JP2023140910A - 基板処理装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】排気管における圧力変動をより高い精度で低減させることができる技術を提供する。【解決手段】基板処理装置はタワー40と複数の個別排気管21と集合排気管22と切換部23と外気導入部24と制御部とを備える。タワー40は、鉛直方向に並んで設けられた複数の処理ユニット10を含む。切換部23は、複数の個別排気管21の各々と集合排気管22との連通および遮断を切り換える。外気導入部24は、集合排気管22に外部からの外気を導入する流路を有する。制御部は、複数の処理ユニット10のそれぞれに対応する個別導入面積と、切換部23の切換状態とに基づいて、外気導入部24の導入面積を制御する。複数の処理ユニット10にそれぞれ対応する個別導入面積は、複数の処理ユニット10の各々の設置位置に応じて設定されている。【選択図】図3
Description
本開示は、基板処理装置に関する。
従来から、基板を処理する基板処理装置が提案されている(例えば特許文献1)。特許文献1では、基板処理装置は、鉛直方向において積層された複数の処理部を含んでいる。各処理部は処理チャンバを含んでおり、該処理チャンバ内において、処理液などの処理流体を基板に供給する。これにより、処理流体に応じた処理が基板に対して行われる。処理チャンバー内のガスは後述の排気系統を通じて外部に排出される。
特許文献1では、処理部は酸性薬液、アルカリ性薬液および有機溶剤を順次に供給可能である。処理部が酸性薬液を供給しているときには、処理チャンバから排出されるガスには、酸性薬液から発生するガスおよびミストが含まれる。このとき、排出ガスの流体区分は酸性ガスである。処理部がアルカリ性薬液を供給しているときには、処理チャンバから排出されるガスには、アルカリ性薬液から発生するガスおよびミストが含まれる。このとき、排出ガスの流体区分はアルカリ性ガスである。処理部が有機溶剤を供給しているときには、処理チャンバから排出されるガスには、有機溶剤から発生するガスおよびミストが含まれる。このとき、排出ガスの流体区分は有機ガスである。
排気系統は、これらの排出ガスをその流体区分に応じた個別の排気ユニットに排出させる。特許文献1では、排気系統は、集合配管、複数の排気管、流路切換部および外気導入部を含む。集合配管は流体区分に対応して設けられている。つまり、酸性ガス用の集合配管、アルカリ性ガス用の集合配管および有機ガス用の集合配管が設けられる。これらの集合配管は、鉛直方向に積層された複数の処理部を含む積層ユニットよりも鉛直上方に設けられている。
複数の排気管は複数の処理部に対応して設けられ、各排気管の上流端は処理部の処理チャンバに接続され、各排気管の下流端は流路切換部に接続される。流路切換部は、排気管からの排出ガスを、その流体区分に応じた集合配管に導く。つまり、処理部からの排出ガスはその流体区分に応じて、3つの集合配管のうちいずれか一つに導かれる。処理部は順次に処理液を切り換えて供給するので、処理部からの排出ガスは集合配管を順次に切り換えて流れることとなる。
集合配管における圧力変動は好ましくないので、処理部からの排出ガスが流れない集合配管には、外気導入部から外部のガスを流入させることで、集合配管内の圧力変動を抑制する。例えば、流路切換部は外気導入部の下流端に接続されており、外部導入部からの外部のガスを、排気管と連通していない集合配管に導く。
複数の処理部は鉛直方向に積層され、集合配管は積層ユニットよりも鉛直上方に設けられているので、処理部から集合配管までの排気管の長さは互いに相違する。このため、最も高い位置に設けられた処理部からの排出ガスは最も短い排気管を通じて集合配管に流入し、最も低い位置に設けられた処理部からの排出ガスは最も長い排気管を通じて集合配管に流入する。したがって、処理部からの排出ガスの流体区分が変化することに伴う集合配管の圧力の変動量は、その処理ユニットの設置位置にも依存することになる。このような圧力の変動を高い精度で抑制することは難しい。
そこで、本開示は、排気管における圧力変動をより高い精度で低減させることができる技術を提供することを目的とする。
第1の態様は、基板処理装置であって、鉛直方向に並んで設けられ、各々が基板を処理する複数の第1処理ユニットを含む第1タワーと、前記複数の第1処理ユニットから排出されたガスがそれぞれ流れる複数の第1個別排気管と、第1集合排気管と、前記複数の第1個別排気管の各々と前記第1集合排気管との連通および遮断を切り換える第1切換部と、前記第1集合排気管に外部からの外気を導入する流路を有し、当該流路の導入面積が可変である第1外気導入部と、前記複数の第1処理ユニットのそれぞれに対応する個別導入面積と、前記第1切換部の切換状態とに基づいて、前記第1外気導入部の前記導入面積を制御する制御部とを備え、前記複数の第1処理ユニットにそれぞれ対応する前記個別導入面積は、前記複数の第1処理ユニットの各々の設置位置に応じて設定されている。
第2の態様は、第1の態様にかかる基板処理装置であって、前記制御部は、前記複数の第1処理ユニットのうち前記第1集合排気管と遮断された第1処理ユニットに対応した前記個別導入面積の総和に基づいて前記導入面積を制御し、前記個別導入面積は、前記複数の第1処理ユニットのうち設置位置が高い第1処理ユニットほど大きい値に設定される。
第3の態様は、第1または第2の態様にかかる基板処理装置であって、前記第1外気導入部は、前記第1集合排気管に設けられた単一の導入管と、前記単一の導入管の前記導入面積を調整し、前記制御部によって制御される可動部材とを含む。
第4の態様は、第3の態様にかかる基板処理装置であって、前記複数の第1処理ユニットに対応した前記個別導入面積を示す個別面積データを予め記憶する記憶部をさらに備え、前記制御部は、前記切換状態と前記個別面積データとに基づいて、前記可動部材を制御する。
第5の態様は、第1または第2の態様にかかる基板処理装置であって、前記第1外気導入部は、前記複数の第1処理ユニットにそれぞれ対応した前記個別導入面積を有する複数の導入管と、前記複数の導入管の開閉をそれぞれ切り換える複数の開閉弁とを含み、前記制御部は前記切換状態に基づいて、前記複数の開閉弁を制御する。
第6の態様は、第1から第5のいずれか一つの態様にかかる基板処理装置であって、鉛直方向に並んで設けられ、各々が基板を処理する複数の第2処理ユニットを含み、前記第1タワーと水平方向に並んで設けられる第2タワーと、前記複数の第2処理ユニットから排出されたガスがそれぞれ流れる複数の第2個別排気管と、第2集合排気管と、前記複数の第2個別排気管の各々と前記第2集合排気管との連通および遮断を切り換える第2切換部と、前記第2集合排気管に外部からの外気を導入する流路を有し、当該流路の導入面積が可変である第2外気導入部とを備え、前記制御部は、前記複数の第2処理ユニットのそれぞれに対応して設定された個別導入面積と、前記第2切換部の切換状態とに基づいて、前記第2外気導入部の前記導入面積を制御し、前記複数の第2処理ユニットにそれぞれ対応する前記個別導入面積は互いに異なる。
第1の態様によれば、第1処理ユニットに対応する個別導入面積が、第1処理ユニットの設置位置に応じて設定されているので、第1処理ユニットの設置位置の相違に起因した圧力変動を低減させることができる。言い換えれば、第1集合排気管の圧力変動をより高い精度で低減させることができる。
第2の態様によれば、第1集合排気管と遮断された処理ユニットの分の排気ガスを外気で補うことでき、より高い精度で圧力変動を低減させることができる。
第3および第4の態様によれば、メンテナンスが容易である。
第5の態様によれば、個別導入面積の算出が不要であるので、制御部の演算負荷を軽減することができる。
第6の態様によれば、第1集合排気管には、第1処理ユニットからの排出ガスが流入し得るものの、第2処理ユニットからの排出ガスは流入しない。同様に、第2集合排気管には、第2処理ユニットからの排出ガスが流入し得るものの、第1処理ユニットからの排出ガスは流入しない。したがって、第1タワーと第2タワーとの差に起因する圧力変動をより確実に低減させることができる。
