CN113458095A - 清扫装置和半导体制造系统 - Google Patents

Abstract

本发明提供能够实现清扫作业的缩短化和自动化的清扫装置和半导体制造系统。用于清扫半导体制造装置(2)的对象面的自主移动式的清扫装置(3)包括：主体(31)；吸附部(34)，其构成为在对象面为倾斜面的情况下，能够使主体(31)吸附在倾斜面；行驶部(33)，其构成为在主体(31)通过吸附部(34)被吸附于倾斜面的状态下能够使主体沿倾斜面行驶，并且包含设置于比主体靠行进方向前方处的履带；吸引部(32)，其吸引对象面的周边的气体；检测部，其检测(31)主体的周围的状况；以及控制部(38)，其基于检测部的检测结果控制行驶部(33)和吸附部(34)。

Description

清扫装置和半导体制造系统

技术领域

本发明涉及清扫装置和半导体制造系统。

背景技术

专利文献1公开了一种半导体制造装置中的用于尘埃的清扫作业的清扫器(擦拭布)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特表平11-501843号公报

发明内容

发明要解决的技术问题

本发明提供涉及能够实现清扫作业的缩短化和自动化的清扫装置和半导体制造系统的技术。

用于解决技术问题的技术方案

本发明的一个方式的清扫装置是用于清扫半导体制造装置的对象面的自主移动式的清扫装置，其包括：主体；吸附部，其构成为在上述对象面为倾斜面的情况下，能够使上述主体吸附在上述倾斜面；行驶部，其构成为在上述主体通过上述吸附部被吸附于上述倾斜面的状态下能够使上述主体沿上述倾斜面行驶，并且包含设置于比上述主体靠行进方向前方处的履带；吸引部，其吸引上述对象面的周边的气体；检测部，其检测上述主体的周围的状况；以及控制部，其基于上述检测部的检测结果控制上述行驶部和上述吸附部。

发明效果

依照本发明的清扫装置和半导体制造系统，能够实现清扫作业的缩短化和自动化。

附图说明

图1是表示一个例示的实施方式的半导体制造系统的图。

图2是示意地表示一例的清扫装置的结构的断面图。

图3是示意地表示一例的清扫装置的结构的俯视图。

图4是概要地表示清扫装置的硬件构成的图。

图5是概要地表示清扫装置所具有的控制器的硬件构成的图。

图6是表示清扫装置的工作方法的一例的流程图。

图7是说明清扫装置检测标记时的工作的一例的图。

图8是说明清扫装置的工作的一例的图。

图9是说明清扫装置的工作的一例的图。

附图标记说明

1…半导体制造系统；2…半导体制造装置；3…清扫装置；10…控制装置；11～14…处理模块；30…保持部；31…主体；32…吸引部；33…行驶部；34…吸附部；35…摄像机(检测部)；36…传感器(检测部)；37…蓄电池；38…控制器(控制部)；321…主体部；322…头部；323…管；325…吸气部；327…排气口；328…吸气通路；329…刷子；330A、330B…三角履带轮；P…对象面。

具体实施方式

以下，对各种例示的实施方式进行说明。

在一个例示的实施方式中，清扫装置是用于清扫半导体制造装置的对象面的自主移动式的清扫装置，其包括：主体；吸附部，其构成为在上述对象面为倾斜面的情况下，能够使上述主体吸附在上述倾斜面；行驶部，其构成为在上述主体通过上述吸附部被吸附于上述倾斜面的状态下能够使上述主体沿上述倾斜面行驶，并且包含设置于比上述主体靠行进方向前方处的履带；吸引部，其吸引上述对象面的周边的气体；检测部，其检测上述主体的周围的状况；以及控制部，其基于上述检测部的检测结果控制上述行驶部和上述吸附部。

