CN112750962A - 一种显示面板及其制作方法、显示装置 - Google Patents

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Abstract

本发明描述了一种显示面板及其制作方法、显示装置，包括，触控介质层，触控介质层包括多个第一开口，第一开口在发光层的正投影位于相邻两个发光单元之间；黑矩阵和色阻层，黑矩阵位于触控介质层的第一开口内，色阻层位于触控介质层远离阵列基板一侧，色阻层包括多个色阻单元，色阻单元与发光单元一一对应设置。将黑矩阵设置于触控介质层的第一开口中，消除色阻材料在涂布过程中由于黑矩阵存在导致色阻单元边缘出现牛角缺陷，改善大视角亮度能够减小显示面板的显示视角色偏和减小环境光经显示面板反射的色分散现象。

Description

一种显示面板及其制作方法、显示装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域，具体涉及一种显示面板及其制作方法、显示装置。
背景技术
有机发光二极管(Organic Light Emission Diode，简称OLED)显示器作为新一代的显示器件，因其具有薄而轻、高对比度、快速响应、宽视角、高亮度、全彩色等优点，因此在于机、个人数字助理(PDA)、数码相机、车载显示、笔记本电脑、壁挂电视以及军事领域等具有十分广泛的问用前景。
为了降低外部光线在有机发光二极管显示器内的反射率，一种方案是在有机发光二极管显示器的出光面贴附圆偏光片，但是，有机发光二极管显示器出光的大约一半将被圆偏光片吸收，从而降低了有机发光二极管显示器的出光效果。
另一种方案是在有机发光二极管显示器的出光面设置彩色滤光片，这种设置具有较好的降低环境光线在有机发光二极管显示器内反射的效果，提高有机发光二极管显示器的出光效果。
现有技术中将彩色滤光片集成至显示面板中，不仅提高了显示面板的抗反射能力而且减小了整个显示面板的厚度。然而，现有在显示面板上制备彩色滤光片先制作黑矩阵(Black matrix，BM)，然后在涂布色阻材料制作色阻层，在这一过程中，由于黑矩阵BM的存在使得色阻材料在与黑色矩阵搭接位置堆叠造成牛角的缺陷，容易造成在牛角位置显示不均等问题。
发明内容
有鉴于此，本发明提供一种显示面板及其制作方法和显示装置，有效提高显示面板的显示均一性。
第一方面，本发明提供了一种显示面板，包括：
阵列基板；
发光层，所述发光层位于所述阵列基板一侧，所述发光层包括多个发光单元；
触控介质层，所述触控介质层位于所述发光层远离所述阵列基板一侧，所述触控介质层包括多个第一开口，所述第一开口在所述发光层的正投影位于相邻两个所述发光单元之间；
黑矩阵，所述黑矩阵位于所述第一开口内；
色阻层，所述色阻层位于所述触控介质层远离所述阵列基板一侧，所述色阻包括多个色阻单元，所述色阻单元与所述发光单元一一对应。
第二方面，基于同一发明构思，本发明还提供了一种显示装置，包括本发明提供的任意一种显示面板。
第三方面，本发明还提供了一种显示面板的制作方法，包括：
提供一阵列基板；
形成发光层，所述发光层位于所述阵列基板一侧，所述发光层包括多个发光单元；
形成触控介质层和黑矩阵，所述触控介质层位于所述发光层远离所述阵列基板一侧，所述触控介质层包括多个第一开口，所述第一开口在所述发光层的正投影位于相邻两个所述发光单元之间，所述黑矩阵位于所述第一开口内。
与现有技术相比，本发明提供了一种显示面板和显示装置，至少实现了如下有益效果：
本发明提供的显示面板包括阵列基板和发光层，发光层包括多个发光单元；触控介质层，触控介质层位于发光层阵列基板一侧，触控介质层包括多个第一开口，第一开口在发光层的正投影位于相邻两个发光单元之间；黑矩阵和色阻层，黑矩阵位于触控介质层的第一开口内，色阻层位于触控介质层远离阵列基板一侧，色阻层包括多个色阻单元，色阻单元与发光单元一一对应设置。一方面，利用黑矩阵和色阻层替代传统的偏光片，不仅减薄显示面板的厚度提升显示面板的柔性，还可以增加透光率提升整个显示面板的亮度；另一方面，将黑矩阵设置于触控介质层的第一开口中，消除色阻材料在涂布过程中由于黑矩阵存在导致色阻单元边缘出现牛角缺陷，也就是说，本申请中的色阻层的平坦度相对于现有设计有所提升，改善大视角亮度能够减小显示面板的显示视角色偏和减小环境光经显示面板反射的色分散现象；进一步地，将黑矩阵设置于触控介质层的第一开口中，减小了显示面板的发光单元与其上方周围黑矩阵的竖直方向距离，不会影响大视角出光。
附图说明
图1为现有技术中一种显示面板示意图；
图2为本发明实施例提供的显示面板一种可选实施方式示意图；
图3为本发明实施例提供的显示面板的又一种可选实施方式示意图；
图4为图3所示显示面板中的A1A2区域的局部大示意图；
图5为本发明实施例提供的显示面板中触控介质层的一种可选实施方式示意图；
图6为本发明实施例提供的显示面板中触控介质层的又一种可选实施方式示意图；
图7为本发明实施例提供的显示面板的又一种可选实施方式示意图；
图8为图7所对应的显示面板中的触控介质层的一种可选实施方式示意图；
图9为图7所对应的显示面板中黑矩阵的又一种可选实施方式示意图；
图10为本发明实施例提供的显示面板的又一种可选实施方式示意图；
图11为图10所对应的显示面板中的触控介质层的一种可选实施方式示意图；
图12为图10所对应的显示面板中黑矩阵的又一种可选实施方式示意图；
图13为图3所对应的显示面板中的触控介质层的又一种可选实施方式示意图；
图14为图3所对应的显示面板中的黑矩阵的又一种可选实施例示意图；
图15为本发明实施例提供的显示面板的又一种可选实施方式示意图；
图16为图15所对应的显示面板中的黑矩阵所在区域的一种可选实施例示意图；
图17为图13所示显示面板的触控介质层的部分投影示意图；
图18为本发明实施例提供的显示面板的又一种可选实施方式示意图；
图19为本发明实施例提供的显示面板的又一种可选实施方式示意图；
图20为第一颜色发光单元不同视角亮度衰减示意图；
图21为第二颜色发光单元不同视角亮度衰减示意图；
图22为第三颜色发光单元不同视角亮度衰减示意图；
图23为图18中发光单元发出光线在不同视角亮度衰减的原理图；