以下、添付される図面を参照しながら実施の形態について説明する。なお、図面は概略的に示されるものであり、説明の便宜のため、適宜、構成の省略、または、構成の簡略化がなされるものである。また、図面に示される構成の大きさおよび位置の相互関係は、必ずしも正確に記載されるものではなく、適宜変更され得るものである。また、図面において、各構成の位置関係を説明するためにXYZ直交座標系が示されることがある。ここでは、Z軸は鉛直方向に沿う軸であり、X軸およびY軸は水平方向に沿う軸である。また、以下では、X軸方向の一方側を+X側とも呼び、X軸方向の他方側を-X側と呼ぶことがある。Y軸についても同様である。
また、以下に示される説明では、同様の構成要素には同じ符号を付して図示し、それらの名称と機能とについても同様のものとする。したがって、それらについての詳細な説明を、重複を避けるために省略する場合がある。
また、以下に記載される説明において、「第1」または「第2」などの序数が用いられる場合があっても、これらの用語は、実施の形態の内容を理解することを容易にするために便宜上用いられるものであり、これらの序数によって生じ得る順序に限定されるものではない。
相対的または絶対的な位置関係を示す表現(例えば「一方向に」「一方向に沿って」「平行」「直交」「中心」「同心」「同軸」など)が用いられる場合、該表現は、特に断らない限り、その位置関係を厳密に表すのみならず、公差もしくは同程度の機能が得られる範囲で相対的に角度または距離に関して変位された状態も表すものとする。等しい状態であることを示す表現(例えば「同一」「等しい」「均質」など)が用いられる場合、該表現は、特に断らない限り、定量的に厳密に等しい状態を表すのみならず、公差もしくは同程度の機能が得られる差が存在する状態も表すものとする。形状を示す表現(例えば、「四角形状」または「円筒形状」など)が用いられる場合、該表現は、特に断らない限り、幾何学的に厳密にその形状を表すのみならず、同程度の効果が得られる範囲で、例えば凹凸や面取りなどを有する形状も表すものとする。一の構成要素を「備える」「具える」「具備する」「含む」または「有する」という表現が用いられる場合、該表現は、他の構成要素の存在を除外する排他的表現ではない。「A,BおよびCの少なくともいずれか一つ」という表現が用いられる場合、該表現は、Aのみ、Bのみ、Cのみ、A,BおよびCのうち任意の2つ、ならびに、A,BおよびCの全てを含む。
<第1の実施の形態>
<基板処理装置の概要>
図1は、第1の実施の形態にかかる基板処理装置100の構成の一例を概略的に示す平面図であり、図2は、第1の実施の形態にかかる基板処理装置100の構成の一例を概略的に示す側面図である。基板処理装置100は、後述する処理ユニット10において基板Wを1枚ずつ処理する枚葉式の処理装置である。
<基板処理装置の概要>
図1は、第1の実施の形態にかかる基板処理装置100の構成の一例を概略的に示す平面図であり、図2は、第1の実施の形態にかかる基板処理装置100の構成の一例を概略的に示す側面図である。基板処理装置100は、後述する処理ユニット10において基板Wを1枚ずつ処理する枚葉式の処理装置である。
基板Wは例えば半導体基板であり、円板形状を有する。なお、基板Wには、半導体基板の他、フォトマスク用ガラス基板、液晶表示用ガラス基板、プラズマ表示用ガラス基板、FED(Field Emission Display)用基板、有機EL(Electro-Luminescence)表示装置用基板などの表示装置用基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、セラミック基板および太陽電池基板などの各種基板を適用可能である。また、基板の形状も円板形状に限らず、例えば矩形の板状形状など種々の形状を採用できる。
図1および図2の例では、基板処理装置100は、インデクサ部110と、装置本体120と、制御部90とを含んでいる。インデクサ部110および装置本体120はX軸方向において並んで設けられている。図1および図2の例では、装置本体120はインデクサ部110に対して+X側に設けられている。
<インデクサ部>
インデクサ部110は、装置本体120と外部との間で基板Wを搬出入するためのインターフェース部である。ここでは、複数の基板Wを収納した基板収容器(以下、キャリアと呼ぶ)Cが外部からインデクサ部110に搬入される。
インデクサ部110は、装置本体120と外部との間で基板Wを搬出入するためのインターフェース部である。ここでは、複数の基板Wを収納した基板収容器(以下、キャリアと呼ぶ)Cが外部からインデクサ部110に搬入される。
インデクサ部110は、複数のロードポート111と、インデクサロボット112とを含む。各ロードポート111は、外部から搬入されたキャリアCを保持する。図1の例では、複数のロードポート111はY軸方向において並んで設けられている。インデクサロボット112は、各キャリアCと装置本体120との間で基板Wを搬送する搬送ユニットであり、複数のロードポート111に対して+X側に設けられている。インデクサロボット112はキャリアCから未処理の基板Wを順次に取り出し、該基板Wを装置本体120に搬送するとともに、装置本体120によって処理された処理済みの基板Wを装置本体120から順次に受け取り、該基板WをキャリアCに収納する。処理済みの基板Wを収納したキャリアCはロードポート111から外部に搬出される。
<装置本体>
装置本体120は、基板Wを処理する部分であり、複数の処理ユニット10と、排気系統20と、センターロボット30とを含む。
装置本体120は、基板Wを処理する部分であり、複数の処理ユニット10と、排気系統20と、センターロボット30とを含む。
図1および図2の例では、複数の処理ユニット10は、複数のタワー40を構成している。言い換えれば、各タワー40は、鉛直方向において並んで設けられた複数の処理ユニット10を含んでいる。図1の例では、複数のタワー40として4つのタワー40A~40Dが設けられている。具体的には、平面視において、タワー40A~40Dは仮想的な四角形の頂点にそれぞれ設けられている。ここでは、タワー40Aおよびタワー40BがX軸方向において並び、タワー40Cおよびタワー40DがX軸方向において並び、タワー40Aおよびタワー40CがY軸方向において並び、タワー40Bおよびタワー40DがY軸方向において並ぶ。
図2の例では、各タワー40を構成する複数の処理ユニット10として、3つの処理ユニット10a~10cが示されている。処理ユニット10a~10cは鉛直上方から鉛直下方に向かってこの順で設けられている。つまり、処理ユニット10aが最も鉛直上方に設けられ、処理ユニット10cが最も鉛直下方に設けられる。
センターロボット30は、平面視において、複数のタワー40によって囲まれた位置に設けられている。センターロボット30は、インデクサロボット112から受け取った未処理の基板Wを処理ユニット10に搬入する。処理ユニット10は基板Wを処理する。センターロボット30は、処理ユニット10から処理済みの基板Wを搬出して、当該基板Wをインデクサロボット112に渡す。
図1および図2では、各処理ユニット10における処理チャンバの外形を破線の矩形で示している。処理ユニット10では、処理チャンバの内部に、基板保持部およびノズル部等の各種構成要素(不図示)が設けられる。処理ユニット10は、基板保持部に保持される基板Wに対して、ノズル部を介して複数種類の処理流体を供給可能である。処理流体が液体である場合、例えば、基板保持部は、基板Wを回転させる回転機構を含み、処理ユニット10は、基板保持部の周囲を囲むカップ部をさらに含む。ノズル部は、回転中の基板Wの主面に向けて処理流体を供給する。基板W上に供給された処理流体は、基板Wの主面を径方向外側に流れて基板Wの周縁から飛散し、カップ部により受け止められる。処理流体が基板Wに作用することにより、処理流体に応じた処理が基板Wに対して行われる。カップ部に受け止められた処理流体は適宜に回収される。
処理ユニット10において利用される処理流体は、複数の流体区分に分類される。本実施の形態では、複数の流体区分は、酸性薬液、アルカリ性薬液および有機溶剤を含む。なお、処理流体は、気体であってもよい。
