CN112826371A - 基站和驱动轮以及由基站和地面处理设备组成的系统 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种基站(1)，用于实施对地面处理设备(2)的维护操作，其中，所述基站(1)具有基础壳体(3)，所述基础壳体具有用于对接地面处理设备(2)的接口(4)，其特征在于，所述基站(1)具有配属于所述接口(4)的导引托架(6)，所述导引托架通过占大部分的纵向延伸部(5)背离所述基础壳体(3)地指向，以便仅机械地导引所述地面处理设备(2)朝所述接口(4)的对接运动，其中，所述导引托架(6)的在竖向的俯视观察中的外轮廓(7)从所述基础壳体(3)开始直至所述导引托架(6)的远离所述基础壳体(3)的自由端部区域(8)收窄。本发明还涉及一种用于自主行进的地面处理设备(2)的驱动轮(11)和一种由前述类型的基站(1)和自主行进的地面处理设备(2)组成的系统。

Description

基站和驱动轮以及由基站和地面处理设备组成的系统
技术领域
本发明涉及一种基站，用于实施对地面处理设备的维护操作，其中，所述基站具有基础壳体，所述基础壳体具有用于对接地面处理设备的接口。
此外，本发明涉及一种用于自主行进的地面处理设备(2)的驱动轮，所述驱动轮具有容纳驱动轴的轮体和沿周向在所述轮体上构造的作业运行面。
此外，本发明涉及一种由基站和自主行进的地面处理设备组成的系统，所述地面处理设备具有至少两个驱动轮。
背景技术
具有驱动轮的自主行进的地面处理设备由现有技术已知。驱动轮原则上例如可以如专利文献DE 10 2008 009 617 A1所描述地构造并且具有具备作业运行面的轮体。
地面处理设备在家庭中用于自主地处理地面、例如地面清洁和/或地面保养。地面处理设备的驱动通过电机驱动的驱动轮、尤其两个能够彼此不依赖地控制的驱动轮实现。
此外已知，地面处理设备能够自主地驶向基站，以便在那里得到维护、例如对地面处理设备的蓄电池进行充电、排空集尘室、更换或接受配件等。为此，由现有技术已知的地面处理设备使用软件方面的解决方案，解决方案控制地面处理设备在基站上的对接。尤其例如已知的是，使基站设计具有标记，该标记能够由地面处理设备的传感器读取，以便控制对接过程。
前述系统的弊端是，地面处理设备必须具有复杂的软件，以便高准确性地朝向基站的接口控制地面处理设备并且例如连接电触头、抽吸通道等。
发明内容
基于前述现有技术，本发明所要解决的技术问题在于，使地面处理设备在基站上的对接容易实现，尤其是通过代替用于对接过程的复杂的软件控制的纯机械的部件实现对接。
为了解决所述技术问题建议，所述基站具有配属于所述接口的导引托架，所述导引托架通过占大部分的纵向延伸部背离所述基础壳体地指向，以便仅机械地导引所述地面处理设备朝所述接口的对接运动，其中，所述导引托架的在竖向的俯视观察中的外轮廓从所述基础壳体开始直至所述导引托架的远离所述基础壳体的自由端部区域收窄。
按照本发明，基站具有远离基础壳体指向的长形的导引托架，所述导引托架参照地面处理设备的对接方向朝向基础壳体扩宽，以便首先实现地面处理设备相对于基站的粗略的定向并且之后实现越来越精确的调节。因此，导引托架的外轮廓垂直地从上方观察在整体上并不是设计为矩形，而是基本上楔形地和/或梯形地设计，其中，所述外轮廓仅能够参照导引托架的确定的纵向区段具有宽度上的变化。导引托架例如可以沿着其纵向延伸部的方向分为两个区域，其中，紧挨着基站的基础壳体的第一区域矩形地设计具有相互平行地定向的外棱边，并且远离基础壳体的第二区域具有相互靠近的外棱边。因此从导引托架的自由的端部区域向基础壳体的方向观察时，导引托架的外棱边扩宽。扩宽部可以连续地、不连续地、直线地、弯曲地或者呈其它形状地延伸。基站的这样构造的导引托架用于与地面处理设备的以下仍将详细阐述的按照本发明的驱动轮配合作用，其中，基站的导引托架和地面处理设备的驱动轮这样配合作用，使得地面处理设备以纯粹机械的方式向着基站的接口导引并且在那里能够在最佳的位置中对接。地面处理设备不需要具有用于在导引托架的区域中将地面处理设备相对于接口定向的转向控制机构。这单独地通过导引托架的机械的导引装置和按照本发明的驱动轮的以下仍将阐述的调节部件实现。