图24为本发明实施例提供的显示面板的又一种可选实施方式示意图；
图25为本发明实施例提供的显示面板的又一种可选实施方式示意图；
图26为本发明实施例提供的一种显示面板的制作方法的流程图；
图27图为图26对应所示的制作方法对应的显示面板的结构图；
图28为本发明实施例提供的显示面板的黑矩阵与触控介质层的制作方法的一种可选实施方式的示意图；
图29图为图28对应所示的制作方法对应的显示面板的结构图；
图30为本发明实施例提供的显示面板的黑矩阵与触控介质层的制作方法的又一种可选实施方式的示意图；
图31图为图30对应所示的制作方法对应的显示面板的结构图；
图32为本发明实施例提供的显示面板的黑矩阵与触控介质层的制作方法的一种可选实施方式的示意图；
图33为本发明实施例提供的显示装置一种可选实施方式示意图。
具体实施方式
为使本发明的上述目的、特征和优点能够更为明显易懂，下面将结合附图和实施例对本发明做进一步说明。
需要说明的是，在以下描述中阐述了具体细节以便于充分理解本发明。但是本发明能够以多种不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本发明内涵的情况下做类似推广。因此本发明不受下面公开的具体实施方式的限制。此外，在以下的描述当中，在图中相同的附图标记表示相同或类似的结构，因而将省略对它们的重复描述。
图1为现有技术中一种显示面板示意图，如图1所示，显示面板00′包括阵列基板01′、发光层02′、封装层03′和彩色滤光片，其中彩色滤光片包括04′黑矩阵、色阻单元05′和位于色阻单元05′远离阵列基板01′的彩膜平坦层06′。
现有技术中将彩色滤光片集成至显示面板中，不仅提高了显示面板的抗反射能力而且减小了整个显示面板的厚度。然而，如图1所示，现有在显示面板上制备彩色滤光片先制作黑矩阵(Black matrix，BM)，然后在涂布色阻材料制作色阻层，在这一过程中，由于黑矩阵的存在使得色阻材料在与黑色矩阵搭接位置堆叠造成牛角的缺陷，使得靠近黑矩阵04′位置的色阻单元的厚度H′2大于色阻单元05′中心区域的色阻单元的厚度H′1。一方面，牛角不仅导致了显示面板出现显示不均的现象，另一方面，由于H′2＞H′1，就会导致正视角Aa光线与大视角光线Ba经过的CF厚度差异增加，导致衰减差异进一步增大，从而出现视角色偏。
在此基础上本申请提出了一种显示面板，一方面提高显示面板的显示均一性，减小视角色偏；另一方面，结合显示面板结构在保证视角色偏的情况下提高大视角出光，保证显示面板的出光效率。
图2为本发明实施例提供的显示面板一种可选实施方式示意图。图3为本发明实施例提供的显示面板的又一种可选实施方式示意图。图4为图3所示显示面板中的A1A2区域的局部大示意图。
参考图2和图3所示，显示面板00包括阵列基板01；发光层03，发光层03位于阵列基板01一侧，发光层03包括多个发光单元；触控介质层04，触控介质层04位于发光层03远离阵列基板01一侧，触控介质层04包括多个第一开口041，第一开口041在发光层03的正投影位于相邻两个发光单元031之间。可选的，阵列基板01依次包括衬底011、缓冲层012和阵列功能层013，其中，阵列功能层013包括多个薄膜晶体管，薄膜晶体管用于驱动发光单元进行显示功能，可选的，薄膜晶体管包括源漏极S/D、栅极G和有源层A。本申请仅示意了薄膜晶体管的数量为一个的技术方案。可以理解的是，薄膜晶体管可以为任意个，具体的数量可以根据显示面板的具体需求进行设置，本实施例对此不作具体限制。
可选的，发光层03包括，阳极0311、发光层0312和阴极0313，其中阳极0311材料包括ITO/Ag/ITO，阴极0313材料包括镁银合金。可选的，发光单元031包括有机发光单元、LED发光单元或量子点发光单元。
可选的，显示面板00还包括薄膜封装层02，薄膜封装层02位于发光层03与触控介质层之间。可选的，薄膜封装层02可以包括一层、两层或者三层以上的膜层，薄膜封装层02可以包括交替设置的有机层和无机层。本实施例提供的显示面板中，衬底011为柔性基板，具有可以弯曲的特性，可选的，薄膜封装层02具有良好的可弯曲的性能。本实施例提供的显示面板可以弯曲、弯折。本实施例对于薄膜封装层02的具体材料、膜层结构均不作具体限制。
继续参考图2和图3，显示面板00还包括黑矩阵05，黑矩阵05位于触控介质层04的第一开口041内；色阻层06，色阻层位于触控介质层04远离阵列基板01一侧，色阻层06包括多个色阻单元061，其中色阻单元061与发光单元031一一对应设置。一方面，利用黑矩阵和色阻层替代传统的偏光片，不仅减薄显示面板的厚度提升显示面板的柔性，还可以增加透光率提升整个显示面板的亮度；另一方面，将黑矩阵设置于触控介质层的第一开口中，消除色阻材料在涂布过程中由于黑矩阵存在导致色阻单元边缘出现牛角缺陷，也就是说，本申请中的色阻层的平坦度相对于现有设计有所提升，改善大视角亮度能够减小显示面板的显示视角色偏和减小环境光经显示面板反射的色分散现象；进一步地，将黑矩阵设置于触控介质层的第一开口中，减小了显示面板的发光单元与其上方周围黑矩阵的竖直方向距离，不会影响大视角出光。
可以理解的，竖直方向距离可以理解为在垂直于显示面板所在平面指向显示面板的出光方向上的距离，即图2和图3中的方向X。
可选的，显示面板还包括像素定义层，像素定义层位于阵列基板与触控介质层之间，像素定义层包括多个第二开口，发光单元位于第二开口，第二开口与发光单元一一对应设置；在第一方向上，第一开口与第二开口不交叠；第一方向为垂直于显示面板所在平面指向显示面板出光面的方向。
可选的，显示面板还包括色阻介质层07，色阻介质层07位于色阻层06远离阵列基板一侧，其中色阻介质层07可以进一步平坦色阻层的表面，另外，色阻介质层07作为色阻层上方的保护层，防止色阻单元在后续制程或者贴合过程中划伤，引起新的显示问题。
