CN112740369A - 基板处理装置 - Google Patents

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Abstract

在基板处理装置(1)中，与沿上下方向排列的多个处理部(31)相比在上方配置有多个集合管(61a～61c)。多个集合管(61a～61c)与多个流体类别分别对应。另外，设有从多个处理部(31)趋向上方、并且供来自多个处理部(31)的排气分别流入的多个排气管(4)。在各排气管(4)的上端部设有流路切换部(5)，该流路切换部(5)将该上端部连接于多个集合管(61a～61c)，并且使在该排气管(4)内流动的排气的流路在多个集合管(61a～61c)之间进行切换。在基板处理装置(1)中，能够降低排气管(4)中的压力损耗并且减小占用面积。

Description

基板处理装置
技术领域
本发明涉及基板处理装置。
背景技术
以往，在半导体器件的制造中，使用相对于半导体基板(以下，简称为“基板”)使用各种各样的处理流体进行处理的基板处理装置。另外，在JP特开2016-72480号公报(文献1)中，公开了根据处理流体的种类在将从基板处理装置排出的排气的导出端在三个排气处理装置之间进行切换的排气切换装置。在文献1中，基板处理装置设置于清洁室，排气切换装置设置于被称为次洁净区的、清洁室的下层空间。通过设置排气切换装置，能够降低环境负担。此外，在国际公开第WO2014/103523号公开了将与多个处理室对应的排气切换单元以多层状态嵌入而构成的排气切换装置，并记载了在排气切换装置安装脚轮以设为能够移动、或用螺栓将排气切换装置固定于设置场所的地面。
然而，如文献1所示，在将排气切换装置配置于次洁净区的情况下，从基板处理装置的处理部到排气切换装置为止连续的排气管的长度变长，因此，排气管中的压力损耗会变大。可以考虑将排气切换装置配置于处理部的侧方，来缩短排气管，但基板处理装置整体的占用面积(footprint)会变大。
发明内容
本发明是面向基板处理装置的技术，其目的在于降低排气管中的压力损耗并且减小基板处理装置的占用面积。
本发明的基板处理装置具备：在上下方向上排列的多个处理部，该多个处理部能够分别将多种处理流体供给至基板；多个排气管，其从所述多个处理部趋向上方，并且供来自所述多个处理部的排气分别流入；两个以上的集合管，其与所述多个处理部相比配置在上方，分别与将所述多种处理流体分类而得到的两个以上的流体类别对应；多个流路切换部，该多个流路切换部分别设于一个排气管的上端部，并且将所述上端部连接于所述两个以上的集合管，使在所述排气管流动的排气的流路在所述两个以上的集合管之间切换；以及控制部，其根据在所述多个处理部中使用的处理流体，控制所述多个流路切换部。
根据本发明，能够降低排气管中的压力损耗，并且减小基板处理装置的占用面积。
在本发明的一个优选的方式中，所述两个以上的集合管在所述上下方向上与所述多个处理部重叠。
在本发明的其他优选的方式中，基板处理装置还具备支承所述多个处理部的支承框架，所述两个以上的集合管相对于所述支承框架固定。
在本发明的其他优选的方式中，所述两个以上的集合管沿与所述上下方向大致垂直的长边方向延伸，将所述多个处理部、所述多个排气管以及所述多个流路切换部的集合组作为层叠单元，所述基板处理装置还具备具有与所述层叠单元相同的构成、并且相对于所述层叠单元位于所述长边方向的另一个层叠单元。
在本发明的其他优选的方式中，各排气管具备：从处理部朝向上方延伸的第1排气路径；以及具有从所述第1排气路径的上端朝向与所述上下方向大致垂直的方向延伸的部位且与流路切换部连接的第2排气路径，所述多个排气管中的多个第1排气路径的上端彼此靠近配置，所述多个第1排气路径的长度彼此不同，所述多个排气管中的多个第2排气路径的长度彼此不同，在所述多个排气管所包含的两个排气管的各组合中，一个排气管中的所述第1排气路径的长度比另一个排气管中的所述第1排气路径长，所述一个排气管中的所述第2排气路径的长度比所述另一个排气管中的所述第2排气路径短。
在本发明的其他优选的方式中，各处理部经由沿所述上下方向延伸的长孔，与沿所述上下方向延伸的排气管连接。
在本发明的其他优选的方式中，基板处理装置还具备：分别向所述多个排气管内喷出规定的液体的多个液体喷出部；以及从所述多个排气管的下端部趋向下方的多个排液管。