此外，针对基站首先建议，所述基站具有能够被所述地面处理设备驶过的底板，所述导引托架构造或布置在所述底板上。另一方面，基站也可以备选地这样设计，使得导引托架不具有底板地直接放置在地面上。建议的底板原则上可以与导引托架一件式地构造或者承载导引托架作为单独的元件。导引托架至少用作用于地面处理设备的至少一个驱动轮的导引装置。
此外建议，所述导引托架的端部区域参照水平的视图具有向外指向的辅助斜面。按照这种设计方案，至少导引托架的自由端部区域具有倾斜的边棱，地面处理设备的驱动轮的局部区域能够容易地驶上所述边棱。导引托架的端部区域由此不具有垂直于地面或者基站的底板的、作为台阶而阻碍地面处理设备的驱动轮的棱边。辅助斜面可以以不同的方式设计、例如设计为逐渐变尖的或者倒圆的。
除了前述的基站，本发明还建议一种用于自主行进的地面处理设备的驱动轮，所述驱动轮具有容纳驱动轴的轮体和沿周向在所述轮体上构造的作业运行面，其中，所述轮体具有同中心地从轮体端侧突伸出的柱形的接触元件，所述接触元件具有沿周向在所述接触元件上构造的接触面，其中，所述接触面的接触面直径小于所述作业运行面的作业运行面直径。按照本发明的驱动轮构造用于与前述基站的导引托架这样配合作用，使得具有驱动轮的地面处理设备能够以纯粹机械的方式朝基站的接口定向并且在规定的位置和方向中与基站对接，以便由基站接收维护操作。为此，驱动轮具有轮体，所述轮体以通常的方式具有作业运行面，驱动轮通常以所述作业运行面在待处理的表面上滚动。此外，按照本发明的驱动轮还附加地具有在轮体上构造的接触元件，所述接触元件在轮体端侧上构成盘片状的突起部，所述突起部与轮体同中心地围绕驱动轴旋转，然而本身具有比轮体的作业运行面更小的直径。参照剖切驱动轮得到的平行于驱动轴延伸的剖面，接触元件具有向轮体的其余部分过渡的阶梯状的过渡部。轮体的作业运行面和接触元件的接触面优选相互平行地定向，然而其中，所述作业运行面和接触面参照从驱动轴起始的径向彼此间隔距离，所述距离取决于不同的直径。接触元件在地面处理设备与基站的对接过程中用于尤其当地面处理设备倾斜地驶向基站、即第一驱动轮的轮体端侧和导引托架的外轮廓彼此不平行地延伸时，使地面处理设备的第一驱动轮驶上基站的导引托架的上侧。由于与导引托架接触的接触元件的接触面直径小于第二驱动轮的在基面上滚动的作业运行面的作业运行面直径，因此使地面处理设备在第一驱动轮运行到导引托架上时进入期望的位置。这由于地面处理设备的驱动轮的不同的运行面周长实现，其中一个驱动轮以通常的方式以作业运行面直径位于地面上，并且另一个驱动轮以接触面直径位于导引托架上。由于两个驱动轮尽管以相同的速度围绕驱动轴旋转，然而所述驱动轮所驶过的路段由于不同的运行面周长而不同，因此地面处理设备向布置有接触元件在导引托架上滚动的驱动轮的设备侧转向。
此外建议，所述接触面直径约等于所述作业运行面直径的70％至90％。所述接触面直径尤其可以约等于所述作业运行面直径的80％。接触元件的外直径由此相对于作业运行面的外直径减小约10％至30％、尤其20％。接触元件由此在地面处理设备以通常的方式位于地面上时与地面具有足够的距离并且对地面处理设备的行进没有贡献。而如果地面处理设备驶向基站，则接触面的向下指向的圆周区段与基站的导引托架的上侧接触并且由此有助于地面处理设备在基站上重新定向。