参考图2和图3所示，显示面板还包括像素定义层032，像素定义层032位于阵列基板01与触控介质层04之间，像素定义层032包括第二开口0321，发光单元031位于第二开口0321内，第二开口0321与发光单元031一一对应设置。在第一方向X上，第一开口041和第二开口0321不交叠，其中第一方向X为垂直于显示面板所在平面指向显示面板出光面的方向。可以理解的，第一开口041内填充黑矩阵05，发光单元031位于第二开口0321内，第一开口041和第二开口0321不交叠，也就是黑矩阵05与发光单元031在第一方向不存在交叠，黑矩阵05位于像素定义层的非开口区域，这种设置不会影响发光单元031的正常出光。
可选的，继续参考图4，相邻两个发光单元之间的黑矩阵05的最大宽度为d1，发光单元包括阳极0311，相邻两个阳极0311之间的最短距离为d2，其中，d2≥d1。发光单元的阳极0311对发光层0312的向阳极一侧的发光具有一定的反射作用，所以阳极0311可以一定程度上提升发光单元的出光效率，所以d2≥d1，黑矩阵05不会对下方阳极反射的发光单元的出光存在遮挡，提升了发光单元的出光效率。
可选的，显示面板包括触控功能层，触控功能层位于触控介质层与发光层之间，触控功能层包括触控电极和触控电极之间的触控绝缘层；黑矩阵在阵列基板的正投影覆盖所述触控电极在阵列基板的正投影。
结合参考图3和图4，显示面板00包括触控功能层08，触控功能层位于触控介质层04与发光层03之间，触控功能层08包括触控电极081和触控绝缘层082，其中触控电极081包括感应触控电极和驱动触控电极(图中未标注)，两者共同实现显示面板的触控功能，其中触控绝缘层082用于绝缘感应触控电极和驱动触控电极；可选的，触控功能层08包括靠近发光层03一侧的触控缓冲层083，用于支撑触控电极层，为触控电极层081直接集成与显示面板00提供的制备环境。可选的，触控缓冲层083为无机层。
继续参考图3和图4，黑矩阵05在阵列基板01的正投影覆盖触控电极081在阵列基板01的正投影。黑矩阵05在阵列基板01的正投影面积大于触控电极081在阵列基板01的正投影面积，在触控电极081远离阵列基板01一侧设置黑矩阵05，使得黑矩阵05覆盖触控电极081，能够有效的防止触控电极由于反射引起的金属可见，减小了显示面板在暗态下的环境光的反射。进一步地，触控介质层04位于触控功能层08远离阵列基板01一侧，也就是在第一方向X上，触控介质层04覆盖触控功能层08，可选的，触控介质层04为有机层，有机层具有一定的平坦功能，能够减小或消除触控电极引起的段差问题。
参考图4，像素定义层032包括靠近阵列基板一侧的第一底面0322、靠近第二开口0321的第一侧面0324和第二侧面0323，其中，第一底面0322所在平面与第一侧面0324所在平面的夹角为α1，第一底面0322所在平面与第二侧面0323所在平面的夹角为α2。黑矩阵05包括靠近阵列基板一侧的第二底面051、以及靠近触控介质层04一侧的第三侧面053和第四侧面054，其中，第二底面051所在平面与第三侧面053所在平面的夹角为β1(图中未标注)，第二底面051所在平面与第四侧面053所在平面的夹角为β2(图中未标注)；可选的，α1＝β1，α2＝β2，通过设置黑矩阵05与像素定义层032的高度以及侧壁角度是之间的关系，使得α1＝β1、α2＝β2，黑矩阵05不会影响发光单元的正常出光，能够最大限度的提高显示面板的出光效率，同时，黑矩阵在不影响发光单元出光效率的基础上，能够最大限度的设置黑矩阵的宽度，以此最大可能的挡住或吸收环境光经显示面板反射的光线，提高了显示面板的抗反射能力。
可选的，α1＝α2，相邻两个发光单元的像素定义层的侧壁的倾斜角度相同，使得发光单元的最大出光角度相同，防止出现由于像素定义层032的第二开口0321的设置角度不同影响不同颜色发光单元的出光效率出现差异引起显示面板出现色偏问题。
可选的，触控介质层包括相对设置的第一面和第二面，第一面为触控介质层靠近阵列基板一侧的表面，第二面为所述触控介质层远离阵列基板一侧的表面；第一面和第二面的至少一者包括凹槽，凹槽朝向第一面和第二面的另一者凹陷；凹槽形成第一开口。
图5为本发明实施例提供的显示面板中触控介质层的一种可选实施方式示意图。图6为本发明实施例提供的显示面板中触控介质层的又一种可选实施方式示意图。如图3、图5和图6所示，触控介质层04包括相对设置的第一面042和第二面043，第一面042为触控介质层04靠近阵列基板01一侧的表面，第二面043为触控介质层04远离阵列基板一侧的表面；第一面042和第二面043的至少一者包括凹槽，凹槽朝向第一面042和第二面043的另一者凹陷，凹槽形成第一开口041。可以理解的是，第一面042包括凹槽，第一面042的凹槽为第一凹槽0420，第一凹槽0420朝向第二面043进行凹陷，和/或，第二面043包括凹槽，第二面043的凹槽为第二凹槽0430，第二凹槽0430朝向第一面042的一侧进行凹槽。当触控介质层04仅第一面042包括第一凹槽，第一凹槽0420形成第一开口041；当触控介质层04仅第二面043包括第二凹槽0430，第二凹槽0430形成第一开口041，；当触控介质层04的第一面042和第二面043分别包括第一凹槽0420和第二凹槽0430时，可选的，第一凹槽0420和第二凹槽0430可共同形成第一开口041。
可选的，第一面包括凹槽，第一面的凹槽为第一凹槽，第一凹槽内填充有黑矩阵；在第一方向上，第一凹槽的深度小于所述触控介质层的最大厚度；第一方向为垂直于显示面板所在平面指向显示面板出光面的方向。
图7为本发明实施例提供的显示面板的又一种可选实施方式示意图。图8为图7所对应的显示面板中的触控介质层的一种可选实施方式示意图。图9为图7所对应的显示面板中黑矩阵的又一种可选实施方式示意图。结合图7-图9所示，触控介质层04的第一面042包括第一凹槽0420，第一凹槽0420内填充有黑矩阵05，也就是说通过第一面042的第一凹槽0420形成第一开口041，在第一凹槽0420(第一开口041)内填充有黑矩阵05；并且触控介质层04沿着背离显示面板00出光面的方向(第一方向的反向)覆盖黑矩阵05。在第一方向X上，第一凹槽0420的深度H2小于触控介质层04的最大厚度H1，其中第一方向X为垂直于显示面板所在平面指向显示面板出光面方向。其中，H1＞H2，能够保证部分触控介质层04沿第一方向X的反方向覆盖黑矩阵，在触控介质层04上进一步制备色阻层时，在色阻材料涂布过程中，触控介质层作为色阻层涂布承载基板，由于下方承载基板都是有触控介质层04形成，其材料相同、对应的材料疏水性能相同，色阻材料涂布过程不会因为下方承载基板材料性能差异引起色阻材料流动速率差异，避免了承载基板材料不同对色阻层的平坦性的影响。
