CN113388219B - 一种光学薄膜材料、柔性防爆膜及其制备方法、电子设备 - Google Patents

一种光学薄膜材料、柔性防爆膜及其制备方法、电子设备 Download PDF

Info

Publication number
CN113388219B
CN113388219B CN202110731688.0A CN202110731688A CN113388219B CN 113388219 B CN113388219 B CN 113388219B CN 202110731688 A CN202110731688 A CN 202110731688A CN 113388219 B CN113388219 B CN 113388219B
Authority
CN
China
Prior art keywords
film
film material
optical film
semi
finished product
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN202110731688.0A
Other languages
English (en)
Other versions
CN113388219A (zh
Inventor
高西萍
程士心
孙立民
蔡绪福
张利利
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Xinlun New Material Co ltd
Original Assignee
Xinlun New Material Co ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Xinlun New Material Co ltd filed Critical Xinlun New Material Co ltd
Priority to CN202110731688.0A priority Critical patent/CN113388219B/zh
Publication of CN113388219A publication Critical patent/CN113388219A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN113388219B publication Critical patent/CN113388219B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
    • C08J5/18—Manufacture of films or sheets
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J7/00—Adhesives in the form of films or foils
    • C09J7/20—Adhesives in the form of films or foils characterised by their carriers
    • C09J7/22—Plastics; Metallised plastics
    • C09J7/24—Plastics; Metallised plastics based on macromolecular compounds obtained by reactions involving only carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J7/00—Adhesives in the form of films or foils
    • C09J7/20—Adhesives in the form of films or foils characterised by their carriers
    • C09J7/22—Plastics; Metallised plastics
    • C09J7/25—Plastics; Metallised plastics based on macromolecular compounds obtained otherwise than by reactions involving only carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2333/00—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers
    • C08J2333/04—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers esters
    • C08J2333/06—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers esters of esters containing only carbon, hydrogen, and oxygen, the oxygen atom being present only as part of the carboxyl radical
    • C08J2333/10—Homopolymers or copolymers of methacrylic acid esters
    • C08J2333/12—Homopolymers or copolymers of methyl methacrylate
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2433/00—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers
    • C08J2433/04—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers esters
    • C08J2433/06—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers esters of esters containing only carbon, hydrogen, and oxygen, the oxygen atom being present only as part of the carboxyl radical
    • C08J2433/10—Homopolymers or copolymers of methacrylic acid esters
    • C08J2433/12—Homopolymers or copolymers of methyl methacrylate
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2469/00—Characterised by the use of polycarbonates; Derivatives of polycarbonates
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J2301/00—Additional features of adhesives in the form of films or foils
    • C09J2301/10—Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the structural features of the adhesive tape or sheet
    • C09J2301/12—Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the structural features of the adhesive tape or sheet by the arrangement of layers
    • C09J2301/124—Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the structural features of the adhesive tape or sheet by the arrangement of layers the adhesive layer being present on both sides of the carrier, e.g. double-sided adhesive tape
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J2433/00—Presence of (meth)acrylic polymer
    • C09J2433/006—Presence of (meth)acrylic polymer in the substrate
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J2469/00—Presence of polycarbonate
    • C09J2469/006—Presence of polycarbonate in the substrate

Abstract

本发明适用于材料技术领域，提供了一种光学薄膜材料、柔性防爆膜及其制备方法、电子设备，所述光学薄膜材料包括以下重量份数的原料：聚甲基丙烯酸甲酯40‑70份、聚碳酸酯15‑35份、相容剂10‑25份以及抗氧剂0.05‑1份；其中，相容剂为含甲基丙烯酸苯酯类或者甲基丙烯酸苄酯的共聚型聚甲基丙烯酸甲酯。本发明以聚碳酸酯为增韧剂，配合特定相容剂的使用，不仅能有效避免聚碳酸酯和聚甲基丙烯酸甲酯因不相容而导致薄膜的珠光现象，而且在满足防爆膜硬度要求的同时，又大幅提高了所得光学薄膜材料的韧性及耐高温性能；另外，将本发明作为曲面屏手机防爆膜基材，可以满足拐角部位对材料拉伸和收缩性能的要求，实现与曲面屏幕完全贴合。