依照一个例示的实施方式的清扫装置，行驶部构成为在主体通过吸附部被吸附于倾斜面的状态下，能够使主体在倾斜面上行驶。即，上述的清扫装置能够一边在半导体制造装置的倾斜面自主地行驶，一边吸引对象面的周边的气体。此外，由于履带比主体靠前方设置，因此，即使在对象面具有倾斜的情况下，也能够实现与倾斜相应的主体的姿势控制。此外，具有检测主体的周围的状况的检测部，基于检测部的检测结果，通过控制部控制行驶部和吸附部的工作。因此，能够自主地进行本装置的控制。所以，能够实现清扫作业的缩短化和自动化。

可以为，上述对象面包括水平面和倾斜面，上述行驶部能够在上述水平面与上述倾斜面之间移动。

如上所述，在行驶部能够在水平面与倾斜面之间移动的情况下，清扫装置能够与对象面的形状无关地进行自主的清扫作业。

可以为，上述检测部包括：摄像机，其拍摄上述主体的周围的状况；和传感器，其检测上述主体与其周围的物体的距离。

由于检测部具有摄像机和传感器，因此能够更详细地掌握本装置的周边的状况。所以，能够更高精度地控制本装置的工作。

可以为，在上述倾斜面行驶时，上述吸附部的吸入口向上述倾斜面突出，使上述主体吸附在上述倾斜面。

当构成为在倾斜面行驶时吸入口向倾斜面突出时，能够防止不在倾斜面行驶时吸入口与对象面发生干扰。

在一个例示的实施方式中，半导体制造系统包括半导体制造装置和上述的清扫装置。

依照例示的实施方式的半导体制造系统，起到与上述的清扫装置相同的作用效果。

另外，可以为，还包括设置于上述半导体制造装置的壁面的保持部，上述保持部构成为能够保持上述清扫装置，并且能够对上述清扫装置供给电能。

在该情况下，作业员进行的清扫装置的充电作业不需要。因此，能够实现清扫作业的进一步的自动化。

下面，参照附图，对各种例示的实施方式详细地进行说明。此外，在各附图中对相同或者相应的部分标注相同的附图标记。

[半导体制造系统]

首先，参照图1，对半导体制造系统1的结构进行说明。半导体制造系统1包括半导体制造装置2和清扫装置3。

[半导体制造装置]

半导体制造装置2可以包括曝光装置和涂敷显影装置。曝光装置进行形成于晶片(基片)的表面的抗蚀剂膜(感光性覆膜)的曝光处理(图案曝光)。具体而言，通过液浸曝光等方法对抗蚀剂膜的曝光对象部分选择性地照射能量线。此外，涂敷显影装置在由曝光装置进行曝光处理之前，进行在晶片的表面形成抗蚀剂膜的处理，在曝光处理后进行抗蚀剂膜的显影处理。在以下的说明中，对半导体制造装置2具有作为涂敷显影装置的功能的情况进行说明，不过半导体制造装置2也可以具有作为曝光装置的功能。

如图1所示，半导体制造装置2例如包括承载器区块4、处理区块5、接口区块6和控制装置10。

承载器区块4进行工件W向半导体制造装置2内的导入和工件W从半导体制造装置2内的导出。工件W是作为半导体制造装置2中的处理对象的晶片(基片)。晶片可以呈圆板状，也可以圆形的一部分欠缺，还可以呈多边形等圆形以外的形状。晶片W例如可以是半导体基片、玻璃基片、掩膜基片、FPD(Flat Panel Display：平板显示器)基片其他各种基片。晶片W的直径例如可以为200mm～450mm程度。

例如，承载器区块4能够支承工件W用的多个承载器C，内置包含交接臂的输送装置A1。承载器C例如收纳圆形的多个工件W。输送装置A1从承载器C取出工件W并交送到处理区块5，从处理区块5接收工件W并送回承载器C内。处理区块5具有多个处理模块11、12、13、14。处理模块11～14例如包含下层膜形成模块、抗蚀剂膜形成模块、上层膜形成模块和显影处理模块。

在处理区块5内的承载器区块4侧设置有搁架单元Ux。搁架单元Ux被划分为在上下方向上排列的多个小室。在搁架单元Ux的附近设置有包含升降臂的输送装置A2。输送装置A2使工件W在搁架单元Ux的小室彼此之间升降。