需要说明的是，附图中一些相同的结构以及附图标注，本申请不再一一赘述。
可选的，第二面包括凹槽，第二面的凹槽为第二凹槽，第二凹槽内填充有黑矩阵；在第一方向上，第一凹槽的深度小于触控介质层的最大厚度；第一方向为垂直于显示面板所在平面指向显示面板出光面的方向。
图10为本发明实施例提供的显示面板的又一种可选实施方式示意图。图11为图10所对应的显示面板中的触控介质层的一种可选实施方式示意图。图12为图10所对应的显示面板中黑矩阵的又一种可选实施方式示意图。结合图10-图12，触控介质层04的第二面043包括第二凹槽0430，第二凹槽0430内填充有黑矩阵，也就是说通过第二面043的第一凹槽0430形成第一开口041，在第二凹槽0430(第一开口041)内填充有黑矩阵05；并且触控介质层04沿着第一方向X上覆盖黑矩阵05。在第一方向X上，第二凹槽0430的深度H4小于触控介质层04的最大厚度H3，其中第一方向X为垂直于显示面板所在平面指向显示面板出光面方向。其中，H3＞H4，参考图10，也就是在触控电极081与黑矩阵05之间还包括部分触控介质层04，使得触控电极081与黑矩阵05不直接接触；当触控电极081为金属触控电极时，触控电极081与黑矩阵05直接接触容易导致黑矩阵05与触控电极081之间出现膜层剥离的情况，而通过在触控电极081与黑矩阵05之间设置触控介质层04，触控介质层04包括有机层，通过触控介质层能够有效提高提高触控电极081与黑矩阵05之间的粘附力，防止黑矩阵05与下方膜层出现剥离从而导致显示面板出现裂纹。
可选的，第一面的和第二面包括凹槽，第一面的凹槽为第一凹槽，第二面的凹槽为第二凹槽；在第一方向上，第一凹槽与第二凹槽交叠，第一凹槽与第二凹槽贯穿触控介质层，第一凹槽与第二凹槽形成第一开口；第一方向为垂直于显示面板所在平面指向显示面板出光面的方向。
图13为图3所对应的显示面板中的触控介质层的又一种可选实施方式示意图。如图3和图13所示，触控介质层04的第一面042包括第一凹槽0420，触控介质层04的第二面043包括第二凹槽0430，在第一方向X上，第一凹槽0420和第二凹槽0430交叠，第一凹槽0420与第二凹槽0430贯穿触控介质层04；第一凹槽0420与第二凹槽0430形成第一开口041。可以理解的是，第一开口041由第一凹槽0420和第二凹槽0430共同形成，并且沿第一方向X，第一开口041贯穿触控介质层04。
继续参考图13，触控介质层04靠近第一开口041的表面为第五侧壁044，第五侧壁044所在平面与第二侧面042所在平面的夹角为α3，其中α3≥90°，其中，图13示出了α3大于90°的情况，以第一开口041大于90°匹配下方像素定义层的第二开口，有利于提升发光单元的出光效率；另外，图6示出了α3等于90°的情况，α3等于90°，其中，第一开口041在平行于阵列基板01所在平面且经过第一开口041的截面的面积大小相同，黑矩阵制备过程中流动速率变化幅度不会过大，提高黑矩阵的涂布工艺可控度。
可选的，黑矩阵填充第一凹槽和第二凹槽；沿第一方向，黑矩阵的最大厚度等于触控介质层的最大厚度。
图14为图3所对应的显示面板中的黑矩阵的又一种可选实施例示意图。如图14所示，第一凹槽0420和第二凹槽0430共同形成第一开口041，黑矩阵05填充在第一凹槽0420和第二凹槽0430，其中黑矩阵05的最大厚度H9等于触控介质层04的最大厚度H8。可以理解的是，黑矩阵05远离阵列基板01的表面与触控介质层04的第二面043平齐，以黑矩阵05和触控介质层04共同作为色阻层的承载基板，H8＝H9，以完全平齐的表面有利于提升色阻层涂布的平坦性能。
可选的，黑矩阵填充第一凹槽；沿第一方向，黑矩阵的最大厚度小于触控介质层的最大厚度；部分色阻单元填充第二凹槽。
图15为本发明实施例提供的显示面板的又一种可选实施方式示意图。图16为图15所对应的显示面板中的黑矩阵所在区域的一种可选实施例示意图。如图15和图16所示，黑矩阵05填充第一凹槽0420，沿第一方向X，黑矩阵05的最大厚度H11小于触控介质层04的最大厚度H10；其中第二凹槽0430位置可以填充部分色阻单元061。由于相邻两个色阻单元061存在交叠区域，交叠区域与黑矩阵05在第一方向X交叠。当色阻材料在涂布形成色阻单元061会在交叠区域存在凸起的可能，为了避免色阻单元061在交叠区域形成新的凸起，利用第二凹槽0430给色阻交叠区域预留部分容置空间，防止新的凸起引起显示不均；同时，当色阻单元061在黑矩阵05上方的厚度变小能够减小大视角下光线经过色阻单元061的传播距离，能够进一步减小大视角与正视角的视角色偏。可选的，沿第一方向X，第二凹槽0430的深度小于等于0.96μm。一般地，由于黑矩阵的存在色阻单元在制备过程中，导致在黑矩阵周围的色阻单元厚度将对于色阻单元中心区域的厚度差异约1.2μm，第二凹槽0430的深度小于等于牛角引起色阻单元厚度差异的80％；将黑矩阵设置于触控介质层的第一开口中已经可以缓解色阻单元的牛角现象，所以本实施例中的第二凹槽的深度不易过大，避免引起大视角光线经过色阻单元的路程大幅度减小引起新的色偏问题。
可选的，在第一方向X上，黑矩阵05的厚度为1～2μm，色阻单元061的厚度为2～5μm。
可选的，第一凹槽包括第一子表面和第二子表面，第一子表面为第一凹槽靠近阵列基板一侧的表面，第二子表面为第一凹槽远离阵列基板一侧的表面；第二凹槽包括第三子表面和第四子表面，第三子表面为第二凹槽靠近阵列基板一侧的表面，第四子表面为第二凹槽远离阵列基板一侧的表面；第三子表面在阵列基板的正投影与第四子表面在阵列基板的正投影重合。
