原子、碳原子数为1~20的烃基(例如甲基、乙基、正丙基等)等。被取代基取代时,取代基的数量没有特别限定,例如可设为1~3个。
在通式(1)中,R3a、R3b、R3c及R3d所表示的一价杂环基是指具备杂环的一价基团,为使键合在构成该杂环的一个碳原子上的一个氢原子脱离而形成的基团。另外,至少一个键合在构成该杂环的碳上的氢原子可被取代基取代。
作为上述杂环,例如可列举出具有选自氮原子、氧原子、硼原子、磷原子、硅原子及硫原子中的至少一种原子的杂环(具体而言,为芳香杂环或脂肪族杂环,特别是芳香杂环)。作为杂环的具体实例,可列举出呋喃环、噻吩环、吡咯环、噻咯环、硼杂环戊二烯(borole)环、磷杂环戊二烯环、噁唑环、二氧杂环戊烯环、噻唑环、吡啶环、哒嗪环、嘧啶环、吡嗪环等芳香杂环等。此外,还可以为这些杂环自身的缩合杂环或这些杂环与苯环、上述缩合烃环等的缩合杂环等(噻吩并噻吩环、喹啉环、苯并二氧杂环戊烯环等)。
当上述一价杂环基被取代时,取代基没有特别限制,可列举出上述卤素原子、碳原子数为1~20的烃基(例如甲基、乙基、正丙基等)等,但不限定于此,可采用任何取代基。被取代基取代时,取代基的数量没有特别限定,例如可设为1~3个。
另外,在通式(1)中,R3a与R3b、R3c与R3d中的至少一组任选相互键合而形成环。作为此时形成的环,例如可列举出上述的脂环式环(环烷基)、芳香族烃环及杂环。
对于通式(1),从所得到的GNR的宽度、长度、多分散系数PDI等角度出发,优选R3a、R3b、R3c及R3d均为氢原子、或3个为氢原子且1个为烷基或聚醚基、或R3a与R3b和/或R3c与R3d相互键合而形成环。
另外,在通式(1)中,虚线相同或不同,且表示不存在键或表示单键。*1表示键合点。当与*2键合的虚线为单键时,*2表示键合点。当通式(1)中与键合点*2连接的虚线为单键时,表示扶手椅型石墨烯纳米带,当通式(1)中不存在与*2键合的虚线时,则表示Fjord型石墨烯纳米带。
上述的本发明的石墨烯纳米带为具有至少一种由上述通式(1)表示的结构单元的聚合物,但考虑到后述的制备方法中用作引发剂的化合物,优选至少一个末端为下述通式(11)所表示的结构单元、下述通式(12)所表示的结构单元及下述通式(13)所表示的结构单元中的至少一种结构单元。
[化学式30]
式中,虚线与所述虚线相同;*1表示键合点;当与*2键合的虚线为单键时,*2表示键合点;R1a、R1b、R1c、R1d、R2a及R2b相同或不同,且表示氢原子、卤素原子、烷基、环烷基、(聚)醚基、酯基、烃基硼酸或其酯基、一价芳香族烃基或一价杂环基;a1及a2相同或不同,且表示碳原子或氮原子;R1c与R1d任选相互键合而形成环。
[化学式31]
式中,*7表示键合点。
[化学式32]
式中,*8表示键合点;a3表示氧原子或硫原子。
即,本发明的石墨烯纳米带优选为下述通式(4)、下述通式(14)或下述通式(15)所表示的聚合物。
[化学式33]
式中,虚线、R1a、R1b、R2a、R2b、R3a、R3b、R3c、R3d、a1及a2与所述虚线、R1a、R1b、R2a、R2b、R3a、R3b、R3c、R3d、a1及a2相同;键合在同一个苯环上的R3a与R3b任选相互键合而形成环;键合在同一个苯环上的R3c与R3d任选相互键合而形成环;n表示0以上的整数。
[化学式34]
式中,R3a、R3b、R3c、R3d及n与所述R3a、R3b、R3c、R3d及n相同;键合在同一个苯环上的R3a与R3b任选相互键合而形成环;键合在同一个苯环上的R3c与R3d任选相互键合而形成环。
[化学式35]
式中,R3a、R3b、R3c、R3d、n及a3与所述R3a、R3b、R3c、R3d、n及a3相同;键合在同一个苯环上的R3a与R3b任选相互键合而形成环;键合在同一个苯环上的R3c与R3d任选相互键合而形成环。
在通式(4)及(11)中,作为R1a、R1b、R1c、R1d、R2a及R2b所表示的卤素原子、烷基、(聚)醚基、酯基、一价芳香族烃基及一价杂环基,可采用上述的卤素原子、烷基、(聚)醚基、酯基、一价芳香族烃基及一价杂环基。取代基的种类及数量也与上述相同。
在通式(4)及(11)中,作为R1a、R1b、R1c、R1d、R2a及R2b所表示的烃基硼酸或其酯基,例如可列举出硼基(boryl group)、频哪醇硼基(pinacolateboryl group)等。
对于通式(4)及(11),从所得到的GNR的宽度、长度、多分散系数PDI、原料的获取性、水溶性等角度出发,R1a、R1b、R1c、R1d、R2a及R2b优选为氢原子、烷基、聚醚基等。为烷基时,更优选为支链烷基,进一步优选为异丙基、异丁基、仲丁基、叔丁基、异戊基、新戊基、异己基、1,1-二甲基丁基、2,2-二甲基丁基、3,3-二甲基丁基等,特别优选为叔丁基。
在通式(4)及(11)中,R1c与R1d还可相互键合而形成环。作为此时形成的环,例如可列举出上述的脂环式环(环烷基)、芳香族烃环及杂环。
在通式(4)及(11)中,从获取性等角度出发,在碳原子及氮原子之中,a1及a2优选为碳原子。
在本发明的石墨烯纳米带中,重复单元数(即,n)为0以上的整数,没有特别限制,可根据所需特性进行适当选择,例如优选为10~1000,更优选为10~500。此外,例如也可以设为重复单元数(即,n)为1~99的低聚物,优选设为重复单元数为2~49的低聚物,更优选设为重复单元数为2~19的低聚物,进一步优选设为重复单元数为3~9的低聚物。本发明的石墨烯纳米带的重复单元数由通过凝胶渗透色谱法并以聚苯乙烯换算而测定的数均分子量而算出。
此外,在通式(4)及(11)中,虚线相同或不同,且表示不存在键或表示单键;*1表示键合点;当与*2键合的虚线为单键时,*2表示键合点。当通式(11)中与键合点*2连接的虚线为单键时,表示扶手椅型石墨烯纳米带,当通式(11)中不存在虚线时,则表示Fjord型石墨烯纳米带。
作为本发明的石墨烯纳米带的其他具体方案,可制成通式(1)中的R3a与R3b相互键合而形成环,并具有至少一种由下述通式(3)表示的结构单元。
[化学式36]
式中,虚线相同或不同,且表示不存在键或表示单键;*5表示键合点;当与*6键合的虚线为单键时,*6表示键合点;R5a、R5b、R5c及R5d相同或不同,且表示氢原子、卤素原子、烷基、环烷基、(聚)醚基、酯基、一价芳香族烃基或一价杂环基;R5a与R5b和/或R5c与R5d任选相互键合而形成环。
在通式(3)中,作为R5a、R5b、R5c及R5d所表示的卤素原子、烷基、环烷基、(聚)醚基、酯基、芳香族烃基及杂环基,可采用上述的卤素原子、烷基、环烷基、(聚)醚基、酯基、芳香族烃基及杂环基。取代基的种类及数量、优选的具体实例等也与上述相同。
另外,在通式(3)中,R5a与R5b和/或R5c与R5d任选相互键合而形成环。作为此时形成的环,例如可列举出上述的脂环式环(环烷基)、芳香族烃环及杂环。
此外,在通式(3)中,虚线相同或不同,且表示不存在键或表示单键;*5表示键合点;当与*6键合的虚线为单键时,*6表示键合点。当通式(3)中与键合点*6连接的虚线为单键时,表示扶手椅型石墨烯纳米带,当通式(3)中不存在虚线时,则表示Fjord型石墨烯纳米带。
满足如上条件的本发明的石墨烯纳米带不仅包含均聚物,还可包含嵌段共聚物。作为上述嵌段共聚物,优选除了具有至少一种由上述通式(1)表示的结构单元以外,还具有例如至少一种由下述通式(2)表示的结构单元。
[化学式37]
式中,虚线相同或不同,且表示不存在键或表示单键;*3表示键合点;当与*4键合的虚线为单键时,*4表示键合点;R4a、R4b、R4c及R4d相同或不同,且表示氢原子、卤素原子、烷基、环烷基、(聚)醚基、酯基、一价芳香族烃基或一价杂环基;R4a与R4b和/或R4c与R4d任选相互键合而形成环;其中,R4a与R3a不同、R4b与R3b不同、R4c与R3c不同且R4d与R3d不同。
在通式(2)中,作为R4a、R4b、R4c及R4d所表示的卤素原子、烷基、环烷基、(聚)醚基、酯基、芳香族烃基及杂环基,可采用上述的卤素原子、烷基、环烷基、(聚)醚基、酯基、芳香族烃基及杂环基。取代基的种类及数量、优选的具体实例等也与上述相同。
另外,在通式(2)中,R4a与R4b和/或R4c与R4d任选相互键合而形成环。作为此时形成的环,例如可列举出上述的脂环式环(环烷基)、芳香族烃环及杂环。
此外,在通式(2)中,虚线相同或不同,且表示不存在键或表示单键;*3表示键合点;当与*4键合的虚线为单键时,*4表示键合点。当通式(2)中与键合点*4连接的虚线为单键时,表示扶手椅型石墨烯纳米带,当通式(2)中不存在与*4键合的虚线时,则表示Fjord型石墨烯纳米带。
在上述的本发明的石墨烯纳米带内,作为嵌段共聚物的石墨烯纳米带为具有至少一种由上述通式(1)表示的结构单元和至少一种由通式(2)表示的结构单元的聚合物,但考虑到后述的制备方法中用作引发剂的化合物,优选至少一个末端具有上述通式(11)、(12)及(13)所表示的结构单元中的至少一种结构单元。
即,在本发明的石墨烯纳米带内,作为嵌段共聚物的石墨烯纳米带优选为下述通式(4A)、下述通式(14A)、下述通式(15A)所表示的石墨烯纳米带。
[化学式38]
式中,虚线、R1a、R1b、R1c、R1d、R2a、R2b、R3a、R3b、R3c、R3d、R4a、R4b、R4c、R4d、a1、a2及n与所述虚线、R1a、R1b、R1c、R1d、R2a、R2b、R3a、R3b、R3c、R3d、R4a、R4b、R4c、R4d、a1、a2及n相同;键合在同一个苯环上的R3a与R3b任选相互键合而形成环;键合在同一个苯环上的R3c与R3d任选相互键合而形成环;键合在同一个苯环上的R4a与R4b任选相互键合形成环;键合在同一个苯环上的R4c与R4d任选相互键合而形成环;m表示0以上的整数。
[化学式39]
式中,R3a、R3b、R3c、R3d、R4a、R4b、R4c、R4d、n及m与所述R3a、R3b、R3c、R3d、R4a、R4b、R4c、R4d、n及m相同;键合在同一个苯环上的R3a与R3b任选相互键合而形成环;键合在同一个苯环上的R3c与R3d任选相互键合而形成环;键合在同一个苯环上的R4a与R4b任选相互键合而形成环;键合在同一个苯环上的R4c与R4d任选相互键合而形成环。
[化学式40]
式中,R3a、R3b、R3c、R3d、R4a、R4b、R4c、R4d、a3、n及m与所述R3a、R3b、R3c、R3d、R4a、R4b、R4c、R4d、a3、n及m相同;键合在同一个苯环上的R3a与R3b任选相互键合而形成环;键合在同一个苯环上的R3c与R3d任选相互键合而形成环;键合在同一个苯环上的R4a与R4b任选相互键合而形成环;键合在同一个苯环上的R4c与R4d任选相互键合而形成环。
在通式(4A)、(14A)及(15A)中,重复单元数(即n及m)均为0以上的整数,没有特别限制,可根据所需特性进行适当选择,例如均优选为10~1000,更优选为10~500。此外,例如,还可设为重复单元数(即n及m)为1~99的低聚物,优选设为重复单元数为2~49的低聚物,更优选设为重复单元数为2~19的低聚物,进一步优选设为重复单元数为3~9的低聚物。本发明的石墨烯纳米带的重复单元数n及m由通过凝胶渗透色谱法并以聚苯乙烯换算而测定的数均分子量而算出。
作为上述的本发明的石墨烯纳米带的具体方案,可制成将R4d与R3d为不同基团的、具有不同取代基的石墨烯纳米带进行共聚而形成的聚合物。将R4a与R3a、R4b与R3b、R4c与R3c设为不同的基团时也与上述相同。上述石墨烯纳米带例如由于可同时表现出脂溶性与水溶性,因此可形成囊泡、胶束,能够用于水溶性的碳材料。
此外,具有至少一种由上述通式(3)表示的结构单元的本发明的石墨烯纳米带,还可制成具有至少一种由上述通式(1)表示的结构单元和至少一种由通式(3)表示的结构单元的聚合物(然而,此时,通式(3)所表示的结构单元与通式(1)所表示的结构单元并不相同)。此时,考虑到后述的制备方法中用作引发剂的化合物,优选至少一个末端具有上述通式(11)、(12)及(13)所表示的结构单元中的至少一种结构单元。
即,本发明的石墨烯纳米带可设为下述通式(4A1)、通式(14A1)或通式(15A1)所表示的石墨烯纳米带。
[化学式41]
式中,虚线、R1a、R1b、R1c、R1d、R2a、R2b、R3a、R3b、R3c、R3d、R5a、R5b、R5c、R5d、a1、a2、n及m与所述虚线、R1a、R1b、R1c、R1d、R2a、R2b、R3a、R3b、R3c、R3d、R5a、R5b、R5c、R5d、a1、a2、n及m相同;键合在同一个苯环上的R3a与R3b任选相互键合而形成环;键合在同一个苯环上的R3c与R3d任选相互键合而形成环;键合在同一个苯环上的R5a与R5b任选相互键合而形成环;键合在同一个苯环上的R5c与R5d任选相互键合而形成环。