处理模块11～14分别具有多个进行对工件W的成膜处理、热处理、显影处理等的处理单元U，并且内置有向处理单元U输送工件W的输送装置A3。输送装置A3设置于输送区域A10，通过输送装置A3移动在输送区域A10内移动，而在各处理单元U间或者各处理单元U与承载器C之间进行工件W的移动。

控制装置10也控制对保持部30的清扫装置3的蓄电池(battery)37的供电。控制装置10具有用于半导体制造装置2的控制的各种功能模块。

[清扫装置]

清扫装置3能够用于输送区域A10内的清扫。在上述的输送区域A10的内壁面包含柱部件、梁部件、开关类、螺纹件等的凹凸、以及由柱部件和梁部件所包围的平坦区域。将输送区域A10的内壁面中的、成为清扫装置3清扫的对象的面，称为“对象面P”。对象面P可以包含在水平方向上延伸的下表面和在垂直方向上延伸的壁面。

在输送区域A10内设置保持清扫装置3的保持部30。保持部30设置在输送区域A10的对象面P。

保持部30也作为对清扫装置3的蓄电池37(后述)供给电能的供电装置发挥功能。例如，保持部30在保持着清扫装置3的状态下，对清扫装置3的蓄电池37进行充电。保持部30的清扫装置3的蓄电池37的供电方式(充电方式)可以为接触式的，也可以为非接触式的。在接触式充电的情况下，在两者的电极端子彼此电连接的状态下，能够从保持部30对清扫装置3的蓄电池37供给电能。在非接触式充电的情况下，可以采用电磁感应方式、电磁场共振方式等。在采用电磁场共振方式的情况下，也能够对不由保持部30保持而从保持部30离开了的清扫装置3供给电能。尤其是，在采用非接触式充电的情况下，在保持部30对清扫装置3供给电能时，供电侧的电极端子与受电侧的电极端子不接触，因此不会产生金属粉末。因此，能够抑制在输送区域A10内产生尘埃。

参照图2～图5，对清扫装置3的结构进行说明。清扫装置3是用于清扫输送区域A10的对象面P的、自主移动式的清扫机器人。清扫装置3包括主体31、吸引部32、行驶部33、吸附部34、摄像机35(检测部)、传感器36(检测部)、蓄电池37和控制器38(控制部)。清扫装置3原则上在图2所示的箭头A方向上移动(前进)。此外，也能够在与箭头A的相反方向上移动(后退)。通过控制后述的行驶部33，能够一边前进或后退一边转弯(右转或者左转)。在以下的说明中，将以沿箭头A的方向作为前方向，假设在各方向上移动的情况，对清扫装置3的前方和后方进行说明。

主体31如图2所示，呈长方体形状的箱型。主体31例如包括底板、顶板和2组一对侧板。底板和顶板彼此相对。在底板可以设置有用于安装后述的吸附部34的矩形形状的开口。此外，在顶板可以设置有用于安装吸引部32的主体部的凹部或者开口等。2组一对侧板彼此相对，并且与底板、顶板和另外一对侧板相邻。

吸引部32包括主体部321、头部322和管(hose)323。吸引部32具有通过将周边的气体吸引到对象面P，以吸附附着于对象面P的尘埃(颗粒)等的功能。吸引部32例如可以具有作为旋风扫除机的功能。作为一例，如图2所示，主体部321包括吸气部325、旋风主体326和排气口327。吸气部325例如包含电动机和吸入风扇，通过吸入风扇的旋转产生去往规定方向的气体的流动。通过吸气部325的工作，在后述的头部322中吸引来的气体经由管323被供给到旋风主体326。此外，在旋风主体326中，气体中的尘埃被分离而向下方移动。旋风主体326作为管道箱(duct case)发挥作用。在旋风主体326设置排气口327。在排气口327等可以设置有过滤器。

