CN1127004C - 流体供给设备 - Google Patents

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Abstract

一种供如半导体制造设备中气体供给系统用的流体供给设备，它使得有可能在开始供给流体或流体转换时高精度控制流体流速而不产生流体的瞬时过冲现象。本发明的流体供给设备包括：压力流量控制器，用来调节流体的流率；流体转换阀，用来打开和关闭压力流量控制器次级侧的流体通道；以及流体供给控制单元，用来控制压力流量控制器和流体转换阀的操作；压力流量控制器包括：注流孔5；设置在注流孔5上游侧的控制阀1；设置在控制阀1和注流孔5之间的压力检测器3；以及计算控制单元6，它把流率信号Qc和流率指定信号Qs之间的差值作为控制信号Qy输入到控制阀1的驱动器2，流率信号Qc是利用流率Qc＝KP1(K＝常数)、根据由压力检测器3检测到的压力P1计算的；其中，通过借助打开和关闭控制阀1来调节注流孔上游侧的压力P1而控制注流孔5下游侧的流率。

Description

流体供给设备
技术领域
本发明涉及一种设备的改进，所述设备用来供给各种类型的流体，例如用于半导体、化学制品、精密机器零件等的制造的气体。更详细地说，本发明涉及一种流体供给设备，它使得有可能在开始供给流体时以及在从一种流体转换到另一种时对流体的流率进行精密的控制。
背景技术
要求对流率进行高精度控制的流体供给设备用于半导体制造设备和化学制品工厂中。这些设备中大部分配备有所谓质量流量控制器。
图8示出用来供给用于半导体制造设备中高纯度湿气发生器的流体(气体)的设备。它是这样设计的，以便将H2和O2以特定的流率从气体供给设备50输送到反应器51，借助于铂触媒剂把所述O2和H2自由基化，然后使它们在非燃烧状态下彼此反应，以便产生湿气(水蒸气)。然后，把在反应器51中这样产生的湿气输送到氧化炉52中。
图8中，标号54表示用于测量反应器51的湿气产生响应度的回路，它包括：吸入速率调节阀55，四极质谱仪(Q-质谱仪)56，涡轮分子泵57和真空泵58。
Q-质谱仪56用于测量H2O，H2，O2和N2的离子浓度。四极质谱仪MSQ-150A(日本ULVAC公司)用于该目的。上述气体供给设备50由以下部件构成：质量流量控制器MFC1，MFC2和MFC3；转换阀V1，V2和V3；气体存储容器(未示出)和压力调节器(未示出)。在本实施例中，转换阀V1，V2和V3具有电用金属膜片的形式。
从相应的气体存储容器(未示出)，H2以2kgf/cm2的计示压力，O2以2kgf/cm2的计示压力，而N2以6kgf/cm2的计示压力输送到三个质量流量控制器MFC1，MFC2和MFC3的初级侧。
与此同时，为了在反应器51中产生湿气，设定气体供给设备50中三个质量流量控制器MFC1，MFC2和MFC3的流率和其它条件，然后用N2清洗该系统，关闭V1和V2，打开V3。然后，关闭V3而打开V2，以便输送O2，并且，在输送O2的同时，或者在输送O2之后大约3秒钟，打开V1以便输送H2。于是，开始在反应器51中产生湿气(水蒸气)。
在一段特定的时间内，通过操作吸入调节阀55而把来自反应器51的湿气等的一部分吸入测量回路54中，在那里，借助Q-质谱仪56测量所产生的湿气中的H2，O2，H2O和N2的浓度。
图9至11举例说明通过Q-质谱仪56测到的在湿气产生试验设备中产生的湿气中的H2，O2，H2O和N2的浓度。所述试验设备备有气体供给设备50，后者配备图8中所示的质量流量控制器。在以下的条件(1)，(2)和(3)下进行所述测量。在气体供给设备50中质量流量控制器的初级侧，H2，O2和N2的计示压力分别是2kgf/cm2，2kgf/cm2和6kgf/cm2。