[化学式42]
式中,R3a、R3b、R3c、R3d、R5a、R5b、R5c、R5d、n及m与所述R3a、R3b、R3c、R3d、R5a、R5b、R5c、R5d、n及m相同;键合在同一个苯环上的R3a与R3b任选相互键合而形成环;键合在同一个苯环上的R3c与R3d任选相互键合而形成环;键合在同一个苯环上的R5a与R5b任选相互键合而形成环;键合在同一个苯环上的R5c与R5d任选相互键合而形成环。
[化学式43]
式中,R3a、R3b、R3c、R3d、R5a、R5b、R5c、R5d、a3、n及m与所述R3a、R3b、R3c、R3d、R5a、R5b、R5c、R5d、a3、n及m相同;键合在同一个苯环上的R3a与R3b任选相互键合而形成环;键合在同一个苯环上的R3c与R3d任选相互键合而形成环;键合在同一个苯环上的R5a与R5b任选相互键合而形成环;键合在同一个苯环上的R5c与R5d任选相互键合而形成环。
上述具有至少一种由上述通式(1)表示的结构单元和至少一种由通式(3)表示的结构单元的石墨烯纳米带,即为在分子的中途宽度发生变化的石墨烯纳米带。对于石墨烯纳米带的特性(金属性或半导体性),由于能够根据其宽度或周边结构而发生改变,因此能够制成同时表现出半导体特性与金属特性的石墨烯纳米带。通过将本嵌段共聚物中具有半导体特性的石墨烯纳米带嵌段替代晶体管,并将本嵌段共聚物中具有金属特性的石墨烯纳米带嵌段替代电子电路的金属纳米丝,可期待由石墨烯纳米带构成的晶体管。
在本发明的石墨烯纳米带中,数均分子量没有特别限制,可根据所需特性进行适当选择,从溶解性等角度出发,例如优选为10000以上,更优选为15000~300000,进一步优选为20000~200000,特别优选为30000~150000。此外,例如,在制成低分子量的低聚物时,本发明的石墨烯纳米带的数均分子量例如可设为500~5000。本发明的石墨烯纳米带的数均分子量通过凝胶渗透色谱法并以聚苯乙烯换算而测定。
在本发明的石墨烯纳米带中,多分散系数PDI没有特别限制,可根据所需特性进行适当选择,例如优选为1.00~1.40,更优选为1.01~1.30,进一步优选为1.02~1.20。本发明的石墨烯纳米带的多分散系数PDI通过利用串联连接了2根聚苯乙烯凝胶柱(TOSOHTSKgel Multipore HXL-M SEC色谱柱7.8mm×300mm)的尺寸排阻色谱法(SEC),以40℃、1.0mL/分钟的送液速度洗脱含有0.1%的四丁基溴化铵(TBAB)的四氢呋喃(THF)洗脱液而算出。此时,PDI通过计算以标准聚苯乙烯换算测定的数均分子量与重量平均分子量之比而进行测定。
本发明的石墨烯纳米带具有上述结构,且宽度取决于后述的制备方法中使用的基质的长度。此外,本发明的石墨烯纳米带的长度取决于本发明的石墨烯纳米带的聚合度(重复单元数)。另外,基质的长度是指后述的通式(5A)、通式(5B)、通式(6)、通式(7)及通式(7A)所表示的化合物、二苯并环辛二炔、苯并噻吩、苯并呋喃等的长度。因此,能够通过改变基质的种类来控制石墨烯纳米带的宽度,且能够通过改变反应条件来控制石墨烯纳米带的长度。上述的本发明的石墨烯纳米带能够通过在后述的制备方法中适当地控制引发剂而制成宽度及长度均匀的石墨烯纳米带,并且能够大量地合成。由此,根据本发明,通过在后述的制备方法中适当地控制引发剂,能够精密地控制石墨烯纳米带的宽度及长度,因此还能够进行电子物性的细微调节等。
上述的本发明的石墨烯纳米带的宽度优选为0.1~2.0nm,更优选为0.5~1.5nm。
此外,上述本发明的石墨烯纳米带的长度优选为10nm以上,更优选为20~500nm,进一步优选为50~400nm,特别优选为100~300nm。此外,例如在将本发明的石墨烯纳米带制成低分子量的低聚物时,本发明的石墨烯纳米带的长度可根据所要求的特性适当选择。例如,只要在后述的制备方法中,在钯化合物及邻四氯苯醌的基础上使用银化合物,则易于生成长度更长的石墨烯纳米带,而在仅使用钯化合物及邻四氯苯醌而未使用银化合物的情况下,易于生成长度更短的石墨烯纳米带。另外,长度长的石墨烯纳米带可期待应用于半导体、太阳能电池等中,而即便是长度短的石墨烯纳米带,也可期待应用于有机EL元件等中。
上述的本发明的石墨烯纳米带由于在氯仿、二氯甲烷、四氢呋喃(THF)、乙酸乙酯等有机溶剂中的溶解性高,因此成膜性优异。此外,可期待作为OLED(有机电激光显示)、OFET(有机场效应晶体管)、有机薄膜太阳能电池等的各种电荷传输材料等。特别期待有助于有机薄膜太阳能电池的高效率电子供体分子群及高效率电子受体分子群的建立。
2.石墨烯纳米带的制备方法
上述的本发明的石墨烯纳米带例如可通过具备下述第一聚合工序的制备方法而合成:
(1)在钯化合物及邻四氯苯醌的存在下,使下述通式(5A)所表示的炔化合物、下述通式(5B)所表示的含K区的芳香族化合物、二苯并环辛二炔、苯并噻吩或苯并呋喃与、下述通式(6)所表示的噻咯化合物进行反应的第一聚合工序。
[化学式44]
式中,R1a及R1b与所述R1a及R1b相同;k1及k2相同或不同,且表示1~3的整数;当k1及k2为2以上的整数时,各个R1a和/或R1b任选相同或不同。
[化学式45]
式中,R1a、R1b、R1c、R1d、R2a、R2b、a1及a2与所述R1a、R1b、R1c、R1d、R2a、R2b、a1及a2相同。
[化学式46]
式中,R3a、R3b、R3c及R3d与所述R3a、R3b、R3c及R3d相同;R6a及R6b相同或不同,且表示氢原子或烷基。
此外,在将本发明的石墨烯纳米带制成嵌段共聚物时,还可在上述第一聚合工序之后具备下述第二聚合工序:
(2)在钯化合物及邻四氯苯醌的存在下,使在工序(1)中得到的含K区的聚合物与下述通式(7)所表示的噻咯化合物进行反应的第二聚合工序。
[化学式47]
式中,R4a、R4b、R4c、R4d、R6a及R6b与所述R4a、R4b、R4c、R4d、R6a及R6b相同。
通过采用上述方法,在第一聚合工序中,在通式(5A)所表示的炔化合物或二苯并环辛二炔所具有的三键、通式(5B)所表示的含K区的芳香族化合物中的K区、或苯并噻吩或苯并呋喃所具有的双键与、通式(6)所表示的噻咯化合物中的噻咯骨架之间,进行位置选择性且连续的APEX聚合(活性成环共轭延展聚合)。另外,在使用具有多个三键或K区的化合物时,多个三键或K区有时会同时与通式(6)所表示的噻咯化合物中的噻咯骨架反应,但通常是多个三键或K区内的一个三键或K区选择性进行反应。此外,在第二聚合工序中,在于第一聚合工序中得到的含K区的聚合物中的K区与通式(7)所表示的噻咯化合物中的噻咯骨架之间,进行位置选择性且连续的APEX聚合。会进行该聚合反应的原因在于,噻咯骨架作为π扩张反应剂发挥功能。因此,仅通过一阶段或二阶段的反应就能够精密地合成本发明的石墨烯纳米带,能够大幅缩减工序数。
(2-1)基质
炔化合物
在本发明的制备方法中,作为能够用作基质的炔化合物,可列举出下述通式(5A)所表示的炔化合物。
[化学式48]
式中,R1a、R1b、k1及k2与所述R1a、R1b、k1及k2相同。
在通式(5A)中,从获取性等角度出发,优选R1a及R1b均为氢原子。
在通式(5A)中,k1及k2为1~3的整数,从获取性等角度出发,优选k1及k2均为1。此外,当R1a和/或R1b为氢原子以外的基团时,其取代位置没有特别限制,但优选为对位或间位,更优选为对位。
作为上述的炔化合物,例如可列举出下述炔化合物。
[化学式49]
式中,tBu表示叔丁基;Bpin表示频哪醇硼基。
含K区的芳香族化合物
在本发明的制备方法中,作为能够用作基质的含K区的芳香族化合物,可列举出下述通式(5B)所表示的含K区的芳香族化合物。
[化学式50]
式中,R1a、R1b、R1c、R1d、R2a、R2b、a1及a2与所述R1a、R1b、R1c、R1d、R2a、R2b、a1及a2相同。
在通式(5B)中,从获取性等角度出发,R1a、R1b、R1c、R1d、R2a、R2b优选为氢原子、烷基等。
在通式(5B)中,从获取性等的角度出发,a1及a2优选为碳原子。
作为上述的含K区的芳香族化合物,例如可列举出下述芳香族化合物。
[化学式51]
式中,tBu表示叔丁基;Ph表示苯基。
其他基质
此外,作为基质(引发剂),除了上述通式(5A)及(5B)所表示的化合物以外,还可以使用二苯并环辛二炔、苯并噻吩及苯并呋喃。
噻咯化合物
在本发明的制备方法中,在第一聚合工序中,作为能够用作基质的噻咯化合物,可列举出下述通式(6)所表示的噻咯化合物。
[化学式52]
式中,R3a、R3b、R3c及R3d与所述R3a、R3b、R3c及R3d相同;R6a及R6b相同或不同,且表示氢原子或烷基。
此外,在本发明的制备方法中,在第二聚合工序中,作为能够用作基质的噻咯化合物,可列举出下述通式(7)所表示的噻咯化合物。
[化学式53]
式中,R4a、R4b、R4c、R4d、R6a及R6b与所述R4a、R4b、R4c、R4d、R6a及R6b相同。
作为上述噻咯化合物,还可设为在通式(6)中R3a与R3b相互键合而形成环、或在通式(7)中R4a与R4b相互键合而形成环的、下述通式(7A)所表示的噻咯化合物。
[化学式54]
式中,R5a、R5b、R5c、R5d、R6a及R6b与所述R5a、R5b、R5c、R5d、R6a及R6b相同。
在通式(6)中,R3a、R3b、R3c及R3d可采用上述的基团。其中,当R3a、R3b、R3c及R3d均为氢原子时,特别是能够提高由该噻咯化合物衍生的石墨烯纳米带的热耐久性,且由于分子间的相互作用变强,能够提高自聚集性。关于这一点,当通式(7)中的R4a、R4b、R4c及R4d均为氢原子时、通式(7A)中的R5a、R5b、R5c及R5d均为氢原子时也是相同的。
在通式(6)、(7)及(7A)中,作为R6a及R6b所表示的烷基,可采用上述的烷基。取代基的种类及数量也与上述相同。
作为满足上述的条件的能够使用于第一聚合工序及第二聚合工序的噻咯化合物,例如可列举出下述噻咯化合物等。
[化学式55]
式中,n-Bu表示正丁基;n-octyl表示正辛基。
其中,下述化合物在室温(例如25℃)下易于以固体(结晶)而得到,因此,从易于通过晶析等工业方法提高纯度的角度出发,优选下述化合物。
[化学式56]
此外,从易于提高所得到的石墨烯纳米带的溶剂溶解性的角度出发,优选为下述化合物。
[化学式57]
在上述通式(6)中导入了作为R3a和/或R3b的烷基的化合物,例如可通过具备下述工序的制备方法进行合成:
使下述通式(8)所表示的含卤素的噻咯化合物与下述通式(9)所表示的格氏试剂或下述通式(10)所表示的烃基硼酸化合物进行反应的工序。
[化学式58]
式中,R3c、R3d、R6a及R6b与所述R3c、R3d、R6a及R6b相同;X1及X2相同或不同,且表示氢原子或卤素原子;X1及X2任选键合而形成含有卤素原子的环;其中,X1及X2并不全部为氢原子。
R7MgX3 (9)
式中,R7表示烷基或一价芳香族烃基;X3表示卤素原子。
[化学式59]
式中,R8表示烷基或一价芳香族烃基;R9及R10相同或不同,且表示氢原子或烷基;R9及R10任选相互键合而与邻接的-O-B-O-一同形成环。
在通式(8)中,作为X1及X2所表示的卤素原子,可列举出氟原子、氯原子及溴原子。
另外,在通式(8)中,X1及X2任选相互键合而形成含有卤素原子的环。作为此时形成的环,例如可列举出至少1个上述卤素原子在上述的芳香族烃环及杂环上进行取代而形成的环。
上述通式(8)所表示的含卤素的噻咯化合物,例如可根据后述的实施例中记载的方法进行制备。此外,从工业获取性的角度出发,上述通式(8)所表示的含卤素的噻咯化合物中的卤素原子优选为氯原子。具体而言,例如可列举出下述化合物等。
[化学式60]
式中,n-octyl表示正辛基。
在通式(9)中,作为R7所表示的烷基及一价芳香族烃基,可采用上述基团。取代基的种类及数量也与上述相同。
在通式(9)中,作为X3所表示的卤素原子,可采用上述卤素原子。
作为满足上述条件的格氏试剂,例如可列举出甲基氯化镁、甲基溴化镁、正丁基氯化镁、正丁基溴化镁、正己基氯化镁、正己基溴化镁、正辛基氯化镁、正正辛基溴化镁、2-乙基己基氯化镁、2-乙基己基溴化镁等烷基卤化镁;苯基氯化镁、苯基溴化镁、4-正丁基苯基氯化镁、4-正丁基苯基溴化镁、4-正辛基苯基氯化镁、4-正辛基苯基溴化镁等。
在使通式(8)所表示的含卤素的噻咯化合物与通式(9)所表示的格氏试剂进行反应时,例如可参考J.A.C.S.2002,124,13856.等中记载的条件而实施。
在通式(10)中,作为R8所表示的烷基及一价芳香族烃基,可采用上述的烷基及一价芳香族烃基。取代基的种类及数量也与上述相同。
在通式(10)中,作为R9及R10所表示的烷基,可采用上述的烷基。取代基的种类及数量也与上述相同。