酸性薬液は、例えば、DHF(希フッ酸)、SC2(塩酸過酸化水素水)、BHF(バッファードフッ酸)、硫酸、SPM(硫酸過酸化水素水)およびフッ硝酸(フッ酸と硝酸との混合液)等の薬液を含む。アルカリ性薬液は、例えば、SC1(アンモニア過酸化水素水)、アンモニア水、フッ化アンモニウム溶液およびTMAH(水酸化テトラメチルアンモニウム)等の薬液を含む。有機溶剤は、IPA(イソプロピルアルコール)、メタノール、エタノール、HFE(ハイドロフルオロエーテル)およびアセトン等の溶剤を含む。有機溶剤は混合液であってもよく、例えば、IPAとアセトンの混合液、IPAとメタノールの混合液である。
図1の例では、基板処理装置100には、酸性薬液供給ユニット81、アルカリ性薬液供給ユニット82および有機溶剤供給ユニット83も設けられている。酸性薬液供給ユニット81、アルカリ性薬液供給ユニット82および有機溶剤供給ユニット83は、装置本体120に対して+X側に設けられる。酸性薬液供給ユニット81は、酸性薬液を貯溜するとともに、処理ユニット10のノズル部に酸性薬液を供給する。アルカリ性薬液供給ユニット82は、アルカリ性薬液を貯溜するとともに、処理ユニット10のノズル部にアルカリ性薬液を供給する。有機溶剤供給ユニット83は、有機溶剤を貯溜するとともに、処理ユニット10のノズル部に有機溶剤を供給する。
また、各処理チャンバの上方には、ファンフィルタユニット(FFU)が設けられ、ファンフィルタユニットによって処理チャンバ内において下方に向かう気流が形成される。各処理ユニット10の処理チャンバ内のガスは排気系統20を通じて基板処理装置100の外部に排出される。以下では、処理ユニット10の処理チャンバから排出されるガスを排出ガスと呼ぶ。
<排気系統>
処理流体が液体である場合、各処理ユニット10から排出される排出ガスには、処理流体からの気化成分(ガス)およびミストが含まれる。このため、処理ユニット10のノズル部から処理流体として酸性薬液が基板Wに供給されている期間では、排出ガスには酸性薬液のガスおよびミストが含まれる。ここで、排出ガスについての流体区分も導入する。該排出ガスの流体区分は酸性ガスである。アルカリ性薬液が基板Wに供給されている期間では、排出ガスにはアルカリ性薬液のガスおよびミストが含まれる。以下では、該排出ガスの流体区分をアルカリ性ガスと呼ぶ。有機溶剤が基板Wに供給されている期間では、排出ガスには有機溶剤のガスおよびミストが含まれる。以下では、該排出ガスの流体区分を有機ガスと呼ぶ。これらの排出ガスは、その流体区分に応じて、互いに別々に排出されることが望ましい。なお、処理流体がガスである場合も同様である。
処理流体が液体である場合、各処理ユニット10から排出される排出ガスには、処理流体からの気化成分(ガス)およびミストが含まれる。このため、処理ユニット10のノズル部から処理流体として酸性薬液が基板Wに供給されている期間では、排出ガスには酸性薬液のガスおよびミストが含まれる。ここで、排出ガスについての流体区分も導入する。該排出ガスの流体区分は酸性ガスである。アルカリ性薬液が基板Wに供給されている期間では、排出ガスにはアルカリ性薬液のガスおよびミストが含まれる。以下では、該排出ガスの流体区分をアルカリ性ガスと呼ぶ。有機溶剤が基板Wに供給されている期間では、排出ガスには有機溶剤のガスおよびミストが含まれる。以下では、該排出ガスの流体区分を有機ガスと呼ぶ。これらの排出ガスは、その流体区分に応じて、互いに別々に排出されることが望ましい。なお、処理流体がガスである場合も同様である。
図3は、第1の実施の形態にかかる排気系統20の接続関係の一例を概略的に示す図である。なお、図3では、排気系統20における各種配管の接続関係を2次元的に示しているものの、実際の配管は3次元的に設けられる。
排気系統20は、各処理ユニット10からの排出ガスを基板処理装置100の外部に排出するための配管系統であり、本実施の形態では、排出ガスの流体区分に応じた排気経路で該排出ガスを外部に排出する。
図1から図3の例では、排気系統20は、個別排気管21と、集合排気管22と、切換部23と、外気導入部24とを含んでいる。
個別排気管21は処理ユニット10に対応して設けられており、より具体的な一例として、処理ユニット10と一対一で設けられる。個別排気管21の上流端は、対応する処理ユニット10に接続されており、処理ユニット10からの排出ガスが個別排気管21の上流端に流入する。よって、個別排気管21には、対応する処理ユニット10からの排出ガスが流れる。
図3に示されるように、個別排気管21には、圧力調整部211が設けられてもよい。圧力調整部211は、例えば、処理ユニット10の処理チャンバ内の圧力を測定する圧力センサ(不図示)と、個別排気管21を流れる排出ガスの流量を調整する流量調整器(例えばダンパー)とを含む。制御部90は圧力センサに基づいて流量調整器を制御することにより、処理チャンバ内の圧力を所定範囲内に調整することができる。
さて、個別排気管21には処理ユニット10からの排出ガスが流れる。この排出ガスの流体区分は、処理ユニット10における処理の内容(つまり、処理流体の流体区分)に応じて変化する。
切換部23は個別排気管21からの排出ガスを、その流体区分に応じた集合排気管22に導く。つまり、切換部23は個別排気管21と集合排気管22の各々との連通および遮断を切り換える。以下では、酸性ガス用の集合排気管22、アルカリ性ガス用の集合排気管22および有機ガス用の集合排気管22をそれぞれ集合排気管22i~22kと呼ぶ。切換部23は個別排気管21と一対一で設けられており、個別排気管21を介して処理ユニット10に接続される。つまり、切換部23は個別排気管21の下流端に接続される。
各切換部23は、流体区分に対応して設けられた複数の分岐排気管231と、複数の開閉弁232とを含んでいる。ここでは、流体区分は3つであるので、3つの分岐排気管231が処理ユニット10ごとに設けられている。以下では、酸性ガス用の分岐排気管231、アルカリ性ガス用の分岐排気管231および有機ガス用の分岐排気管231をそれぞれ分岐排気管231i~231kと呼ぶ。分岐排気管231i~231kの上流端は個別排気管21に接続され、分岐排気管231i~231kの下流端はそれぞれ集合排気管22i~22kに接続されている。
開閉弁232は分岐排気管231に設けられており、分岐排気管231の開閉を切り換える。開閉弁232は、例えばバタフライ弁であってもよく、他の種類の弁であってもよい。以下では、分岐排気管231i~231kに設けられた開閉弁232をそれぞれ開閉弁232i~232kとも呼ぶ。
制御部90は処理ユニット10からの排出ガスの流体区分に応じて、該処理ユニット10に対応した開閉弁232を制御する。具体的には、制御部90は、該排出ガスの流体区分が酸性ガスであるときに、開閉弁232iを開き、開閉弁232j,232kを閉じる。これにより、処理ユニット10から個別排気管21を通じて切換部23に流入した排出ガスは、分岐排気管231iを通じて、酸性ガス用の集合排気管22iに流入する。また、制御部90は、該排出ガスの流体区分がアルカリ性ガスであるときに、開閉弁232jを開き、開閉弁232i,232kを閉じる。これにより、処理ユニット10からの排出ガスはアルカリ性ガス用の集合排気管22jに流入する。また、制御部90は、該排出ガスの流体区分が有機ガスであるときに、開閉弁232kを開き、開閉弁232i,232jを閉じる。これにより、処理ユニット10からの排出ガスは有機ガス用の集合排気管22kに流入する。
以上のように、切換部23は、個別排気管21からの排出ガスを、その流体区分に応じた集合排気管22に導く。
図2の例では、切換部23は、対応する処理ユニット10と水平方向において隣り合う位置に設けられている。このため、処理ユニット10a~10cにそれぞれ対応する切換部23の高さ位置は互いに相違する。具体的には、処理ユニット10aに対応する切換部23は、処理ユニット10b,10cにそれぞれ対応する切換部23の両方よりも鉛直上方に位置し、処理ユニット10cに対応する切換部23は、処理ユニット10a,10bにそれぞれ対応する切換部23の両方よりも鉛直下方に位置し、処理ユニット10bに対応する切換部23は、処理ユニット10a,10cにそれぞれ対応する切換部23の間に位置する。