在本发明的其他优选的方式中，基板处理装置还具备分别设于所述多个排气管的多个压力调节部，各压力调节部具备：测定排气管内的压力的压力传感器；以及流量调节机构，其基于所述压力传感器的测定值，对在所述排气管内流动的所述排气的流量进行调节
在本发明的其他优选的方式中，所述各压力调节部配置于与处理部的排气口相邻的区域。
在本发明的其他优选的方式中，基板处理装置还具备多个外部气体导入部，该多个外部气体导入部分别与所述两个以上的集合管连接，并且与所述多个流路切换部对应，与各流路切换部对应的外部气体导入部向除了利用所述各流路切换部选择为所述排气的流路的集合管以外的集合管导入外部气体。
在该情况下，优选各外部气体导入部具有改变与所述两个以上的集合管连通的外部气体导入口的开口面积的闸门。
上述目的以及其他目的、特征、形态以及优点参照附图并根据以下进行的对该发明的详细说明而变明朗。
附图说明
图1是示出基板处理装置的外观的图。
图2是示出基板处理装置的俯视图。
图3是示出层叠单元的图。
图4是示出第2排气路径的俯视图。
图5是示出流路切换部以及外部气体导入部的内部构成的图。
图6是示出排气管的下端部附近的内部构成的图。
图7是示出与集合管组连接的多个层叠单元的图。
图8是示出多个集合管的其他排列的图。
具体实施方式
图1是示出本发明的一实施方式的基板处理装置1的外观的图。基板处理装置1是在后述的处理部31中一张一张地处理基板9的单张式的装置。在图1中，示出彼此正交的三个方向来作为X方向、Y方向以及Z方向。典型地，Z方向为上下方向(铅垂方向)，X方向以及Y方向为水平方向。
图2是示出从(+Z)侧朝向(-Z)方向观察到的基板处理装置1的俯视图。如图1以及图2所示，基板处理装置1具有控制部10、支承框架20、容器载置部21、分度盘机械手22、中央机械手23、多个层叠单元3、以及多个集合管组6。控制部10承担基板处理装置1整体的控制。
如图2所示，容器载置部21设于基板处理装置1的(-Y)侧的端部，具有多个容器载置台211。多个容器载置台211沿X方向延伸。在各容器载置台211载置有收容多个基板9的收容容器C。收容容器C为分多层地收容多个基板9的载体。分度盘机械手22配置在容器载置部21的附近。分度盘机械手22从收容容器C搬出未处理的基板9，并且将处理结束的基板9搬入至收容容器C内。另外，分度盘机械手22在与中央机械手23之间交接基板9。中央机械手23在分度盘机械手22的(+Y)侧，配置在X方向上的大致中央。中央机械手23将从分度盘机械手22受理的未处理的基板9搬入后述的处理部31内。另外，中央机械手23从处理部31搬出处理结束的基板9，将该基板9交付于分度盘机械手22。
多个层叠单元3配置在中央机械手23的周围。在图2的例子中，在中央机械手23的(+X)侧，两个层叠单元3沿Y方向排列，在中央机械手23的(-X)侧，两个层叠单元3沿Y方向排列。如图1所示，各层叠单元3包括多个处理部31。多个处理部31在上下方向上排列。在本实施方式中，各层叠单元3具有三个处理部31。各层叠单元3中的处理部31个数可以为两个，也可以为4个以上。支承框架20为支承基板处理装置1的主要构成的支承体。在图1中，用粗的虚线示出支承框架20的一部分。多个层叠单元3的处理部31利用螺栓等安装于支承框架20，由支承框架20支承。
在图1以及图2中，用虚线的矩形示出各处理部31中的处理腔室的外形。在处理部31，在处理腔室的内部设有基板保持部、喷嘴部等。在处理部31，能够经由喷嘴部相对于保持于基板保持部的基板9供给多种处理流体。在处理流体为液体的情况下，例如，还设有旋转基板保持部的基板旋转部、以及包围基板保持部的周围的杯部，供给至旋转的基板9上的处理流体由杯部接收并回收。另外，在处理腔室的上方设有风扇过滤器单元(FFU)，在处理腔室内形成有朝向下方的气流。在处理部31中利用的处理流体被分类成多个流体类别。在本实施方式中，多个流体类别包括酸性药液、碱性药液以及有机溶剂。处理流体也可以为气体。
酸性药液例如为DHF(稀氢氟酸)、SC2(过氧盐酸)、BHF(Buffered HF：缓冲HF)、硫酸、SPM(过氧化氢溶液)、氟硝酸(氢氟酸和硝酸的混合液)等。碱性药液例如为SC1(氨过氧化氢溶液)、氨水、氟化铵溶液、TMAH(氢氧化四甲铵)等。有机溶剂为IPA(异丙醇)、甲醇、乙醇、HFE(氢氟醚)、丙酮等。有机溶剂可以为混合液，例如为IPA与丙酮的混合液、IPA与甲醇的混合液等。