头部322被设置成能够相对于清扫装置3的主体31移动。头部322和主体31可以由一对支承部件401支承，该一对支承部件401的两端相对于主体31和头部322可转动地安装。如图3所示，头部322可以在主体31的左右方向(与箭头A方向交叉的方向)上延伸至与主体31相同程度的长度。

头部322包括吸气通路328和刷子329。吸气通路328包括吸入口328a。吸入口328a是与作为吸引部32清扫的对象的对象面P相对的开口。在吸引部32中的吸气部325工作的情况下，能够从吸入口328a吸引包含尘埃的气体。

刷子329设置于吸入口328a的附近，具有在进行头部322中的吸引工作时擦拭对象面P，使对象面附近的尘埃向吸入口328a移动的功能。

吸气通路328是连接吸入口328a和管323的区域。从吸入口328a吸引来的气体，在吸气通路328中向管323移动。

管323具有连接头部322的吸气通路328和吸引部32的主体部321的功能。由头部322吸引来的气体，通过吸气部325的工作经由管323被导入到主体部321的旋风主体326。之后，将除去了尘埃的气体从排气口327排出到外部。

行驶部33安装在主体31，具有作为使主体31行驶的行驶机构的功能。主体31是四轮驱动的车体，包含2种三角履带轮330A、330B各一对的结构。三角履带轮330A设置在主体31的前方的左右。此外，三角履带轮330B设置在主体31的后方的左右。

三角履带轮330A具有：驱动轮331；2个转轮332、333；以及以构成大致三角形的方式卷绕在驱动轮331和转轮332、333的履带334。履带334例如能够为橡胶制的。在履带334的内表面可以以规定的节距设置有突部。驱动轮331设置在比转轮332、333靠后方处。此外，转轮332、333的前方端部与主体31相比向前方突出。驱动轮331可以经由连接器(adapter，未图示)能够一体旋转地固定在主体的轮桥(hub)339。

三角履带轮330B具有：驱动轮331；2个转轮332、333；以及以构成大致三角形状的方式卷绕于驱动轮331和转轮332、333的履带334。这点与三角履带轮330A相同。在履带334的内表面可以以规定的节距设置有突部。在三角履带轮330B中，驱动轮331设置在比转轮332、333靠前方处。驱动轮331可以经由连接器(未图示)能够一体旋转地固定在主体的轮桥339。

构成行驶部33的三角履带轮330A、330B利用由转轮332、333的移位导致的重心的移动，能够进行主体31从水平行驶(平面行驶)向垂直行驶(壁行驶)的切换和从垂直行驶向水平行驶的切换。这点在后文说明。

吸附部34设置在主体31的底面。当主体31在与垂直的壁面等与水平面不同的倾斜面(例如，相对于水平面的倾斜角为60°以上的面)行驶时，吸附部34使主体31吸附在对象面P。吸附部34例如也可以构成为具有与对象面P相对地设置的吸入口341，通过设置切换来自吸入口341的吸引存在与否的开闭阀(未图示)，来切换由吸附部34进行的吸引工作的开启/关闭(ON/OFF)。由吸附部34进行的吸引，可以利用由吸引部32的吸气部325进行的吸气，也可以设置区别于吸引部32的、用于吸气的风扇和电动机等。作为一个例子，也可以通过设置连接吸附部34的吸入口341与吸引部32的吸气部325的配管等，利用吸引部32的吸气部325的工作进行来自吸入口341的吸引。

此外，通过使吸入口341构成为尽可能接近成为行驶部33的行驶面的对象面P，能够提高基于吸引的向对象面P的吸附效果。另一方面，根据吸入口341的配置的不同，也考虑与主体31的移动发生干扰。因此，例如，也可以具有在进行来自吸入口341的吸引工作时，吸入口341移动以使得吸入口341接近对象面P的机构等。作为使吸入口341移动的结构，例如可以采用气缸等。