Description

一种光学薄膜材料、柔性防爆膜及其制备方法、电子设备
技术领域
本发明属于材料技术领域，尤其涉及一种光学薄膜材料、柔性防爆膜及其制备方法、电子设备。
背景技术
目前电子产品如手机、平板电脑已成为人们日常生活必不可少的生活品，而这类产品在使用过程中常因意外而导致屏幕碎裂，因此需要一层和屏幕贴合良好的薄膜对屏幕进行保护，即防爆膜。
传统的钢化膜具有良好的裸机触感，高硬度高透光性，是一种理想的防爆膜材料。然而随着新型曲面手机屏幕的出现，高硬度钢化膜难以弯曲，贴合过程中容易产生气泡、雪花等，不易实现屏幕的全贴合。而目前市面上的聚对苯二甲酸乙二酯(PET)基材防爆膜，虽然在背面涂布胶黏剂后可与玻璃屏幕贴合，但因为材料自身的拉伸和收缩性问题，在使用过程中容易在屏幕曲面拐角部位脱粘，产生气孔。
由此可见，现有的防爆膜存在拉伸和收缩性小、难以实现与手机曲面屏幕完全贴合的问题。
发明内容
本发明实施例的目的在于提供一种光学薄膜材料，旨在解决现有的防爆膜存在拉伸和收缩性小、难以实现与手机曲面屏幕完全贴合的问题。
本发明实施例是这样实现的，一种光学薄膜材料，包括以下重量份数的原料：
聚甲基丙烯酸甲酯40-70份、聚碳酸酯15-35份、相容剂10-25份以及抗氧剂0.05-1份；
其中，所述相容剂为含甲基丙烯酸苯酯类或者甲基丙烯酸苄酯的共聚型聚甲基丙烯酸甲酯。
本发明实施例的另一目的在于一种光学薄膜材料的制备方法，包括：
按照所述的光学薄膜材料的原料配方称取各种原料，备用；
将聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯、相容剂以及抗氧剂共混均匀后，通过双螺杆挤出机进行熔融共混挤出，得共混料；所述双螺杆挤出机温度为225-290℃，转速为15-100r/min；
将所述共混料输送至单螺杆挤出机中进行挤出成膜，所述单螺杆挤出机的温度为225-285℃，挤出转速为10-100r/min。
本发明实施例的另一目的在于一种柔性防爆膜，所述柔性防爆膜是以所述的光学薄膜材料为基材，结合粘接层和离型膜所得。
本发明实施例的另一目的在于一种柔性防爆膜的制备方法，包括：
将所述的光学薄膜材料经电晕处理后进行一表面粘接液涂布以及烘干处理，使所述光学薄膜材料的表面获得第一粘接层，得第一半成品；
将剥离力为5-20g/f的聚对苯二甲酸乙二酯离型膜贴合在所述第一粘接层表面，使所述第一半成品的表面获得第一离型膜，得第二半成品；
将所述第二半成品中的光学薄膜材料的另一表面进行粘接液涂布以及烘干处理，使所述第二半成品的表面获得第二粘接层，得第三半成品；
将剥离力为20-80g/f的聚对苯二甲酸乙二酯离型膜贴合在所述第二粘接层表面，使所述第三半成品的表面获得第二离型膜，即得。
本发明实施例的另一目的在于一种电子设备，所述电子设备包括所述的光学薄膜材料。
本发明实施例提供的光学薄膜材料，通过以聚碳酸酯为增韧剂，配合含甲基丙烯酸苯酯类或者甲基丙烯酸苄酯的共聚型聚甲基丙烯酸甲酯相容剂的使用，不仅能有效避免聚碳酸酯和聚甲基丙烯酸甲酯因不相容而导致薄膜的珠光现象，而且在满足防爆膜硬度要求的同时，又大幅提高了所得光学薄膜材料的韧性以及耐高温性能；另外，本发明作为曲面屏手机防爆膜基材，可以满足拐角部位对材料拉伸和收缩性能的要求，实现与曲面屏幕完全贴合。
附图说明
图1是本发明实施例提供的柔性防爆膜的结构示意图；。
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合实施例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。