図1から図3の例では、集合排気管22は、タワー40ごと、かつ、流体区分ごとに設けられている。つまり、タワー40Aにおいて、集合排気管22i~22kが設けられており、タワー40Bにおいて、タワー40Aとは別の集合排気管22i~22kが設けられている。タワー40Cおよびタワー40Dも同様である。ここでは、4つのタワー40が設けられており、流体区分は3つであるので、合計12個の集合排気管22が設けられる。
図2の例では、各集合排気管22は、縦排気管221と、横排気管222とを含んでいる。縦排気管221は、対応するタワー40と水平方向(例えばX軸方向)において隣り合う位置に設けられており、Z軸方向に沿って延在している。処理ユニット10a~10cにそれぞれ対応する分岐排気管231の下流端は、互いに異なる高さ位置で、縦排気管221に接続される。つまり、最も高い位置に設けられた処理ユニット10aに対応する分岐排気管231は、処理ユニット10b,10cにそれぞれ対応する分岐排気管231の両方よりも鉛直上方となる接続位置において縦排気管221に接続される。例えば、分岐排気管231iに着目すると、処理ユニット10aに対応する分岐排気管231iと縦排気管221との接続位置Paは、処理ユニット10bに対応する分岐排気管231iと縦排気管221との接続位置Pbよりも高い位置にあり、接続位置Pbは、処理ユニット10cに対応する分岐排気管231iと縦排気管221との接続位置Pcよりも高い位置にある。
各集合排気管22において、縦排気管221の下端は閉じており、縦排気管221の上端は横排気管222に接続されている。図1および図2の例では、横排気管222はタワー40よりも鉛直上方に設けられており、水平方向(主としてX軸方向)に沿って延在している。具体的には、横排気管222はタワー40の直上に設けられており、タワー40を横切ってX軸方向に沿って延在し、アルカリ性薬液供給ユニット82よりも+X側において-Y側に屈曲して延在している。図1の例では、同じタワー40に対応する集合排気管22i,22j,22kの横排気管222は水平方向において並んで設けられている。各横排気管222の下流端は工場配管に接続され、該工場配管を介して、流体区分に応じた排気設備に接続される。横排気管222の長手方向に垂直な断面形状は、例えば、矩形である。ただし、横排気管222の断面形状は矩形に限らず、他の形状であってもよい。
図1および図2の例では、タワー40Cに対応した集合排気管22の横排気管222は、タワー40Dに対応した集合排気管22の横排気管222とZ軸方向において並んでいる。ここでは、タワー40Cに対応した集合排気管22の横排気管222は、タワー40Dに対応した集合排気管22の横排気管222と、平面視において互いに重なり合うように延在している。集合排気管22j,22kについても同様であり、また、タワー40Aおよびタワー40Bについても同様である。
外気導入部24は、外部からのガス(以下、外気と呼ぶ)を集合排気管22に導入することにより、集合排気管22内の圧力変動を低減させるための部材である。図1および図2の例では、外気導入部24は各集合排気管22に設けられている。つまり、外気導入部24は集合排気管22と一対一で設けられている。図1および図2の例では、外気導入部24は、横排気管222の-X側の端部に相当する。横排気管222の-X側の端は開口しており、外気はこの開口(導入口)から横排気管222に流入可能である。横排気管222の-X側の端部は、集合排気管22に設けられて、外気を導入させる単一の導入管と把握することができる。つまり、外気導入部24は、外気を集合排気管22に流入する流路を有しており、該流路は、該導入管(横排気管222の該端部)の流路に相当する。
該導入管の流路の面積(以下、導入面積と呼ぶ)は可変、かつ、制御部90によって制御可能である。例えば、外気導入部24は、ダンパー242と、ダンパー242の開度を調整する駆動部243とを含んでいる(図2参照)。ダンパー242は、横排気管222の-X側の端部(外気導入部24の導入管)内において回転可能に設けられた板状の可動部材244を含んでいる。可動部材244は、外気導入部24の導入管を実質的に塞ぐ全閉位置と、外気導入部24の導入管を実質的に全開させる全開位置との間で回転可能に設けられている。可動部材244が全閉位置と全開位置との間で回転することにより、導入面積を調整することができる。ダンパー242の開度は回転角度によって表され、ここでは、外気導入部24が実質的に全閉となる開度が0度であり、外気導入部24が実質的に全開となる開度が90度であるものとする。
駆動部243は、可動部材244を変位(ここでは回転)させる。例えば、駆動部243はモータを含んでいる。駆動部243は制御部90によって制御され、可動部材244の回転位置を調整する。具体的には、制御部90は、切換部23の切換状態に基づいて駆動部243を制御することにより、可動部材244の回転位置を調整し、外気導入部24の導入面積を調整する。後に詳述するように、制御部90が導入面積を調整することにより、集合排気管22における圧力変動をより高い精度で低減させることができる。
以下では、集合排気管22i~22kに設けられた外気導入部24を、それぞれ外気導入部24i~24kとも呼ぶ。
<制御部>
制御部90は基板処理装置100を統括的に制御する。具体的には、制御部90は、インデクサロボット112、処理ユニット10、排気系統20(具体的には、切換部23および駆動部243など)およびセンターロボット30を制御する。
制御部90は基板処理装置100を統括的に制御する。具体的には、制御部90は、インデクサロボット112、処理ユニット10、排気系統20(具体的には、切換部23および駆動部243など)およびセンターロボット30を制御する。
図4は、制御部90の内部構成の一例を概略的に示す機能ブロック図である。制御部90は電子回路であって、例えばデータ処理部91および記憶部92を有している。図4の具体例では、データ処理部91と記憶部92とはバス93を介して相互に接続されている。データ処理部91は例えばCPU(Central Processor Unit)などの演算処理装置であってもよい。記憶部92は非一時的な記憶部(例えばROM(Read Only Memory)またはハードディスク)921および一時的な記憶部(例えばRAM(Random Access Memory))922を有していてもよい。非一時的な記憶部921には、例えば制御部90が実行する処理を規定するプログラムが記憶されていてもよい。データ処理部91がこのプログラムを実行することにより、制御部90が、プログラムに規定された処理を実行することができる。もちろん、制御部90が実行する処理の一部または全部が専用の論理回路などのハードウェアによって実行されてもよい。
<排気動作>
制御部90は、処理ユニット10からの排出ガスの流体区分に基づいて切換部23を制御し、該排出ガスを、流体区分に応じた集合排気管22に導く。各処理ユニット10からの排出ガスの流体区分は順次に変化するので、制御部90は流体区分の変化に応じて切換部23の切換状態を変化させ、各処理ユニット10からの排出ガスを適切に集合排気管22に導く。このため、以下で詳述するように、各集合排気管22に流入する排出ガスの流量は切換部23の切換状態の変化に応じて変動する。
制御部90は、処理ユニット10からの排出ガスの流体区分に基づいて切換部23を制御し、該排出ガスを、流体区分に応じた集合排気管22に導く。各処理ユニット10からの排出ガスの流体区分は順次に変化するので、制御部90は流体区分の変化に応じて切換部23の切換状態を変化させ、各処理ユニット10からの排出ガスを適切に集合排気管22に導く。このため、以下で詳述するように、各集合排気管22に流入する排出ガスの流量は切換部23の切換状態の変化に応じて変動する。