图17为图13所示显示面板的触控介质层的部分投影示意图。结合图3、图13和图17所示，触控介质层04的第一面042包括第一凹槽0420，第一凹槽0420包括第一子表面0420a和第二子表面0420b，第一子表面0420a为第一凹槽0420靠近阵列基板01一侧的表面，第二子表面0420b为第一凹槽0420远离阵列基板01一侧的表面；第二凹槽0430包括第三子表面0430a和第四子表面0430b，第三子表面0430a为第二凹槽0430靠近阵列基板01一侧的表面，第四子表面0430b为第二凹槽0430远离阵列基板01一侧的表面。参考图17，第三子表面0430a在阵列基板01的正投影与第二子表面0420b在阵列基板01的正投影重合，也就是说第三子表面0430a与第二子表面0420b的面积大小相等，两者在阵列基板01的正投影也是重合的，即，第一凹槽0420与第二凹槽0430在相接触的表面的面积相等。
可选的，继续参考图17，第一子表面0420a在所述阵列基板01的正投影面积为S1，第二子表面0420b在阵列基板01的正投影面积为S2，第三子表面0430a在阵列基板01的正投影面积为S3，第四子表面0430b在阵列基板01的正投影面积为S4，其中，S1＞S2＝S3＞S4。触控介质层的第一开口041远离阵列基板01一侧的开口尺寸小于第一开口041靠近阵列基板01一侧的开口尺寸；当第一开口041内填充黑矩阵时，黑矩阵05的靠近阵列基板01一侧的底面积大于黑矩阵05远离阵列基板01一侧的顶面积，形成梯形结构的黑矩阵能够避免黑矩阵侧壁对发光单元出光的影响，增加出光面积提升出光效率。
可选的，第一子表面0420a在阵列基板01的正投影的边缘到距离最近的第二子表面0420b在阵列基板01的正投影的边缘的距离相等。请继续参考图17，第一子表面0420a在阵列基板01的正投影的边缘到距离最近的第二子表面0420b在阵列基板01的正投影的边缘的距离均为H5，且第一子表面0420a在阵列基板01的正投影的几何中心与第二子表面0420b在阵列基板01的正投影几何中心重合，使得第一凹槽0420为等腰梯形，能够保证第一凹槽0420的侧壁关于等腰梯形的对称轴成对称分布，有利于均衡各个发光单元出光角度。
可选的，第二子表面0420b在阵列基板01的正投影的边缘到距离最近的第四子表面0430b在阵列基板01的正投影的边缘的距离为H6，使得第二凹槽0430为等腰梯形，能够保证第一凹槽0430的侧壁关于等腰梯形的对称轴成对称分布。进一步地，H5＝H6，使得第一开口041为等腰梯形，能够保证第一开口041的侧壁关于等腰梯形的对称轴成对称分布，有利于均衡各个发光单元出光角度，提升显示品质。
图18为本发明实施例提供的显示面板的又一种可选实施方式示意图。图19为本发明实施例提供的显示面板的又一种可选实施方式示意图。如图18-19所示，显示面板00的发光单元031包括第一颜色发光单元031R、第二颜色发光单元031G和第三颜色发光单元031B，所述第一颜色光的中心波长为λ1，第二颜色光的中心波长为λ2，第三颜色光的中心波长为λ3，其中，λ1＞λ2＞λ3。色阻单元061包括第一颜色色阻单元061R、第二颜色色阻单元061G和第三颜色色阻单元061B，色阻单元与颜色相同的所述发光单元对应设置。可以理解的是，第一颜色发光单元031R与第一颜色色阻单元061R对应设置，可选的，沿第一方向X，第一发光单元031R与第一颜色色阻单元061R交叠；第二颜色发光单元031G与第二颜色色阻单元061G对应设置，可选的，沿第一方向X，第二发光单元031G与第二颜色色阻单元061G交叠；第三颜色发光单元031B与第三颜色色阻单元061B对应设置，可选的，沿第一方向X，第三发光单元031B与第三颜色色阻单元061B交叠。
可选的，第一颜色的中心波长为620～630nm，第二颜色的中心波长555～585nm，第三颜色的中心波长为440～480nm。
图20为第一颜色发光单元不同视角亮度衰减示意图。图21为第二颜色发光单元不同视角亮度衰减示意图。图22为第三颜色发光单元不同视角亮度衰减示意图。本申请人经过研究发现，参考图20-22，在相同视角条件小，第一颜色发光单元的衰减程度最大，第三颜色发光单元的衰减程度最小。由于各个颜色的发光单元衰减程度不一致，沿显示面板某一方向观看时，容易出现色分离的现象影响显示效果。
可选的，继续参考图18和图19，显示面板00的发光单元031包括第一颜色发光单元031R、第二颜色发光单元031G和第三颜色发光单元031B，所述第一颜色光的中心波长为λ1，第二颜色光的中心波长为λ2，第三颜色光的中心波长为λ3，其中，λ1＞λ2＞λ3。在第一方向X上，第一颜色发光单元031R对应的触控介质层04的厚度为D1，第二颜色发光单元031G对应的触控介质层04的厚度为D2，所述第三颜色发光单元031B对应的触控介质层04的厚度为D3，其中，D1＞D3＞D2。
需要说明的是，第一颜色光表示第一颜色发光单元发出的光，第二颜色光表示第二颜色发光单元发出的光，第三颜色光表示第三颜色发出的光。
图23为图18中发光单元发出光线在不同视角亮度衰减的原理图。结合图18和图23其中，大视角Bb和正视角Aa下：第一颜色发光单元031R发出的光线经第一颜色色阻单元061R所经过的路径的差值为m2-m1，第二颜色发光单元031G发出的光线经第二颜色色阻单元061G所经过的路径的差值为m4-m3；D1＞D2，根据图形相似原理，明显得到(m2-m1)＜(m4-m3)。
需要说明的是，如图23所示其中第一颜色色阻单元靠近阵列基板01的表面061R0，第二色阻单元靠近阵列基板01的表面061B0，图23仅为解释说明原理图，并不代表具体实际结构。(m2-m1)＜(m4-m3)，也就是说，在相同视角的情况下，第一颜色发光单元031R发出的光线经第一颜色色阻单元061R所经过的路径的差值比第二颜色发光单元031G发出的光线经第二颜色色阻单元061G所经过的路径的差值小，那么第一颜色发光单元的大视角与正视角亮度衰减就会相对减小，通过D1＞D2有效均衡了第一颜色发光单元与第二颜色发光单元亮度衰减差异，减小沿显示面板某一方向观看显示面板时的视角色偏现象。
需要说明的是，由图20-22可知，不同颜色发光单元不同视角亮度衰减速率不同，第一颜色发光单元不同视角亮度衰减最快，第二颜色发光单元不同视角亮度衰减最慢，对应D1＞D3＞D2，以均衡各个颜色发光单元不同视角亮度衰减速率，减小沿显示面板某一方向观看显示面板时的视角色偏现象，提升显示效果，具体的与上述相同的原理，再此不再重复赘述。