如图2所示，在基板处理装置1中，还设有酸性药液供给单元81、碱性药液供给单元82以及有机溶剂供给单元83。酸性药液供给单元81、碱性药液供给单元82以及有机溶剂供给单元83配置于多个层叠单元3的(+Y)侧。酸性药液供给单元81蓄积酸性药液，并且向处理部31的喷嘴部供给酸性药液。碱性药液供给单元82蓄积碱性药液，并且向处理部31的喷嘴部供给碱性药液。有机溶剂供给单元83蓄积有机溶剂，并且向处理部31的喷嘴部供给有机溶剂。
多个集合管组6配置于多个层叠单元3的上方。如图1所示，各集合管组6具有多个集合管61a、61b、61c。包含在各集合管组6内的多个集合管61a～61c在沿上下方向层叠的状态下，沿与上下方向大致垂直的方向(为图1中的Y方向，以下，称为“长边方向”)延伸。在本实施方式中，与长边方向垂直的集合管61a～61c的剖面形状为矩形(参照后述的图3)。集合管61a～61c的剖面形状也可以为其他形状。多个集合管61a～61c经由省略图示的构件相对于支承框架20固定。
在图1以及图2的例子中，设有两个集合管组6，各集合管组6包括三个集合管61a～61c。另外，各集合管组6配置在沿长边方向排列的两个层叠单元3的上方，包含在该两个层叠单元3内的各处理部31经由后述的排气管4等与该集合管组6的三个集合管61a～61c连接。该集合管组6的三个集合管61a～61c与包含在该两个层叠单元3内的多个处理部31在上下方向上重叠。即，如图2所示，在俯视基板处理装置1的情况下，该三个集合管61a～61c与该多个处理部31重叠。在基板处理装置1中，在中央机械手23的上方设有风扇过滤器单元(FFU)，但在上下方向上，多个集合管61a～61c与多个处理部31重叠，由此，防止风扇过滤器单元中的空气的引入被集合管61a～61c妨碍。
包含在各集合管组6内的多个集合管61a～61c分别与已经说明的多个流体类别对应。在本实施方式中，沿上下方向层叠的多个集合管61a～61c中的、最上侧的集合管61a与酸性药液对应。即，在处理部31内利用酸性药液时，作为从处理部31排出的气体(以下，称为“酸性排气”)的排出线而利用最上侧的集合管61a。酸性排气例如包括从酸性药液产生的气体以及雾气。同样地，在处理部31内利用碱性药液时，作为从处理部31排出的气体(以下，称为“碱性排气”)的排出线，利用最下侧的集合管61c。碱性排气例如包括从碱性药液产生的气体以及雾气。另外，在处理部31内利用有机溶剂时，作为从处理部31排出的气体(以下，称为“有机排气”)的排出线，利用中央的集合管61b。有机排气包括例如从有机溶剂产生的气体以及雾气。
如图2所示，多个集合管61a～61c的(+Y)侧的端部与排气单元62连接。在排气单元62中，设有沿上下方向延伸的多个排气路，多个集合管61a～61c分别与多个排气路的上端连接。各排气路的下端与工厂配管连接。工厂配管减压至大致一定的压力。酸性排气、碱性排气以及有机排气经由工厂配管向个别的排气处理设备导入，被适当地处理。可以根据工厂配管的配置，各集合管61a～61c经由从该集合管61a～61c向上方延伸的排气路，与工厂配管连接。
图3示出从(-Y)侧朝向(+Y)方向观察到的层叠单元3的图。各层叠单元3在多个处理部31的基础上，还具备多个排气管4、多个流路切换部5、和多个外部气体导入部7。多个排气管4分别与多个处理部31连接。各排气管4为供从处理部31排出的酸性排气、碱性排气以及有机排气(以下，总称为“排气”)流入的流路。此外，被处理部31利用的处理液(包括酸性药液、碱性药液以及有机溶剂)经由省略图示的排液线排出。
如图3所示，各排气管4具备第1排气路径41和第2排气路径42。第1排气路径41沿上下方向延伸，第1排气路径41的下端411与处理部31连接。第1排气路径41的下端411为排气管4的下端部，以下，称为“下端部411”。在排气管4的下端部411附近设有后述的压力调节部46等(参照图6)。第1排气路径41的上端412与该处理部31相比位于上方。在第1排气路径41的上端412连接有第2排气路径42。
如上所述，在各层叠单元3中，多个处理部31沿上下方向层叠，在与该多个处理部31连接的多个第1排气路径41中，上下方向上的下端部411的位置彼此不同。另一方面，在该多个第1排气路径41中，上下方向上的上端412的位置彼此相同。因此，多个第1排气路径41的长度彼此不同。该多个第1排气路径41中的、与配置在最下侧的处理部31连接的第1排气路径41的长度最大，与配置在最上侧的处理部31连接的第1排气路径41的长度最小。在沿上下方向层叠有三个处理部31的图3的例子中，与下层的处理部31连接的第1排气路径41的长度比与中层的处理部31连接的第1排气路径41长，与中层的处理部31连接的第1排气路径41的长度比与上层的处理部31连接的第1排气路径41长。