例えば、タワー40Aにおいて、処理ユニット10a~10cからの排出ガスの流体区分が酸性ガスである場合、制御部90は、処理ユニット10a~10cに対応する開閉弁232iを開く。これにより、処理ユニット10a~10cからの排出ガスは集合排気管22iを流れる。図3の例では、これらの排出ガスの流れを模式的に配管内の実線の矢印で示している。ここで、処理ユニット10bにおいて供給される処理流体が例えば酸性薬液からアルカリ性薬液に変わると、制御部90は、処理ユニット10bに対応する開閉弁232iを閉じ、処理ユニット10bに対応する開閉弁232jを開く。これにより、該排出ガスの流入先は集合排気管22iから集合排気管22jへ切り替わる。図3の例では、この切り替わり後の排出ガスを模式的に配管内の破線の矢印で示している。この切り替わりにより、集合排気管22iに流入する排出ガスの流量が処理ユニット10bの分だけ低下し、集合排気管22jに流入する排出ガスの流量が処理ユニット10bの分だけ増加する。
このように、各集合排気管22に連通する処理ユニット10の数が変化すると、各集合排気管22を流れる排出ガスの流量は変動する。
そこで、制御部90は、各集合排気管22に設けられた外気導入部24を制御して、その導入面積を調整する。上述の動作例では、処理ユニット10bに対応する開閉弁232i,232jの開閉の切換に応じて、外気導入部24iの導入面積を増加させ、外気導入部24jの導入面積を低減させる。この外気導入部24iの導入面積の増加により、集合排気管22iにおける処理ユニット10bからの排出ガスの低下を外気で補うことができ、集合排気管22i内の圧力変動を低減させることができる。また、集合排気管22jの導入面積の低減により、集合排気管22jに流入する外気を低減させることができるので、処理ユニット10bからの排出ガスが集合排気管22jに流入することに伴う、集合排気管22kの圧力変動を低減させることができる。
このように、制御部90は複数の切換部23の切換状態に基づいて外気導入部24を制御して、各集合排気管22における圧力変動を低減させる。以下では、代表的に集合排気管22iに着目して説明する。
ところで、処理ユニット10a~10cに対応する分岐排気管231iは、互いに異なる高さ位置で集合排気管22iの縦排気管221に接続される。よって、処理ユニット10a~10cから集合排気管22iの横排気管222までの流路長は互いに相違する。具体的には、該流路長は処理ユニット10a~10cの順で短い。つまり、処理ユニット10aから横排気管222までの流路長が最も短く、処理ユニット10cから横排気管222までの流路長が最も長い。
このため、1つの処理ユニット10のみが集合排気管22iに連通しているときであっても、集合排気管22iにおける圧力は、処理ユニット10a~10cのうちどの処理ユニット10が集合排気管22に連通しているのかによって、互いに相違し得る。
以下、1つの処理ユニット10のみが集合排気管22iと連通する切換状態について説明する。図5から図7は、1つの処理ユニット10のみが集合排気管22iと連通するときの様子の一例を概略的に示す図である。図5の例では、最も高い位置にある処理ユニット10aのみが集合排気管22iに連通している。処理ユニット10aからの排出ガスは最も短い流路で集合排気管22iを流れるので、排出ガスは集合排気管22iを流れやすい。このため、図5では、処理ユニット10aから集合排気管22iを流れる排出ガスを、模式的に太線の矢印で示している。
図6の例では、次に高い位置にある処理ユニット10bのみが集合排気管22iに連通している。処理ユニット10bからの排出ガスは、処理ユニット10aに対応する流路よりも長い流路で集合排気管22iを流れるので、排出ガスは、処理ユニット10aからの排出ガスに比べて集合排気管22iを流れにくい。このため、図6では、処理ユニット10bから集合排気管22iを流れる排出ガスを、図5における処理ユニット10aからの排出ガスを示す矢印よりも細い矢印で示している。
図7の例では、最も低い位置にある処理ユニット10cのみが集合排気管22iに連通している。処理ユニット10cからの排出ガスは最も長い流路で集合排気管22iを流れるので、排出ガスは集合排気管22iを最も流れにくい。このため、図7では、処理ユニット10cから集合排気管22iを流れる排出ガスを、図5および図6における排出ガスを示す矢印よりも細い矢印で示している。
以上のように、集合排気管22iに連通する処理ユニット10に応じて、集合排気管22iを流れるガスの流量は変動するので、圧力変動を招く。
そこで、たとえ集合排気管22iに連通する処理ユニット10の数が同じであっても、集合排気管22iに連通している処理ユニット10に応じて、外気導入部24iの導入面積を調整する。具体的には、処理ユニット10aのみが集合排気管22iに連通するとき(図5)には、外気導入部24iの導入面積を比較的小さく設定し、処理ユニット10bのみが集合排気管22iに連通するとき(図6)には、外気導入部24iの導入面積を処理ユニット10aのみが連通するときよりも大きく設定し、処理ユニット10cのみが集合排気管22iに連通するとき(図7)には、外気導入部24iの導入面積を処理ユニット10bのみが連通するときよりも大きく設定する。これにより、集合排気管22iにおける圧力変動をより高い精度で低減させることができる。
このような外気導入部24iの導入面積の設定は、具体的には、以下で述べる動作によって実現される。ここでは、外気導入部24の導入面積の調整量(以下、個別導入面積と呼ぶ)を処理ユニット10a~10cごとに予め設定する。以下では、処理ユニット10a~10cに対応した個別導入面積をそれぞれ個別導入面積A1~A3と呼ぶ。個別導入面積A1~A3の具体的な設定については後に詳述する。
ここで、開閉弁232iが開いた状態を「1」で表し、開閉弁232iが閉じた状態を「0」で表すと、集合排気管22iについての3つの切換部23の切換状態は、次で示す8通りである。即ち、処理ユニット10a~10cに対応する開閉弁232iの開閉状態をこの順で並べて示すと、切換状態は、(000)、(001)、(010)、(100)、(011)、(101)、(110)、(111)の8通りである。
制御部90は、以下に詳述するように、複数の処理ユニット10のうち集合排気管22と遮断された処理ユニット10に対応した個別導入面積の総和に基づいて、導入面積Aを設定する。具体的な一例として、制御部90は以下の式に基づいて、集合排気管22iに設けられた外気導入部24iの導入面積Aを制御する。
A=Σ(αn・An)(n=1~3) ・・・(1)
ここで、α1~α3は、それぞれ、処理ユニット10a~10cに対応しており、開閉弁232iが開いているときにはαn=0であり、開閉弁232iが閉じているときにはαn=1である。例えば、処理ユニット10aに対応する開閉弁232iが開いているときには、α1=0であり、処理ユニット10aに対応する開閉弁232iが閉じているときには、α1=1である。
ここで、α1~α3は、それぞれ、処理ユニット10a~10cに対応しており、開閉弁232iが開いているときにはαn=0であり、開閉弁232iが閉じているときにはαn=1である。例えば、処理ユニット10aに対応する開閉弁232iが開いているときには、α1=0であり、処理ユニット10aに対応する開閉弁232iが閉じているときには、α1=1である。
下の表1は、式(1)に基づく導入面積Aの一例を示す表である。
表1から理解できるように、集合排気管22iと遮断された処理ユニット10に対応する個別導入面積Anが、導入面積Aの算出に用いられる。例えば、切替状態(100)では、処理ユニット10b,10cは集合排気管22iと遮断されており、この処理ユニット10b,10cに対応する個別導入面積A2,A3の和が導入面積Aとなる。
個別導入面積A1~A3は互いに異なる値に設定され、具体的には、対応する処理ユニット10の設置位置に応じた値に設定される。さらに具体的には、個別導入面積A1~A3は処理ユニット10の設置位置が高いほど大きい値に設定される。よって、個別導入面積A1は個別導入面積A2,A3の両方よりも大きい値に設定され、個別導入面積A2は個別導入面積A1,A3の間の値に設定され、個別導入面積A3は個別導入面積A1,A2の両方よりも小さい値に設定される。このため、表1において、下段ほど、かつ、右側ほど、導入面積Aは大きくなる。個別導入面積A1~A3は、例えば、それぞれ、処理ユニット10a~10cから排気されるガスの流量に対応した値に設定され得る。