此外,当通式(10)中的R9及R10均为烷基时,两者任选相互键合而与邻接的-O-B-O-一同形成环。此时,作为上述烃基硼酸化合物,例如可列举出下述化合物等。
[化学式61]
式中,R8与所述R8相同。
在这些化合物中,从收率的角度出发,优选R9及R10均为氢原子。
作为满足上述条件的烃基硼酸化合物,例如可列举出下述化合物等。
[化学式62]
式中,n-Bu表示正丁基;n-Octyl表示正辛基。
在使通式(8)所表示的含卤素的噻咯化合物与通式(10)所表示的烃基硼酸化合物进行反应时,例如可参考J.A.C.S.2005,127,4685.等中记载的条件而实施。
另外,上述示出了在通式(6)中导入了作为R3a和/或R3b的烷基的化合物的制备方法的一个例子,对于在通式(7)中导入了作为R4a和/或R4b的烷基的化合物、在通式(7A)中导入了作为R5a和/或R5b的烷基的化合物等,也可通过相同的方式合成。
在本发明的制备方法中,从易于得到更高分子量的石墨烯纳米带的角度出发,第一聚合工序及第二聚合工序中的与噻咯化合物进行反应的化合物(炔化合物、含K区的芳香族化合物、二苯并环辛二炔、苯并噻吩、苯并呋喃或含K区的聚合物)的用量均优选相对于1摩尔的噻咯化合物为0.0005~0.5摩尔,更优选为0.0005~0.1摩尔,进一步优选为0.001~0.05摩尔,特别优选为0.002~0.03摩尔。此外,在将与噻咯化合物进行反应的化合物(炔化合物、含K区的芳香族化合物、二苯并环辛二炔、苯并噻吩、苯并呋喃或含K区的聚合物)的用量设为相对于1摩尔的噻咯化合物为0.01~0.5摩尔、优选为0.02~0.5摩尔、更优选为0.05~0.5摩尔、进一步优选为0.1~0.5摩尔时,还能够易于得到分子量较小的、即石墨烯纳米带的低聚物。即,能够根据所要求的性能及用途,设计具有所需的分子量的石墨烯纳米带。
(2-2)钯化合物
在本发明的制备方法中,使用钯化合物作为催化剂。另外,在未使用钯化合物时,聚合反应几乎不进行,难以得到本发明的石墨烯纳米带。
作为钯化合物,可列举出作为高分子化合物等的合成用催化剂的公知的钯化合物等,从易于得到更高分子量的石墨烯纳米带的角度出发,优选为2价钯化合物。作为能够使用的钯化合物,例如可列举出Pd(OH)2、Pd(OCOCH3)2、Pd(OCOCF3)2、Pd(acac)2、PdCl2、PdBr2、PdI2、Pd(NO3)2、Pd(CH3CN)4(SbF6)2等。另外,acac表示乙酰丙酮基(acetylacetonate)。在本发明中,从通过使用弱阳离子性的钯化合物而不易使基质的噻咯骨架崩坏、易于得到更高分子量的石墨烯纳米带的角度出发,优选Pd(OH)2、Pd(OCOCH3)2、Pd(OCOCF3)2、PdBr2、PdI2、Pd(CH3CN)4(SbF6)2等,更优选Pd(OCOCH3)2、Pd(OCOCF3)2、PdBr2、PdI2、Pd(CH3CN)4(SbF6)2等,进一步优选Pd(OCOCF3)2。
钯化合物的用量能够根据基质的种类进行适当选择,从易于得到更高分子量的石墨烯纳米带的角度出发,例如相对于1摩尔的作为基质的噻咯化合物,钯化合物的用量优选为0.1~3.0摩尔,更优选为0.2~2.0摩尔,进一步优选为0.5~1.5摩尔。
(2-3)邻四氯苯醌
在本发明的制备方法中,使用邻四氯苯醌作为氧化剂。另外,在未使用邻四氯苯醌时,聚合反应几乎不进行,无法得到本发明的石墨烯纳米带。此外,在使用其他氧化剂(对四氯苯醌、2,3-二氯-5,6-二氰基-1,4-苯醌、3,5-二叔丁基-1,2-苯醌、CuCl2等)替代邻四氯苯醌时,聚合反应同样几乎不进行,无法得到本发明的石墨烯纳米带。
邻四氯苯醌的用量能够根据基质的种类进行适当选择,从易于得到更高分子量的石墨烯纳米带的角度出发,例如,相对于1摩尔的作为基质的噻咯化合物,邻四氯苯醌的用量优选为0.5~5.0摩尔,更优选为1.0~3.0摩尔,进一步优选为1.5~2.5摩尔。
(2-4)银化合物
在本发明的制备方法中,优选在银化合物的存在下进行。通过使用银化合物,易于得到更高分子量的石墨烯纳米带。
银化合物没有特别限制,可列举出乙酸银、特戊酸银(AgOPiv)、三氟甲磺酸银(AgOTf)、苯甲酸银(AgOCOPh)等有机银化合物;硝酸银、氟化银、氯化银、溴化银、碘化银、硫酸银、氧化银、硫化银、四氟硼酸银(AgBF4)、六氟磷酸银(AgPF6)、六氟锑酸银(AgSbF6)等无机银化合物等,从易于得到更高分子量的石墨烯纳米带的角度出发,优选无机银化合物,更优选四氟硼酸银(AgBF4)、六氟磷酸银(AgPF6)、六氟锑酸银(AgSbF6)等,进一步优选四氟硼酸银(AgBF4)、六氟锑酸银(AgSbF6)等,特别优选六氟锑酸银(AgSbF6)。这些银化合物可单独使用,也可组合使用两种以上。
银化合物的用量能够根据基质的种类进行适当选择,从易于得到更高分子量的石墨烯纳米带的角度出发,例如,相对于1摩尔的作为基质的噻咯化合物,银化合物的用量优选为0.5~5.0摩尔,更优选为1.0~3.0摩尔,进一步优选为1.5~2.5摩尔。另外,在使用多种银化合物时,优选以使合计用量在上述范围内的方式进行调整。
(2-5)其他
在本发明的制备方法中,优选在溶剂中进行。作为溶剂,例如可列举出戊烷、己烷、庚烷、环己烷等脂肪族烃;二氯甲烷、二氯乙烷(DCE)、氯仿(CHCl3)、四氯化碳、三氯乙烯(TCE)等脂肪族卤代烃;溴苯(PhBr)、1,3,5-三溴苯(PhBr3)等芳香族卤代烃等。这些溶剂可单独使用,也可组合使用两种以上。本发明中,在这些溶剂中,从易于得到更高分子量的石墨烯纳米带的角度出发,优选脂肪族卤代烃、芳香族卤代烃等,更优选二氯乙烷(DCE)、氯仿(CHCl3)、三氯乙烯(TCE)、溴苯(PhBr)、1,3,5-三溴苯(PhBr3)等,进一步优选二氯乙烷(DCE)、三氯乙烯(TCE)、1,3,5-三溴苯(PhBr3)等,特别优选二氯乙烷(DCE)。
在本发明的制备方法中,除了上述成分以外,还可在不损害本发明的效果的范围内适当使用添加剂。
本发明的制备方法优选在无水条件下且非活性气体气氛(氮气、氩气等)下进行,反应温度通常优选为40~110℃左右,更优选为50~100℃左右,进一步优选为60~90℃。反应时间可设为充分进行聚合反应的时间,通常优选为10分钟~72小时,更优选为1~48小时。
反应结束后,经过常规的分离及提纯工序(通过硅胶柱色谱法去除金属、通过凝胶渗透色谱法(GPC)分离或分离提纯聚合物等),能够得到目标石墨烯纳米带。
3.扶手椅型石墨烯纳米带的制备方法
根据上述的制备方法,通常可得到具有至少一种由下述通式(1-2)表示的结构单元的Fjord型石墨烯纳米带。
[化学式63]
式中,*表示键合点;R3a、R3b、R3c及R3d与所述R3a、R3b、R3c及R3d相同。通过对该Fjord型石墨烯纳米带实施缩环反应,能够得到具有至少一种由下述通式(1-1)表示的结构单元的扶手椅型石墨烯纳米带。
[化学式64]
式中,*表示键合点;R3a、R3b、R3c及R3d与所述R3a、R3b、R3c及R3d相同。
更具体而言,通过对利用上述的本发明的制备方法得到的由下述通式(4-2)表示的Fjord型石墨烯纳米带实施缩环反应,能够得到下述通式(4-1)所表示的扶手椅型石墨烯纳米带。
[化学式65]
式中,虚线相同或不同,且表示不存在键或表示单键;R1a、R1b、R1c、R1d、R2a、R2b、R3a、R3b、R3c、R3d、a1、a2及n与所述R1a、R1b、R1c、R1d、R2a、R2b、R3a、R3b、R3c、R3d、a1、a2及n相同;键合在同一个苯环上的R3a与R3b任选相互键合而形成环;键合在同一个苯环上的R3c与R3d任选相互键合而形成环。
[化学式66]
式中,R1a、R1b、R1c、R1d、R2a、R2b、R3a、R3b、R3c、R3d、a1、a2及n与所述R1a、R1b、R1c、R1d、R2a、R2b、R3a、R3b、R3c、R3d、a1、a2及n相同;键合在同一个苯环上的R3a与R3b任选相互键合而形成环;键合在同一个苯环上的R3c与R3d任选相互键合而形成环。
在通过上述方式得到的扶手椅型石墨烯纳米带内,为嵌段共聚物的扶手椅型石墨烯纳米带,为具有至少一种由上述通式(1-1)表示的结构单元与至少一种由下述通式(2-1)表示的结构单元的聚合物,但考虑到上述的制备方法中用作引发剂的化合物,优选至少一个末端具有上述通式(11)所表示的结构单元。
[化学式67]
式中,*表示键合点;R4a、R4b、R4c及R4d与所述R4a、R4b、R4c及R4d相同。
即,在本发明的扶手椅型石墨烯纳米带内,为嵌段共聚物的扶手椅型石墨烯纳米带,优选为下述通式(4-1A)所表示的扶手椅型石墨烯纳米带。
[化学式68]
式中,R1a、R1b、R1c、R1d、R2a、R2b、R3a、R3b、R3c、R3d、R4a、R4b、R4c、R4d、a1、a2、n及m与所述R1a、R1b、R1c、R1d、R2a、R2b、R3a、R3b、R3c、R3d、R4a、R4b、R4c、R4d、a1、a2、n及m相同;键合在同一个苯环上的R3a与R3b任选相互键合而形成环;键合在同一个苯环上的R3c与R3d任选相互键合而形成环;键合在同一个苯环上的R4a与R4b任选相互键合而形成环;键合在同一个苯环上的R4c与R4d任选相互键合而形成环。
作为上述的本发明的扶手椅型石墨烯纳米带的具体方案,可制成将R4d与R3d为不同基团的、具有不同取代基的石墨烯纳米带进行共聚而形成的聚合物。将R4a与R3a、R4b与R3b、R4c与R3c设为不同基团时也与上述相同。上述扶手椅型石墨烯纳米带例如由于可同时表现出脂溶性与水溶性,因此可形成囊泡、胶束,能够用于水溶性的碳材料。
此外,具有至少一种由下述通式(3-1)表示的结构单元的本发明的石墨烯纳米带,还可制成具有至少一种由上述通式(1-1)表示的结构单元与至少一种由通式(3-1)表示的结构单元的聚合物(然而,此时,通式(3-1)所表示的结构单元与通式(1-1)所表示的结构单元不同)。此时,考虑到上述的制备方法中用作引发剂的化合物,优选至少一个末端具有上述通式(11)所表示的结构单元。
[化学式69]
式中,*表示键合点;R5a、R5b、R5c及R5d与所述R5a、R5b、R5c及R5d相同。
即,本发明的扶手椅型石墨烯纳米带,可制成下述通式(4-1B)所表示的扶手椅型石墨烯纳米带。
[化学式70]
式中,虚线、R1a、R1b、R1c、R1d、R2a、R2b、R3a、R3b、R3c、R3d、R5a、R5b、R5c、R5d、a1、a2、n及m与所述虚线、R1a、R1b、R1c、R1d、R2a、R2b、R3a、R3b、R3c、R3d、R5a、R5b、R5c、R5d、a1、a2、n及m相同;键合在同一个苯环上的R3a与R3b任选相互键合而形成环;键合在同一个苯环上的R3c与R3d任选相互键合而形成环;键合在同一个苯环上的R5a与R5b任选相互键合而形成环;键合在同一个苯环上的R5c与R5d任选相互键合而形成环。
上述的具有至少一种由上述通式(1-1)表示的结构单元与至少一种由通式(3-1)表示的结构单元的扶手椅型石墨烯纳米带,即为在分子的中途宽度发生变化的扶手椅型石墨烯纳米带。对于石墨烯纳米带的特性(金属性或半导体性),由于能够根据其宽度或周边结构而发生改变,因此还能够制成同时表现出半导体特性与金属特性的扶手椅型石墨烯纳米带。通过将本嵌段共聚物中具有半导体特性的石墨烯纳米带嵌段替代晶体管,并将本嵌段共聚物中具有金属特性的石墨烯纳米带嵌段替代电子电路的金属纳米丝,可期待由石墨烯纳米带构成的晶体管。
缩环反应没有特别限制。作为缩环反应,可以为通常的氧化反应,也可以为Scholl反应(脱氢环化反应)。此外,不限于氧化反应,也可以为还原性反应。此时,可实施使用了五氯化锑、氯化铝、溴化铝、四氯化钛、四氯化锡、氯化锌、氯化铜、氯化铁(FeCl3)、三氟化硼、五氧化二磷、二氧化锰、氧化硒、碘等的氧化反应,也可引发使用了钾的还原性反应。在本发明中,优选使用了FeCl3的Scholl反应或使用了钾的还原性反应。
该工序中所使用的溶剂可以为非极性溶剂,也可以为极性溶剂。例如可列举出己烷、庚烷、辛烷等烷烃;二氯甲烷、氯仿、四氯化碳、氯化乙烯等卤代烷;苯、甲苯、二甲苯、均三甲苯、五甲苯等芳香族烃;氯苯、溴苯等卤代苯;二乙醚、苯甲醚等醚;硝酸甲酯;二甲亚砜;硝基甲烷等。上述溶剂可单独使用一种或组合使用两种以上。
缩环反应的反应温度通常在0℃~溶剂沸点的范围中选择。此外,缩环反应的反应压力通常在为常压的范围中选择。进一步,缩环反应的反应时间通常在1~96小时的范围中选择。
此外,反应气氛没有特别限定,优选为非活性气体气氛,可设为氩气气氛、氮气气氛等。另外,也可设为空气气氛。
反应结束后,经过常规的分离及提纯工序(通过硅胶柱色谱法去除金属、通过凝胶渗透色谱法(GPC)分离或分离提纯聚合物等),能够得到目标石墨烯纳米带。