可选的，在第一方向X上，第一颜色色阻单元061R的厚度为n1，第二颜色色阻单元厚度为n2，第三颜色色阻单元厚度为n3，n1＜n3＜n2；其中，D1+n1＝D3+n3＝D2+n2，相比于现有技术，本实施例色阻层的平坦度相对于现有设计有所提升，改善大视角亮度能够减小显示面板的显示视角色偏和减小环境光经显示面板反射的色分散现象，同时能够均衡各个颜色发光单元不同视角亮度衰减速率。
可选的，第一颜色发光单元对应的触控介质层包括相对设置的第一面和第二面，第一面为第一颜色发光单元对应的触控介质层靠近阵列基板一侧的表面，第二面为第一颜色发光单元对应的触控介质层远离阵列基板一侧的表面；平行于显示面板所在平面且由第一颜色发光单元指向与第一发光单元相邻的黑矩阵的方向上，第一面到第二面的距离逐渐增大。
图24为本发明实施例提供的显示面板的又一种可选实施方式示意图。如图24所示，第一颜色发光单元031R对应的触控介质层04包括相对设置的第一面和第二面，第一面042为第一颜色发光单元031R对应的触控介质层04靠近阵列基板一侧的表面，第二面043为第一颜色发光单元031R对应的触控介质层04远离阵列基板一侧的表面；平行于显示面板所在平面且由第一颜色发光单元031R指向与第一发光单元031R相邻的黑矩阵05的方向上(图24标注的Y方向)，第一面042到第二面043的距离逐渐增大。相比于现有技术，本实施例中通过将正视角Aa的第一色阻单元的厚度增大，减小正视角Aa与大视角Bb的光线经过的路径差异，减小了第一颜色发光单元不同视角亮度衰减速率。发光单元亮度衰减差异随大视角的角度增大而增大，进一步地，沿Y方向，第一面042到第二面043的距离逐渐增大，能够逐渐平衡不同视角的亮度差异，改善显示效果。
可以理解的是，沿Y方向，第一面042到第二面043的距离逐渐增大，由第一色阻单元的几何中心指向第一色阻单元边缘方向即为Y方向，第一面042到第二面043的距离逐渐增大，与也可以理解为第一色阻单元的几何中心处，第一面042到第二面043距离最小。
需要说明的是，第一面042到第二面043的距离可以理解为沿第一方向X的距离。
可选的，继续参考图24，平行于显示面板所在平面且由第一颜色发光单元061R指向与第一发光单元061R相邻的黑矩阵05的方向上(Y方向)，第一颜色色阻单元的厚度逐渐减小，第一颜色色阻单元031R远离阵列基板01一侧到第一面的距离为固定值。第一颜色色阻单元与对应的触控介质层具有相反的变化规律，第一颜色色阻单元031R远离阵列基板01一侧到第一面的距离为固定值，最终在色阻层远离阵列基板表面形成一个平坦表面，可以省去色阻介质层进一步平坦，节省成本。
图25为本发明实施例提供的显示面板的又一种可选实施方式示意图。如图25所示，色阻单元061包括第一颜色色阻单元061R、第二颜色色阻单元061G和第三颜色色阻单元061B，其中，第一颜色色阻单元061R到触控介质层04的第一面042的最小距离为h1，第二颜色色阻单元061G到触控介质层04的第一面042的最小距离为h2，第三颜色色阻单元061B到触控介质层04的第一面042的最小距离为h3，其中h1＞h3＞h2。不同颜色发光单元不同视角亮度衰减速率不同，第一颜色发光单元不同视角亮度衰减最快，第二颜色发光单元不同视角亮度衰减最慢，h1＞h3＞h2，其中第一色阻单元正视角与大视角的色阻单元的厚度差异最小，对衰减补偿程度最大；第二色阻单元正视角与大视角的色阻单元的厚度差异最大，对衰减补偿程度最小，均衡各个颜色发光单元不同视角亮度衰减速率，减小沿显示面板某一方向观看显示面板时的视角色偏现象，提升显示效果。
可选的，继续参考图25，色阻层到触控介质层第一面的距离为h，且不同颜色色阻单元到触控介质层第一面的距离相等，最终在色阻层远离阵列基板表面形成一个平坦表面，可以省去色阻介质层进一步平坦，节省成本。
可选的，继续参考图24和图25，第二面043为曲面，触控介质层04的折射率小于第一颜色色阻单元的折射率，通过设置第一颜色色阻单元与触控介质层的折射率差异，形成微透镜结构提高第一颜色发光单元的出光效率。进一步地，通过设置色阻单元的折射率大于下方触控介质层的折射率，能够提高色阻单元对应的设置的发光单元的出光效率。可选的，曲面包括折线面或弧面。
基于同一发明构思，本发明还提供了一种显示面板的制作方法。图26为本发明实施例提供的一种显示面板的制作方法的流程图。图27图为图26对应所示的制作方法对应的显示面板的结构图。结合图26和图27所示，本发明提供的显示面板的制作方法包括，步骤S01：提供一阵列基板01；步骤S02：形成发光层03，发光层位于阵列基板01一侧，发光层03包括多个发光单元031；步骤S03：形成触控介质层04和黑矩阵05，触控介质层04位于发光层03远离阵列基板01一侧，触控介质层04包括多个第一开口041，第一开口在发光层03的正投影位于相邻两个发光单元031之间，黑矩阵05位于所述第一开口内。相比于现有技术，本发明采用本申请的制作方法的显示面板，一方面，利用黑矩阵和色阻层替代传统的偏光片，不仅减薄显示面板的厚度提升显示面板的柔性，还可以增加透光率提升整个显示面板的亮度；另一方面，将黑矩阵设置于触控介质层的第一开口中，消除色阻材料在涂布过程中由于黑矩阵存在导致色阻单元的出现牛角缺陷，也就是说，本申请中的色阻层的平坦度相对于现有设计有所提升，改善大视角亮度能够减小显示面板的显示视角色偏和减小环境光经显示面板反射的色分散现象；进一步地，将BM设置于触控介质层的第一开口中，减小了显示面板的发光单元与其上方周围黑矩阵的竖直方向距离，不会影响大视角出光。
可选的，形成触控介质层和黑矩阵包括：先形成触控介质层，然后形成黑矩阵；在形成黑矩阵之前还包括对触控介质层进行刻蚀形成第一开口，第一开口的深度小于等于触控介质层的厚度，在第一开口内形成黑矩阵。