処理ユニット10に対応した個別導入面積A1~A3を示す個別面積データは、例えば、記憶部94に予め記憶される。記憶部94は非一時的な記憶部であって、例えば、メモリおよびハードディスクなどの記憶部である。図4の例では、記憶部94もバス93に接続されている。制御部90は記憶部94から個別面積データを読み出し、処理ユニット10に対応する個別導入面積A1~A3を個別面積データに基づいて把握する。
なお、個別導入面積Anは、定数Kと、重付係数ωnとの積で表すこともできる。この場合、重付係数ωnを処理ユニット10の設置位置に応じて設定すればよい。
制御部90は、切換部23の切換状態に基づいて、式(1)を用いて導入面積Aを求め、外気導入部24iの導入面積が、求めた導入面積Aとなるように、外気導入部24iの駆動部243を制御する。
以下、式(1)に基づく外気導入部24の制御に関して、代表的に、1つの処理ユニット10のみが集合排気管22iと連通する場合について説明する。図5は、切替状態(100)を示し、図6は、切替状態(010)を示し、図7は、切替状態(001)を示している。
式(1)によれば、処理ユニット10aのみが集合排気管22iに連通する切換状態(100)での導入面積A(100)は(A2+A3)に制御され、処理ユニット10bのみが集合排気管22iに連通する切換状態(010)での導入面積A(010)は(A1+A3)に制御され、処理ユニット10cのみが集合排気管22iに連通する切換状態(001)での導入面積A(001)は(A1+A2)に制御される。
個別導入面積A1~A3は、その符号の末尾の数字が大きいほど小さいので、導入面積A(100)は導入面積A(010)よりも小さく、導入面積A(010)は導入面積A(001)よりも小さい。そこで、図5の例では、外気導入部24iを通じて集合排気管22iに流入する外気を細線の矢印で示し、図6の例では、外気導入部24iを通じて集合排気管22iに流入する外気を、図5よりも太い矢印で示し、図7の例では、外気導入部24iを通じて集合排気管22iに流入する外気を、図6よりも太い矢印で示している。
以上のように、たとえ集合排気管22iに連通する処理ユニット10の数が同じであっても、集合排気管22iに連通する処理ユニット10の設置位置が高いほど、導入面積Aを小さくする。これによれば、集合排気管22iを流れる排出ガスの流れやすさに応じた適切な流量で外気を集合排気管22iに流入させることができる。このため、集合排気管22iの圧力変動をより高い精度で低減させることができる。集合排気管22j,22kについても同様である。
上述の例では、個別導入面積A1~A3は、それぞれ、処理ユニット10a~10cからの排出ガスの流量に対応して設定される。これによれば、集合排気管22iと遮断された処理ユニット10からの排出ガスに相当する外気を、外気導入部24iを通じて集合排気管22iに補充することができる。例えば、切換状態(100)では、処理ユニット10aは集合排気管22iと連通し、処理ユニット10b,10cは集合排気管22iと遮断されるところ、導入面積Aは(A2+A3)に調整される。これによれば、処理ユニット10b,10cからの排出ガスに相当する外気を、外気導入部24iを通じて集合排気管22iに流入させることができる。したがって、集合排気管22iには、処理ユニット10a~10cからの排出ガスと同程度の量のガスが流れる。これは他の切換状態でも同様であるので、切換状態の変化に起因する集合排気管22iにおける圧力変動を、理想的には解消することができる。
また、上述の例では、外気導入部24は、集合排気管22に設けられた単一の導入管(横排気管222の-X側の端部)と、導入面積を調整するための可動部材244とを含んでいる。これによれば、集合排気管22に複数の導入管が設けられる場合に比べて、導入面積を調整するための可動部材244の数を少なくすることができ、製造コストを低減させることができる。また、基板処理装置100のメンテナンスも容易である。
また、上述の例では、処理ユニット10に対応する個別導入面積を示す個別面積データが記憶部94に予め記憶されており、制御部90は個別面積データと切換部23の切換状態とに基づいて可動部材244の回転位置を制御している。
なお、上述の例では、集合排気管22iについて述べたものの、集合排気管22j,22kについても同様である。この場合、個別導入面積A1~A3は流体区分ごとに設定されてもよい。つまり、各タワー40において、外気導入部24i,24j,24kに対応する導入面積の算出に用いられる個別導入面積A1を、互いに独立して設定しても構わない。個別導入面積A2,A3についても同様である。これによれば、流体区分のそれぞれに適した個別導入面積A1~A3を設定することができる。
図1および図2の例では、集合排気管22iはタワー40ごとに設けられている。つまり、タワー40Aに対応した集合排気管22i、タワー40Bに対応した集合排気管22i、タワー40Cに対応した集合排気管22i、および、タワー40Dに対応した集合排気管22iが設けられている。このため、異なるタワー40からの排出ガスが集合排気管22iへ混入することを避けることができる。本実施の形態では、各タワー40において、個別導入面積A1~A3を独立して設定することができるので、タワー40のそれぞれに適した個別導入面積A1~A3を設定することができる。したがって、各集合排気管22iにおいて、タワー40どうしの差に起因する圧力変動をより高い精度で低減させることができる。集合排気管22j,22kについても同様である。
ここで、課題を解決するための手段における用語と、発明を実施するための形態における用語とを対応付けておく。タワー40A~40Dのうち一つが第1タワーに相当し、他の一つが第2タワーに相当する。タワー40A~40Dのうち一つ(つまり第1タワー)に属する処理ユニット10が第1処理ユニットに相当し、他の一つ(つまり第2タワー)に属する処理ユニット10が第2処理ユニットに相当する。第1処理ユニットに接続された個別排気管21が第1個別排気管に相当し、第2処理ユニットに接続された個別排気管21が第2個別排気管に相当する。第1個別排気管に接続された切換部23が第1切換部に相当し、第2個別排気管に接続された切換部23が第2切換部に相当する。第1切換部に接続された集合排気管22i~22kの各々が第1集合排気管に相当し、第2切換部に接続された集合排気管22i~22kの各々が第2集合排気管に相当する。第1集合排気管に設けられた外気導入部24i~24kの各々が第1外気導入部に相当し、第2集合排気管に設けられた外気導入部24i~24kの各々が第2外気導入部に相当する。
<第2の実施の形態>
図8は、第2の実施の形態にかかる基板処理装置100の構成の一例を概略的に示す平面図であり、図9は、第2の実施の形態にかかる基板処理装置100の構成の一例を概略的に示す側面図である。図8の例では、X軸方向において隣り合う2つのタワー40に対して、1つの集合排気管22iが設けられている。つまり、タワー40Aおよびタワー40Bに共通の集合排気管22i、および、タワー40Cおよびタワー40Dに共通の集合排気管22iが設けられている。集合排気管22j,22kも同様である。
図8は、第2の実施の形態にかかる基板処理装置100の構成の一例を概略的に示す平面図であり、図9は、第2の実施の形態にかかる基板処理装置100の構成の一例を概略的に示す側面図である。図8の例では、X軸方向において隣り合う2つのタワー40に対して、1つの集合排気管22iが設けられている。つまり、タワー40Aおよびタワー40Bに共通の集合排気管22i、および、タワー40Cおよびタワー40Dに共通の集合排気管22iが設けられている。集合排気管22j,22kも同様である。