另外，在各层叠单元3中，第1排气路径41的下端部411的、相对于处理部31的相对位置在多个第1排气路径41中相同。具体来说，在处理部31中的朝向Y方向的侧面中，在X方向的端部安装有下端部411。另外，以使多个第1排气路径41中的上端412彼此靠近并且沿X方向排列的方式，在与中层的处理部31连接的第1排气路径41、以及与下层的处理部31连接的第1排气路径41中，设有沿相对于上下方向倾斜的方向延伸的部位。
图4是示出图3中的(+X)侧的层叠单元3中的多个第2排气路径42的俯视图。各第2排气路径42具有第1连接端部421、以及第2连接端部422。第1连接端部421以及第2连接端部422为第2排气路径42的两端部。
多个第2排气路径42的第1连接端部421沿X方向排列，在多个第1连接端部421分别连接有多个第1排气路径41的上端412。如图3以及图4所示，在最(-X)侧的第1连接端部421连接有与上层的处理部31连接的第1排气路径41的上端412，该第1连接端部421经由该第1排气路径41与上层的处理部31连接。像这样，最(-X)侧的第1连接端部421、以及具有该第1连接端部421的第2排气路径42与上层的处理部31对应。同样地，与该第1连接端部421在(+X)侧相邻的第1连接端部421连接有与中层的处理部31连接的第1排气路径41的上端412，该第1连接端部421、以及具有该第1连接端部421的第2排气路径42与中层的处理部31对应。另外，在最(+X)侧的第1连接端部421连接有与下层的处理部31连接的第1排气路径41的上端412，该第1连接端部421、以及具有该第1连接端部421的第2排气路径42与下层的处理部31对应。
多个第2排气路径42的第2连接端部422沿集合管61a～61c的长边方向(Y方向)排列，在多个第2连接端部422分别连接有多个流路切换部5。在第1连接端部421配置在最(+X)侧的第2排气路径42、即与下层的处理部31对应的第2排气路径42中，从第1连接端部421到第2连接端部422为止的路径仅沿X方向延伸。在其他两个第2排气路径42、即与中层的处理部31对应的第2排气路径42、以及与上层的处理部31对应的第2排气路径42中，从第1连接端部421到第2连接端部422为止的路径为具有沿Y方向延伸的部位、和沿X方向延伸的部位的L字状。多个第2排气路径42中的上述路径的长度彼此不同。具体来说，与上层的处理部31对应的第2排气路径42的长度比与中层的处理部31对应的第2排气路径42长，与中层的处理部31对应的第2排气路径42的长度比与下层的处理部31对应的第2排气路径42长。此外，图4的第2排气路径42的形状只不过为一例，第2排气路径42也可以为具有从第1排气路径41的上端向与上下方向大致垂直的方向延伸的部位的其他形状。
如上所述，在各层叠单元3所包含的多个排气管4中，多个第1排气路径41中的、与上层的处理部31对应的第1排气路径41的长度最小，与下层的处理部31对应的第1排气路径41的长度最大。另外，多个第2排气路径42中的、与上层的处理部31对应的第2排气路径42的长度最大，与下层的处理部31对应的第2排气路径42的长度最小。因此，在多个排气管4所包含的两个排气管4的各组合中，一个排气管4中的第1排气路径41的长度比另一个排气管4中的第1排气路径41长，这一个排气管4中的第2排气路径42的长度比另一个排气管4中的第2排气路径42短。此外，也可以根据基板处理装置1的设计而不成立两个排气管4的各组合中的上述关系。
图5是示意性示出流路切换部5以及外部气体导入部7的内部构成的图。在图5中，也图示了后述的压力调节部46。如上所述，流路切换部5安装于作为排气管4的上端部的第2排气路径42(参照图4)，经由排气管4与一个处理部31连接。流路切换部5具备分支管51、以及多个排气开闭阀53a、53b、53c。分支管51的一端与排气管4连接。分支管51的另一端分支成多个分支路52a、52b、52c，多个分支路52a～52c分别与集合管组6的多个集合管61a～61c连接。像这样，流路切换部5将排气管4的上端部连接于多个集合管61a～61c。