此外建议，所述接触元件的接触面沿轴向具有2mm至10mm的接触面宽度。接触面的宽度确定了供驱动轮的接触元件与基站的导引托架之间的接触使用的接触区域的尺寸。此外，接触面宽度确定了驱动轮和基站的导引托架之间的用于建立接触所允许的最大角，所述角给出了以下限度，即地面处理设备相对于朝向基站的最佳的行驶方向不超过多大的倾斜位置时驱动轮的接触面仍能够与基站的导引托架接触。在此适合的是，接触面越宽，则接触面和导引托架之间越可能尽早地接触。然而接触面和导引托架之间的接触的形成也取决于其它参数、例如导引托架的自由端部区域的收窄的程度。
此外，通过本发明建议一种由前述类型的基站和自主行进的地面处理设备组成的系统，所述地面处理设备具有至少两个驱动轮，其中，至少一个驱动轮如前述类型地构造并且在朝向其它驱动轮的轮体端侧上具有接触元件。在特别优选的实施方式中，地面处理设备具有两个相同地设计的驱动轮，所述驱动轮分别具有接触元件。如果地面处理设备通过驱动轮、即驱动轮的接触元件到达导引托架上，则地面处理设备以两个驱动轮的不同的运行面周长行驶在对应的基面上，即在一侧以第一驱动轮行驶在导引托架上并且在另一侧以第二驱动轮的作业运行面行驶在承载导引托架的基面上。由于不同的运行面周长，地面处理设备在弧线中朝着接触面在导引托架上滚动的驱动轮的方向行驶。当第二驱动轮以其接触面处于导引托架上时，随即重新产生地面处理设备的直线行驶。这例如可以被迫地如下实现，即导引托架如上文针对基站如所述地具有从上方观察朝向基站的基础壳体扩宽的宽度。因此导引托架沿着地面处理设备的行驶方向朝基站的基础壳体方向扩宽，从而沿着行驶方向构造在左侧的导引托架棱边和沿着行驶方向构造在右侧的导引托架棱边彼此间的距离增大，直至达到最大距离，所述最大距离确保了两个驱动轮以其接触元件的接触面在导引托架上滚动。地面处理设备随即沿该方向最佳地定向，以便与基站的接口耦连。在不是优选的情况下可以备选地规定，地面处理设备仅具有一个按照本发明地构造的驱动轮，并且一旦地面清洁设备通过按照本发明的驱动轮与导引托架的接触重新偏转到针对在接口上对接的最佳的行驶方向，则地面处理设备的控制装置负责使所述地面处理设备进一步地相对于基站的接口定向。在这种设计方案中，机械的导引装置通过导引托架和地面处理设备的控制装置有利地配合作用。在所有情况下建议，驱动轮的具有接触元件的轮体端侧向内指向地布置在地面处理设备上，即这样布置，使得所述轮体端侧朝向相对置的、同中心地布置的驱动轮的方向指向。系统的基站和地面处理设备这样配合作用，使得所述地面处理设备将导引托架容纳在其驱动轮之间并且由此使构造在驱动轮的轮体端侧上的接触元件朝向导引托架的方向并且能够与导引托架接触。接触元件随即能够通过导引托架的边棱的倾斜部到达导引托架上，从而使接触元件的接触面在导引托架上滚动并且由此使驱动轮从其之前滚动的基面上被抬起来。
此外建议，两个相互对置的驱动轮的轮体端侧的与作业运行面邻接的边缘区域彼此间具有轴向距离，所述轴向距离大于导引托架的外轮廓的垂直于纵向延伸部定向的最大外轮廓宽度，从而使所述导引托架能够容纳在驱动轮之间。地面处理设备和基站因此这样相互对应地构造，使得导引托架在地面处理设备的驱动轮之间准确地适配，即优选这样构造，使得当两个驱动轮的接触元件的接触面在基站的导引托架上运行时，轮体端侧以尽可能小的、例如1mm的间隙与导引托架相间隔。该设计方案迫使地面处理设备处于相对于基站的基础壳体的直线的行驶方向中。导引托架在通讯基站的基础壳体的行程上扩宽直至导引托架的外轮廓的最大的外轮廓宽度，从而所述导引托架扩宽直至达到最大的外轮廓宽度。最大的外轮廓宽度优选涉及导引托架的纵向延伸部的更大的纵向区段，从而导引托架沿着朝向基站的基础壳体的方向设计有导引托架的最佳长度的平行的边棱。这确保了，地面处理设备的驱动轮随即由于驱动轮相互间的距离和导引托架的恒定的最大外轮廓宽度在该纵向区段中方向稳定地在导引托架上滚动。
此外建议，所述导引托架的纵向延伸部的尺寸至少等于所述地面处理设备的两个同中心地布置的驱动轮之间的轴向距离。导引托架的纵向延伸部的长度由此优选至少等于地面处理设备的轮间距，以便在导引托架上为地面处理设备提供足够的滚动行程，所述滚动行程足够使地面处理设备在到达基站的基础壳体的接口之前相对于基站定向。