集合排気管22の横排気管222は、第1の実施の形態と同様に、タワー40よりも鉛直上方に設けられている。横排気管222の長手方向に垂直な断面形状は、例えば、矩形形状である。図8および図9の例では、該断面形状において、鉛直方向における幅は、水平方向における幅よりも広い。これによれば、水平方向において隣り合って配列される3つの横排気管222のトータルの幅(水平方向の幅)を低減させることができる。このため、処理ユニット10の直上に設けられるファンフィルタユニットの気流が横排気管222によって阻害されることを抑制することができる。横排気管222の-X側の端は開口しておらず、閉じている。
図10は、第2の実施の形態にかかる排気系統20の接続関係の一例を概略的に示す図である。なお、図10では、排気系統20における各種配管の接続関係を2次元的に示しているものの、実際の配管は3次元的に設けられる。
第2の実施の形態では、各集合排気管22に設けられる外気導入部24は、複数の処理ユニット10に一対一で対応した複数の導入管25を含んでいる。ここでは、1つの集合排気管22には、2つのタワー40に属する合計6つの処理ユニット10が対応しているので、集合排気管22ごとに6つの導入管25が設けられている。図8から図10の例では、各集合排気管22において、6つの導入管25は横排気管222における長手方向(ここではX軸方向)において並んで設けられている。
図9の例では、導入管25の下流端は集合排気管22の横排気管222の上面に接続されている。導入管25は下流端から鉛直上方に延在しており、その上端は鉛直上方に開口している。外気は、導入管25の上流開口から導入管25内に流入し、導入管25を通じて横排気管222に流入する。外気が流れる方向に垂直な導入管25の断面形状は矩形形状を有してもよいし、例えば円形状であってもよい。
外気導入部24は、導入管25ごとに、面積調整部材251および開閉弁252を含んでいる。開閉弁252は導入管25に設けられており、導入管25の開閉を切り換える。開閉弁252は例えばバタフライ弁であってもよく、他の種類の弁であってもよい。
面積調整部材251は、導入管25の流路面積(個別導入面積)を調整する部材である。図11は、面積調整部材251の構成の一例を概略的に示す斜視図である。図11の例では、面積調整部材251は、一対の板状部材253を含んでいる。板状部材253は、導入管25の上端開口に取り付けられている。具体的には、導入管25の上端には取付板250が設けられており、取付板250の上に一対の板状部材253が取り付けられる。一対の板状部材253は導入管25の上端開口に平行な配列方向において、並んで設けられている。
各板状部材253には、配列方向に長い複数の長孔254が形成されている。長孔254は板状部材253をその厚み方向に貫通する。板状部材253は、ネジ255が長孔254を貫通し、取付板250に設けられたネジ穴に螺合することにより、取付板250に取り付けられる。このような構造によれば、取付板250に対する板状部材253の取付位置を、長孔254の長手方向(配列方向)の範囲内で変更することができる。これにより、一対の板状部材253の間隔を調整することができ、導入管25の上流側の開口の面積(個別導入面積)を調整することができる。
導入管25の個別導入面積は、対応する処理ユニット10が高い位置にあるほど、大きい値に設定される。ここで、タワー40Aおよびタワー40Bに対応して設けられた集合排気管22iについて説明する。この集合排気管22iには、タワー40Aの3つの処理ユニット10a~10cおよびタワー40Bの3つの処理ユニット10a~10cに対応した合計6つの導入管25が設けられている。以下では、タワー40の符号の末尾のアルファベットと、処理ユニット10の符号の末尾のアルファベットを用いて、導入管25を区別する。例えば、導入管25Aaは、タワー40Aの処理ユニット10aに対応する導入管25である。
導入管25Aaの個別導入面積は、タワー40Aの処理ユニット10aからの排出ガスの流量に対応した値に設定され、導入管25Abの個別導入面積はタワー40Aの処理ユニット10bからの排出ガスの流量に対応した値に設定され、導入管25Acの個別導入面積はタワー40Aの処理ユニット10cからの排出ガスの流量に対応した値に設定される。同様に、導入管25Baの個別導入面積はタワー40Bの処理ユニット10aからの排出ガスの流量に対応した値に設定され、導入管25Bbの個別導入面積はタワー40Bの処理ユニット10bからの排出ガスの流量に対応した値に設定され、導入管25Bcの個別導入面積はタワー40Bの処理ユニット10cからの排出ガスの流量に対応した値に設定される。
ここでは、導入管25Aaの個別導入面積は導入管25Abの個別導入面積よりも大きく設定され、導入管25Abの個別導入面積は導入管25Acの個別導入面積よりも大きく設定される。なぜなら、処理ユニット10の設置位置が高いほど、排出ガスは流れやすく、その流量が大きいからである。同様に、導入管25Baの個別導入面積は導入管25Bbの個別導入面積よりも大きく設定され、導入管25Bbの個別導入面積は導入管25Bcの個別導入面積よりも大きく設定される。このような個別導入面積の設定は、ユーザが各導入管25に対応した面積調整部材251を調整することにより、実現される。
外気は、外気導入部24iの複数の導入管25のうち、開閉弁252が開いている導入管25を通じて集合排気管22iに流入する。このため、外気導入部24iの導入面積Aを、開閉弁252が開いている導入管25の個別導入面積の総和として定義することができる。つまり、導入面積Aは開閉弁252によって調整される。例えば、6つの開閉弁252が全て開いているときには、導入面積Aは6つの導入管25の個別導入面積の総和であり、導入管25Aaのみの開閉弁252が開いているときには、導入面積Aは導入管25Aaの個別導入面積である。
制御部90は、集合排気管22iと遮断された処理ユニット10からの排出ガスに応じた外気が集合排気管22iに流入するように、外気導入部24iの導入面積を制御する。言い換えれば、制御部90は複数の切換部23の切換状態に基づいて複数の開閉弁252を制御する。具体的には、制御部90は、集合排気管22iと遮断された処理ユニット10に対応する導入管25の開閉弁252を開き、集合排気管22iに連数する処理ユニット10に対応する導入管25の開閉弁252を閉じる。つまり、各集合排気管22において、同じ処理ユニット10に対応する開閉弁232および開閉弁252の開閉状態は互いに反対である。例えば、タワー40Aにおいて、処理ユニット10aに対応する導入管25Aaの開閉弁252の開閉状態は、処理ユニット10aに対応する開閉弁232iの開閉状態と反対に制御される。
以下、代表的に、タワー40Aにおいて、1つの処理ユニット10のみが集合排気管22iと連通する場合の排気動作について説明する。つまり、以下では簡単のために、タワー40Bを無視して説明する。図12から図14は、1つの処理ユニット10のみが集合排気管22iと連通するときの様子の一例を概略的に示す図である。図12の例では、最も高い位置にある処理ユニット10aのみが集合排気管22iに連通している。つまり、図12の例では、処理ユニット10aに対応する開閉弁232iが開いており、処理ユニット10b,10cにそれぞれ対応する開閉弁232iは閉じている。このとき、処理ユニット10aからの排出ガスは最も短い流路で集合排気管22iを流れるので、排出ガスは集合排気管22iを流れやすい。
また、このとき、制御部90は開閉弁232iの開閉状態とは反対に導入管25の開閉弁252を制御する。つまり、制御部90は、導入管25Aaの開閉弁252を閉じ、導入管25Ab,25Acの開閉弁252を開く。言い換えれば、制御部90は外気導入部24iの導入面積Aを導入管25Ab,25Acの個別導入面積の総和に制御する。これにより、外気は導入管25Ab,25Acを通じて集合排気管22iに流入する。導入管25Ab,25Acの個別導入面積は、処理ユニット10b,10cの排出ガスの流量に対応した値に設定されるので、集合排気管22iにおける処理ユニット10b,10cからの排出ガスの分を外気によって補うことができる。