(1)质量流量控制器次级侧压力：1kgf/cm2，绝对值
H2：50sccm+O2：1000sccm
N2：1000sccm
在输送O2之后3秒钟开始输送H2。
(2)质量流量控制器次级侧压力：0.5kgf/cm2，绝对值
H2：50sccm+O2：1000sccm
N2：1000sccm
在输送O2之后3秒钟开始输送H2。
(3)质量流量控制器次级侧压力：0.2kgf/cm2，绝对值
H2：50sccm+O2：1000sccm
N2：1000sccm
在输送O2之后3秒钟开始输送H2。
应当理解，“sccm”是在标准状态下以体积(cm3)表示的H2，O2，N2等的流率/分钟的单位。正如从图9至11可以明白的，在开始供给气体时，在备有配备质量流量控制器的气体供给设备50的湿气产生试验设备中质量流量控制器MFC’s(压力降低)的次级侧，随着压力的降低，H2的浓度上升，并且在峰值点PH2到达峰值。与此同时，出现H2O的浓度的峰值PH2O。
在供给气体的初始阶段，H2和H2O到达峰值点PH2和PH2O。这意味着不可能精确地进行H2浓度控制(流率控制)。所述质量流量控制器不能满足高精度地控制H2的流率的要求。
还应当指出，如果H2的浓度的峰值PH2上升百分之几，则将出现下游氧化炉中氢爆炸的可能性，产生安全问题。
另一方面，图12至13也显示通过Q-质谱仪56测到的在湿气产生试验设备中产生的湿气中的H2，O2，H2O和N2的浓度。所述试验设备备有气体供给设备50，后者配备图8中所示的质量流量控制器。在以下的条件(1)和(2)下进行所述测量。在质量流量控制器的初级侧，H2，O2和N2的供给压力(计示压力)分别是2kgf/cm2，2kgf/cm2和6kgf/cm2。
(1)质量流量控制器次级侧压力：0.5kgf/cm2，绝对值
H2：100sccm+O2：50sccm(H2∶O2＝2∶1)
N2：1000sccm
H2和O2的输送同时开始并且同时结束。
(2)质量流量控制器次级侧压力：0.5kgf/cm2，绝对值
H2：100sccm+O2：50sccm(H2∶O2＝2∶1)
N2：1000sccm
在输送O2之后3秒钟开始输送H2，并且，在停止O2的输送之前3分钟停止H2的输送。
正如从图12可以明白的，如果在配备先有技术质量流量控制器的气体供给设备50中同时输送H2和O2，则在供给气体的初始阶段，H2的浓度峰值PH2上升大约百分之10，因此出现安全问题。
此外，在探测到H2的峰值PH2的范围内，由于O2在其与H2反应中被消耗，所以，O2的浓度PO2骤然下降。结果，将不可能产生预期数量的湿气。
还有，如图13中所示，在使用先有技术的质量流量控制器的气体供给设备50中，在气体供给的初始阶段，H2的浓度峰值PH2上升超过百分之50，进一步增加了危险性。
此外，在上述H2的峰值PH2处，消耗了大量的O2，导致O2浓度的显著下降。这使得难于产生所需数量的湿气。
如上所述，配备先有技术质量流量控制器的气体供给设备50有以下问题：由于在气体供给的初始阶段或者暂停时，H2和O2以所谓过冲的方式过量地流入，所以，不可能以高的精度控制H2和O2的流率。
在具有质量流量控制器的气体供给设备50中产生湿气时，很自然，由于H2和O2的过冲，所产生的湿气的量大大地偏离所设定的范围，于是，难于以高精度控制湿气的产生。