本发明实施例为了解决现有的防爆膜存在拉伸和收缩性小、难以实现与手机曲面屏幕完全贴合的问题，提供了一种光学薄膜材料，通过以聚碳酸酯为增韧剂，配合含甲基丙烯酸苯酯类或者甲基丙烯酸苄酯的共聚型聚甲基丙烯酸甲酯相容剂的使用，不仅能有效避免聚碳酸酯和聚甲基丙烯酸甲酯因不相容而导致薄膜的珠光现象，而且在满足防爆膜硬度要求的同时，又大幅提高了所得光学薄膜材料的韧性以及耐高温性能；另外，本发明作为曲面屏手机防爆膜基材，可以满足拐角部位对材料拉伸和收缩性能的要求，实现与曲面屏幕完全贴合。
在本发明实施例中，所述光学薄膜材料是一种聚碳酸酯(PC)改性的聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)光学薄膜。传统的PMMA树脂存在耐高温性能差，韧性差，极易脆裂的缺点，并且其玻璃化转变温度低于110℃。而PC树脂作为一种常用的光学材料，透光率和玻璃化转变温度都相对较高，韧性也较强，可以与PMMA在性能上形成良好的互补，显著提高PMMA基光学薄膜的韧性和热力学稳定性。
在本发明实施例中，所述光学薄膜材料，包括以下重量份数的原料：
聚甲基丙烯酸甲酯40-70份、聚碳酸酯15-35份、相容剂10-25份以及抗氧剂0.05-1份。
其中，PMMA和PC为商购，PMMA可采用日本可乐丽的HR-1000L，PC可采用科思创的APEC 2097。
其中，所述抗氧剂为受阻类抗氧剂或者亚磷酸脂类抗氧剂，优选抗氧剂为抗氧剂1010和抗氧剂168进行配合使用，其中抗氧剂1010/抗氧剂168并用比例为2:1。
其中，所述相容剂为自制；具体而言，所述相容剂为一种含甲基丙烯酸苯酯类或者甲基丙烯酸苄酯的共聚型聚甲基丙烯酸甲酯，其制备方法如下：在氮气保护下，将甲基丙烯酸甲酯和甲基丙烯酸苯酯(或者甲基丙烯酸苄酯)的混合物加入到有机溶剂中，其中两种单体的配比应介于(3:7-6:4)之间，反应单体占有机溶剂的比例应介于30～60％之间。在反应器中搅拌混合均匀后升温至60-90℃，加入引发剂继续反应至结束，在甲醇中沉淀出共聚物，干燥后，得到甲基丙烯酸苯酯类或者甲基丙烯酸苄酯的共聚型聚甲基丙烯酸甲酯。
本发明实施例还提供了一种光学薄膜材料的制备方法，包括：
按照上述的光学薄膜材料的原料配方称取各种原料，备用；
将聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯、相容剂以及抗氧剂共混均匀后，通过双螺杆挤出机进行熔融共混挤出，得共混料；所述双螺杆挤出机温度为225-290℃，转速为15-100r/min；
将所述共混料输送至单螺杆挤出机中进行挤出成膜，所述单螺杆挤出机的温度为225-285℃，挤出转速为10-100r/min。
其中，收卷冷辊的温度为30-80℃；光学薄膜的厚度可以根据需要适当调节。
本发明实施例还提供了一种柔性防爆膜，所述柔性防爆膜是以上述的光学薄膜材料(高韧性PMMA薄膜)为基材，结合与之匹配的粘接层和PET层离型膜所得。
具体地，所述柔性防爆膜从上往下依次包含第一离型膜、第一粘接层、上述的光学薄膜材料(高韧性PMMA薄膜)、第二粘接层以及第二离型膜。
在本发明实施例中，所述高韧性PMMA薄膜的厚度为10～80μm，雾度小于1％，透光率大于90％；在制备成防爆膜时，需要电晕处理，增加表面能。
本发明实施例提供了一种柔性防爆膜的制备方法，包括：
步骤S1：将上述的光学薄膜材料经电晕处理后进行一表面(如正面)粘接液涂布以及烘干处理，使所述光学薄膜材料的表面获得第一粘接层，得第一半成品。
步骤S2：将剥离力为5-20g/f的聚对苯二甲酸乙二酯离型膜贴合在所述第一粘接层表面，使所述第一半成品的表面获得第一离型膜，得第二半成品。
步骤S3：将所述第二半成品中的光学薄膜材料的另一表面(如反面)进行粘接液涂布以及烘干处理，使所述第二半成品的表面获得第二粘接层，得第三半成品。
步骤S4：将剥离力为20-80g/f的聚对苯二甲酸乙二酯离型膜贴合在所述第二粘接层表面，使所述第三半成品的表面获得第二离型膜，即得。