図13の例では、次に高い位置にある処理ユニット10bのみが集合排気管22iに連通している。つまり、図13の例では、処理ユニット10bに対応する開閉弁232iが開いており、処理ユニット10a,10cにそれぞれ対応する開閉弁232iは閉じている。処理ユニット10bからの排出ガスは、処理ユニット10aに対応する流路よりも長い流路で集合排気管22iを流れるので、排出ガスは、処理ユニット10aからの排出ガスに比べて集合排気管22iを流れにくい。
また、このとき、制御部90は開閉弁232iの開閉状態とは反対に導入管25の開閉弁252を制御する。つまり、制御部90は、導入管25Abの開閉弁252を閉じ、導入管25Aa,25Acの開閉弁252を開く。言い換えれば、制御部90は外気導入部24iの導入面積Aを導入管25Aa,25Acの個別導入面積の総和に制御する。これにより、外気は導入管25Aa,25Acを通じて集合排気管22iに流入する。導入管25Aa,25Acの個別導入面積は、それぞれ処理ユニット10a,10cの排出ガスの流量に対応した値に設定されるので、集合排気管22iにおける処理ユニット10a,10cからの排出ガスの分を外気によって補うことができる。
なお、導入管25Aaの個別導入面積は導入管25Abの導入面積よりも大きく設定されるので、図13において集合排気管22iに流入する外気の流量は、図12において集合排気管22iに流入する外気の流量よりも大きい。
図14の例では、最も低い位置にある処理ユニット10cのみが集合排気管22iに連通している。つまり、図14の例では、処理ユニット10cに対応する開閉弁232iが開いており、処理ユニット10a,10bにそれぞれ対応する開閉弁232iは閉じている。処理ユニット10cからの排出ガスは最も長い流路で集合排気管22iを流れるので、排出ガスは集合排気管22iを最も流れにくい。
また、このとき、制御部90は開閉弁232iの開閉状態とは反対に導入管25の開閉弁252を制御する。つまり、制御部90は、導入管25Acの開閉弁252を閉じ、導入管25Aa,25Abの開閉弁252を開く。言い換えれば、制御部90は外気導入部24iの導入面積Aを導入管25Aa,25Abの個別導入面積の総和に制御する。これにより、外気は導入管25Aa,25Abを通じて集合排気管22iに流入する。導入管25Aa,25Abの個別導入面積は、それぞれ処理ユニット10a,10bの排出ガスの流量に対応した値に設定されるので、集合排気管22iにおける処理ユニット10a,10bからの排出ガスの分を外気によって補うことができる。
なお、導入管25Abの個別導入面積は導入管25Acの導入面積よりも大きく設定されるので、図14において集合排気管22iに流入する外気の流量は、図13において集合排気管22iに流入する外気の流量よりも大きい。
以上のように、たとえ集合排気管22iに連通する処理ユニット10の数が同じであっても、集合排気管22iに連通する処理ユニット10の設置位置が高いほど、導入面積Aを小さくする。これによれば、集合排気管22iを流れる排出ガスの流れやすさに応じた適切な流量で外気を集合排気管22iに流入させることができる。このため、集合排気管22iの圧力変動をより高い精度で低減させることができる。また、導入管25の個別導入面積を、対応する処理ユニット10からの排出ガスの流量に相当する値に設定すれば、切換部23の切換状態によらず、集合排気管22iに流れるガスの流量をほぼ一定にすることができる。このため、集合排気管22iの圧力変動をさらに高い精度で低減させることができる。集合排気管22j,22kについても同様である。
また、第2の実施の形態では、制御部90は外気導入部24の導入面積を算出する必要がない。よって、制御部90の演算負荷を軽減させることができる。
なお、上述の例では、集合排気管22iの横排気管222は2つのタワー40(例えばタワー40Aおよびタワー40B)に対して共通に設けられている。しかしながら、必ずしもこれに限らない。例えば、第1の実施の形態と同様に、集合排気管22iがタワー40ごとに設けられてもよい。
以上のように、基板処理装置100は詳細に説明されたが、上記の説明は、全ての局面において、例示であって、これらがそれに限定されるものではない。例示されていない無数の変形例が、この開示の範囲から外れることなく想定され得るものと解される。上記各実施形態および各変形例で説明した各構成は、相互に矛盾しない限り適宜組み合わせたり、省略したりすることができる。
100 基板処理装置
10,10a~10c 第1処理ユニット、第2処理ユニット(処理ユニット)
21 第1個別排気管、第2個別排気管(個別排気管)
22 第1集合排気管、第2集合排気管(集合排気管)
23 第1切換部、第2切換部(切換部)
24 第1外気導入部、第2外気導入部(外気導入部)
25 導入管
252 開閉弁
90 制御部
10,10a~10c 第1処理ユニット、第2処理ユニット(処理ユニット)
21 第1個別排気管、第2個別排気管(個別排気管)
22 第1集合排気管、第2集合排気管(集合排気管)
23 第1切換部、第2切換部(切換部)
24 第1外気導入部、第2外気導入部(外気導入部)
25 導入管
252 開閉弁
90 制御部
Claims (6)
- 鉛直方向に並んで設けられ、各々が基板を処理する複数の第1処理ユニットを含む第1タワーと、
前記複数の第1処理ユニットから排出されたガスがそれぞれ流れる複数の第1個別排気管と、
第1集合排気管と、
前記複数の第1個別排気管の各々と前記第1集合排気管との連通および遮断を切り換える第1切換部と、
前記第1集合排気管に外部からの外気を導入する流路を有し、当該流路の導入面積が可変である第1外気導入部と、
前記複数の第1処理ユニットのそれぞれに対応する個別導入面積と、前記第1切換部の切換状態とに基づいて、前記第1外気導入部の前記導入面積を制御する制御部と
を備え、
前記複数の第1処理ユニットにそれぞれ対応する前記個別導入面積は、前記複数の第1処理ユニットの各々の設置位置に応じて設定されている、基板処理装置。 - 請求項1に記載の基板処理装置であって、
前記制御部は、前記複数の第1処理ユニットのうち前記第1集合排気管と遮断された第1処理ユニットに対応した前記個別導入面積の総和に基づいて前記導入面積を制御し、
前記個別導入面積は、前記複数の第1処理ユニットのうち設置位置が高い第1処理ユニットほど大きい値に設定される、基板処理装置。 - 請求項1または請求項2に記載の基板処理装置であって、
前記第1外気導入部は、
前記第1集合排気管に設けられた単一の導入管と、
前記単一の導入管の前記導入面積を調整し、前記制御部によって制御される可動部材と
を含む、基板処理装置。 - 請求項3に記載の基板処理装置であって、
前記複数の第1処理ユニットに対応した前記個別導入面積を示す個別面積データを予め記憶する記憶部をさらに備え、
前記制御部は、前記切換状態と前記個別面積データとに基づいて、前記可動部材を制御する、基板処理装置。 - 請求項1または請求項2に記載の基板処理装置であって、
前記第1外気導入部は、
前記複数の第1処理ユニットにそれぞれ対応した前記個別導入面積を有する複数の導入管と、
前記複数の導入管の開閉をそれぞれ切り換える複数の開閉弁と
を含み、
前記制御部は前記切換状態に基づいて、前記複数の開閉弁を制御する、基板処理装置。 - 請求項1から請求項5のいずれか一つに記載の基板処理装置であって、
鉛直方向に並んで設けられ、各々が基板を処理する複数の第2処理ユニットを含み、前記第1タワーと水平方向に並んで設けられる第2タワーと、
前記複数の第2処理ユニットから排出されたガスがそれぞれ流れる複数の第2個別排気管と、
第2集合排気管と、
前記複数の第2個別排気管の各々と前記第2集合排気管との連通および遮断を切り換える第2切換部と、
前記第2集合排気管に外部からの外気を導入する流路を有し、当該流路の導入面積が可変である第2外気導入部と
を備え、
前記制御部は、前記複数の第2処理ユニットのそれぞれに対応して設定された個別導入面積と、前記第2切換部の切換状態とに基づいて、前記第2外気導入部の前記導入面積を制御し、
前記複数の第2処理ユニットにそれぞれ対応する前記個別導入面積は互いに異なる、基板処理装置。
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