在本实施方式中，分支路52a与酸性排气用的集合管61a连接，分支路52b与有机排气用的集合管61b连接，分支路52c与碱性排气用的集合管61c连接。在多个分支路52a～52c的内部分别设有多个排气开闭阀53a～53c。排气开闭阀53a～53c例如为蝴蝶阀。排气开闭阀53a～53c也可以为其他种类的阀。各排气开闭阀53a～53c与气缸或者马达等的执行机构(省略图示)连接，能够利用排气开闭阀53a～53c开闭分支路52a～52c的流路。
外部气体导入部7配置在隔着集合管组6与各流路切换部5相对置的位置，与多个集合管61a～61c连接。外部气体导入部7具有分支管71、多个外部气体开闭阀73a、73b、73c、闸门79。分支管71的一端作为外部气体导入口711而开口。如后述那样，外部气体导入口711经由分支管71与多个集合管61a～61c连通。在外部气体导入口711设有闸门79。闸门79例如具有两个板状构件791，两个板状构件791能够沿外部气体导入口711的开口面移动。在闸门79中，通过改变两个板状构件791的位置，能够改变外部气体导入口711的开口面积。
分支管71的另一端分支成多个分支路72a、72b、72c，多个分支路72a～72c分别与集合管组6的多个集合管61a～61c连接。即，分支路72a与酸性排气用的集合管61a连接，分支路72b与有机排气用的集合管61b连接，分支路72c与碱性排气用的集合管61c连接。在多个分支路72a～72c的内部分别设有多个外部气体开闭阀73a～73c。外部气体开闭阀73a～73c例如为蝴蝶阀。外部气体开闭阀73a～73c也可以为其他种类的阀。各外部气体开闭阀73a～73c与气缸或者马达等的执行机构(省略图示)连接，能够利用外部气体开闭阀73a～73c开闭分支路72a～72c的流路。
在基板处理装置1中，根据在各处理部31中使用的处理流体，利用控制部10控制与该处理部31对应的流路切换部5以及外部气体导入部7。具体来说，在连接有各流路切换部5的处理部31内利用酸性药液时，打开分支路52a内的排气开闭阀53a，关闭其他排气开闭阀53b、53c。由此，来自该处理部31的酸性排气导入至酸性排气用的集合管61a，而不导入至其他集合管61b、61c。此时，关闭外部气体导入部7的分支路72a内的外部气体开闭阀73a，打开其他外部气体开闭阀73b、73c。由此，外部气体经由分支路72b、72c导入至有机排气用的集合管61b、以及碱性排气用的集合管61c。
另外，在该处理部31内利用有机溶剂时，打开分支路52b内的排气开闭阀53b，关闭其他排气开闭阀53a、53c。由此，来自该处理部31的有机排气被导入至有机排气用的集合管61b，没有导入其他集合管61a、61c。此时，关闭外部气体导入部7的分支路72b内的外部气体开闭阀73b，打开其他外部气体开闭阀73a、73c。由此，经由分支路72a、72c将外部气体导入至酸性排气用的集合管61a、以及碱性排气用的集合管61c。
而且，在该处理部31内利用碱性药液时，打开分支路52c内的排气开闭阀53c，关闭其他排气开闭阀53a，53b。由此，来自该处理部31的碱性排气被导入至碱性排气用的集合管61c，没有导入其他集合管61a、61b。此时，关闭外部气体导入部7的分支路72c内的外部气体开闭阀73c，打开其他外部气体开闭阀73a、73b。由此，经由分支路72a、72b将外部气体导入至酸性排气用的集合管61a、以及有机排气用的集合管61b。
如上所述，在各流路切换部5中，在排气管4内流动的排气的流路在多个集合管61a～61c之间进行切换。另外，在与该流路切换部5对应的外部气体导入部7中，向除了通过该流路切换部5选择为排气的流路的集合管以外的集合管导入外部气体。在各外部气体导入部7中，以使向各集合管61a～61c的外部气体的导入流量与仅向该集合管61a～61c导入排气的情况下的排气的流量近似的方式，使用闸门79事先对外部气体导入口711的开口面积进行调节。由此，能够将流入各集合管61a～61c的气体的流量始终保持基本一定，抑制集合管61a～61c中的压力变动。
图6是示出排气管4的下端部411附近的内部构成的图。在处理部31的处理腔室中，在朝向Y方向的面形成有沿上下方向延伸的长孔311。在沿上下方向延伸的排气管4的下端部411也形成有沿上下方向延伸的长孔413。以使处理部31的长孔311与排气管4的长孔413重叠的方式将排气管4安装于处理部31。像这样，通过经由长孔311、413将处理部31和排气管4连接，增大处理部31与排气管4的连接部中的流路面积，能够减小压力损耗。