在本发明实施例中，步骤S1以及步骤S3中的烘干处理方式为将其放入烘箱中，于70-90℃的温度条件下进行烘干处理。
在本发明实施例中，在步骤S2以及步骤S4中，贴合时应保证无气泡。
在本发明实施例中，步骤S2中，所述第一离型膜为一种为轻剥离型PET离型膜，剥离力为5-20g/f，它与第一粘接层配合使用，在剥离时，第一粘接层随第一离型膜脱离，使得高韧性PMMA基光学防爆膜表面整洁。
在本发明实施例中，步骤S4中，所述第二离型膜一种为重剥离型PET离型膜，剥离力为20-80g/f，它与第二粘接层配合使用，在剥离后，不出现拉胶现象，高韧性PMMA基光学薄膜表面粘接剂仍可紧密贴合在手机曲面屏表面。
在本发明实施例中，步骤S1中，所述第一粘接层主要为一种有机硅压敏硅胶层，它主要成分包含且不限于乙烯基硅树脂、乙烯基硅油、铂金类催化剂、光引发剂等；优选道康宁有机硅粘接剂SL9106。
在本发明实施例中，步骤S3中，所述第二粘接层主要为一种亚克力胶层，它的主要成分包含且不限于丙烯酸丁酯、甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸、邻甲氧基苯甲酸等，优选淄博隆旭化学GXA-6071。
值得注意的是，本发明通过对不同粘接剂的选用，使得第一离型膜剥离后，表面粘接剂脱离，使得高韧性PMMA基光学薄膜表面整洁，同时第一离型膜也起到运输过程中保护高韧性PMMA基光学薄膜表面的作用；而第二离型膜在剥离后，不出现拉胶现象，高韧性PMMA基光学薄膜表面粘接剂仍可紧密贴合在手机曲面屏表面，无雪花、无气泡，有效降低产品不良率。
本发明实施例还提供了一种电子设备，所述电子设备包括上述的光学薄膜材料。
以下给出本发明某些实施方式的实施例，其目的不在于对本发明的范围进行限定。如无特殊说明，本发明实施例所采用的原料均来自商购或者采用常规的制备方法制备得到。
实施例1
光学薄膜材料的制备：
将PMMA树脂、PC树脂、相容剂以及抗氧剂共混均匀后，通过双螺杆挤出机进行熔融共混挤出，得到共混料，其中，PMMA树脂、PC树脂、相容剂的重量百分比为50:25:25；抗氧剂为抗氧剂1010，含量为总质量的0.05％；然后将共混料输送至单螺杆挤出机上挤出成膜，得到高韧性PMMA薄膜一；其中双螺杆挤出机温度为255℃，转速为70r/min；单螺杆挤出机的温度为225℃，挤出转速为40r/min；收卷冷辊的温度为80℃；光学薄膜的厚度为80μm。其中，相容剂为含甲基丙烯酸苄酯的共聚型聚甲基丙烯酸甲酯，其制备方法如下：在氮气保护下，将甲基丙烯酸甲酯和甲基丙烯酸苄酯(质量比为5:5)的混合液加入到有机溶剂DMF中，其中反应单体在有机溶剂中占比60％，搅拌混合均匀后升温至90℃，加入引发剂AIBN后开始共聚反应，继续搅拌3小时后至结束。在甲醇中沉淀出共聚物，干燥后，得到含甲基丙烯酸苄酯的共聚型聚甲基丙烯酸甲酯。
柔性防爆膜的制备：
柔性防爆膜由第一离型膜、第一粘接层、高韧性PMMA薄膜一、第二粘接层、第二离型膜；其中，第一离型膜、第二离型膜是一种PET离型膜，第一粘接层为康宁有机硅粘接剂SL9106，第二粘接层为淄博隆旭化学GXA-6071。
经电晕处理的高韧性PMMA薄膜一展开，将配好的粘接液均匀涂布到高韧性PMMA薄膜一表面(正面)，放入烘箱中，于70℃烘干，高韧性PMMA薄膜一基材表面获得第一粘接层，形成半成品A；将PET离型膜贴合在第一粘接层表面，使得半成品A表面获得第一离型膜，制得半成品B，贴合时应保证无气泡；将半成品B中高韧性PMMA薄膜一表面(反面)均匀涂上粘接液，放入烘箱中，于70℃烘干，使得半成品B表面获得第二离型膜，制得半成品C；将PET离型膜贴合在第二粘接层表面，使得半成品C表面获得第二离型膜，制得所需产品柔性防爆膜，贴合时无气泡产生。
实施例2
光学薄膜材料的制备：