摄像机35和传感器36均作为检测清扫装置3的周边的状况的检测部发挥作用。摄像机35和传感器36的检测结果能够用于后述的控制器38(控制部)对清扫装置3的控制。

摄像机35被设置成能够拍摄主体31的前方。摄像机35例如获取用于确认主体31的前方的壁面的位置等的图像。摄像机35可以在清扫装置3进行清扫工作的期间一直进行拍摄，也可以以规定的间隔定期地进行拍摄。由摄像机35获取到的图像被发送到控制器38。

传感器36构成为能够检测清扫装置3的周边的壁面及地面(成为对象的对象面P)。传感器36包括用于检测左右和前后的壁面的4个传感器361和用于检测左右和前后的地面的6个传感器362。传感器361分别配置在主体31的前方左右和后方左右。此外，传感器362配置在主体31中的、与对象面P相对的底板侧的前方左右和后方左右的角部、以及左右的中央附近。传感器361、362例如可以为能够检测与作为检测对象的壁面或者对象面P的距离的红外线传感器。根据基于设置在左右的传感器361的壁面的距离之差，能够检测清扫装置3是否与壁面平行。此外，通过检测设置于主体31的周围的传感器362与对象面P的距离，能够判断本装置相对于对象面P是否倾斜。传感器36的测量结果被发送到控制器38。在控制器38中，进行在上述中所例示的判断。

如上所述，从传感器36得到的信息具有用于掌握周边的状况的功能，另一方面，也能够作为用于确认本装置的姿势的信息加以利用。此外，为了确认本装置的姿势，例如也可以另外设有加速度传感器等上述的传感器36之外的传感器。

蓄电池37构成为能够对清扫装置3的各部供给电能。蓄电池37构成为能够从保持部30供电(充电)电能。

控制器38控制清扫装置3的各部。如图4所示，控制器38如图4所示，作为功能模块具有存储部381、处理部382和指示部383。上述的功能模块不过是为了方便将控制器38的功能划分为多个模块的定义，并不意味着构成控制器38的硬件一定分为这样的模块。各功能模块不限于通过程序的执行来实现，也可以通过专用的电路(例如逻辑电路)或者将它们集成而得的集成电路(ASIC：Application Specific Integrated Circuit，专用集成电路)来实现。

存储部381存储各种数据。存储部381例如存储用于控制清扫装置3的各部的程序。作为一例，存储部381存储与清扫装置3清扫输送区域A10时的本装置的行驶路径有关的信息等。清扫装置3预先保持用于遍及输送区域A10内进行清扫的行驶路径的信息。而且，清扫装置3能够一边基于来自摄像机35和传感器36的信息掌握周边的情况，一边执行基于与行驶路径有关的信息的自主行驶和清扫作业。

处理部382基于存储于存储部381的各种数据、在摄像机35中拍摄到的图像信息、从传感器36输入的检测信号等，生成用于使吸引部32、行驶部33或者吸附部34工作的指示信号。

指示部383将在处理部382中生成的指示信号发送到吸引部32、行驶部33或者吸附部34，使上述部件工作。

控制器38的硬件例如由一个或者多个控制用的计算机构成。控制器38作为硬件上的构成例如具有图5所示的电路101。电路101可以由电路要素(circuitry)构成。电路101具体而言具有处理器102、内存103、存储器104、驱动部105和输入输出端口106。处理器102与内存103和存储器104的至少一者协动地执行程序，通过执行经由输入输出端口106的信号的输入输出，来构成上述的各功能模块。驱动部105是对清扫装置3的各部分别进行驱动的电路。输入输出端口106在驱动部105和清扫装置3的各部之间进行信号的输入输出。

在本实施方式中，清扫装置3具有一个控制器38，但是也可以具有由多个控制器38构成的控制器组(控制部)。在清扫装置3具有控制器组的情况下，上述的功能模块分别可以通过一个控制器38实现，也可以通过2个以上的控制器38的组合来实现。在控制器38由多个计算机(电路101)构成的情况下，上述的功能模块分别可以通过一个计算机(电路101)来实现。此外，上述的功能模块也可以通过2个以上的计算机(电路101)的组合来实现。控制器38可以具有多个处理器102。在该情况下，上述的功能模块分别可以通过一个处理器102实现，也可以通过2个以上的处理器102的组合来实现。