最后建议，所述导引托架的竖直高度大于接触面直径与作业运行面直径之间的直径差的一半，从而当接触面在所述导引托架上滚动时，所述地面处理设备的驱动轮不再支承在作业运行面上。换言之，在工作轮的作业运行面与地面接触时，导引托架的竖直高度大于接触元件的朝向地面的方向的局部区域与地面之间的距离，从而在驱动轮通过接触元件在导引托架上滚动时，在作业运行面和地面之间不再存在接触。为了确保终止作业运行面与地面的接触，导引托架的竖直高度例如比作业运行面与接触面的半径之差大0.5mm及以上就足够了。
附图说明
以下根据实施例详细阐述本发明。在附图中：
图1示出按照本发明的由地面处理设备和基站组成的系统，
图2示出按照本发明的系统的侧视图，
图3示出基站的俯视图，
图4示出基站连同地面处理设备的俯视图，
图5示出剖切地面处理设备的驱动轮和基站的导引托架得到的剖视图，
图6示出在导引托架上滚动的驱动轮的剖视图。
具体实施方式
图1示出按照本发明的由基站1和地面处理设备2组成的系统的可行的实施方式。
地面处理设备2在此例如设计为自主行进的清洁机器人、即例如抽吸机器人。地面处理设备2具有地面处理元件18、即在此例如是围绕水平的轴线旋转的清洁辊，以及两个电机驱动的驱动轮11，所述驱动轮彼此同中心地对齐。驱动轮11在此例如围绕驱动轴12旋转，驱动轮11以通常的方式分别通过所述驱动轴由未示出的电动机驱动。此外，地面处理设备2具有未示出的蓄电池，所述蓄电池提供用于驱动以及必要时也用于地面处理设备2的其他的电子和电气部件所需的能量。地面处理设备2还具有用于在环境中导航和自主定位的控制装置，所述控制装置接收环境探测装置的数据。探测装置例如可以具有激光距离传感器，所述激光距离传感器测量与地面处理设备2的周围环境中的障碍物的距离。控制装置随即能够根据所述距离生成环境地图，所述环境地图用于地面处理设备2的导航和自主定位。除了距离传感器之外，地面处理设备2还具有其它传感器、例如测量地面处理设备2的行进的里程传感器、接触传感器、超声波传感器等。
基站1具有基础壳体3，所述基础壳体具有接口4，地面处理设备2能够对接在所述接口上，以便例如将蓄电池的电触头与基站1的充电设备的电触头连接。此外，接口4还可以备选或附加地具有流动通道耦连装置，所述流动通道耦连装置适用于在地面处理设备2和基站1之间建立空气流动路径，以便例如将抽吸物从地面处理设备2的抽吸物腔室转运至基站1的基站腔室中。基站1原则上可以具有多个不同的装置，以便为一个或多个地面处理设备2提供维护。这些装置例如包括用于地面处理设备2的蓄电池的充电器、抽吸风机、抽吸物腔室、用于设备配件的存储装置等。基站1在此例如还具有底板9，地面处理设备2能够驶上所述底板，以便到达基础壳体3的接口4。底板9在其边棱上优选具有辅助斜面，以便使地面处理设备2容易地登上底板9。在底板9上存在导引托架6，所述导引托架具有背离基础壳体3指向的纵向延伸部5。导引托架6具有自由的端部区域8，所述端部区域优选是倾斜的，以便为地面处理设备2简化在导引托架6上的行驶。尽管没有示出，然而平行于导引托架6的纵向延伸部5延伸的边棱优选也可以是倾斜的。作为基站1的示例性示出的具有底板9的构造的备选方案，导引托架6也可以直接地位于基面上，从而基站1直接地通过导引托架6例如处于环境中的硬质地面上。
图3在竖向的俯视图中详细示出具有底板9和引导托架6的基站1。如图所示，导引托架6具有朝向端部区域8缩窄地构造的外轮廓7。导引托架6的外轮廓7因此不同于矩形形状并且在此为梯形的纯粹示例性的设计方案。然而导引托架6的靠近基础壳体3的区域在此优选矩形地构造，从而在该区段中的边棱相互平行地延伸。垂直地从上方观察，导引托架6在与基站1的基础壳体3邻接的位置上具有最大的外轮廓宽度B2。外轮廓7的外棱边也可以从自由的端部区域8起始以其它形状向基础壳体3的方向扩宽。外轮廓7不需要直线地和/或连续地延伸。尤其也可以规定，导引托架6的纵向延伸部5的端部区域8或者端部区域附近的部分弯曲地延伸。