与实施例1的区别在于制备工艺和配比的差异。具体表现为PMMA树脂、PC树脂、相容剂的重量百分比为60:15:25，抗氧剂为抗氧剂1010和抗氧剂168(质量比2:1)复配使用，含量为总质量的1％。共混均匀后，通过双螺杆挤出机在225℃下进行熔融共混挤出，螺杆转速为30r/min，得到共混料；然后将共混料输送至单螺杆挤出机上在285℃下挤出成膜，得到高韧性PMMA薄膜二，其中单螺杆挤出机螺杆转速为40r/min，收卷冷辊的温度为80℃；光学薄膜的厚度为60μm。其中相容剂为含甲基丙烯酸苯酯的共聚型聚甲基丙烯酸甲酯，其制备方法如下：在氮气保护下，将甲基丙烯酸甲酯和甲基丙烯酸苄酯(质量比为5:5)的混合液加入到有机溶剂DMF中，其中反应单体在有机溶剂中占比30％，搅拌混合均匀后升温至60℃，加入引发剂AIBN后开始共聚反应，继续搅拌4小时后至结束。在甲醇中沉淀出共聚物，干燥后，得到含甲基丙烯酸苯酯的共聚型聚甲基丙烯酸甲酯。
柔性防爆膜的制备：
柔性防爆膜由第一离型膜、第一粘接层、高韧性PMMA薄膜二、第二粘接层、第二离型膜；其中，第一离型膜、第一粘接层、第二粘接层、第二离型膜的用料同实施例1。
经电晕处理的高韧性PMMA薄膜二展开，将配好的粘接液均匀涂布到高韧性PMMA薄膜二表面(正面)，放入烘箱中，于90℃烘干，高韧性PMMA薄膜基材表面获得第一粘接层，形成半成品A；将PET离型膜贴合在第一粘接层表面，使得半成品A表面获得第一离型膜，制得半成品B，贴合时应保证无气泡；将半成品B中高韧性PMMA薄膜二表面(反面)均匀涂上粘接液，放入烘箱中，于90℃烘干，使得半成品B表面获得第二离型膜，制得半成品C；将PET离型膜贴合在第二粘接层表面，使得半成品C表面获得第二离型膜，制得所需产品柔性防爆膜，贴合时无气泡产生。
实施例3
光学薄膜材料的制备：
将PMMA树脂、PC树脂、相容剂以及抗氧剂共混均匀后，通过双螺杆挤出机进行熔融共混挤出，得到共混料，其中PMMA树脂、PC树脂、相容剂的重量百分比为70:20:10，抗氧剂为抗氧剂1010，含量为总质量的0.75％；然后将共混料输送至单螺杆挤出机上挤出成膜，得到高韧性PMMA薄膜三；其中双螺杆挤出机温度为290℃，转速为100r/min；单螺杆挤出机的温度为245℃，挤出转速为10r/min；收卷冷辊的温度为30℃；光学薄膜的厚度为10μm。其中相容剂为含甲基丙烯酸苄酯的共聚型聚甲基丙烯酸甲酯，其制备方法如下实施例1。
柔性防爆膜的制备：
柔性防爆膜由第一离型膜、第一粘接层、高韧性PMMA薄膜三、第二粘接层、第二离型膜；其中，第一离型膜、第二离型膜是一种PET离型膜，第一粘接层为康宁有机硅粘接剂SL9106，第二粘接层为淄博隆旭化学GXA-6071。
经电晕处理的高韧性PMMA薄膜三展开，将配好的粘接液均匀涂布到高韧性PMMA薄膜三表面(正面)，放入烘箱中，于80℃烘干，高韧性PMMA薄膜一基材表面获得第一粘接层，形成半成品A；将PET离型膜贴合在第一粘接层表面，使得半成品A表面获得第一离型膜，制得半成品B，贴合时应保证无气泡；将半成品B中高韧性PMMA薄膜三表面(反面)均匀涂上粘接液，放入烘箱中，于80℃烘干，使得半成品B表面获得第二离型膜，制得半成品C；将PET离型膜贴合在第二粘接层表面，使得半成品C表面获得第二离型膜，制得所需产品柔性防爆膜，贴合时无气泡产生。
实施例4
光学薄膜材料的制备：
将PMMA树脂、PC树脂、相容剂以及抗氧剂共混均匀后，通过双螺杆挤出机进行熔融共混挤出，得到共混料，其中PMMA树脂、PC树脂、相容剂的重量百分比40:35:25，抗氧剂为抗氧剂1010，含量为总质量的0.75％；然后将共混料输送至单螺杆挤出机上挤出成膜，得到高韧性PMMA薄膜四；其中双螺杆挤出机温度为235℃，转速为15r/min；单螺杆挤出机的温度为245℃，挤出转速为100r/min；收卷冷辊的温度为75℃；光学薄膜的厚度为50μm。其中相容剂为含甲基丙烯酸苄酯的共聚型聚甲基丙烯酸甲酯，其制备方法如下实施例1。