实施例
以下,列举实施例对发明进行具体说明,但本发明不受这些实施例的任何限制。
只要没有特别明确记载,则包括干燥溶剂在内的所有材料均通过购买而获得且在未进行提纯的状态下进行了使用。二甲基氯硅烷在即将使用之前进行了蒸馏。若没有特别记载,则所有反应均使用标准真空管线(vacuum line)技术并在烘箱干燥后的玻璃器具中于氮气气氛下使用干燥溶剂而进行。所有的后处理及提纯步骤均在空气中使用试剂级溶剂而实施。
薄层色谱法(TLC)使用E.Merck硅胶60F254预涂板(0.25mm)而实施,并使用UV灯(254nm)对展开的色谱图进行分析。开放柱色谱法使用KANTO硅胶60N(球状,中性,40~100μm)而实施。金属捕捉剂使用Biotage Metal Scavenger Si-TMT。制备薄层色谱法(PTLC)在使用Wako-gel(注册商标)B5-F二氧化硅涂层板(0.75mm)制备了TLC板的基础上实施,使用UV灯(254nm及365nm)对展开的色谱图进行分析。分离再循环凝胶渗透色谱法(GPC)通过使用串联连接了流速为3.5ml/分钟且将CHCl3用作洗脱液的JAIGEL-3H及5H色谱柱、并串联连接了UV和RI检测器的LC-9210II NEXT仪器(Japan Analytical Industry Co.,Ltd)而进行。合成聚合物(GNR)的分子量及分子量分布通过于40℃下利用串联连接了2根聚苯乙烯凝胶柱(TOSOH TSKgel Multipore HXL-M SEC色谱柱7.8mm×300mm)的Shimadzu Prominence2000仪器上的尺寸排阻色谱(SEC)而测定,并以1.0mL/分钟的流速使用作为洗脱液的含有0.1质量%的四丁基溴化铵(TBAB)的四氢呋喃(THF)。分子量校正曲线使用标准聚苯乙烯(TOSOH TSKgel聚苯乙烯标准品)而得到。吸收光谱及荧光光谱通过使用JASCO V570分光光度计及JASCO FP-6600,并于25℃在1cm的石英比色皿中而得到。傅里叶变换红外(FT-IR)光谱通过以衰减全反射(ATR)模式使用JASCO FT/IR-6100分光计而记录。低温扫描隧道显微镜(STM)测定使用Unisok、USS-10092LSC而进行。高分辨质谱(HRMS)通过将3-硝基苄醇(NBA)用作基质并使用JEOL JMS-700(快原子轰击质谱,FAB-MS)而测定。MALDI-TOF质谱通过将聚乙二醇混合物(PEG10000)用作外部标准,将反式-2-[3-(4-叔丁基苯基)-2-甲基-2-亚丙烯基]丙二腈(DCTB)或7,7,8,8-四氰基对苯二醌二甲烷(TCNQ)用作基质,并在添加或未添加作为离子化添加剂的AgCOCF3的条件下,使用JEOL JMS-S3000 Spiral TOF而测定。核磁共振(NMR)光谱使用JEOL ECS-600(1H 600MHz,13C 150MHz)分光计而记录。1H NMR的化学位移以相对于四甲基硅烷(δ0.00ppm)或CD2Cl2(δ5.32ppm)的百万分率(ppm)表示。13CNMR的化学位移以相对于CDCl3(δ77.0ppm)或C2D2Cl4(δ73.78ppm)的百万分率(ppm)表示。数据通过以下方式报告:化学位移、多重性(s=singlet(单峰),d=doublet(双重峰),dd=doublet of doublets(双二重峰),ddd=doublet of doublet of doublets(双双二重峰),t=triplet(三重峰),td=triplet of doublets(三二重峰),q=quartet(四重峰),m=multiplet(多重峰))、键合常数(Hz)及integration(积分)。
拉曼光谱(Raman spectra)的测定
拉曼光谱的测定通过使用532nm的激光并于室温下在硅基板(SUMTEC)上进行。在乙醇中利用超声波清洗对硅基板进行清洗。将拉曼测定用试样溶液浇铸在准备的硅基板上,并使溶剂在硅基板上干燥。
荧光光谱的测定
荧光光谱的测定通过使用带盖的1cm石英比色皿,并使用氯仿(分光级)中经脱气的样本溶液而进行。只要没有特别明确的记载,则实验均于25℃下进行。在测定前,使用0.45μm的膜过滤器对试样溶液进行过滤。
Fjord型及扶手椅型石墨烯纳米带的MALDI-TOF质谱的测定
MALDI-TOF质谱的测定均使用PEG10000作为外部标准并在螺旋反射模式下进行。Fjord型GNR2(Mn=1.3×104,PDI=1.23)及GNR7(1.2×104,PDI=1.04)的测定通过使用1mg/mL的石墨烯纳米带(100μL)及1mg/mL的DCTB(100μL)的混合THF溶液而进行。扶手椅型GNR8(Mn=8.3×103,PDI=1.31)的测定通过使用1mg/mL的GNR8(100μL)、1mg/mL的TCNQ(400μL)及0.1mg/mL的AgCOCF3(100μL)的混合THF溶液而进行。
合成例1:3-氯-3-乙基十一烷的合成
[化学式71]
式中,Et表示乙基。THF表示四氢呋喃。
向放入有磁力搅拌子的200mL的双口圆底烧瓶中加入碎屑状镁(5.8g,240mmol),在减压下使用热风枪对反应容器一边搅拌10分钟一边进行加热。在将烧瓶冷却至室温之后,加入正辛基溴(n-octyl bromide)(37.1mL,225mmol)及THF(100mL)。向该反应混合物中加入1,2-二溴乙烷(2滴,用于活化碎屑状镁),于40℃搅拌反应混合物1小时,制备对应的格氏试剂。向放入有磁力搅拌子的另一个300mL双口圆底烧瓶中加入3-戊酮(化合物S1;16.0mL,150mmol)及THF(100mL)。于0℃一边剧烈搅拌制备的格氏试剂溶液一边将其滴加至该酮溶液中。然后,于40℃搅拌反应混合物14小时。在通过TLC确认到反应的进行之后,使用水对所得到的反应混合物进行淬灭。使用饱和NH4Cl水溶液及水洗涤有机层,使用Na2SO4进行干燥,并进行过滤,在减压下进行浓缩,得到作为粗产物的3-乙基-3-羟基十一烷(化合物S2)。向装有磁力搅拌子及作为粗产物的化合物S2的200mL圆底烧瓶中加入浓盐酸(35mL)。于室温下将反应混合物搅拌1小时后,使用二乙醚(100mL)进行3次提取。使用盐水洗涤合并的有机层,然后使用Na2SO4进行干燥。进行过滤后,在减压下去除溶剂。通过硅胶上的基于快速柱色谱法(洗脱剂:己烷)的提纯,得到3-氯-3-乙基十一烷(化合物S3;17.0g)。
合成例2:APEX单体M的合成
[化学式72]
式中,Et表示乙基。B2pin2表示双(频哪醇合)二硼。dba表示二亚苄基丙酮。Ph表示苯基。AcOK表示乙酸钾。Bpin表示频哪醇硼基。DME表示1,2-二甲氧基乙烷。n-BuLi表示正丁基锂。THF表示四氢呋喃。Me表示甲基。t-Bu表示叔丁基。C7H5F3表示三氟甲苯。
在氮气气氛下,向放入有磁力搅拌子的200mL的双口圆底烧瓶中加入2-萘酚(化合物S4;12.0g,83.2mmol)、3-氯-3-乙基十一烷(化合物S3;27.3g,124.9mmol)及CH2Cl2(120mL)。然后,于室温下加入AlCl3(11.0g,83.2mmol)。于40℃将混合物搅拌6小时后,使用甲醇(30mL)对反应进行淬灭。使用水洗涤有机层,使用Na2SO4进行干燥,并进行过滤,在减压下进行浓缩,得到粗产物。通过硅胶上的基于开放柱色谱法(洗脱剂:CH2Cl2/己烷=4:1)的提纯,得到作为无色油的6-(3-乙基-3-十一烷基)-2-萘酚(化合物S5)(13.0g,48%)。
在氮气气氛下,向放入有磁力搅拌子的200mL的双口圆底烧瓶中加入化合物S5(8.00g,24.5mmol)及CH2Cl2(120mL)。然后,于0℃下加入三乙胺(6.83mL,49.0mmol)。于该温度将混合物搅拌0.5小后,加入(CF3SO2)2O(4.53mL,26.9mmol)。于0℃进一步搅拌2小时后,使用水对反应进行淬灭。使用CH2Cl2(50mL)对反应混合物进行3次提取。使用盐水洗涤合并的有机层,然后使用Na2SO4进行干燥。进行过滤后,在减压下去除溶剂,得到粗产物。通过硅胶上的基于开放柱色谱法(洗脱剂:CH2Cl2/己烷=4:1)的提纯,得到作为无色油的6-(3-乙基-3-十一烷基)-2-萘基三氟甲烷磺酸酯(化合物S6)(6.12g)。
在氮气气氛下,在放入有磁力搅拌子的200mL的双口圆底烧瓶中,向1,4-二噁烷(125mL)中加入化合物S6(5.00g,10.9mmol)、双(频哪醇合)二硼(B2pin2;4.15g,16.4mmol)、三(二亚苄基丙酮)二钯(0)-氯仿加成物(Pd2(dba)3-CHCl3;1.13g,1.09mmol,10mol%)、三苯基膦(PPh3;3.63mL,2.18mmol,20mol%)及乙酸钾(KOAc;3.21g,32.7mmol)。于100℃将反应混合物搅拌4小时后,使用水进行淬灭。使用CH2Cl2(40mL)对反应混合物进行3次提取。使用盐水洗涤合并的有机层,然后使用Na2SO4进行干燥。进行过滤后,在减压下去除溶剂,得到粗产物。通过在硅胶上进行的快速柱色谱法(洗脱剂:己烷/CH2Cl2=4:1)进行提纯,得到作为无色油的2-(6-(3-乙基-3-十一烷基)-2-萘基)-4,4,5,5-四甲基-1,3,2-二氧硼戊环(化合物S7)(4.11g,84%)。
在氮气气氛下,在放入有磁力搅拌子的200mL双口圆底烧瓶中,向1,2-二甲氧基乙烷(30mL)及水(15mL)中加入化合物S7(3.15g,7.21mmol)、1-溴-2-碘苯(1.70g,6.01mmol)、双(三苯基膦)二氯化钯(2)(PdCl2(PPh3)2;84mg,0.12mmol,20mol%)及K2CO3(2.08g,15.0mmol)。于80℃将反应混合物搅拌5小时后,使1,2-二甲氧基乙烷蒸发。添加水(40.0mL)及二乙醚(20.0mL),然后分离有机层。使用二乙醚(20mL)对水层进行3次提取。使用盐水洗涤合并的有机层,然后使用Na2SO4进行干燥。进行过滤后,在减压下去除溶剂,得到粗产物。通过硅胶上的基于快速柱色谱法(洗脱剂:己烷)的提纯,得到作为无色油的2-(2-溴苯基)-6-(3-乙基-3-十一烷基)萘(化合物S8)(2.50g,74%)。
在氮气气氛下,向放入有磁力搅拌子的200mL的双口圆底烧瓶中加入化合物S8(2.50g,5.37mmol)及四氢呋喃(THF;100mL)。接着,于-78℃下滴加正丁基锂(n-BuLi;在正己烷中为1.6M,5.03mL,8.06mmol)。于该温度下将混合物搅拌15分钟后,于-78℃加入经蒸馏的二甲基氯硅烷(0.97mL,8.06mmol)。于室温下将反应混合物搅拌24小时后,使用水进行淬灭。使用二乙醚对反应混合物进行提取。使用盐水洗涤合并的有机层,然后使用Na2SO4进行干燥。进行过滤后,在减压下去除溶剂,得到粗产物。通过硅胶上的基于快速柱色谱法(洗脱剂:己烷)的提纯,得到作为无色油的(2-(6-(3-乙基-3-十一烷基)-2-萘基)苯基)二甲基硅烷(化合物S9)(2.12g,88%)。
在氮气气氛下,向放入有磁力搅拌子的200mL的双口圆底烧瓶中加入化合物S9(1.3g,2.90mmol)及(三氟甲基)苯(50mL)。然后,于室温下加入2-(叔丁基过氧)-2-甲基丙烷(1.61mL,8.77mmol)。于130℃将反应混合物搅拌36小时。在冷却至室温后,对反应混合物进行浓缩,然后利用硅胶柱色谱法(洗脱剂:己烷/CH2Cl2=19:1)进行提纯,得到作为无色油的3-(3-乙基-3-十一烷基)-11,11-二甲基-11H-苯并[b]萘并[2,1-d]噻咯(化合物M)(0.72g,55%)。
3-(3-乙基-3-十一烷基)-11,11-二甲基-11H-苯并[b]萘并[2,1-d]噻咯(化合物M):
1H-NMR(600MHz,CDCl3)δ7.95(d,J=8.4Hz,1H),7.87-7.90(m,2H),7.78-7.80(m,1H),7.68-7.72(m,2H),7.51-7.55(m,1H),7.44-7.47(m,1H),7.28-7.30(m,1H),1.76-1.78(m,2H),1.35-1.37(m,2H),1.08-1.23(m,12H),0.79-0.85(m,9H),0.65-0.70(m,3H),0.55(s,6H).
13C NMR(150MHz,CDCl3)δ148.1,146.7,139.2,137.1,136.8,133.0,132.6,130.9,130.2,128.9,128.4,127.4,126.6,125.4,121.0,119.8,31.9,31.6,29.72(2C),29.68,29.4,22.7,22.2(2C),14.1,11.8,-2.81.