图4示出在接近基站1的接口4时的地面处理设备2。驱动轮11被驱动以便使地面处理设备2行进。在此，驱动轮11彼此间具有从相互朝向的轮体端侧15、即所述轮体端侧15的与驱动轮11的作业运行面14邻接的局部区域开始测量的距离A。图4示出地面处理设备2，其具有不平行于导引托架6的外轮廓7定向的行驶方向/定向。导引托架6如此构造，使得地面处理设备2在平行于导引托架6的纵向延伸部5或平行于导引托架的对称轴地前进时朝着基础壳体3的接口4最佳定向地向前移动并且尤其是在不使基础壳体倾斜的情况下在那里对接。如果地面处理设备2例如完成了抽吸工作，则所述地面处理设备通常如所示的那样向基站1移动。地面处理设备在此大多与导引托架6不平行地靠近基站1并且在保持行驶角的情况下行驶到底板9上并且在那里行驶到导引托架6上。在那里开始定位行驶，在所述定位行驶时，地面处理设备2接着被操纵至在接口4上对接的规定的对接位置中，从而使地面处理设备2的对应的接触区域和接口4能够相互连接。为了实现最佳的对接所需的操纵移动，地面处理设备2首先通过驱动轮11倾斜地驶上基站1的导引托架6。
图5和图6示出驱动轮11与基站1的导引托架6的配合作用，其中，在图5中示出驱动轮11尚未接触导引托架6的状态，并且其中，图6示出驱动轮11行驶到导引托架6上的状态。驱动轮具有轮体13，所述轮体以通常的方式提供了作业运行面14，驱动轮11借助所述作业运行面在表面上滚动。作业运行面14具有作业运行面直径D1。在此，与轮体13一体式构造地，轮体13连接着接触元件16，所述接触元件提供接触面17。接触面17具有接触面直径D2。接触元件16如图4所示地位于轮体13的朝向同中心的相互对置的驱动轮11的轮体端侧15上。作业运行面14在通常的工作运行中用于地面处理设备2的行进，同时接触元件16的接触面则用于使驱动轮11在基站1的导引托架6上滚动，由此能够如以下所述地实现地面处理设备2相对于基站1的接口4的定向。与接触元件16的接触面17相对应地，导引托架6具有一个高度H，所述高度H尺寸稍稍比基面、在此即基站1的底板9与接触面17的朝向基面的周向局部区域之间的距离更大。由此，一旦驱动轮11借助接触元件16在导引托架6上行进，则作业运行面14不再与底板9接触。驱动轮11的接触元件16具有接触面宽度B1，所述接触面宽度优选为几厘米，以便实现接触元件16和导引托架6的上侧之间的充分的接触。
如图4所示，地面处理设备2在倾斜地向基站1移动时首先仅以一个驱动轮11驶上导引托架6。接触元件16在此碰到导引托架6的外轮廓7的侧棱边并且可以驶过导引托架6、则尤其是外轮廓7的呈斜面的边棱。驱动轮11随即借助接触元件16的接触面17在导引托架6上滚动，并且由此将所述驱动轮从基站1的底板9上抬起，从而作业运行面14不再与底板9接触。在这种情况下，地面处理设备2的其它驱动轮11尚以其作业运行面14处于底板9上。一个驱动轮11的作业运行面14的作业运行面直径D1与另一个驱动轮11的接触元件16的接触面直径D2不同，因此在驱动轮11的角速度相同时，地面处理设备2沿着在接触元件16上滚动的、即以具有更小的运行面直径的运行面滚动的驱动轮11的方向驶过一个行进曲线。当地面处理设备2的第二驱动轮11也以其接触元件16在导引托架6上滚动时，才重新实现地面处理设备2沿着导引托架6的纵向延伸部5的直线行驶。这由于导引托架6的从所述导引托架6的端部区域8起始向基础壳体3的方向扩宽的外轮廓7被迫地实现，其中，外轮廓7的最大的外轮廓宽度B2在此在基站1的基础壳体3前大约达到地面处理设备2的设备长度。因此，导引托架6的外轮廓宽度B2在该区域中基本上等于驱动轮11的轴向距离A。轴向距离A在此从位于接触元件16旁边的轮体端侧15开始测量。“基本上”在此是指，驱动轮11尽可能近地靠近导引托架，然而存在较小的移动间隙，以便避免驱动轮11在导引托架6上的导致阻力的擦蹭。通过导引托架6的最大的外轮廓宽度B2最终实现了，两个驱动轮11以接触元件16的接触面17在导引托架6上滚动并且相对于基站1的接口4最佳地定向，以便使基站1的和地面处理设备2的对应的接口元件相互连接。