下面，参照图6，对清扫装置3的工作进行说明。如上所述，清扫装置3能够一边沿事先设定的路径在输送区域A10移动一边进行清扫。此时，由清扫装置3清扫的对象面P可以包括在水平方向上延伸的输送区域A10的下表面(底面)和在垂直方向上延伸的输送区域A10的壁面。因此，清扫装置3中，作为行驶时的模式，具有用于在大致水平面行驶的水平行驶模式和用于在垂直面行驶的壁行驶模式这2种模式。进行对清扫装置3的充电等的保持部30，通常设置在输送区域A10的下表面。

清扫装置3的控制器38首先执行步骤S01。在步骤S01中，控制器38控制各部，以使得清扫装置3沿规定路径开始行驶。此时，可以开始由吸引部32进行吸引工作。

如上所述，保持部30与清扫装置3沿通常输送区域A10的下表面行驶的位置对应地设置。因此，控制器38在行驶开始时首先作为步骤S02以平面行驶模式控制各部。在平面行驶模式中，也可以不进行与吸附部34的吸附有关的工作。此外，在平面行驶模式中，主体31通过控制作为行驶部33的三角履带轮330A、330B的工作，能够进行前进、后退、左右转弯。为了实现沿路径的行驶，控制器38基于保持在存储部381的路径的信息以及从摄像机35和传感器36得到的信息，来控制行驶部33的工作。

作为基于来自摄像机35的信息控制行驶部33的工作的一例，能够使用一边确认设置于输送区域A10内的壁面等的标记的位置，一边掌握本装置的位置的方法。在图7中，表示在壁面设置标记的例子。在图7中，表示在包含水平地延伸的水平面P1和在垂直方向上延伸的垂直面P2在内的输送区域中，清扫装置3在水平面P1行驶的状态。此处，在垂直面P2中的进入摄像机35的视野的区域，设置有能够从由摄像机35拍摄到的图像识别的标记M1、M2。此时，在清扫装置3的控制器38中，预先保持有与标记M1、M2的设置场所有关的信息。由此，在控制器38中，能够基于可从由摄像机35拍摄到的图像识别的标记M1、M2的大小、朝向等和本装置中保持的标记M1、M2的信息，来推断本装置的行驶位置。因此，在控制器38中，在将上述的信息与来自传感器36的信息组合时，能够更加准确地掌握本装置的位置。因此，能够在控制器38中掌握本装置是否沿路径恰当地行驶。

另外，在使用标记M1、M2的情况下，标记M1、M2的设置位置不特别限定于摄像机35的视野能够包含的范围。此外，标记M1、M2的形状、数量等没有特别限定。例如，关于表示与其他壁面的边界的标记，也可以进行与其他标记相比使之形状(模样)变化等、用于区别标记M1、M2的设置位置的形状变更等。

清扫装置3的控制器38也可以基于来自传感器36的信号根据需要进行停止工作。如上所述，从传感器361获取与周围的壁的距离等有关的信息，并且从传感器362获取与地面的距离等有关的信息。此处，例如，得到表示在左右的传感器362之间与地面的距离在一定程度上不同的信号。作为得到这样的信号的原因，例如，为在行驶面具有台阶的位置或者在其附近行驶的缘故。因此，控制器38可以进行如使清扫装置3的行驶停止这样的控制。

如上所述在行驶开始时，清扫装置3配置在水平面P1，因此以平面行驶模式开始行驶。在清扫装置3行驶时，控制器38基于保持在存储部381的路径的信息以及从摄像机35和传感器36得到的信息，判断是否需要切换行驶模式。此处，在控制器38中判断为需要壁行驶(步骤S03-是(YES))时，控制器38执行步骤S04，从平面行驶模式切换至壁行驶模式。

参照图8和图9，对从平面行驶模式向壁行驶模式的切换进行说明。在图8和图9中，表示清扫装置3从水平延伸的水平面P1向在垂直方向延伸的垂直面P2前进并移动时的工作例。