同时，在制造半导体等时，通常需要以特定的流率把许多不同种类的气体输送到特定的地方，或者，把输送一种气体转换成输送另一种气体。另外，需要把通过H2和O2之间的反应产生的高纯度的水输送到特定的地方。总是要求快速地以高的精度进行气体和H2O的输送或者转换。这是因为，对于提高产量以及保证成品或者半导体的质量来说，气体和湿气的高精度控制是必不可少的。
为了找到紧接在开始供给流体和暂停供给流体之后的流体过冲现象的原因，利用图8中所示的湿气产生试验装置进行了各种各样的实验。
结果发现，配备先有技术质量流量控制器的流体供给设备50中过冲流体(气体)中的大部分是停留在连接各个转换阀V1至V3和质量流量控制器MFC1至MFC3管道部分L1至L3中的流体(气体)。实验还表明，质量流量控制器MFC1至MFC3的结构是增加流体(气体)停留的原因，就是说，是上述过冲的原因。
图14是显示先有技术质量流量控制器的基本结构的方块图。图14中，从初级侧流入的气体被分成流过层流支路59和传感器支路60的各部分。在传感器支路60中，以与其成比例的温度变化的形式测定流体的质量流率。把测定的温度变化转换成电桥电路62中的电信号，并且通过放大电路等等输出到显示器64，还以线性电压信号的形式输出到比较控制电路65。
同时，把来自输出侧的设置信号从调节器66输入到比较控制电路65，在那里计算上述检测到的信号与所述设置信号之间的差值。然后，把该信号差输送到阀驱动器67中，它启动流量控制阀68，以便使所述信号差为零。
现在，如果在质量流量控制器正在工作时将安装在次级侧的转换阀V1突然关闭，则流过传感器61的气体停顿下来。于是，质量流量控制器的控制系统瞬时工作，以便增加气体的流率，并且，打开流量控制阀68。结果，次级侧管道L1中的气体压力上升，使气体停留在其中。下一次，转换阀V1被打开，停留的气体通过转换阀V1冲进气体消耗侧，导致气体过冲现象。
发明内容
本发明针对利用配备先有技术质量流量控制器、用于输送气体等的设备所遇到的上述问题。就是说，由于在流体供应的初始阶段出现的所谓流体过冲，备有质量流量控制器的先有技术流体供给设备不能以高的精度控制流体的流率。
因此，本发明的目的是提供一种流体供给设备，它使得有可能在从开始流体供给到暂停流体供给的整个工艺过程中以非常高的精度控制气体的流率，而不引起诸如供给的气体的过冲等瞬变现象。上述目的是通过在流体供给设备中采用压力流量控制器代替质量流量控制器并且采用电磁驱动高速起动型转换阀作为流体转换控制阀来实现的。例如，当用于半导体制造设备时，通过以高精度控制湿气的产生，这种供给设备使得有可能实现高集成度半导体的理想的初始薄膜生成。
发现了质量流量控制器中的这种结构特点，本发明人构想了一种按照以下方式构成不会导致诸如流体过冲等瞬变现象的流体供给设备的概念。就是说，这种设备采用这样的流量控制机制，后者涉及借助压力检测信号而不是借助质量流率检测信号来启动流量控制阀。
本发明是根据上述概念来设计的。就是说，本发明涉及一种流体供给设备，它包括：并排地设置的三个压力流量控制器，用来控制流体的流率；三个高速起动型流体转换阀，用来打开和关闭所述各个压力流量控制器的次级侧的流体通道；将上述高速动型流体转换阀的出口侧分别连通的管路，并连接流体消耗装置；和流体供给控制单元，用来对各所述压力流量控制器供给规定的流量设定信号，并且控制各高速起动型流体转换阀的操作；所述各压力流量控制器包括：注流孔；设置在注流孔上游的控制阀；设置在控制阀和注流孔之间的压力检测器；以及计算控制单元，它把流率信号Qc和流率指定信号Qs之间的差值作为控制信号Qy输入到所述控制阀的驱动器，所述流率信号Qc是利用公式Qc＝KP1计算的，其中K＝常数，P1是由压力检测器检测到的压力；不同种类的流体输送到所述压力控制器的初级侧；并且通过借助打开和关闭所述控制阀来调节所述注流孔上游侧的压力P1而控制所述注流孔下游侧的流率在设定值，而防止各高速起动型流体转换阀的开放时的各流体的过冲。