HRMS(FAB+)m/z calcd for C32H43Si[M+H]+:443.3129,found 443.3126。
合成例3:APEX单体M”的合成
[化学式73]
式中,Ts表示甲苯磺酰基(tosyl group)。DMF表示二甲基甲酰胺。n-BuLi表示正丁基锂。THF表示四氢呋喃。i-Pr表示异丙基。Ph表示苯基。DME表示1,2-二甲氧基乙烷。Me表示甲基。t-Bu表示叔丁基。C7H5F3表示三氟甲苯。
在氮气气氛下,向放入有磁力搅拌子的200mL的双口圆底烧瓶中加入2-(2-(2-甲氧基乙氧基)乙氧基)乙基4-甲基苯磺酸酯(化合物S11;13.9g,101mmol)、6-溴-2-萘酚(化合物S10;7.50g,33.6mmol)、K2CO3(13.9g,101mmol)及二甲基甲酰胺(DMF;150mL)。于100℃将混合物搅拌14小时后,使用水(30mL)对反应进行淬灭。使用乙酸乙酯(EtOAc;100mL)对反应混合物进行3次提取。使用盐水洗涤合并的有机层,然后使用Na2SO4进行干燥。进行过滤后,在减压下去除溶剂,得到粗产物。通过硅胶上的基于开放柱色谱法(洗脱剂:乙酸乙酯/己烷=2:1)的提纯,得到作为无色油的2-溴-6-(2-(2-(2-甲氧基乙氧基)乙氧基)乙氧基)萘(化合物S12)(11.5g,93%)。
在氮气气氛下,向放入有磁力搅拌子的200mL的双口圆底烧瓶中加入化合物S12(5.00g,13.5mmol)及四氢呋喃(THF;135mL)。然后,于-78℃下滴加正丁基锂(n-BuLi;在正己烷中为1.6M,9.34mL,14.9mmol)。于该温度下将混合物搅拌10分钟后,于-78℃下加入硼酸三异丙酯(B(Oi-Pr)3;1.94mL,16.3mmol)。于室温下将反应混合物搅拌一晚后,使用1NHCl进行淬灭。使用乙酸乙酯对反应混合物进行提取。使用盐水洗涤合并的有机层,然后使用Na2SO4进行干燥。进行过滤后,在减压下去除溶剂,得到粗产物。通过硅胶上的基于快速柱色谱法(洗脱液:乙酸乙酯/己烷=2:1)的提纯,得到作为无色油的(6-(2-(2-(2-甲氧基乙氧基)乙氧基)乙氧基)萘-2-基)硼酸(化合物S13)(4.5g,99%)。
在氮气气氛下,在放入有磁力搅拌子的200mL的双口圆底烧瓶中,向1,2-二甲氧基乙烷(150mL)及水(20mL)中加入化合物S13(4.50g,13.5mmol)、1-溴-2-碘苯(2.31mL,16.4mmol)、双(三苯基膦)二氯化钯(2)(PdCl2(PPh3)2;210mg,0.29mmol,20mol%)及K2CO3(4.14g,29.9mmol)。于80℃将反应混合物搅拌5小时后,使1,2-二甲氧基乙烷蒸发。添加水(40mL)及乙酸乙酯(50mL),然后分离有机层。使用乙酸乙酯(50mL)对水层进行3次提取。使用盐水洗涤合并的有机层,然后使用Na2SO4进行干燥。进行过滤后,在减压下去除溶剂,得到粗产物。通过硅胶上的基于快速柱色谱法(洗脱液:乙酸乙酯)的提纯,得到作为无色油的2-(2-溴苯基)-6-(2-(2-(2-甲氧基乙氧基)乙氧基)乙氧基)萘(化合物S14)(4.6g)。
在氮气气氛下,向放入有磁力搅拌子的200mL的双口圆底烧瓶中加入化合物S14(5.0g,11.2mmol)及四氢呋喃(THF;100mL)。然后,于-78℃滴加正丁基锂(n-BuLi;在正己烷中为1.6M,10.1mL,10.7mmol)。于该温度下将混合物搅拌15分钟后,于-78℃下加入经蒸馏的二甲基氯硅烷(1.79mL,16.1mmol)。于室温下将反应混合物搅拌24小时后,使用水进行淬灭。使用二乙醚对反应混合物进行提取。使用盐水洗涤合并的有机层,然后使用Na2SO4进行干燥。进行过滤后,在减压下去除溶剂,得到粗产物。通过在硅胶上进行的快速柱色谱法(洗脱液:己烷)进行提取,得到作为无色油的(2-(6-(2-(2-(2-甲氧基乙氧基)乙氧基)乙氧基)萘-2-基)苯基)二甲基硅烷(化合物S15)(3.00g,63%)。
在氮气气氛下,向放入有磁力搅拌子的200mL的双口圆底烧瓶中加入化合物S15(0.1g,0.22mmol)及(三氟甲基)苯(5.0mL)。然后,于室温下加入2-(叔丁基过氧)-2-甲基丙烷(0.12mL,0.67mmol)。于130℃将反应混合物搅拌36小时。冷却至室温后,对反应混合物进行浓缩,然后通过在硅胶上进行的柱色谱法(洗脱液:己烷)进行提纯,得到作为无色油的3-(2-(2-(2-甲氧基乙氧基)乙氧基)乙氧基)-11,11-二甲基-11H-苯并[b]萘并[2,1-d]噻咯(化合物M”)(40mg,40%)。
3-(2-(2-(2-甲氧基乙氧基)乙氧基)乙氧基)-11,11-二甲基-11H-苯并[b]萘并[2,1-d]噻咯(化合物M”):
1H-NMR(600MHz,CD2Cl2)δ7.91(d,J=9.0Hz,1H),7.80-7.84(m,4H),7.75(d,J=9.0Hz,1H),7.65(d,J=7.8Hz,1H),7.42(t,1H),7.26(t,1H),7.21-7.19(m,2H),4.23(t,J=4.8Hz,2H),3.87(m,2H),3.69(m,2H),3.62(m,2H),3.58(m,2H),3.49(m,2H),3.37(s,3H),0.56(s,6H).
13C NMR(150MHz,CD2Cl2)δ157.0,148.6,139.1,137.5,134.6,133.0,132.7,130.6,130.3,130.1,127.4,120.9,120.5,119.9,108.3,72.3,71.2,71.0,70.8,70.0,68.0,59.0,-2.67.
HRMS(FAB+)m/z calcd for C25H30O4Si[M]+:422.1913,found 422.1915。
合成例4:APEX单体M”’的合成
[化学式74]
式中,Et表示乙基。Bpin表示频哪醇硼基。Ph表示苯基。n-BuLi表示正丁基锂。THF表示四氢呋喃。Me表示甲基。i-Pr表示异丙基。
在氮气气氛下,向放入有磁力搅拌子的300mL的双口圆底烧瓶中加入1-溴萘-1-醇(1-bromonaphthalen-1-ol)(4.00g,17.9mmol)及二氯甲烷(170mL)。然后,于0℃滴加三乙胺(5,0mL,36mmol)。然后,于0℃加入三乙胺(6.83mL,49.0mmol)。于该温度对混合物搅拌0.5小时后,加入(CF3SO2)2O(3.32mL,19.7mmol)。于0℃进一步搅拌2小时后,使用水对反应进行淬灭。使用CH2Cl2(50mL)对反应混合物进行3次提取。使用盐水洗涤合并的有机层,然后使用Na2SO4进行干燥。进行过滤后,在减压下去除溶剂,得到粗产物。通过硅胶上的基于开放柱色谱法(洗脱剂:CH2Cl2/己烷=4:1)的提纯,得到作为白色固体的1-溴-2-萘基三氟甲烷磺酸酯(化合物S16)(6.0g)。
在氮气气氛下,向放入有磁力搅拌子的200mL的双口圆底烧瓶中加入化合物S16(2.50g,7.04mmol)、化合物S7(3.00g,67.04mmol)、三苯基膦(PPh3;1.65mg,1.41mmol,20mol%)及K2CO3(0.97g,7.04mmol)、1,4-二噁烷(70mL)。于80℃对反应混合物搅拌12小时后,使1,4-二噁烷蒸发。添加水(40.0mL)及二乙醚(20.0mL),然后分离有机层。使用二乙醚(20mL)对水层进行3次提取。使用盐水洗涤合并的有机层,然后使用Na2SO4进行干燥。进行过滤后,在减压下去除溶剂,得到粗产物。通过硅胶上的基于快速柱色谱法(洗脱剂:己烷)的提纯,得到作为无色油的1-溴-6’-(3-
乙基-3-十一烷基)2,2’-联萘(化合物S17)(2.10g,57%)。
在氮气气氛下,向放入有磁力搅拌子的200mL的双口圆底烧瓶中加入化合物S17(2.00g,3.88mmol)及四氢呋喃(THF;40mL)。然后,于-78℃滴加正丁基锂(n-BuLi;在正己烷中为1.6M,3.64mL,5.82mmol)。于该温度将混合物搅拌15分钟后,于-78℃加入经蒸馏的二甲基氯硅烷(0.65mL,5.82mmol)。于室温下将反应混合物搅拌24小时后,使用水进行淬灭。使用二乙醚对反应混合物进行提取。使用盐水洗涤合并的有机层,然后使用Na2SO4进行干燥。进行过滤后,在减压下去除溶剂,得到粗产物。通过硅胶上的基于快速柱色谱法(洗脱剂:己烷)的提纯,得到作为无色油的(6’-(3-(3-乙基-3-十一烷基)-(2,2’-联萘)二甲基硅烷(化合物S18)(1.5g)。
在氮气气氛下,向放入有磁力搅拌子的30mL的双口圆底烧瓶中加入化合物S18(0.50g,1.01mmol)、三(三苯基膦)氯化铑(RhCl(PPh3);46mg,5mol%)及3,3-二甲基-1-丁烯(0.65mL,75.05mmol)、1,4-二噁烷(2mL)。于110℃将反应混合物搅拌12小时后,使1,2-二噁烷蒸发。添加水(40.0mL)及二乙醚(20.0mL),然后分离有机层。使用二乙醚(20mL)对水层进行3次提取。使用盐水洗涤合并的有机层,然后使用Na2SO4进行干燥。进行过滤后,在减压下去除溶剂,得到粗产物。通过硅胶上的基于快速柱色谱法(洗脱剂:己烷)的提纯,得到作为无色油的3-(3-乙基-3-十一烷基)-13,13-二甲基-13H-二萘并[1,2,-b:2’,3’,-d]噻咯(化合物M”’)(0.31g,62%)。
1H-NMR(600MHz,CDCl3)δ10.58(s,1H),10.48-10.46(m,2H),10.30(d,J=8.4Hz,1H),10.23-10.21(m,2H),10.16(d,J=9Hz,1H),10.02(s,1H),9.88-9.87(m,3H),4.13-3.90(m,4H),3.58-3.52(m,2H),3.28-2.98(m,9H),2.33(s,6H).
13C NMR(150MHz,CD2Cl2)δ147.0,146.2,144.2,137.9,137.2,137.0,133.6,133.2,133.0,131.2,119.0,128.7,128.1,126.8,126.2,125.7,125.5,120.3,118.8,43.6,43.0,35.9,32.0,30.6,29.7,29.4,24.3,22.8,17.8,15.0,14.2,8.8,-2.07.
HRMS(FAB+)m/z calcd for C35H44Si[M]+:492.3212,found 492.3209。
合成例5:含卤素的噻咯化合物S23的合成
[化学式75]
式中,Tf表示三氟甲烷磺酰基。Me表示甲基。nBu表示正丁基。tBu表示叔丁基。Ph表示苯基。dppp表示1,3-双(二苯基膦)丙烷。dba表示二亚苄基丙酮。THF表示四氢呋喃。
在氮气气氛下,向放入有磁力搅拌子的300mL的双口圆底烧瓶中加入1-溴-2-萘酚(化合物S19;13.4g,60mmol)及CH2Cl2(120mL)。然后,于0℃下加入吡啶(9.7mL,120mmmol)。于该温度下将混合物搅拌10分钟后,加入三氟甲烷磺酸酐(Tf2O;10.0mL,60mmol)。于0℃下进一步搅拌2小时后。使用水对反应进行淬灭。使用乙酸乙酯(50mL)对反应混合物进行3次提取。使用盐水洗涤合并的有机层,然后使用Na2SO4进行干燥。进行过滤后,在减压下去除溶剂,得到粗产物。通过在硅胶上进行的色谱法(洗脱剂:己烷)对粗产物进行提纯,从而得到作为褐色油的1-溴-2-萘基三氟甲烷磺酸酯(化合物S20)(21.2g,>99%)。
在氮气气氛下,向放入有磁力搅拌子的100mL的双口圆底烧瓶中加入碎屑状镁(2.7g,109mmol),在减压下使用热风枪对反应容器一边搅拌10分钟一边进行加热。在将烧瓶冷却至室温后,加入1-溴-4-氯苯(15.7g,82mmol)及二乙醚(Et2O;54mL)。于室温下将该反应混合物搅拌30分钟,制备对应的格氏试剂。向放入有磁力搅拌子的另一个100mL的双口圆底烧瓶中加入化合物S20(19.4g,55mmol)、三(二亚苄基丙酮)二钯(Pd2(dba)3;1.0g,1mmol)、1,3-双(二苯基膦)丙烷(dppp;0.84g,2mmol)、LiBr(4.7g,55mmol)及Et2O(27mL)。于0℃下一边搅拌以上述方式另外制备的格氏试剂一边将其滴加至该反应混合物中。滴加后,将反应混合物升温至室温,并于室温下搅拌14小时,然后,使用1M HCl进行淬灭,使用乙酸乙酯(50mL)进行3次提取。使用盐水洗涤合并的有机层,然后使用Na2SO4进行干燥。进行过滤后,在减压下去除溶剂,得到粗产物。通过使用乙酸乙酯对粗产物进行再结晶,得到作为淡黄色晶体的1-溴-2-(4-氯苯基)萘(化合物S21)(13.79g,80%)。
在氮气气氛下,向放入有磁力搅拌子的100mL的双口圆底烧瓶中加入化合物S21(3.2g,10mmol)及四氢呋喃(THF;50mL)。将该反应混合物冷却至-78℃后,于-78℃下一边搅拌正丁基锂(n-BuLi;在正己烷中为1.6M,7.0mL,11mmol)一边将其滴加至该反应混合物中。于相同温度下将该反应混合物搅拌30分钟后,于-78℃下加入二甲基氯硅烷(1.4mL,20mmol),并于相同温度下搅拌1小时。搅拌后,升温至室温,于室温下搅拌14小时,然后,使用冷水进行淬灭,使用二乙醚(Et2O;50mL)进行3次提取。使用盐水洗涤合并的有机层,然后使用Na2SO4进行干燥。进行过滤后,在减压下去除溶剂,得到粗产物。通过使用己烷对粗产物进行再结晶,从而得到作为谈黄色晶体的(2-(4-氯苯基)-1-二甲基甲硅烷基萘(化合物S22)(2.38g,80%)。
在氮气气氛下,向放入有磁力搅拌子的20mL的圆底烧瓶中加入化合物S22(1.0g,3.4mmol)、三(三苯基膦)氯化铑(I)(RhCl(PPh3)3;62mg,0.07mmol)、3,3-二甲基-1-丁烯(2.2mL,16.8mmol)及甲苯(3.4mL)。对该反应混合物进行升温,并在回流条件下(浴温130℃)搅拌4小时。冷却至室温后,通过在减压下去除溶剂,得到粗产物。通过在硅胶上进行的色谱法(洗脱剂:己烷)对所得到的粗产物进行提纯,得到作为无色晶体的9-氯-11,11-二甲基-11H-苯并[b]萘并[2,1-d]噻咯(化合物S23)(450mg,45%)。
1H-NMR(400MHz,CDCl3)δ7.92(d,J=5.4Hz,2H),7.89-7.84(m,1H),7.84-7.81(m,1H),7.79(d,J=8.4Hz,1H),7.61(d,J=2.0Hz,1H),7.55-7.49(m,1H),7.49-7.44(m,1H),7.42(dd,J8.4,2.0Hz,1H),0.59(s,6H).