首先，在清扫装置3向垂直面P2前进的情况下，首先，设置于前方的左右的一对三角履带轮330A抵接到垂直面P2。此时，三角履带轮330A的履带334沿垂直面P2旋转，三角履带轮330A的转轮332、333的位置变化，三角履带轮330A的重心变化。其结果是，伴随三角履带轮330A整体沿垂直面P2向上方的移动，主体31的前方向上方倾斜。

然后，三角履带轮330A向上方移动，主体31以垂直地靠近的方式倾斜时，后方的一对三角履带轮330B也沿垂直面P2移动。在该阶段中，通过由控制器38使吸附部34进行吸引工作，而主体31成为吸附在垂直面P2的状态。此时的由吸附部34进行的吸引，能够防止包含主体31的清扫装置3从垂直面P2离开而落下，并且能够成为可实现利用三角履带轮330A、330B的清扫装置3的移动的程度。为实现上述的状态所需要的吸引力，根据清扫装置3的重量、垂直面P2的表面粗糙度(吸附部34的紧贴度)等而变化。

当主体31成为吸附于垂直面P2的状态时，清扫装置3如图9所示，能够与水平面P1同样，一定程度自由地进行垂直面P2上的移动。即，与水平面P1上的行驶同样地使三角履带轮330A、330B驱动，由此能够进行前进、后退、左右转弯的工作。

此外，在上述的清扫装置3的工作中、吸引部32的头部322能够根据主体31的姿势的变化和周围的壁面的形状等来改变其位置。例如，如图8所示，即使在主体31相对于水平面P1倾斜的状态下，头部322也可以成为沿水平面P1移动的状态。如上所述，由于成为头部322能够相对于主体31一定程度自由地移动的状态，因此头部322能够到达的对象面P更宽，能够进一步扩宽头部322可清扫的区域。

回到图6，在清扫装置3为壁行驶模式的情况下，控制器38基于保持在存储部381的路径的信息以及从摄像机35和传感器36得到的信息，判断是否需要切换行驶模式(步骤S05)。此处，在控制器38中判断为需要进行平面行驶(步骤S05-是)时，控制器38执行步骤S06，从壁行驶模式切换为平面行驶模式。

在从壁行驶模式向平面行驶模式切换的情况下，也与从平面行驶模式向壁行驶模式的切换同样地，三角履带轮330A首先与水平面P1抵接，沿水平面P1移动。其结果是，伴随主体31前进，其姿势逐渐顺着水平面P1变化，最终主体31移动至沿水平面P1的位置。如上所述，壁行驶模式与平面行驶模式之间的切换，能够通过将三角履带轮330A、330B的形状变化和垂直面P2上的由吸附部34进行的吸引组合来进行。

在切换至平面行驶模式后(S06)，控制器38判断工作是否要结束(步骤S07)。然后，控制器38根据需要一边切换平面行驶模式和壁行驶模式一边控制各部的工作，直至判断为使工作结束(S07-是)为止。此外，在使工作结束时，控制器38执行步骤S08，进行结束工作。作为结束工作的一例，例如，能够例举出使清扫装置3的主体31与保持部30连接的工作、由保持部30对蓄电池37供电的供电工作等。

另外，摄像机35也可以用于识别保持本装置的保持部30的位置。在清扫装置3进行了清扫工作后，基本上清扫装置3返回保持部30而结束工作。因此，也可以利用来自摄像机35的图像更准确地掌握了保持部30的位置之后，使清扫装置3移动。

[作用]

如上述实施方式中所说明那样，依照清扫装置3和包含清扫装置3的半导体制造系统1，行驶部33构成为能够在清扫装置3的主体31通过吸附部34被吸附于倾斜面的状态下，使主体31在倾斜面上行驶。尤其是，三角履带轮330A设置于比主体31靠前方处，因此，即使在对象面具有倾斜的情况下，也能够实现与倾斜相应的主体31的姿势控制。像这样，上述的清扫装置3能够一边在半导体制造装置2的输送区域A10内的倾斜面(例如，垂直面P2)自主行驶，一边吸引对象面的周边的气体。