在流体供给设备中，在所述注流孔的上游侧压力P1保持在下游侧压力P2的两倍或者更高的情况下控制控制阀的打开和关闭。
在流体供给设备中，所述流体转换阀是电动的高速起动型流体转换阀，或者是电磁线圈驱动的高速起动型流体转换阀。
本发明中，作为流体供给设备的核心的流率调节器是压力流量控制器。当关闭流体转换阀时起动这种压力流量控制器，以便降低次级侧的压力。这样，在这种流体供给设备中有效地利用压力流量控制器的结构特点。
这使得甚至在流体供应开始时或者在诸如转换供应的流体的瞬变状态下，也有可能在不产生诸如流体过冲的瞬变现象的情况下以高的精度控制流体流量或者湿气的产生。此外，所用的流体转换阀是螺线管线圈驱动的高速起动阀，它加速了象从一种流体转换到另一种流体那样的操作。这种流体转换阀以及无流体过冲有助于在半导体制造中形成理想的初始薄膜，并且大大地有助于改进高集成度半导体。
因此，本发明将产生非常实用的效果。
附图说明
图1是显示本发明的实施例的气体供给设备的方块图。
图2是显示用于本发明的压力流量控制器的实施例的方块图。
图3是用于本发明的流体转换阀D1-D3的纵剖面图。
图4是显示在根据本发明的、利用图8中所示的试验装置的压力流量控制器的次级侧的压力设定在1kg/cm2绝对值的情况下H2，O2，N2和H2O的浓度随时间的变化的简图。
图5是显示在压力流量控制器的次级侧的压力设定在0.5kg/cm2绝对值的情况下H2，O2，N2和H2O的浓度随时间的变化的简图。
图6是显示在压力流量控制器的次级侧的压力设定在0.2kg/cm2绝对值的情况下H2，O2，N2和H2O的浓度随时间的变化的简图。
图7是显示在图8中所示的试验装置中、在压力流量控制器的次级侧的压力设定在1kg/cm2绝对值、并且H2和O2的供给以2∶1的比例开始并同时停止的情况下H2，O2，N2和H2O的浓度随时间的变化的简图。
图8是配备其中安装有先有技术质量流量控制器的湿气产生试验装置的系统总图。
图9显示在图8中所示的试验装置中、在质量流量控制器的次级侧的压力设定在1kg/cm2绝对值的情况下H2，O2，N2和H2O的浓度随时间的变化的简图。
图10显示在质量流量控制器的次级侧的压力设定在0.5kg/cm2绝对值的情况下H2，O2，N2和H2O的浓度随时间的变化的简图。
图11显示在质量流量控制器的次级侧的压力设定在0.2kg/cm2绝对值的情况下H2，O2，N2和H2O的浓度随时间的变化的简图。
图12是显示在图8中所示的试验装置中、在质量流量控制器的次级侧的压力设定在1kg/cm2绝对值、并且H2和O2的供给以2∶1的比例开始并同时停止的情况下H2，O2，N2和H2O的浓度随时间的变化的简图。
图13是显示在与图12中的相同的试验中，在供给O2之后3秒钟供给H2并且在停止O2的供给3秒钟之前停止H2的供给的情况下H2，O2，N2和H2O的浓度随时间的变化的简图。
图14是显示先有技术质量流量控制器的基本配置的方块图。
本文中使用的参考字符和标号指的是附图中的以下部件。
A        流体供给设备
B        流体供给控制单元
C1-C3  压力流量控制器
D1-D3  流体转换阀
E        流体消耗装置