13C-NMR(100MHz,CDCl3)δ146.3,145.7,141.6,136.8,136.6,133.5,133.0,132.5,-2.8,-3.0.
HRMS(FAB+)m/z calcd for C18H15ClSi[M+]+:294.0632,found 294.0659。
合成例6:APEX单体M3的合成
[化学式76]
式中,n-octyl表示正辛基。acac表示乙酰丙酮基。THF表示四氢呋喃。
在氮气气氛下,向放入有磁力搅拌子的20mL的圆底烧瓶中加入化合物S23(147mg,0.5mmol)、三(乙酰丙酮)铁(III)(Fe(acac)3;9mg,0.03mmol)、四氢呋喃(THF;3.0mL)及N-甲基-2-吡咯烷酮(NMP;0.2mL)。于0℃下向该反应混合物中加入正辛基溴化镁(在THF中为1.0M,0.6mL,0.6mmol)。然后升温至室温,并于室温下搅拌14小时,然后,使用水进行淬灭,使用乙酸乙酯(5mL)进行3次提取。使用盐水洗涤合并的有机层,然后使用Na2SO4进行干燥。进行过滤后,在减压下去除溶剂,得到粗产物。通过在硅胶上进行的色谱法(洗脱剂:己烷)对所得到的粗产物进行提纯,得到作为无色晶体的(11,11-二甲基-9-辛基-11H-苯并[b]萘并[2,1-d]噻咯(化合物M3)(64mg,34%)。
1H-NMR(400MHz,CDCl3)δ7.96(d,J=7.9Hz,1H),7.91(d,J=7.9Hz,1H),7.84(t,J=7.9Hz,2H),7.80(d,J=7.9Hz,1H),7.56-7.49(m,2H),7.43(t,J=7.9Hz,1H),7.32-7.27(m,1H),2.66(t,J=7.9Hz,2H),1.66(quin,J=7.9Hz,2H),1.46-1.24(t,J=6.8Hz,3H),0.58(s,6H).
13C-NMR(100MHz,CDCl3)δ146.9,145.7,142.2,139.2,136.8,136.6,132.85,132.81,130.8,130.3,128.9,128.3,126.5,125.1,120.8,119.7,36.0,31.9,31.7,29.5(2C),29.3,22.7,14.1,-2.7(2C).
HRMS(FAB+)m/z calcd for C26H32Si[M+]+:372.2273,found 372.2285。
合成例7:APEX单体M4的合成
[化学式77]
式中,n-Bu表示正丁基,Ac表示乙酰基。SPhos表示下式所表示的化合物(2-二环己基膦-2’,6’-二甲氧基联苯)。
[化学式78]
式中,Cy表示环己基。
在氮气气氛下,向放入有磁力搅拌子的20mL的圆底烧瓶中加入化合物S23(147mg,0.5mmol)、正丁基苯硼酸(133mg,0.75mmol)、乙酸钯(Pd(OAc)2;6mg,0.025mmol)、2-二环己基膦-2’,6’二甲氧基联苯(SPhos;21mg,0.05mmol)、K3PO4(318mg,1.5mmol)及甲苯(1mL)。将该反应混合物升温至100℃,并于相同温度下搅拌18小时后,使用水进行淬灭,使用乙酸乙酯(5mL)进行3次提取。使用盐水洗涤合并的有机层,然后使用Na2SO4进行干燥。进行过滤后,在减压下去除溶剂,得到粗产物。通过在硅胶上进行的色谱法(洗脱剂:己烷)对所得到的粗产物进行提纯,得到作为无色晶体的9-(4-丁基苯基)-11,11-二甲基-11H-苯并[b]萘并[2,1-d]噻咯(化合物M4)(128mg,65%)。
1H-NMR(400MHz,CDCl3)δ8.03-7.91(m,3H),7.91-7.83(m,3H),7.69(dd,J=7.9,1.8Hz,1H),7.59(d,J=8.2Hz,2H),7.59(d,J=8.2Hz,2H),7.55-7.49(m,1H),7.48-7.42(m,1H),7.28(d,J=8.2Hz,2H),2.66(t,J=7.5,2H),1.66(quin,J=7.5Hz,2H),1.41(sex,J=7.5Hz,2H),0.96(t,J=7.5Hz,3H),0.62(s,6H)
13C-NMR(100MHz,CDCl3)δ146.9,146.5,142.1,140.2,139.8,138.5,137.1,136.8,133.0,131.3,131.0,128.95,128.91,128.86(2C),128.4,126.9,126.7,125.4,121.3,119.8,35.3,33.7,22.4,14.0,-2.75.
HRMS(FAB+)m/z calcd for C28H28Si[M+]+:392.1960,found 392.1960。
对于以下的实施例1~4、6、8及10~11,由引发剂与单体无过量与不足而进行了反应时所得到的理论生成物的分子量计算出收率。此外,对于实施例5、7及9,由原料的数均分子量得出能够通过Scholl反应而脱离的氢原子的数量,并由理论生成物的分子量和理论收率计算出收率。
实施例1:基于引发剂I的APEX聚合(其一)
[化学式79]
式中,Et表示乙基。n-octyl表示正辛基。
在氮气气氛下,向放入有磁力搅拌子的5mL施兰克(Schlenk)管中加入引发剂I(0.40mg,2.25μmol,0.01当量)、单体M(100mg,225μmol,1.00当量)、Pd(OCOCF3)2(75.1mg,225μmol,1.00当量)、AgSbF6(77.6mg,450μmol,2.00当量)、邻四氯苯醌(110mg,450μmol,2.00当量)及1,2-二氯乙烷(2.3mL)。于80℃将混合物搅拌12小时后,将反应混合物冷却至室温,并使其通过硅胶短柱(short pad of silica gel),然后,一边使用CH2Cl2进行洗涤一边使其通过金属捕捉剂。在减压下去除溶剂,得到粗产物。使用作为洗脱液的、四氢呋喃中四丁基溴化铵(TBAB)为0.1质量%的溶液,通过尺寸排阻色谱法(SEC)对粗聚合物进行分析,计算出:Mn=3.2×104且Mw/Mn(PDI)=1.25。通过利用将氯仿用作洗脱液的凝胶渗透色谱法(GPC)进行提纯,得到作为黑色粉末的Fjord型石墨烯纳米带GNR2(88.0mg,85%)。当不将I/M设为1:100而将I/M设为1:10、1:50、1:300、1:500时的、于相同的反应条件下实施活性APEX聚合反应时,Mn(Mw/Mn)分别为2.9×103(1.25)、1.3×104(1.23)、9.7×104(1.22)、1.5×105(1.22)。
Fjord型石墨烯纳米带GNR2(Mn=2.9×103,Mw/Mn=1.25,聚合度(DP)=7,长度3nm,收率75%):
1H NMR(600MHz,Cl2CDCDCl2,120℃)δ11.00-8.40(br),8.40-6.30(br),2.40-0.00(br)。
Fjord型石墨烯纳米带GNR2(Mn=1.3×104,Mw/Mn=1.23,聚合度(DP)=34,长度15nm,收率72%):
1H NMR(600MHz,Cl2CDCDCl2,120℃)δ11.00-8.40(br),8.40-6.20(br),3.00-0.00(br).
Fjord型石墨烯纳米带GNR2(Mn=3.2×104,Mw/Mn=1.25,聚合度(DP)=83,长度36nm,收率85%):
1H NMR(600MHz,Cl2CDCDCl2,120℃)δ11.00-8.40(br),8.40-6.10(br),2.40-0.00(br).
Fjord型石墨烯纳米带GNR2(Mn=9.7×104,Mw/Mn=1.22,聚合度(DP)=253,长度109nm,收率86%):
1H NMR(600MHz,Cl2CDCDCl2,120℃)δ11.00-8.40(br),8.40-6.10(br),2.30-0.00(br).
Fjord型石墨烯纳米带GNR2(Mn=1.5×105,Mw/Mn=1.22,聚合度(DP)=391,长度169nm,收率82%):
1H NMR(600MHz,Cl2CDCDCl2,120℃)δ11.00-8.50(br),8.50-6.20(br),2.80-0.00(br).
通过以上可知,GNR2在各种I/M比之下具有较窄的多分散性。此外可知,仅通过变化I/M比,即可控制合成Fjord型石墨烯纳米带的长度。另一方面,Mw/Mn与I/M比无关,基本不变。
实施例2:嵌段Fjord型石墨烯纳米带GNR5的合成
[化学式80]
式中,Et表示乙基。n-octyl表示正辛基。
在氮气气氛下,向放入有磁力搅拌子的5mL施兰克管中加入Fjord型石墨烯纳米带GNR2(0.70mg,1.78μmol,0.01当量)、单体M”(70mg,178μmol,1.00当量)、Pd(OCOCF3)2(59.3mg,178μmol,1.00当量)、AgSbF6(122mg,356μmol,2.00当量)、邻四氯苯醌(87.7mg,356μmol,2.00当量)及1,2-二氯乙烷(1.8mL)。于80℃下将混合物搅拌12小时后,将反应混合物冷却至室温,使其通过硅胶短柱,然后,一边使用CH2Cl2进行洗涤一边使其通过金属捕捉剂。在减压下去除溶剂,得到粗产物。使用作为洗脱液的、四氢呋喃中四丁基溴化铵(TBAB)为0.1质量%的溶液,通过尺寸排阻色谱法(SEC)对粗聚合物进行分析,计算出:Mn=6.8×104且Mw/Mn(PDI)=1.23。通过利用凝胶渗透色谱法(GPC)进行提纯,得到作为黑色粉末的Fjord型石墨烯纳米带GNR5(65.0mg,63%)。
1H NMR(600MHz,Cl2CDCDCl2,120℃)δ9.50-8.40(br),8.40-6.30(br),5.00-3.00(br),2.40-0.00(br).
实施例3:嵌段Fjord型石墨烯纳米带GNR5的一阶段合成
[化学式81]
式中,Et表示乙基。n-octyl表示正辛基。SEC分析1表示GNR2。SEC分析2表示GNR5。
在氮气气氛下,向放入有磁力搅拌子的5mL施兰克管中加入引发剂I(0.20mg,1.13μmol,1.00当量)、单体M(50mg,113μmol,100当量)、Pd(OCOCF3)2(75.1mg,225μmol,200当量)、AgSbF6(155mg,452μmol,400当量)、邻四氯苯醌(201mg,450μmol,400当量)及1,2-二氯乙烷(2.3mL)。于80℃将混合物搅拌6小时后,将少量的反应混合物供于第一尺寸排阻色谱法(SEC)分析,确认形成了Fjord型石墨烯纳米带GNR2(Mn=3.0×104,Mw/Mn=1.22)。然后,向反应混合物中添加1,2-二氯乙烷(0.5mL)中的单体M”(48mg,113μmol,100当量)的溶液,于80℃将反应混合物进一步搅拌6小时。将反应混合物冷却至室温,将粗产物供于第二尺寸排阻色谱法(SEC)分析,确认形成了嵌段Fjord型石墨烯纳米带GNR5(Mn=6.7×104,Mw/Mn=1.24)。
实施例4:基于引发剂I’的APEX聚合(其一)
[化学式82]
式中,Et表示乙基。n-octyl表示正辛基。
在氮气气氛下,向放入有磁力搅拌子的5mL施兰克管中加入单体M(30.0mg,67.8μmol,1.00当量)、Pd(OCOCF3)2(22.5mg,67.8μmol,1.00当量)、AgSbF6(46.6mg,135μmol,2.00当量)及邻四氯苯醌(33.3mg,135μmol,2.00当量)。向该反应混合物中添加1,2-二氯乙烷(0.1mL)中的引发剂I’(0.12mg,6.78μmol,0.01当量)的溶液,然后加入1,2-二氯乙烷(0.57mL)。于80℃将混合物搅拌21.5小时后,将反应混合物冷却室温,使其通过硅胶短柱,然后,一边使用CH2Cl2进行清洗一边使其通过金属捕捉剂。在减压下去除溶剂,得到粗产物。使用作为洗脱液的、四氢呋喃中四丁基溴化铵(TBAB)为0.1质量%的溶液,通过尺寸排阻色谱法(SEC)对粗聚合物进行分析,计算出:Mn=3.0×104且Mw/Mn(PDI)=1.04。通过利用凝胶渗透色谱法(GPC)进行提纯,得到作为黑色粉末的Fjord型石墨烯纳米带GNR7(21.3mg,83%)。当不将I’/M比设为1:100而将I’/M比设为1:50、1:300、1:500时的、于相同的反应条件下实施活性APEX聚合反应时,Mn(Mw/Mn)分别为1.2×104(1.04)、9.6×104(1.03)、1.5×105(1.04)。
Fjord型石墨烯纳米带GNR7(Mn=1.2×104,Mw/Mn=1.04,聚合度(DP)=34,长度14nm,收率76%):
1H NMR(600MHz,Cl2CDCDCl2,120℃)δ10.50-8.40(br),8.40-6.30(br),2.40-0.00(br).
Fjord型石墨烯纳米带GNR7(Mn=3.0×104,Mw/Mn=1.04,聚合度(DP)=80,长度35nm,收率83%):
1H NMR(600MHz,Cl2CDCDCl2,120℃)δ10.50-8.40(br),8.40-6.30(br),2.40-0.00(br).