另外，在清扫装置3中，基于检测主体的周围的状况的检测部的检测结果，通过控制器38控制行驶部33和吸附部34的工作。因此，在清扫装置3中，能够自主地进行本装置的控制。所以，能够实现清扫作业的缩短化和自动化。

另外，在清扫装置3中，当行驶部33能够在水平面(例如，水平面P1)与倾斜面(例如，垂直面P2)之间移动时，清扫装置能够与对象面的形状无关地进行自主的清扫作业。

检测部可以包括：拍摄主体31的周围的状况的摄像机35；和检测主体31与其周围的物体的距离的传感器36。通过采用这样的构成，能够更详细地掌握本装置的周边的状况。因此，能够更高精度地控制本装置的工作。

吸附部34可以构成为在倾斜面行驶时，吸入口341向倾斜面突出，使主体31吸附在倾斜面。通过采用这样的构成，能够防止不在倾斜面行驶时吸入口341与对象面发生干扰。

另外，在上述说明的半导体制造系统1中，还包括设置于半导体制造装置2的壁面的保持部30，保持部30能够保持清扫装置3，并且能够对清扫装置3供给电能。在采用这样的构成的情况下，也不需要由作业员进行清扫装置的充电作业。因此，能够实现清扫作业的进一步自动化。

以上，对各种例示的实施方式进行了说明，但是并不限于上述的例示的实施方式，可以进行各种省略、替换和改变。另外，能够将不同的实施方式中的要素组合而形成其他实施方式。

例如，在上述实施方式中说明的清扫装置3的主体31、包含头部322的吸引部32的形状能够适当地改变。此外，行驶部33可以仅前方使用三角履带轮330A，而后方使用轮胎。但是，如上述的清扫装置3在行驶部33全部由履带构成的情况下，越过台阶的能力变高。此外，摄像机35和传感器36的配置等能够适当地改变。

另外，在上述实施方式中，对清扫装置3的清扫对象为输送区域A10的情况进行了说明，但是清扫对象的区域不限于输送区域A10。

根据以上的说明，为进行说明，在本说明书中说明了本发明的各种实施方式，但是，应当理解在不脱离本发明的范围和主旨的情况下，能够进行各种改变。因此，本说明书公开的各种实施方式并不用于限定，真正的范围和主旨由所附权利要求的范围给出。

Claims (6)

1.一种用于清扫半导体制造装置的对象面的自主移动式的清扫装置，其特征在于，包括：

主体；

吸附部，其构成为在所述对象面为倾斜面的情况下，能够使所述主体吸附在所述倾斜面；

行驶部，其构成为在所述主体通过所述吸附部被吸附于所述倾斜面的状态下能够使所述主体沿所述倾斜面行驶，并且包含设置于比所述主体靠行进方向前方处的履带；

吸引部，其吸引所述对象面的周边的气体；

检测部，其检测所述主体的周围的状况；以及

控制部，其基于所述检测部的检测结果控制所述行驶部和所述吸附部。

2.如权利要求1所述的清扫装置，其特征在于：

所述对象面包括水平面和倾斜面，

所述行驶部能够在所述水平面与所述倾斜面之间移动。

3.如权利要求1或2所述的清扫装置，其特征在于：

所述检测部包括：

摄像机，其拍摄所述主体的周围的状况；和

传感器，其检测所述主体与其周围的物体的距离。

4.如权利要求1或2所述的清扫装置，其特征在于：

在所述倾斜面上行驶时，所述吸附部的吸入口向所述倾斜面突出，使所述主体吸附在所述倾斜面。

5.一种半导体制造系统，其特征在于，包括：

半导体制造装置；和

权利要求1～4中任一项所述的清扫装置。

6.如权利要求5所述的半导体制造系统，其特征在于：

还包括设置于所述半导体制造装置的壁面的保持部，

所述保持部构成为能够保持所述清扫装置，并且构成为能够对所述清扫装置供给电能。

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