1        控制阀
2        控制阀驱动器
3        压力检测器
4        温度检测器
5        注入孔
6        计算控制单元
7   放大器
8   模数转换器
9   逆放大器
10  阀座
11  电起动器(电磁线圈)
12  屏蔽外壳
13  流通通道
14  支座
15  阀座
16  金属膜片
17  阀盖
18  阀盖螺帽
19  芯轴
20  膜片压块
21  弹簧
22  螺母
23  主外壳
24  活塞
25  激励线圈
26  引线
27  外周壁
28  上壁
29  通孔
30  铁氧体磁珠
具体实施方式
现在将参考附图描述根据本发明的流体供给设备A的实施例。图1是显示根据本发明的流体供给设备A的方块图。流体供给设备A包括流体供给控制单元B，压力流量控制器C1-C3和流体转换阀D1-D3。
本实施例包括三个压力流量控制器C1-C3和三个流体转换阀D1-D3，因此，向气体消耗装置供应的气体可以在H2，O2和N2之间自由地转换。显然，压力流量控制器的个数可以是1个或者4个或者更多个。
在特定的压力(大致)下，通过压力调节器(未示出)把H2，O2和N2从气体存储容器(未示出)引向压力流量控制器C1-C3的初级侧。把来自流体供给控制单元B的每一种特定的流率指定信号Qs1-Qs3输入到每一个压力流量控制器C1-C3。然后，通过打开阀D1-D3把来自每一个压力控制器C1-C3次级侧的气体控制在设置的特定流率，并且输送到流体消耗装置E。
图2显示用于本发明的压力流量控制器C1-C3的实施例。每个压力流量控制器C1-C3包括：控制阀1；控制阀驱动器2；压力检测器3；温度检测器4；注流孔5；计算控制单元6；放大器7a，7b；模数转换器8a，8b以及其它特制件。
控制阀1是所谓直接接触型金属膜片阀，并且其驱动器是压电元件型驱动器。压力检测器3是半导体应变型压力传感器。温度检测器4是热电偶型温度传感器。不用说，上述驱动器、压力传感器、温度传感器等可以是任何类型的。
注流孔5是通过对平板形金属衬片进行放电金属加工而成的注流孔。超薄型导管或者通过蚀刻在金属薄膜上加工成的注流孔也可以作为注流孔5。计算控制电路6由所谓控制电路板构成，并且配备有：温度校正电路6a，流率计算电路6b，比较电路6c，放大电路6d等等。应当指出，当计算控制电路6用于象净化间那样的恒温环境中时，可以省去温度校正电路6a而不影响计算控制单元6的性能。
图3是显示用于本发明的流体转换阀D1-D3的纵剖面图。转换阀D1-D3的主要部分包括：阀座10；电起动器11；以及屏蔽外壳12。在本实施例中，电起动器11是螺线管线圈。
阀座10通过打开和关闭所示阀来控制流体的流率。用于本实施例中的阀是常闭型的。就是说，阀座10由以下部件构成：其中备有流通通道13和支座14的座15；由金属(镍基合金)制作的膜片16，该膜片这样形成，以便能够座落在支座14上；阀盖17；阀盖螺帽18；贯穿阀盖并且可以上、下移动的芯轴19；用来压膜片16的膜片压块20；以及弹簧21，它总是把芯轴19向下推进(以便将阀闭合)。
电起动器11是螺线管线圈。电起动器11包括：借助螺帽22固定在阀盖17上的外壳23；与阀座10的芯轴19形成一体的活塞24；用于移动活塞24的激励线圈25和铁棒25a；以及引线26。
外壳23由铝制成，但是，也可以由诸如坡莫合金的高导磁率材料制成。