Fjord型石墨烯纳米带GNR7(Mn=9.6×104,Mw/Mn=1.03,聚合度(DP)=254,长度108nm,收率70%):
1H NMR(600MHz,Cl2CDCDCl2,120℃)δ10.50-8.40(br),8.40-6.50(br),2.40-0.00(br).
Fjord型石墨烯纳米带GNR7(Mn=1.5×105,Mw/Mn=1.04,聚合度(DP)=391,长度169nm,收率72%):
1H NMR(600MHz,Cl2CDCDCl2,120℃)δ10.50-8.40(br),8.40-6.30(br),3.00-0.00(br).
通过以上可知,GNR7在各种I’/M比之下具有较窄的多分散性。此外可知,仅通过变化I’/M比,即可控制合成Fjord型石墨烯纳米带的长度。另一方面,Mw/Mn与I/M比无关,几乎不变。此外,在各种I’/M
比中,得到了非常小的Mw/Mn比。
对于所得到的GNR7(Mn=1.2×104,Mw/Mn=1.04),将反式-2-[3-(4-叔丁基苯基)-2-甲基-2-亚丙烯基]丙二腈(DCTB)作为基质,测定MALDI-TOF质谱。将结果示于图1。其结果,聚合度n在23~30的范围内分布,且n=26时分布最多。
实施例5:扶手椅型石墨烯纳米带GNR8的合成
[化学式83]
式中,Et表示乙基。n-octyl表示正辛基。
在氮气气氛下,向放入有磁力搅拌子的200mL的双口圆底烧瓶中加入Fjord型石墨烯纳米带GNR2(30mg,30μmol,Mn=3.2×104且Mw/Mn=1.21)及CH2Cl2(120mL)。向该溶液中添加氯化铁(III)(1.75g,10.8mmol,在硝基甲烷(15mL)中相对于由Mn得出的Fjord区域上的推定氢原子为7当量)的悬浊液。于室温下将混合物搅拌72小时后,添加甲醇对反应进行淬灭,得到暗红色的析出物。进行抽滤后,通过使用甲醇进行洗涤,得到作为暗褐色粉末的扶手椅型石墨烯纳米带GNR8(28.5mg,98%)。通过尺寸排阻色谱法(SEC)进行分析,确认形成了Mn=2.4×104且Mw/Mn=1.32的GNR8。在相同的反应条件下实施将其他Fjord型石墨烯纳米带转换为扶手椅型石墨烯纳米带的反应,得到分别具有Mn(Mw/Mn)=1.4×103(1.31)、8.3×103(1.31)、6.8×104(1.35)及1.2×105(1.34)的对应的GNR8。
GNR2(Mn=2.9×103,Mw/Mn=1.25)→扶手椅型石墨烯纳米带GNR8(Mn=1.4×103,Mw/Mn=1.31,收率95%):
1H NMR(600MHz,Cl2CDCDCl2,120℃)δ11.00-6.00(br),3.00-0.74(br).
GNR2(Mn=1.3×104,Mw/Mn=1.23)→扶手椅型石墨烯纳米带GNR8(Mn=8.3×103,Mw/Mn=1.31,收率96%):
1H NMR(600MHz,Cl2CDCDCl2,120℃)δ11.00-6.00(br),2.60-0.00(br).
GNR2(Mn=3.2×104,Mw/Mn=1.25)→扶手椅型石墨烯纳米带GNR8(Mn=2.4×104,Mw/Mn=1.32,收率98%):
1H NMR(600MHz,Cl2CDCDCl2,120℃)δ11.00-6.00(br),3.00-0.00(br).
GNR2(Mn=9.7×104,Mw/Mn=1.23)→扶手椅型石墨烯纳米带GNR8(Mn=6.8×104,Mw/Mn=1.35,收率95%):
1H NMR(600MHz,Cl2CDCDCl2,120℃)δ11.00-6.00(br),2.90-0.00(br).
GNR2(Mn=1.5×105,Mw/Mn=1.22)→扶手椅型石墨烯纳米带GNR8(Mn=1.2×105,Mw/Mn=1.34,收率96%):
1H NMR(600MHz,Cl2CDCDCl2,120℃)δ11.00-6.00(br),2.10-0.00(br).
对于所得到的GNR8(Mn=8.3×103,Mw/Mn=1.31),将7,7,8,8-四氰基对苯二醌二甲烷(TCNQ)作为基质,将AgOCOCF3作为添加剂,测定MALDI-TOF质谱。将结果示于图2。其结果,聚合度n在20~30的范围内分布,且n=25时分布最多。进一步,在MALDI-TOF质谱中未观察到对应于较短的低聚物或片段的峰(图2),这表明未生成预料之外的杂质。
GNR2及GNR8的基于扫描隧道显微镜的鉴定
使用低温STM(Unisoku,USS-10092LSC),对在高定向热解石墨(HOPG)上制备的石墨烯纳米带的形态进行表征。样本基材通过以下方式制备:将在1,2,4-三氯苯中约为0.01mg/mL的GNR2(Mn=1.5×105,Mw/Mn=1.22)或约为0.0015mg/mL的GNR8(Mn=2.4×104,Mw/Mn=1.32)的溶液滴铸(drop casting)在高定向热解石墨(HOPG)上,以363K进行加热,然后,在空气下以363K使1,2,4-三氯苯蒸发。STM图像在超高真空下在78K(液氮冷却)下以恒流模式进行拍摄。将结果示于图3。
由于GNR2及GNR8具有高溶解性,因此仅通过使1,2,4-三氯苯的GNR溶液在高定向热解石墨(HOPG)这种固体表面上蒸发,即可使单个的分子及自聚集结构可视化。在使GNR2堆积在HOPG上之后,通过扫描隧道显微镜(STM)进行测定,结果显示出了一对的2条波状丝的存在(图3中的a、图3中的b)。若通过单波丝及双波丝的高度(约0.3nm)与宽度(1.7~2.2nm及3.9nm)进行判断,则认为这两条丝为2个孤立的Fjord型GNR2(图3中的b),它们似乎具有由螺旋状及摇动的立体构象所产生的柔软性。
在GNR2的Scholl反应后,通过STM测定,还观察到了自组装扶手椅型GNR8(图3中的c、图3中的d)。观察到的物质由具有约0.4nm的厚度、约3nm的宽度及0.4~0.5nm的间隔的重复的周边线条(图3中的d的(i)及图3中的d的(ii))形成。如图3中的e所示,可合理地认为该物质作为2个分子的GNR8的聚集体而存在,观察到的0.4~0.5nm的周期性与烷基侧链之间的纵方向的长度一致(图3中的c的(ii))。
实施例6:基于引发剂I’的APEX聚合(其二)
[化学式84]
式中,Et表示乙基。
除了使用60.87μmol的单体M”’以替代单体M,将I’/M”’比设为1:100,将反应时间设为12小时以外,以与实施例4相同的方式进行反应,结果得到了Mn=3.0×104且Mw/Mn(PDI)=1.15的Fjord型石墨烯纳米带GNR9(80%)。
1H NMR(600MHz,Cl2CDCDCl2,120℃)δ11.00-6.00(br),3.00-0.00(br)。
实施例7:扶手椅型石墨烯纳米带GNR10的合成
[化学式85]
式中,Et表示乙基。
除了使用Fjord型石墨烯纳米带GNR9而非使用Fjord型石墨烯纳米带GNR2,将CH2Cl2(100mL)及CH3NO2(20mL)用作溶剂以替代CH2Cl2(120mL)以外,以与实施例5相同的方式进行反应,结果得到了Mn=2.6×104且Mw/Mn(PDI)=1.28的扶手椅型石墨烯纳米带GNR10(12mg,89%)。
1H NMR(600MHz,Cl2CDCDCl2,120℃)δ11.00-6.00(br),3.00-0.00(br)。
实施例8:嵌段Fjord型石墨烯纳米带GNR11的一阶段合成
[化学式86]
式中,Et表示乙基。
除了使用引发剂I’以替代引发剂I,使用33.88μmol的单体M”’以替代单体M”,将I’/M比设为1:50,将I’/M”’比设为1:50以外,以与实施例3相同的方式进行反应,结果通过基于凝胶渗透色谱法(GPC)的提纯,得到了作为黑色粉末的Fjord型石墨烯纳米带GNR11(35.0mg,65%)。
1H NMR(600MHz,Cl2CDCDCl2,120℃)δ9.50-8.40(br),8.40-6.30(br),3.50-0.00(br)。
实施例9:嵌段扶手椅型石墨烯纳米带GNR12的合成
[化学式87]
式中,Et表示乙基。
除了使用嵌段Fjord型石墨烯纳米带GNR11而非使用Fjord型石墨烯纳米带GNR2,将CH2Cl2(100mL)及CH3NO2(20mL)用作溶剂以替代CH2Cl2(120mL)以外,以与实施例5相同的方式进行反应,结果得到了Mn=2.8×104且Mw/Mn(PDI)=1.34的嵌段扶手椅型石墨烯纳米带GNR12(13mg,91%)。
1H NMR(600MHz,Cl2CDCDCl2,120℃)δ11.00-6.00(br),3.00-0.00(br)。
实施例10:基于引发剂I”的APEX聚合
[化学式88]
式中,Et表示乙基。tBu表示叔丁基。n-octyl表示正辛基。
除了使用下述引发剂I”以替代引发剂I’,将I”/M比设为1:100以外,以与实施例4相同的方式进行反应,结果得到了Mn=3.0×104且Mw/Mn(PDI)=1.04的Fjord型石墨烯纳米带GNR13(20mg,83%)。
[化学式89]
1H NMR(600MHz,Cl2CDCDCl2,120℃)δ10.50-8.40(br),8.40-6.30(br),2.40-0.00(br)。
实施例11:基于引发剂I’的APEX聚合(其三)
[化学式90]
式中,n-octyl表示正辛基。
除了使用0.067mmol(25mg)的单体M3以替代单体M以外,以与实施例4相同的方式进行反应,得到粗产物。在与实施例4中记载的条件相同的条件下,通过尺寸排阻色谱法(SEC)对所得到的粗产物进行分析,确认得到了Mn=1.9×104且Mw/Mn(PDI)=2.07的Fjord型石墨烯纳米带GNR14。
实施例12:基于引发剂I’的APEX聚合(其四)
[化学式91]
式中,n-Bu表示正丁基。
除了使用0.067mmol(26mg)的单体M4以替代单体M以外,以与实施例4相同的方式进行反应,得到粗产物。在与实施例4中记载的条件相同的条件下,通过尺寸排阻色谱法(SEC)对所得到的粗产物进行分析,确认得到了Mn=1.5×104且Mw/Mn(PDI)=1.78的Fjord型石墨烯纳米带GNR15。
实施例13~24:基于各种引发剂的APEX聚合
除了使用6.78μmol(0.01当量)的表1~2中所示的引发剂以替代引发剂I’以外,以与实施例4相同的方式进行反应,得到粗产物。在与实施例4中记载的条件相同的条件下,通过尺寸排阻色谱法(SEC)对所得到的粗产物进行分析,确认所得到的GNR的Mn及Mw/Mn(PDI)。将Mn、Mw/Mn(PDI)示于表1~2。
另外,在表1~2中,R为下述基团。
[化学式92]
式中,Et表示乙基;nOctyl表示正辛基。此外,在表1中,OMe表示甲氧基,CO2Me表示甲氧基羰基,Bpin表示频哪醇硼基。进一步,在表2中,tBu表示叔丁基。
[表1]
[表2]
实施例25:基于引发剂I”’的APEX聚合
[化学式93]
在氮气气氛下,向装入有磁力搅拌子的5mL试验管中加入2,7-双((2,5,8,11,14,17,20,23,26,29,32,35-十二氧杂三十七烷-37-基)氧基)菲(引发剂I”’;34.3mg,26.5μmol,0.20当量)、苯并萘并噻咯(单体M5;34.5mg,132μmol,1.00当量)、Pd(OCOCF3)2(44.0mg,132μmol,1.00当量)、AgSbF6(91.0mg,265μmol,2.00当量)及邻四氯苯醌(65.1mg,265μmol,2.00当量)。向该反应混合物中加入1,2-二氯乙烷(1.3mL)。于80℃将混合物搅拌21.5小时后,将反应混合物冷却至室温,并使其通过硅胶短柱,然后,一边使用CH2Cl2进行洗涤一边使其通过金属捕捉剂。在减压下去除溶剂,得到粗产物。通过基于凝胶渗透色谱法(GPC)的提纯,得到作为黑色粉末的Fjord型石墨烯纳米带GNR16。通过生成物的MALDI-TOF质谱确认所得到的GNR16的聚合度为3~9(n=2~8)。
实施例26:基于引发剂I的APEX聚合(其二)
[化学式94]
除了使用0.6μmol(0.10mg 0.01当量)的引发剂、60μmol(30.0mg,1.00当量)的单体M”’、60.8μmol(20.2mg,1.00当量)的Pd(OCOCF3)2、120μmol(20.9mg,2.00当量)的AgSbF6、60.8μmol(14.9mg,2.00当量)的邻四氯苯醌、0.60mL的1,2-二氯乙烷以替代单体M以外,以与实施例1相同的方式进行反应,得到粗产物。在与实施例1中记载的条件相同的条件下,通过尺寸排阻色谱法(SEC)对所得到的粗产物进行分析,结果确认到Mn=3.8×104且Mw/Mn(PDI)=1.28。此外,通过在与实施例1中记载的条件相同的条件下利用凝胶渗透色谱法(GPC)进行提纯,得到作为黑色粉末的Fjord型石墨烯纳米带GNR17(30.0mg,72%)。
1H NMR(600MHz,Cl2CDCDCl2,120℃)δ11.00-8.40(br),8.40-6.20(br),3.20-0.00(br).