图28为本发明实施例提供的显示面板的黑矩阵与触控介质层的制作方法的一种可选实施方式的示意图。图29图为图28对应所示的制作方法对应的显示面板的结构图。参考图28和29，步骤S03包括形成触控介质层04和黑矩阵05，可选的，步骤S03包括，步骤S031：形成触控介质层04；步骤S032，对触控介质层04进行刻蚀形成第一开口041；步骤S033，第一开口内形成黑矩阵05。可选的，黑矩阵的厚度小于触控介质层的厚度。其中第一开口041的深度小于等于触控介质层的厚度，当第一开口深度等于触控介质层04的厚度时，填充的黑矩阵05的厚度达到最大，能够有效吸收环境光经阳极反射的光线提高显示面板的抗反射能力；当第一开口的深度等于触控介质层04的厚度时，黑矩阵与下方膜层不直接接触，能够减小裂纹风险，比如触控介质层04下方设置触控电极时，触控电极与黑矩阵05直接接触容易导致黑矩阵05与触控电极之间出现膜层剥离的情况，而通过在触控电极与黑矩阵05之间设置触控介质层04，可选的，触控介质层04包括有机层，通过触控介质层能够有效提高提高触控电极与黑矩阵05之间的粘附力，防止黑矩阵05与下方膜层出现剥离从而导致显示面板出现裂纹。
可选的，第一开口的深度大于等于黑矩阵的厚度。
可选的，所述形成触控介质层和黑矩阵包括：先形成黑矩阵，然后在黑矩阵远离阵列基板一侧形成触控介质层。
图30为本发明实施例提供的显示面板的黑矩阵与触控介质层的制作方法的又一种可选实施方式的示意图。图31图为图30对应所示的制作方法对应的显示面板的结构图。参考图30和31，步骤S03包括形成触控介质层04和黑矩阵05；可选的，步骤S03包括，步骤S0311：形成黑矩阵05，黑矩阵05位于发光层03远离阵列基板01一侧；步骤S0312：黑矩阵05远离阵列基板01一侧形成触控介质层04。可选的，触控介质层04朝向背离显示面板出光面方向上覆盖所述黑矩阵05。相比于前述实施例，本实施例中可以不需要对触控介质层04再次进行刻蚀，简化了工艺，提高生产良率。
图32为本发明实施例提供的显示面板的黑矩阵与触控介质层的制作方法的一种可选实施方式的示意图。可选的，黑矩阵05与触控介质层04的交叠部分进行刻蚀，黑矩阵的厚度小于触控介质层04的厚度。当色阻材料在涂布形成色阻单元会在交叠部分存在凸起的可能，为了避免色阻单元在交叠部分形成新的凸起，利用刻蚀触控介质层给色阻层交叠部分预留部分容置空间，防止新的凸起引起显示不均；同时，当色阻单元在黑矩阵05上方的厚度变小能够减小大视角下光线经过色阻单元的传播距离，能够进一步减小大视角与正视角的视角色偏。
本发明还提供一种显示装置，图33为本发明实施例提供的显示装置示意图。显示装置包括本发明任一实施例提供的显示面板。本发明提供的显示装置包括但不限于以下类别：电视机、笔记本电脑、桌上型显示器、平板电脑、数码相机、手机、智能手环、智能眼镜、车载显示器、医疗设备、工控设备、触摸交互终端等。
通过上述实施例可知，本发明提供的显示面板及其制作方法、显示装置，至少实现了如下的有益效果：
本发明提供的显示面板包括阵列基板和发光层，发光层包括多个发光单元；触控介质层，触控介质层位于发光层阵列基板一侧，触控介质层包括多个第一开口，第一开口在发光层的正投影位于相邻两个发光单元之间；黑矩阵和色阻层，黑矩阵位于触控介质层的第一开口内，色阻层位于触控介质层远离阵列基板一侧，色阻层包括多个色阻单元，色阻单元与发光单元一一对应设置。一方面，利用黑矩阵和色阻层替代传统的偏光片，不仅减薄显示面板的厚度提升显示面板的柔性，还可以增加透光率提升整个显示面板的亮度；另一方面，将黑矩阵设置于触控介质层的第一开口中，消除色阻材料在涂布过程中由于黑矩阵存在导致色阻单元边缘出现牛角缺陷，也就是说，本申请中的色阻层的平坦度相对于现有设计有所提升，改善大视角亮度能够减小显示面板的显示视角色偏和减小环境光经显示面板反射的色分散现象；进一步地，将BM设置于触控介质层的第一开口中，减小了显示面板的发光单元与其上方周围黑矩阵的竖直方向距离，不会影响大视角出光。
以上内容是结合具体的优选实施方式对本发明所作的进一步详细说明，不能认定本发明的具体实施只局限于这些说明。对于本发明所属技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干简单推演或替换，都应当视为属于本发明的保护范围。

Claims (25)

1.一种显示面板，其特征在于，包括：
阵列基板；
发光层，所述发光层位于所述阵列基板一侧，所述发光层包括多个发光单元；
触控介质层，所述触控介质层位于所述发光层远离所述阵列基板一侧，所述触控介质层包括多个第一开口，所述第一开口在所述发光层的正投影位于相邻两个所述发光单元之间；
黑矩阵，所述黑矩阵位于所述第一开口内；
色阻层，所述色阻层位于所述触控介质层远离所述阵列基板一侧，所述色阻层包括多个色阻单元，所述色阻单元与所述发光单元一一对应。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，
所述触控介质层包括相对设置的第一面和第二面，所述第一面为所述触控介质层靠近所述阵列基板一侧的表面，所述第二面为所述触控介质层远离所述阵列基板一侧的表面；
所述第一面和所述第二面的至少一者包括凹槽，所述凹槽朝向所述第一面和所述第二面的另一者凹陷；
所述凹槽形成所述第一开口。
3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，
所述第一面包括所述凹槽，所述第一面的凹槽为第一凹槽，所述第一凹槽内填充有所述黑矩阵；
在第一方向上，所述第一凹槽的深度小于所述触控介质层的最大厚度；
所述第一方向为垂直于所述显示面板所在平面指向所述显示面板出光面的方向。
4.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，
所述第二面包括所述凹槽，所述第二面的凹槽为第二凹槽，所述第二凹槽内填充有所述黑矩阵；
在第一方向上，所述第一凹槽的深度小于所述触控介质层的最大厚度；
所述第一方向为垂直于所述显示面板所在平面指向所述显示面板出光面的方向。
5.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，
所述第一面的和所述第二面包括所述凹槽，所述第一面的凹槽为第一凹槽，所述第二面的凹槽为第二凹槽；
在第一方向上，所述第一凹槽与所述第二凹槽交叠，所述第一凹槽与所述第二凹槽贯穿所述触控介质层，所述第一凹槽与所述第二凹槽形成所述第一开口；
所述第一方向为垂直于所述显示面板所在平面指向所述显示面板出光面的方向。
6.根据权利要求5所述的显示面板，其特征在于，
所述第一凹槽包括第一子表面和第二子表面，所述第一子表面为所述第一凹槽靠近所述阵列基板一侧的表面，所述第二子表面为所述第一凹槽远离所述阵列基板一侧的表面；
所述第二凹槽包括第三子表面和第四子表面，所述第三子表面为所述第二凹槽靠近所述阵列基板一例的表面，所述第四子表面为所述第二凹槽远离所述阵列基板一侧的表面；
所述第三子表面在所述阵列基板的正投影与所述第二子表面在所述阵列基板的正投影重合。
7.根据权利要求6所述的显示面板，其特征在于，
所述第一子表面在所述阵列基板的正投影面积为S1，所述第二子表面在所述阵列基板的正投影面积为S2，所述第三子表面在所述阵列基板的正投影面积为S3，所述第四子表面在所述阵列基板的正投影面积为S4，其中，S1＞S2＝S3＞S4。
8.根据权利要求7所述的显示面板，其特征在于，
所述第一子表面在所述阵列基板的正投影的边缘到距离最近的所述第二子表面在所述阵列基板的正投影的边缘的距离相等。
9.根据权利要求6所述的显示面板，其特征在于，
所述黑矩阵填充所述第一凹槽和所述第二凹槽；
沿所述第一方向，所述黑矩阵的最大厚度等于所述触控介质层的最大厚度。
10.根据权利要求6所述的显示面板，其特征在于，
所述黑矩阵填充所述第一凹槽；
沿所述第一方向，所述黑矩阵的最大厚度小于所述触控介质层的最大厚度；
部分所述色阻单元填充所述第二凹槽。
11.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，
所述显示面板还包括像素定义层，所述像素定义层位于所述阵列基板与所述触控介质层之间，所述像素定义层包括多个第二开口，所述发光单元位于所述第二开口，所述第二开口与所述发光单元一一对应设置；
在第一方向上，所述第一开口与所述第二开口不交叠；
所述第一方向为垂直于所述显示面板所在平面指向所述显示面板出光面的方向。
12.根据权利要求11所述的显示面板，其特征在于，
相邻两个所述发光单元之间的所述黑矩阵的最大宽度为d1，所述发光单元包括阳极，相邻两个所述阳极之间的最短距离为d2，其中d2≥d1。
13.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，
所述显示面板还包括触控功能层，所述触控功能层位于所述触控介质层与所述发光层之间，所述触控功能层包括触控电极和所述触控电极之间的触控绝缘层；
所述黑矩阵在所述阵列基板的正投影覆盖所述触控电极在所述阵列基板的正投影。
14.根据权利要求11所述的显示面板，其特征在于，
所述发光单元包括第一颜色发光单元、第二颜色发光单元和第三颜色发光单元，第一颜色光的中心波长为λ1，第二颜色光的中心波长为λ2，第三颜色光的中心波长为λ3，其中，λ1＞λ2＞λ3；
在所述第一方向上，所述第一颜色发光单元对应的所述触控介质层的厚度为D1，所述第二颜色发光单元对应的触控介质层的厚度为D2，所述第三颜色发光单元对应的触控介质层的厚度为D3，其中，D1＞D3＞D2。
15.根据权利要求14所述的显示面板，其特征在于，
所述色阻单元包括第一颜色色阻单元、第二颜色色阻单元和第三颜色色阻单元，所述色阻单元与颜色相同的所述发光单元对应设置；
在所述第一方向上，所述第一颜色色阻单元厚度为n1，所述第二颜色色阻单元厚度为n2，所述第三颜色色阻单元厚度为n3，n1＜n3＜n2；
其中，D1+n1＝D3+n3＝D2+n2。
16.根据权利要求11所述的显示面板，其特征在于，
所述发光单元包括第一颜色发光单元、第二颜色发光单元和第三颜色发光单元，第一颜色光的中心波长为λ1，第二颜色光的中心波长为λ2，第三颜色光的中心波长为λ3，其中，λ1＞λ2＞λ3；
与所述第一颜色发光单元对应的触控介质层包括相对设置的第一面和第二面，所述第一面为所述第一颜色发光单元对应的触控介质层靠近所述阵列基板一侧的表面，所述第二面为所述第一颜色发光单元对应的触控介质层远离所述阵列基板一侧的表面；
平行于所述显示面板所在平面且由所述第一颜色发光单元指向与所述第一发光单元相邻的所述黑矩阵的方向上，所述第一面到所述第二面的距离逐渐增大。
17.根据权利要求16所述的显示面板，其特征在于，
所述色阻单元包括第一颜色色阻单元，所述第一颜色色阻单元与所述第一颜色发光单元对应设置；
平行于所述显示面板所在平面且由所述第一颜色发光单元指向与所述第一发光单元相邻的所述黑矩阵的方向上，所述第一颜色色阻单元的厚度逐渐减小；
所述第一颜色色阻单元远离所述阵列基板一侧到所述第一面的距离为固定值。
18.根据权利要求16所述的显示面板，其特征在于，
所述第一面为曲面，所述触控介质层的折射率小于所述第一颜色色阻单元的折射率。
19.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-18任一项所述显示面板。
20.一种显示面板的制作方法，其特征在于，包括，
提供一阵列基板；
形成发光层，所述发光层位于所述阵列基板一侧，所述发光层包括多个发光单元；
形成触控介质层和黑矩阵，所述触控介质层位于所述发光层远离所述阵列基板一侧，所述触控介质层包括多个第一开口，所述第一开口在所述发光层的正投影位于相邻两个所述发光单元之间，所述黑矩阵位于所述第一开口内。
21.根据权利要求20所述的制作方法，其特征在于，
所述形成触控介质层和黑矩阵包括：先形成触控介质层，然后形成黑矩阵；
在所述形成黑矩阵之前还包括对所述触控介质层进行刻蚀形成所述第一开口，所述第一开口的深度小于等于所述触控介质层的厚度，在所述第一开口内形成所述黑矩阵。
22.根据权利要求21所述的制作方法，其特征在于，
所述黑矩阵的厚度小于所述触控介质层的厚度。
23.根据权利要求20所述的制作方法，其特征在于，
所述形成触控介质层和黑矩阵包括：先形成黑矩阵，然后在所述黑矩阵远离所述阵列基板一侧形成触控介质层。
24.根据权利要求23所述的制作方法，其特征在于，
所述触控介质层覆盖所述黑矩阵。
25.根据权利要求24所述的制作方法，其特征在于，
对所述黑矩阵与所述触控介质层的交叠部分进行刻蚀，所述黑矩阵的厚度小于所述触控介质层的厚度。
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