外壳12是在主外壳23的外面、在它们之间形成小的间隔的状态下形成的，用来防止磁场的泄漏。在本实施例中，圆柱形的、下端敞开的屏蔽外壳12包括覆盖在电起动器11外面的外圆周壁27、覆盖在电起动器11上侧的上壁28和引线贯穿其中的通孔29，并且套在主外壳23上面。屏蔽外壳12由1毫米厚的坡莫合金板或者可锻铁板制成。包含磁场的屏蔽外壳12在引线26穿过上壁28的部分具有铁氧体磁珠30。该铁氧体磁珠做成环形并且在上壁28里面(下面)配合在引线26的周围，以便填充引线26和通孔29之间的间隙。
下面将说明流体供给设备A的操作。
参考图1和2，压力检测器3检测到控制阀1外侧、即注流孔5上游侧的气体压力P1，后者被输送到放大器7a和模数变换器8a，以便将它数字化。然后，把这样数字化后的信号输入到流率计算电路6b。
同样，温度检测器4检测到注流孔5上游侧的气体温度T1，被交给放大器7b和模数变换器8b处理，以便将它数字化。然后，把数字化后的信号输入到温度校正电路6a。在省去温度校正电路6a的情况下，可以利用模拟信号进行流率计算，以便简化控制电路。
计算控制单元6根据上游流体压力P1计算流率Q’＝KP1，并且按照来自温度校正电路6a的校正信号进行流率Q’的温度校正。然后，把计算的流率信号Qc输入到比较电路6c。
同时，已经把流率指定信号Qs输入到比较电路6c中，在那里，把计算的流率信号Qc和流率指定信号Qs进行比较，并且把差信号Qy＝Qc-Qs作为控制信号输出到控制阀1的驱动器2。
如果计算的流率信号Qc大于流率指定信号Qs，则驱动器2运行以便关闭控制阀1。如果信号Qc小于信号Qs，则驱动器2运行以便打开控制阀1。这样，自动地将控制阀1打开或者关闭，以便使Qc等于信号Qs。
不用说，在本发明中，注流孔5下游侧流体压力P2与注流孔5上游侧的上游流体压力P1的比值最好总是不大于大约0.5。这意味着注流孔5上游侧的上游流体压力P1是下游侧流体压力P2的大约两倍或者更高。
关于这一点，可以这样配置，以便把注流孔5上游侧流体压力P1和注流孔5下游侧流体压力P2输入到逆放大器9，如图2中用虚线表示的那样，其中，如果压力P1和压力P2在数量上被倒置-一种可能出现回流的情况-或者，如果P2/P1大于0.5-一种虽然不存在回流，但不能以高精度控制流动的情况-，则控制阀1将自动关闭。
在未激励螺线管线圈11的情况下，弹簧21的弹力使活塞24、芯轴19和膜片压块20下落，从而借助膜片压块20迫使膜片16靠在支座14上，如图3中所示。这样，流体转换阀D1-D3被关闭。
如果激励螺线管线圈，则活塞24、芯轴19和膜片压块20克服弹簧21的弹力上升，并且，膜片16将依靠其本身的弹力返回到其原来的形状而离开支座14。结果，流体转换阀D1-D3将打开。
与先有技术气动流体转换阀的平均100毫秒比较起来，本发明中的电动高速起动型流体转换阀将在少于10毫秒内打开或关闭。就是说，电动高速转换阀的动作快大约10倍。
还应当指出，当激励螺线管线圈11时(在最初激励和保持激励时)，磁场从激励线圈25向外泄漏。但是，由于在螺线管线圈11的外面设置屏蔽外壳12，所以，泄漏的磁场被屏蔽外壳12遏制和阻断。
在根据本发明的压力流量控制器C1-C3中，如果在关闭阀D1-D3的方向上起动流体转换阀D1-D3，则注流孔5初级侧流体压力P1将上升，流体流率Q’＝KP1将提高，如图2中所示。于是，与设定流率Qs(Qs＝0)的差值Qy将增长。为了使它下降，即为了降低次级侧流体压力P2，将关闭控制阀1。
以下表中归纳了与先有技术的流量控制器，即质量流量控制器相比较的本发明的压力流量控制器C1-C3的起动机制。由于其机制，根据本发明的压力流量控制器C1-C3不允许流体停留在控制器C1-C3的次级侧L。