柔性防爆膜的制备：
柔性防爆膜由第一离型膜、第一粘接层、高韧性PMMA薄膜四、第二粘接层、第二离型膜；其中，第一离型膜、第二离型膜是一种PET离型膜，第一粘接层为康宁有机硅粘接剂SL9106，第二粘接层为淄博隆旭化学GXA-6071。
经电晕处理的高韧性PMMA薄膜四展开，将配好的粘接液均匀涂布到高韧性PMMA薄膜四表面(正面)，放入烘箱中，于70℃烘干，高韧性PMMA薄膜一基材表面获得第一粘接层，形成半成品A；将PET离型膜贴合在第一粘接层表面，使得半成品A表面获得第一离型膜，制得半成品B，贴合时应保证无气泡；将半成品B中高韧性PMMA薄膜四表面(反面)均匀涂上粘接液，放入烘箱中，于70℃烘干，使得半成品B表面获得第二离型膜，制得半成品C；将PET离型膜贴合在第二粘接层表面，使得半成品C表面获得第二离型膜，制得所需产品柔性防爆膜，贴合时无气泡产生。
对比例1
市场商品化的防爆膜(PET基材)
对比例2
PMMA未采用改性处理，其他制备方式和工艺同实施例1。
对比例3
在上述实施例1的基础上，不使用自制相容剂，将PMMA、PC以及市售相容剂苯乙烯-丙烯腈-甲基丙烯酸缩水甘油酯进行共混制备防爆膜。具体制备参数如实施例1。
对实施例1-4以及对比例1-3对应的防爆膜进行相关性能测试，测试结果见下表1。其中，测试方法如下：密度按照ISO 1183的测试标准进行测试；吸水率按照ISO 62的测试标准进行测试；表面硬度按照GB/T 6739-86的测试标准进行测试；拉伸强度按照ISO 527的测试标准进行测试；折射率按照ISO 489的测试标准进行测试；透光率按照ISO 13468的测试方法进行测试；对玻璃的剥离力采用标准GB/T 2792-2014进行测试；耐弯折性能采用凯兰检测仪器厂MIT耐折测试仪进行测试。
表1
Figure BDA0003140032140000111
Figure BDA0003140032140000121
综上，从表1可知，与对比例1的市售常规的PET材料相比，采用本发明实施例的柔性防爆膜，在保着足够的耐弯折性能的同时，有着较低的吸水率和强的对玻璃的剥离力；另外本发明实施例采用PMMA基材，与亚克力胶层收缩性能匹配，在使用过程不会因为收缩性能不同而使得手机屏幕表面和防爆膜出现脱胶的情况。此外，经过试验发现，单纯的使用市售未改性的PMMA作为防爆膜，则表现为膜的耐弯折性能不够；而对比例3中未使用自制的相容剂，则会导致整体膜的透光率偏低，不适用于防爆膜的生产。
进一步，本发明为验证相容剂中各单体含量的配比对防爆膜的影响，在上述实施例1的基础上，通过单因素试验方法，仅改变相容剂中的甲基丙烯酸苄酯和甲基丙烯酸甲酯的含量比例；将制得的相容剂与PMMA树脂、PC树脂进行共混挤出，制备方法如实施例1。对应测试结果见下表2。
表2
Figure BDA0003140032140000122
Figure BDA0003140032140000131
综上，由表2可知，自制相容剂单体甲基丙烯酸苄酯和甲基丙烯酸甲酯含量的变化，在对光学薄膜防爆膜制备上影响很大；当自制相容剂单体甲基丙烯酸苄酯和甲基丙烯酸甲酯含量大于8:2或者小于3:7时，不仅防爆膜的的透光率降低，而且也导致薄膜的耐弯折性能降低，不能满足防爆膜对于曲面屏的要求。
综上，本发明以PC为增韧剂，配合含甲基丙烯酸苯酯类或者甲基丙烯酸苄酯的共聚型聚甲基丙烯酸甲酯相容剂的使用，不仅能有效避免PC和PMMA树脂因不相容而导致薄膜的珠光现象，在满足防爆膜硬度要求的同时，而且又大幅提高了PMMA薄膜的韧性以及耐高温性能；这种高韧性PMMA基光学薄膜作为曲面屏手机防爆膜基材，可以满足拐角部位对材料拉伸和收缩性能的要求，实现与曲面屏幕完全贴合；同时，本发明中通过对不同粘接剂的选用，使得第一离型膜剥离后，表面粘接剂脱离，使得高韧性PMMA基光学防爆膜表面整洁，同时第一离型膜也起到运输过程中保护高韧性PMMA基光学薄膜表面的作用；而第二离型膜在剥离后，不出现拉胶现象，高韧性PMMA基光学薄膜表面粘接剂仍可紧密贴合在手机曲面屏表面，无雪花、无气泡，有效降低产品不良率。