实施例27:扶手椅型石墨烯纳米带GNR18的合成
[化学式95]
式中,Et表示乙基。n-octyl表示正辛基。
除了使用Fjord型石墨烯纳米带GNR17而非使用Fjord型石墨烯纳米带GNR2,将100mL的CH2Cl2用作溶剂以外,以与实施例5相同的方式进行反应,结果得到作为暗红色粉末的Mn=2.6×104且Mw/Mn(PDI)=1.37的扶手椅型石墨烯纳米带GNR18(28.5mg,92%)。
1H NMR(600MHz,Cl2CDCDCl2,120℃)δ11.00-7.00(br),3.00-0.00(br)。
实施例28:嵌段Fjord型石墨烯纳米带GNR19的一阶段合成
[化学式96]
式中,Et表示乙基。
在氮气气氛下,向放入有磁力搅拌子的5mL施兰克管中加入引发剂I(0.12mg,0.67μmol,1.00当量)、单体M(33.4mg,67.8μmol,100当量)、Pd(OCOCF3)2(45.0mg,135μmol,200当量)、AgSbF6(46.6mg,270μmol,400当量)、邻四氯苯醌(33mg,270μmol,400当量)及1,2-二氯乙烷(0.6mL)。在之后的反应中,除了使用1,2-二氯乙烷(0.2mL)中的单体M”’(30mg,67.8μmol,100当量)的溶液以替代1,2-二氯乙烷(0.5mL)中的单体M”(48mg,113μmol,100当量)的溶液以外,以与实施例3相同的方式进行反应,通过尺寸排阻色谱法(SEC)进行分析,结果得到了Mn=6.7×104且Mw/Mn(PDI)=1.24的嵌段Fjord型石墨烯纳米带GNR19(46mg,70%)。
1H NMR(600MHz,Cl2CDCDCl2,120℃)δ9.50-8.40(br),8.40-6.30(br),5.00-3.00(br),2.40-0.00(br)。
实施例29:扶手椅型石墨烯纳米带GNR20的合成
[化学式97]
式中,Et表示乙基。
在氮气气氛下,向放入有磁力搅拌子的200mL的双口圆底烧瓶中加入Fjord型石墨烯纳米带GNR19(20mg,20μmol,Mn=6.7×104且Mw/Mn=1.24)及CH2Cl2(100mL)。向该溶液中添加氯化铁(III)(1.55g,9.8mmol,在硝基甲烷(10mL)中相对于由Mn得出的Fjord区域上的推定氢原子为7当量)的悬浊液。于室温下将混合物搅拌72小时后,添加甲醇对反应进行淬灭,得到暗红色的析出物。抽滤后,通过使用甲醇进行洗涤,得到作为暗红色粉末的扶手椅型石墨烯纳米带GNR20(9mg,70%)。通过尺寸排阻色谱法(SEC)进行分析,确认形成了Mn=5.4×104且Mw/Mn=1.24的GNR20。
1H NMR(600MHz,Cl2CDCDCl2,120℃)δ11.00-7.00(br),8.40-6.20(br),3.20-0.00(br)。
Claims (23)
4.根据权利要求1~3中任一项所述的石墨烯纳米带,其进一步具有:下述通式(11)所表示的结构单元、下述通式(12)所表示的结构单元及下述通式(13)所表示的结构单元中的至少一种结构单元,
[化学式4]
式中,虚线与所述虚线相同;*1表示键合点;当与*2键合的虚线为单键时,*2表示键合点;R1a、R1b、R1c、R1d、R2a及R2b相同或不同,且表示氢原子、卤素原子、烷基、环烷基、(聚)醚基、酯基、烃基硼酸或其酯基、一价芳香族烃基或一价杂环基;a1及a2相同或不同,且表示碳原子或氮原子;R1c与R1d任选相互键合而形成环,
[化学式5]
式中,*7表示键合点,
[化学式6]
式中,*8表示键合点;a3表示氧原子或硫原子。
5.根据权利要求4所述的石墨烯纳米带,其由下述通式(4)、下述通式(14)或下述通式(15)表示,
[化学式7]
式中,虚线、R1a、R1b、R1c、R1d、R2a、R2b、R3a、R3b、R3c、R3d、a1及a2与所述虚线、R1a、R1b、R1c、R1d、R2a、R2b、R3a、R3b、R3c、R3d、a1及a2相同;键合在同一个苯环上的R3a与R3b任选相互键合而形成环;键合在同一个苯环上的R3c与R3d任选相互键合而形成环;n表示0以上的整数,
[化学式8]
式中,R3a、R3b、R3c、R3d及n与所述R3a、R3b、R3c、R3d及n相同;键合在同一个苯环上的R3a与R3b任选相互键合而形成环;键合在同一个苯环上的R3c与R3d任选相互键合而形成环,
[化学式9]
式中,R3a、R3b、R3c、R3d、n及a3与所述R3a、R3b、R3c、R3d、n及a3相同;键合在同一个苯环上的R3a与R3b任选相互键合而形成环;键合在同一个苯环上的R3c与R3d任选相互键合而形成环。
6.根据权利要求4或5所示的石墨烯纳米带,其由下述通式(4A)、下述通式(14A)或下述通式(15A)表示,
[化学式10]
式中,虚线、R1a、R1b、R1c、R1d、R2a、R2b、R3a、R3b、R3c、R3d、a1及a2与所述虚线、R1a、R1b、R1c、R1d、R2a、R2b、R3a、R3b、R3c、R3d、a1及a2相同;R4a、R4b、R4c及R4d相同或不同,且表示氢原子、卤素原子、烷基、环烷基、(聚)醚基、酯基、一价芳香族烃基或一价杂环基;键合在同一个苯环上的R3a与R3b任选相互键合而形成环;键合在同一个苯环上的R3c与R3d任选相互键合而形成环;键合在同一个苯环上的R4a与R4b任选相互键合而形成环;键合在同一个苯环上的R4c与R4d任选相互键合而形成环;其中,R4a与R3a不同、R4b与R3b不同、R4c与R3c不同、且R4d与R3d不同;n及m相同或不同,且表示0以上的整数,
[化学式11]
式中,R3a、R3b、R3c、R3d、R4a、R4b、R4c、R4d、n及m与所述R3a、R3b、R3c、R3d、R4a、R4b、R4c、R4d、n及m相同;键合在同一个苯环上的R3a与R3b任选相互键合而形成环;键合在同一个苯环上的R3c与R3d任选相互键合而形成环;键合在同一个苯环上的R4a与R4b任选相互键合而形成环;键合在同一个苯环上的R4c与R4d任选相互键合而形成环,
[化学式12]
式中,R3a、R3b、R3c、R3d、R4a、R4b、R4c、R4d、n、m及a3与所述R3a、R3b、R3c、R3d、R4a、R4b、R4c、R4d、n、m及a3相同;键合在同一个苯环上的R3a与R3b任选相互键合而形成环;键合在同一个苯环上的R3c与R3d任选相互键合而形成环;键合在同一个苯环上的R4a与R4b任选相互键合而形成环;键合在同一个苯环上的R4c与R4d任选相互键合而形成环。
7.根据权利要求4~6中任一项所述的石墨烯纳米带,其由下述通式(4A1)、下述通式(14A1)或下述通式(15A1)表示,
[化学式13]
R1a、R1b、R1c、R1d、R2a、R2b、R3a、R3b、R3c、R3d、a1及a2与所述R1a、R1b、R1c、R1d、R2a、R2b、R3a、R3b、R3c、R3d、a1及a2相同;R5a、R5b、R5c及R5d相同或不同,且表示氢原子、卤素原子、烷基、环烷基、(聚)醚基、酯基、一价芳香族烃基或一价杂环基;键合在同一个苯环上的R3a与R3b任选相互键合而形成环;键合在同一个苯环上的R3c与R3d任选相互键合而形成环;键合在同一个苯环上的R5a与R5b任选相互键合而形成环;键合在同一个苯环上的R5c与R5d任选相互键合而形成环;n及m相同或不同,且表示0以上的整数,
[化学式14]
式中,R3a、R3b、R3c、R3d、R5a、R5b、R5c、R5d、n及m与所述R3a、R3b、R3c、R3d、R5a、R5b、R5c、R5d、n及m相同;键合在同一个苯环上的R3a与R3b任选相互键合而形成环;键合在同一个苯环上的R3c与R3d任选相互键合而形成环;键合在同一个苯环上的R5a与R5b任选相互键合而形成环;键合在同一个苯环上的R5c与R5d任选相互键合而形成环,
[化学式15]
式中,R3a、R3b、R3c、R3d、R5a、R5b、R5c、R5d、n、m及a3与所述R3a、R3b、R3c、R3d、R5a、R5b、R5c、R5d、n、m及a3相同;键合在同一个苯环上的R3a与R3b任选相互键合而形成环;键合在同一个苯环上的R3c与R3d任选相互键合而形成环;键合在同一个苯环上的R5a与R5b任选相互键合而形成环;键合在同一个苯环上的R5c与R5d任选相互键合而形成环。
8.根据权利要求1~7中任一项所述的石墨烯纳米带,其数均分子量为10000以上。
9.根据权利要求1~8中任一项所述的石墨烯纳米带,其多分散系数PDI为1.00~1.40。
10.根据权利要求1~9中任一项所述的石墨烯纳米带,其宽度为0.1~2.0nm,长度为10nm以上。
11.一种权利要求1~10中任一项所述的石墨烯纳米带的制备方法,其中,该制造方法具备:
(1)在钯化合物及邻四氯苯醌的存在下,使下述通式(5A)所表示的炔化合物、下述通式(5B)所表示的含K区的芳香族化合物、二苯并环辛二炔、苯并噻吩或苯并呋喃与、下述通式(6)所表示的噻咯化合物进行反应的第一聚合工序,
[化学式16]
式中,R1a及R1b相同或不同,且表示氢原子、卤素原子、烷基、环烷基、(聚)醚基、酯基、烃基硼酸或其酯基、一价芳香族烃基或一价杂环基;k1及k2相同或不同,且表示1~3的整数;当k1及k2为2以上的整数时,各R1a和/或R1b任选相同或不同,
[化学式17]
式中,R1a、R1b、R1c、R1d、R2a及R2b相同或不同,且表示氢原子、卤素原子、烷基、环烷基、(聚)醚基、酯基、烃基硼酸或其酯基、一价芳香族烃基或一价杂环基;a1及a2相同或不同,且表示碳原子或氮原子,
[化学式18]
式中,R3a、R3b、R3c及R3d与所述R3a、R3b、R3c及R3d相同;R6a及R6b相同或不同,且表示氢原子或烷基。
14.根据权利要求11~13中任一项所述的制备方法,其中,相对于1摩尔的所述噻咯化合物,与所述噻咯化合物反应的化合物的用量为0.0005~0.5摩尔。
15.根据权利要求11~14中任一项所述的制备方法,其中,所述第一聚合工序或第二聚合工序在银化合物的存在下进行。
16.根据权利要求15所述的制备方法,其中,所述银化合物含有AgSbF6或AgBF4。
17.根据权利要求15或16所述的制备方法,其中,相对于1摩尔的所述噻咯化合物,所述银化合物的用量为0.5~5.0摩尔。
18.根据权利要求11~17中任一项所述的制备方法,其中,相对于1摩尔的所述噻咯化合物,所述钯化合物的用量为0.1~3.0摩尔。
20.一种权利要求19所述的噻咯化合物的制备方法,其具备:
使下述通式(8)所表示的含卤素的噻咯化合物与下述通式(9)所表示的格氏试剂或下述通式(10)所表示的烃基硼酸化合物进行反应的工序,
[化学式22]
式中,R3c、R3d、R6a及R6b与所述R3c、R3d、R6a及R6b相同;X1及X2相同或不同,且表示氢原子或卤素原子;X1与X2任选键合而形成含有卤素原子的环;其中,X1及X2并不全部为氢原子,
通式(9):
R7MgX3(9)
式中,R7表示烷基;X3表示卤素原子,
[化学式23]
式中,R8表示一价芳香族烃基;R9及R10相同或不同,且表示氢原子或烷基;R9及R10任选相互键合而与邻接的-O-B-O-一同形成环。
23.一种扶手椅型石墨烯纳米带的制备方法,该扶手椅型石墨烯纳米带由下述通式(4-1)表示,该制备方法具备:在铁化合物的存在下,对下述通式(4-2)所表示的Fjord型石墨烯纳米带实施缩环反应的工序,
[化学式27]
式中,R1a、R1b、R1c、R1d、R2a及R2b相同或不同,且表示氢原子、卤素原子、烷基、环烷基、(聚)醚基、酯基、烃基硼酸或其酯基、一价芳香族烃基或一价杂环基;a1及a2相同或不同,且表示碳原子或氮原子;R1c与R1d任选相互键合而形成环;R3a、R3b、R3c及R3d相同或不同,且表示氢原子、卤素原子、烷基、环烷基、(聚)醚基、酯基、一价芳香族烃基或一价杂环基;键合在同一个苯环上的R3a与R3b任选相互键合而形成环;键合在同一个苯环上的R3c与R3d任选相互键合而形成环;n表示0以上的整数,
[化学式28]
式中,虚线相同或不同,且表示不存在键或表示单键;R1a、R1b、R1c、R1d、R2a、R2b、R3a、R3b、R3c、R3d、a1、a2及n与所述R1a、R1b、R1c、R1d、R2a、R2b、R3a、R3b、R3c、R3d、a1、a2及n相同;键合在同一个苯环上的R3a与R3b任选相互键合而形成环;键合在同一个苯环上的R3c与R3d任选相互键合而形成环。
Applications Claiming Priority (9)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019-044939 | 2019-03-12 | ||
JP2019044939 | 2019-03-12 | ||
JP2019116663 | 2019-06-24 | ||
JP2019-116663 | 2019-06-24 | ||
JP2019-134072 | 2019-07-19 | ||
JP2019134072 | 2019-07-19 | ||
JP2019-173565 | 2019-09-24 | ||
JP2019173565 | 2019-09-24 | ||
PCT/JP2020/010608 WO2020184625A1 (ja) | 2019-03-12 | 2020-03-11 | グラフェンナノリボン及びその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN113677731A true CN113677731A (zh) | 2021-11-19 |
Family
ID=72426625
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202080020429.0A Pending CN113677731A (zh) | 2019-03-12 | 2020-03-11 | 石墨烯纳米带及其制备方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP3940013A4 (zh) |
JP (1) | JPWO2020184625A1 (zh) |
KR (1) | KR20210141970A (zh) |
CN (1) | CN113677731A (zh) |
TW (1) | TW202041457A (zh) |
WO (1) | WO2020184625A1 (zh) |
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- 2020-03-11 JP JP2021505110A patent/JPWO2020184625A1/ja active Pending
- 2020-03-11 KR KR1020217032461A patent/KR20210141970A/ko not_active Application Discontinuation
- 2020-03-11 WO PCT/JP2020/010608 patent/WO2020184625A1/ja unknown
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---|---|
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JPWO2020184625A1 (zh) | 2020-09-17 |
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TW202041457A (zh) | 2020-11-16 |
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