                    表1
关闭高速转换阀
质量流量控制器 控制阀开→次级侧压力上升→流体停留
压力流量控制器 控制阀关闭→次级侧压力降低→无流体停留
图4显示在除了安装压力流量控制器C1至C3代替先有技术质量流量控制器MFC1至MFC3之外与图8中所示的相同的湿气产生试验装置中、在与图9中的相同的条件下产生湿气时，测到的H2，O2，N2和H2O的浓度随时间的变化。
同样，图5显示利用本发明的流体供给设备A、在与图10中的相同的条件下、在湿气产生试验中测得的H2，O2，N2和H2O的浓度随时间的变化。
图6显示利用本发明的流体供给设备A、在与图11中的相同的条件下、在湿气产生试验中测得的H2，O2，N2和H2O的浓度随时间的变化。
图7显示利用本发明的流体供给设备A、在与图12中的相同的条件下(100sccm H2+50sccm O2，即H2∶O2＝2∶1)、在湿气产生试验中测得的H2，O2，N2和H2O的浓度随时间的变化。
正如图4与9、图5与10、图6与11以及图7与13之间的比较所表明的那样，已经发现，在本发明的流体供给设备A中，即使降低次级侧的设定压力，也将完全不出现H2和H2O的峰值。
图1中所示的本发明的流体供给设备具有安装在其中的三个单元的压力流量控制器C1-C3。显然，所述单元的数目是随着准备供应的流体(气体)的种类的数目而变的。
还应当指出，在本发明的流体供给设备中，利用螺线管线圈驱动的高速起动阀作为电动流体转换阀D1-D3。流体转换阀D1-D3的类型不限于螺线管线圈式高速起动阀，而可以是诸如压电陶瓷等压电元件驱动型的。

Claims (4)

1.一种流体供给设备，它包括：
并排设置的三个压力流量控制器(C1-C3)，用来分别控制流体的流率；
三个高速起动型流体转换阀(D1-D3)，分别用来打开和关闭各个所述压力流量控制器(C1-C3)的次级侧的流体通道(L1-L3)；
将上述各个高速起动型流体转换阀(D1-D3)的出口侧分别连通的管路，并连接流体消耗装置(E)；和
流体供给控制单元(B)，用来对所述压力流量控制器(C1-C3)供给规定的流量设定信号(QS1-QS3)，并且控制各个高速起动型流体转换阀(D1-D3)的操作；
所述压力流量控制器(C1-C3)分别包括：注流孔(5)；设置在注流孔(5)上游的控制阀(1)；设置在控制阀(1)和注流孔(5)之间的压力检测器(3)；以及计算控制单元(6)，它把流率信号Qc和流率指定信号Qs之间的差值作为控制信号Qy输入到所述控制阀(1)的驱动器(2)，所述流率信号Qc是利用公式Qc＝KP1计算的，其中K＝常数，P1是由压力检测器(3)检测到的压力；
不同种类的流体分别输送到各个所述压力流量控制器(C1-C3)的初级侧；并且通过借助打开和关闭所述控制阀(1)来调节所述注流孔(5)上游侧的压力P1而控制所述注流孔(5)下游侧的流率在设定值，而防止高速起动型流体转换阀(D1-D3)的开放时的流体的过冲。
2.权利要求1的流体供给设备，其特征在于：在所述注流孔(5)的上游侧压力P1保持在下游侧压力P2的两倍或者更高的情况下控制控制阀(1)的打开和关闭。
3.权利要求1的流体供给设备，其特征在于：所述高速起动型流体转换阀(D1-D3)是电动的高速起动型流体转换阀。
4.权利要求1的流体供给设备，其特征在于：所述高速起动型流体转换阀(D1-D3)是电磁线圈驱动的高速起动型流体转换阀。
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