以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。
以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种光学薄膜材料，其特征在于，包括以下重量份数的原料：
聚甲基丙烯酸甲酯40-70份、聚碳酸酯15-35份、相容剂10-25份以及抗氧剂0.05-1份；
其中，所述相容剂为含甲基丙烯酸苯酯类或者甲基丙烯酸苄酯的共聚型聚甲基丙烯酸甲酯；
其中，所述共聚型聚甲基丙烯酸甲酯的反应单体为甲基丙烯酸甲酯和甲基丙烯酸苯酯/甲基丙烯酸苄酯的混合物；所述甲基丙烯酸甲酯和甲基丙烯酸苯酯/甲基丙烯酸苄酯的质量比为3:7-6:4。
2.根据权利要求1所述的光学薄膜材料，其特征在于，所述相容剂是通过在氮气保护下，将反应单体加入到有机溶剂中混合均匀后升温至60-90℃，加入引发剂继续反应至结束，经沉淀、干燥处理所得。
3.根据权利要求2所述光学薄膜材料，其特征在于，所述反应单体占有机溶剂的比例为30～60％。
4.根据权利要求1所述光学薄膜材料，其特征在于，所述抗氧剂为受阻类抗氧剂或者亚磷酸脂类抗氧剂。
5.一种光学薄膜材料的制备方法，其特征在于，包括：
按照权利要求1所述的光学薄膜材料的原料配方称取各种原料，备用；
将聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯、相容剂以及抗氧剂共混均匀后，通过双螺杆挤出机进行熔融共混挤出，得共混料；所述双螺杆挤出机温度为225-290℃，转速为15-100r/min；
将所述共混料输送至单螺杆挤出机中进行挤出成膜，所述单螺杆挤出机的温度为225-285℃，挤出转速为10-100r/min。
6.一种柔性防爆膜，其特征在于，所述柔性防爆膜是以权利要求1-4任一权利要求所述的光学薄膜材料为基材，结合粘接层和离型膜所得。
7.根据权利要求6所述的柔性防爆膜，其特征在于，所述柔性防爆膜从上往下依次包含第一离型膜、第一粘接层、权利要求1-4任一权利要求所述的光学薄膜材料、第二粘接层以及第二离型膜。
8.根据权利要求6或7所述的柔性防爆膜，其特征在于，所述光学薄膜材料的厚度为10～80μm，雾度小于1％，透光率大于90％。
9.一种柔性防爆膜的制备方法，其特征在于，包括：
将权利要求1-4任一权利要求所述的光学薄膜材料经电晕处理后进行一表面粘接液涂布以及烘干处理，使所述光学薄膜材料的表面获得第一粘接层，得第一半成品；
将剥离力为5-20g/f的聚对苯二甲酸乙二酯离型膜贴合在所述第一粘接层表面，使所述第一半成品的表面获得第一离型膜，得第二半成品；
将所述第二半成品中的光学薄膜材料的另一表面进行粘接液涂布以及烘干处理，使所述第二半成品的表面获得第二粘接层，得第三半成品；
将剥离力为20-80g/f的聚对苯二甲酸乙二酯离型膜贴合在所述第二粘接层表面，使所述第三半成品的表面获得第二离型膜，即得。
10.一种电子设备，其特征在于，所述电子设备包括权利要求1-4任一权利要求所述的光学薄膜材料。
CN202110731688.0A 2021-06-30 2021-06-30 一种光学薄膜材料、柔性防爆膜及其制备方法、电子设备 Active CN113388219B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202110731688.0A CN113388219B (zh) 2021-06-30 2021-06-30 一种光学薄膜材料、柔性防爆膜及其制备方法、电子设备