附图标记列表
1 基站
2 地面处理设备
3 基础壳体
4 接口
5 纵向延伸部
6 导引托架
7 外轮廓
8 端部区域
9 底板
10 辅助斜面
11 驱动轮
12 驱动轴
13 轮体
14 作业运行面
15 轮体端侧
16 接触面
17 接触面
18 地面处理元件
D1 作业运行面直径
D2 接触面直径
B1 接触面宽度
B2 外轮廓宽度
A 距离
H 高度

Claims (11)

1.一种基站(1)，用于实施对地面处理设备(2)的维护操作，其中，所述基站(1)具有基础壳体(3)，所述基础壳体具有用于对接地面处理设备(2)的接口(4)，其特征在于，所述基站(1)具有配属于所述接口(4)的导引托架(6)，所述导引托架通过占大部分的纵向延伸部(5)背离所述基础壳体(3)地指向，以便仅机械地导引所述地面处理设备(2)朝所述接口(4)的对接运动，其中，所述导引托架(6)的在竖向的俯视观察中的外轮廓(7)从所述基础壳体(3)开始直至所述导引托架(6)的远离所述基础壳体(3)的自由端部区域(8)收窄。
2.根据权利要求1所述的基站(1)，其特征在于，设有能够被所述地面处理设备(2)驶过的底板(9)，所述导引托架(6)构造或布置在所述底板上。
3.根据权利要求1或2所述的基站(1)，其特征在于，所述导引托架(6)的端部区域(8)参照水平的视图具有向外指向的辅助斜面(10)。
4.一种用于自主行进的地面处理设备(2)的驱动轮(11)，所述驱动轮具有容纳驱动轴(12)的轮体(13)和沿周向在所述轮体(13)上构造的作业运行面(14)，其特征在于，所述轮体(13)具有同中心地从轮体端侧(15)突伸出的柱形的接触元件(16)，所述接触元件具有沿周向在所述接触元件(16)上构造的接触面(17)，其中，所述接触面(17)的接触面直径(D2)小于所述作业运行面(14)的作业运行面直径(D1)。
5.根据权利要求4所述的驱动轮(11)，其特征在于，所述接触面直径(D2)等于所述作业运行面直径(D1)的70％至90％。
6.根据权利要求4所述的驱动轮(11)，其特征在于，所述接触面直径(D2)等于所述作业运行面直径(D1)的80％。
7.根据权利要求4或5所示的驱动轮(11)，其特征在于，所述接触元件(16)的接触面(17)沿轴向具有2mm至10mm的接触面宽度(B1)。
8.一种由根据权利要求1构造的基站(1)和自主行进的地面处理设备(2)组成的系统，所述地面处理设备具有至少两个驱动轮(11)，其中，至少一个驱动轮(11)根据权利要求4所述地构造并且在朝向其它驱动轮(11)的轮体端侧(15)上具有接触元件(16)。
9.根据权利要求8所述的系统，其特征在于，两个相互对置的驱动轮(11)的轮体端侧(15)的与作业运行面(14)邻接的边缘区域彼此间具有轴向距离(A)，所述轴向距离大于导引托架(6)的外轮廓(7)的垂直于纵向延伸部(5)定向的最大外轮廓宽度(B2)，从而使所述导引托架(6)能够容纳在驱动轮(11)之间。
10.根据权利要求8或9所述的系统，其特征在于，所述导引托架(6)的纵向延伸部(5)的尺寸至少等于所述地面处理设备(2)的两个同中心地布置的驱动轮(11)之间的轴向距离(A)。
11.根据权利要求8或9所述的系统，其特征在于，所述导引托架(6)的竖直高度(H)大于接触面直径(D2)与作业运行面直径(D1)之间的直径差的一半，从而当接触面(17)在所述导引托架(6)上滚动时，所述地面处理设备(2)的驱动轮(11)不再支承在作业运行面(14)上。
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