基板处理装置1还具备多个压力调节部46、多个液体喷出部47、以及多个排液管48。压力调节部46以及排液管48配置于各排气管4的下端部411、即与处理部31的排气口(长孔311)相邻的区域。液体喷出部47设在各处理部31内的长孔311附近。压力调节部46具备压力传感器461和流量调节机构462。流量调节机构462具备阻尼器463和开度调节部464。阻尼器463在长孔413的上方设在排气管4内。开度调节部464例如具有马达，改变阻尼器463的开度。压力传感器461在排气管4内设在长孔413的附近，测定排气管4内的压力。将压力传感器461的测定值输入至控制部10。在控制部10，以使压力传感器461的测定值以规定值成为一定的方式，使用开度调节部464来调节阻尼器463的开度。像这样，利用流量调节机构462，基于压力传感器461的测定值对在排气管4内流过的排气的流量进行调节。
排液管48从排气管4的下端部411趋向下方。排液管48经由工厂配管与排液处理设备连接。如上所述，液体喷出部47在处理部31设在中长孔311附近。液体喷出部47为向排气管4内喷出规定的液体的喷嘴部。在本实施方式中，纯净水从液体喷出部47喷出。由此，与从药液等生成的同时，排气所包含的微小的结晶等被喷出的纯净水捕捉，与纯净水一并经由排液管48排出至排液处理设备。像这样，排气所包含的微小的结晶等通过来自液体喷出部47的纯净水而从排气分离。在液体喷出部47中，也可以使用纯净水以外的液体。
图7是示意性示出与一个集合管组6连接的多个层叠单元3的图。在图7中，用粗的实线示出集合管组6的多个集合管61a～61c。如图1以及图7所示，一个层叠单元3所包含的各处理部31经由排气管4以及流路切换部5与多个集合管61a～61c连接。另外，其他层叠单元3相对于该一个层叠单元3位于集合管61a～61c的长边方向(Y方向)，该其他层叠单元3所包含的各处理部31经由排气管4以及流路切换部5与多个集合管61a～61c连接。像这样，在各集合管组6的多个集合管61a～61c连接有彼此具有相同的构成的多个层叠单元3。
在本实施方式中，具有与设于排气管4的上述压力调节部46相同的构造的压力调节部63如图7所示，设于各集合管61a～61c。由此，即使在工厂配管的压力因与该工厂配管连接的其他装置的影响等而变动的情况下，也抑制经由该工厂配管减压的集合管61a～61c内的压力(与压力调节部63相比在层叠单元3侧的压力)变动。
另外，如上所述，相对于各流路切换部5设有外部气体导入部7(在图7中省略了图示)，利用外部气体导入部7还向利用流路切换部5没有选为排气的流路的集合管导入外部气体。由此，能够将流入至各集合管61a～61c的气体的流量保持基本一定，抑制集合管61a～61c内的压力根据与该集合管61a～61c连接的多个处理部31中的处理的内容而变动。而且，在各排气管4中设有压力调节部46，由此，与集合管61a～61c内的压力的变动的抑制相结合，能够将作为处理部31的排气口的长孔311附近的压力始终保护基本一定。其结果为，在时间上将各处理部31中压力的条件保持为一定，并且还能够在多个处理部31之间将压力的条件设为一定。
此外，像JP特开2016-72480号公报(上述文献1)的装置那样，在将针对各处理部的排气切换装置配置于次洁净区的情况下，从处理部到排气切换装置为止连续的排气管的长度变长，因此，排气管中的压力损耗会变大。另外，多个排气管中长度、路径有时还因排气切换装置的配置而不同，在与该多个排气管连接的多个处理部中，压力的条件有偏差。在该情况下，在多个处理部中的处理结果产生很大的差。能够考虑将排气切换装置配置于处理部的侧方，来缩短排气管，但基板处理装置整体的占用面积变大。另外，在增加处理部的个数的情况下，所需的排气切换装置的个数也增加，因此，基板处理装置整体的占用面积进一步变大(在将排气切换装置配置于次洁净区的情况下也相同)。
与之相对地，在基板处理装置1中，与沿上下方向排列的多个处理部31相比，在上方配置有多个集合管61a～61c。另外，多个排气管4以从多个处理部31趋向上方的方式安装。而且，在各排气管4的上端部设有流路切换部5，在该排气管4流动的排气的流路在多个集合管61a～61c之间进行切换。像这样，通过将流路切换部5配置于处理部31的附近，由此，与将排气切换装置配置于次洁净区的情况相比，能够缩短排气管4，能够减小排气管4中的压力损耗。另外，能够减小多个处理部31中的压力的条件偏差，能够抑制在多个处理部31中的处理结果产生差异。
在基板处理装置1中，通过将多个集合管61a～61c、以及多个流路切换部5配置于上部(顶部)，由此，与将排气切换装置配置于处理部的侧方的情况相比，能够减小基板处理装置1的占用面积。另外，在增加处理部的个数的情况下，也能够抑制占用面积的增大。而且，易于实现集合管61a～61c以及流路切换部5不被其他构成覆盖的设计，在该情况下，还能够容易进行集合管61a～61c以及流路切换部5的维护等。在图1的基板处理装置1中，集合管61a～61c也与处理部31同样地相对于支承框架20固定，实现一体设置集合管61a～61c、流路切换部5以及处理部31的构造。
在各排气管4中，设有从处理部31向上方延伸的第1排气路径41、和与第1排气路径41的上端连接的第2排气路径42。第2排气路径42具有从第1排气路径41的上端向与上下方向大致垂直的方向延伸的部位，且与流路切换部5连接。在各层叠单元3的多个排气管4所包含的两个排气管4的各组合中，一个排气管4中的第1排气路径41的长度比另一个排气管4中的第1排气路径41长，该一个排气管4中的第2排气路径42的长度比该另一个排气管4中的第2排气路径42短。由此，在相同层叠单元3所包含的多个排气管4中，能够缩小压力损耗的差。
在基板处理装置1中，还设有向排气管4内喷出规定的液体的液体喷出部47、以及从排气管4的下端部411朝向下方的排液管48。由此，排气所包含的微小的结晶等被从液体喷出部47喷出的液体捕捉，并经由排液管48与该液体一并排出至排液处理设备。由此，该结晶等附着至排气管4等的内表面，能够抑制压力损耗增大。
在此，假设在设有从处理部31朝向下方的排气管的情况下，从液体喷出部47喷出的液体在该排气管内移动而趋向下方。在该情况下，在该排气管的中途设有回收该液体的回收箱。在这种构造中，会因该回收箱内的液体的量导致处理部31的排气口附近的压力变动。与之相对地，在基板处理装置1中，通过设有从处理部31朝向上方的排气管4，防止像上述构造那样产生因回收箱内的液体的量引起的压力变动。
在上述基板处理装置1中能够进行各种各样的变形。
在上述实施方式中，各集合管组6中的多个集合管61a～61c沿上下方向排列，但如图8所示，多个集合管61a～61c也可以沿与长边方向以及上下方向垂直的方向(X方向)排列。在这种情况下，也通过在上下方向上使多个集合管61a～61c与多个处理部31重叠，防止设于中央机械手23(参照图2)的上方的风扇过滤器单元中的空气的引入被集合管61a～61c妨碍。
另外，也可以在各集合管组6中仅设有两个集合管。在该情况下，在一例中，一个集合管为酸性排气用，另一个集合管为碱性排气用。在其他例子中，一个集合管为酸性排气用，另一个集合管为有机排气用。另外，也可以在各集合管组6中设置四个以上的集合管，在该情况下，在处理部31中可供给的多种处理流体被分成四种以上的流体类别。如上述那样，只要在基板处理装置1中设置分别与分成了多种处理流体的两个以上的流体类别对应的两个以上集合管即可。此外，各流路切换部5的排气开闭阀的个数、以及各外部气体导入部7的外部气体开闭阀的个数与上述两个以上集合管相同。
在设于各排气管4的图6的压力调节部46，改变阻尼器463的开度，由此来调节在排气管4内流动的排气的流量，但例如也可以使用鼓风机来作为流量调节机构，实现压力调节部46。在该情况下，通过基于压力传感器461的测定值改变鼓风机的旋转数，对在排气管4内流动的排气的流量进行调节。在设于各集合管61a～61c的压力调节部63(参照图7)中也同样地可以使用鼓风机。
在图5的外部气体导入部7中，可以取代多个分支路72a～72c(分支管71)而设置彼此独立的多个管。在该情况下，也可以在该多个管中的、与多个集合管61a～61c相反一侧的端部分别设有多个外部气体导入口711，在各外部气体导入口711安装有闸门79。由此，能够针对集合管61a～61c的每一个高精度地调节外部气体的导入流量。
也可以根据基板处理装置1的设计而在各层叠单元3中省略外部气体导入部7。层叠单元3只要至少包括多个处理部31、多个排气管4以及多个流路切换部5的集合即可。
在基板处理装置1中进行处理的基板不限于半导体基板，也可以为玻璃基板或其他基板。
上述实施方式以及各变形例中的构成只要彼此不矛盾，就可以适当组合。
以上详细地记载并说明了发明，但已经进行的说明仅为例示，而并非限定。因此，只要不脱离本发明的范围即可，能够实现多种变形或方式。
附图标记说明
1基板处理装置
3层叠单元
4排气管
5流路切换部
7外部气体导入部
9基板
10控制部
20支承框架
31处理部
41第1排气路径
42第2排气路径
46压力调节部
47液体喷出部
48排液管
53a～53c排气开闭阀
61a～61c集合管
73a～73c外部气体开闭阀
79闸门
311(处理部的)长孔
411(排气管的)下端部
412(第1排气路径的)上端
461压力传感器
462流量调节机构
711外部气体导入口。

Claims (11)

1.一种基板处理装置，其特征在于，具备：
在上下方向上排列的多个处理部，该多个处理部能够分别将多种处理流体供给至基板；
多个排气管，其从所述多个处理部趋向上方，并且供来自所述多个处理部的排气分别流入；
两个以上的集合管，其与所述多个处理部相比配置在上方，分别与将所述多种处理流体分类而得到的两个以上的流体类别对应；
多个流路切换部，该多个流路切换部分别设于一个排气管的上端部，并且将所述上端部连接于所述两个以上的集合管，使在所述排气管流动的排气的流路在所述两个以上的集合管之间切换；以及
控制部，其根据在所述多个处理部中使用的处理流体，控制所述多个流路切换部。
2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，
所述两个以上的集合管在所述上下方向上与所述多个处理部重叠。
3.根据权利要求1或者2所述的基板处理装置，其特征在于，
还具备支承所述多个处理部的支承框架，
所述两个以上的集合管相对于所述支承框架固定。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，
所述两个以上的集合管沿与所述上下方向大致垂直的长边方向延伸，
将所述多个处理部、所述多个排气管以及所述多个流路切换部的集合组作为层叠单元，所述基板处理装置还具备具有与所述层叠单元相同的构成、并且相对于所述层叠单元位于所述长边方向的另一个层叠单元。
5.根据权利要求1～4中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，
各排气管具备：
从处理部朝向上方延伸的第1排气路径；以及
具有从所述第1排气路径的上端朝向与所述上下方向大致垂直的方向延伸的部位且与流路切换部连接的第2排气路径，
所述多个排气管中的多个第1排气路径的上端彼此靠近配置，所述多个第1排气路径的长度彼此不同，
所述多个排气管中的多个第2排气路径的长度彼此不同，
在所述多个排气管所包含的两个排气管的各组合中，一个排气管中的所述第1排气路径的长度比另一个排气管中的所述第1排气路径长，所述一个排气管中的所述第2排气路径的长度比所述另一个排气管中的所述第2排气路径短。
6.根据权利要求1～5中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，
各处理部经由沿所述上下方向延伸的长孔，与沿所述上下方向延伸的排气管连接。
7.根据权利要求1～6中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，
还具备：
分别向所述多个排气管内喷出规定的液体的多个液体喷出部；以及
从所述多个排气管的下端部趋向下方的多个排液管。
8.根据权利要求1～7中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，
还具备分别设于所述多个排气管的多个压力调节部，
各压力调节部具备：
测定排气管内的压力的压力传感器；以及
流量调节机构，其基于所述压力传感器的测定值，对在所述排气管内流动的所述排气的流量进行调节。
9.根据权利要求8所述的基板处理装置，其特征在于，
所述各压力调节部配置于与处理部的排气口相邻的区域。
10.根据权利要求1～9中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，
还具备多个外部气体导入部，该多个外部气体导入部分别与所述两个以上的集合管连接，并且与所述多个流路切换部对应，
与各流路切换部对应的外部气体导入部向除了利用所述各流路切换部选择为所述排气的流路的集合管以外的集合管导入外部气体。
11.根据权利要求10所述的基板处理装置，其特征在于，
各外部气体导入部具有改变与所述两个以上的集合管连通的外部气体导入口的开口面积的闸门。
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