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202110731688.0A CN113388219B (zh) 2021-06-30 2021-06-30 一种光学薄膜材料、柔性防爆膜及其制备方法、电子设备

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN113388219A CN113388219A (zh) 2021-09-14
CN113388219B true CN113388219B (zh) 2022-12-27

Family

ID=77624769

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202110731688.0A Active CN113388219B (zh) 2021-06-30 2021-06-30 一种光学薄膜材料、柔性防爆膜及其制备方法、电子设备

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN113388219B (zh)

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6359069B1 (en) * 2000-08-10 2002-03-19 Bayer Corporation Transparent composition containing polycarbonate and a copolymer of methylmethacrylate
JP2008214429A (ja) * 2007-03-01 2008-09-18 Idemitsu Kosan Co Ltd 芳香族ポリカーボネート樹脂組成物、その光学用成形体及びその光拡散フィルム
KR100966050B1 (ko) * 2008-11-06 2010-06-28 제일모직주식회사 상용성이 우수한 열가소성 수지 조성물
KR101170383B1 (ko) * 2008-12-26 2012-08-01 제일모직주식회사 내스크래치성 및 유동성이 우수한 폴리카보네이트계 수지 조성물
KR101269673B1 (ko) * 2011-04-13 2013-05-30 주식회사 엘지화학 광학 필름용 수지 조성물 및 이를 이용한 광학 필름
JP6570371B2 (ja) * 2014-10-10 2019-09-04 旭化成株式会社 熱可塑性樹脂組成物、その製造方法及び成形体
CN105882096B (zh) * 2016-04-15 2018-12-21 东莞市睿泰涂布科技有限公司 一种柔性玻璃防爆膜及其制备工艺
CN111187499B (zh) * 2018-11-15 2021-09-03 比亚迪股份有限公司 一种塑料组合物、塑料和电子产品外壳
CN110204879B (zh) * 2019-06-06 2021-06-29 广东圆融新材料有限公司 聚碳酸酯组合物及其制备方法
CN112574544B (zh) * 2019-09-27 2022-04-15 比亚迪股份有限公司 聚碳酸酯组合物、聚碳酸酯材料以及壳体
CN112063146A (zh) * 2020-09-02 2020-12-11 广州华新科智造技术有限公司 Pc/pmma合金及其制备方法和应用
CN112480583B (zh) * 2020-11-30 2021-10-26 聚纶材料科技（深圳）有限公司 具有热力学稳定性的共混物光学薄膜及其制备方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN113388219A (zh) 2021-09-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6336046B2 (ja) 高い耐衝撃性および耐熱保形性を有する複合体系
JP6484627B2 (ja) メタクリル樹脂またはメタクリル樹脂組成物
EP1593725B1 (en) Ultraviolet-crosslinkable transparent hot melt pressure -sensitive adhesive, transparent pressure-sensitive adhesive sheet and laminates
CN108698393B (zh) 透明树脂叠层体
TW200536917A (en) Acrylic resin
CN102504733A (zh) 一种耐水白化氟硅改性水性压敏胶及聚乙烯保护膜
JP5345037B2 (ja) アクリル系樹脂フィルムおよびその製造方法
WO2016158827A1 (ja) 積層体
JP2011508257A (ja) 多層構造のアクリル系位相差フィルムおよびその製造方法
JPWO2018074550A1 (ja) メタクリル樹脂組成物
JP5844262B2 (ja) 重合体組成物および成形品
KR20170084219A (ko) 메타크릴 수지 조성물 및 성형체
CN108778675A (zh) 挤出树脂板的制造方法和挤出树脂板
US11845820B2 (en) Resin composition and dope for use in film production by solution casting
JP7352575B2 (ja) メタクリル樹脂組成物、フィルムおよび積層体
CN108753181A (zh) 一种有机硅改性oca光学胶、光学胶带及其制备方法
JP6742158B2 (ja) アクリル系樹脂フィルムおよびそれを用いた積層フィルム並びに積層体
JP2017048344A (ja) メタクリル樹脂、メタクリル樹脂組成物及び成形体
CN113388219B (zh) 一种光学薄膜材料、柔性防爆膜及其制备方法、电子设备
JPWO2016147923A1 (ja) 光学フィルム及びその製造方法
CN108753182A (zh) 一种性能优异的oca光学胶、光学胶带及其制备方法
CN116333653A (zh) 车载显示屏粘结用oca光学胶及其制备方法
JP7102729B2 (ja) 粘着剤組成物、粘着シート及び積層体
WO2020100913A1 (ja) 変性メタクリル樹脂および成形体
JP6694317B2 (ja) 積層体および成形体、ならびにそれらの製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
CB02 Change of applicant information

Address after: 32nd Floor, Coastal Huanqing Building, No. 24, Futian Road, Wei Town Community, Futian Street, Futian District, Shenzhen City, Guangdong Province

Applicant after: Xinlun New Material Co.,Ltd.

Address before: 13-14 / F, creative building, 3025 Nanhai Avenue, Nantou street, Nanshan District, Shenzhen, Guangdong 518000

Applicant before: SHENZHEN SELEN SCIENCE & TECHNOLOGY Co.,Ltd.

CB02 Change of applicant information
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant