CN112090821A - 一种超高压洗净装置 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种超高压洗净装置，它包括：供给管；气液膜管，所述气液膜管的两端连接所述供给管的相异部位，所述气液膜管还具有通气端，所述通气端连接有二氧化碳接入管；柱塞泵，所述柱塞泵连接在所述供给管的出口，所述柱塞泵由电机驱动；过滤罐，所述过滤罐连接在所述柱塞泵的出口；排出管，所述排出管连接所述过滤罐的出液口。经过柱塞泵的加压后，经过过滤罐过滤，清洗液以超高压被雾化，细化了液体分子，提升小粒径颗粒的去除率，提高产品洗净效果。通过气液膜管向清洗液中溶入二氧化碳，通过二氧化碳溶解于清洗液中，解离的氢离子及重碳酸离子压制清洗液中静电产生，从而减小了由于静电电流导致的基板面上金属导线或薄膜部分溶解。

Description

一种超高压洗净装置
技术领域
本发明属于平板显示器行业，涉及一种洗净装置，特别是涉及一种超高压洗净装置，用于玻璃基板表面清洗。
背景技术
现有技术中，针对小粒径颗粒，洗净方式一般采用的设计有二流体、MS等，但随着平板显示器产品的升级，对其制造工艺要求更高，需要清除更小粒径颗粒，原有技术无法有效提升产品良率。
发明内容
本发明的目的是要提供一种超高压洗净装置，可去除被清洗物表面更小粒径的颗粒。
为达到上述目的，本发明采用的技术方案是：
本发明提供了一种超高压洗净装置，它包括：
供给管；
气液膜管，所述气液膜管的两端连接所述供给管的相异部位，所述气液膜管还具有通气端，所述通气端连接有二氧化碳接入管；
柱塞泵，所述柱塞泵连接在所述供给管的出口，所述柱塞泵由电机驱动；
过滤罐，所述过滤罐连接在所述柱塞泵的出口；
排出管，所述排出管连接所述过滤罐的出液口。
优选地，所述相异部位之间设置有流量调节阀。
优选地，所述柱塞泵的泵出压力为可调节设置。
进一步地，所述柱塞泵的泵出压力可调整范围为100kg/cm2~150kg/cm2。
优选地，所述过滤罐设置有两个，且为串联设置。
优选地，所述供给管上还设置有电导度计，所述电导度计位于所述气液膜管所连接位置的下游。
优选地，所述过滤罐上设置有滤罐排气管。
由于上述技术方案运用，本发明与现有技术相比具有下列优点：
本发明的超高压洗净装置，通过供给管向柱塞泵供给清洗液（比如纯水），经过柱塞泵的加压后，通过过滤罐过滤，清洗液以超高压被雾化，细化了液体分子，提升小粒径颗粒的去除率，提高产品洗净效果。通过气液膜管向清洗液中溶入二氧化碳，通过二氧化碳溶解于清洗液中，解离的氢离子及重碳酸离子压制清洗液中静电产生，从而减小了由于静电电流导致的基板面上金属导线或薄膜部分溶解。
附图说明
后文将参照附图以示例性而非限制性的方式详细描述本发明的一些具体实施例。附图中相同的附图标记标示了相同或类似的部件或部分。本领域技术人员应该理解，这些附图未必是按比例绘制的。附图中：
图1是根据本发明优选实施例的超高压洗净装置的示意性透视图；
图2是柱塞泵吸入管路的结构示意图；
图3是柱塞泵吐出口管路的结构示意图；
其中，附图标记说明如下：
1、供给管；
2、气液膜管；
3、柱塞泵；
4、电机；
5、过滤罐；
6、排出管；
7、二氧化碳接入管；
8、流量调节阀；
9、电导度计；
10、电磁阀；
11、滤罐排气管；
12、喷嘴；
13、软管。
具体实施方式
下面将结合附图对本发明的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
在本发明的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
此外，下面所描述的本发明不同实施方式中所涉及的技术特征只要彼此之间未构成冲突就可以相互结合。
如图1所示，超高压洗净装置包括供给管1、气液膜管2、柱塞泵（连接在电机4作用端，由电机4驱动）、过滤罐5以及排出管6。
其中，从供给管1供给清洗液，本例清洗液为超纯水。供给管1中设置有电磁阀10，用于控制流路的通断。如图2，清洗液供给到柱塞泵3，通过柱塞泵3对清洗液进行增压。
如图1，增压后的清洗液经过过滤罐5过滤后从排出管6排出到喷嘴12上。
通过柱塞泵3将水的压力提高至150kg/cm2，此压力可根据实际需求调整，可调整范围100kg/cm2~150kg/cm2，超纯水从柱塞泵3出来后再经过滤罐5过滤后，经由高压软管13，最后由高压喷嘴12喷出，达到洗净目的。以超高压将超纯水雾化，细化液体分子，提升小粒径颗粒的去除率，提高产品洗净效果。
因超纯水具有高电阻值，经过高压喷出后，易产生静电，造成颗粒附着或纯水中产生电流，进而导致基板面上金属导线或薄膜部分溶解，故在超纯水至柱塞泵3管路上增加气液膜管2。气液膜管2的两端（接液端）连接供给管1的相异部位，从供给管1引入清洗液。气液膜管2还具有通气端，通气端连接有二氧化碳接入管7，通过二氧化碳接入管7将二氧化碳引入气液膜管2，气液膜管2中设置有气液膜，使二氧化碳通过高压渗入清洗液中。气体CO2溶解于超纯水中，通过CO2溶解超纯水中，解离的氢离子及重碳酸离子，压制超纯水中静电产生。
如图2，供给管1上还设置有电导度计9，电导度计9位于气液膜管2所连接位置的下游，从而监测清洗液中二氧化碳溶解情况。
气液膜管2与供给管1有两个连接处，这两个连接处之间的供给管1中设置有流量调节阀8，从而调节与气液膜管2并联的一段管路流量。
如图3，过滤罐5连接在柱塞泵3的出口，用于接收从柱塞泵3流出的液体。且过滤罐5设置有两个，这两个过滤罐5为串联设置，从而形成两级过滤，提高了过滤效果。
过滤罐5上还设置有滤罐排气管11，滤罐排气管11用于排出清洗液中的气体。
排出管6连接在过滤罐5的出液口，如图1，排出管6通过软管13连接到喷嘴12上。
综上所述，本例的超高压洗净装置，通过柱塞泵3提高液体的压力，使清洗液以超高压喷出实现雾化，细化液体分子，提升小粒径颗粒的去除率，提高产品洗净效果。通过气液膜管2向清洗液中溶入二氧化碳，二氧化碳在清洗液中解离成氢离子及重碳酸离子，压制超纯水中的静电产生，达到保护被清洗基板表面的效果。
上述实施例只为说明本发明的技术构思及特点，其目的在于让熟悉此项技术的人士能够了解本发明的内容并据以实施，并不能以此限制本发明的保护范围，凡根据本发明精神实质所作的等效变化或修饰，都应涵盖在本发明的保护范围之内。

Claims (7)

1.一种超高压洗净装置，其特征在于，它包括：
供给管（1）；
气液膜管（2），所述气液膜管（2）的接液两端连接所述供给管（1）的相异部位，所述气液膜管（2）还具有通气端，所述通气端连接有二氧化碳接入管（7）；
柱塞泵（3），所述柱塞泵（3）连接在所述供给管（1）的出口，所述柱塞泵（3）由电机（4）驱动；
过滤罐（5），所述过滤罐（5）连接在所述柱塞泵（3）的出口；
排出管（6），所述排出管（6）连接所述过滤罐（5）的出液口。
2.根据权利要求1所述的超高压洗净装置，其特征在于：所述相异部位之间设置有流量调节阀（8）。
3.根据权利要求1所述的超高压洗净装置，其特征在于：所述柱塞泵（3）的泵出压力为可调节设置。
4.根据权利要求3所述的超高压洗净装置，其特征在于：所述柱塞泵（3）的泵出压力可调整范围为100kg/cm2~150kg/cm2。
5.根据权利要求1所述的超高压洗净装置，其特征在于：所述过滤罐（5）设置有两个，且为串联设置。
6.根据权利要求1所述的超高压洗净装置，其特征在于：所述供给管（1）上还设置有电导度计（9），所述电导度计（9）位于所述气液膜管（2）所连接位置的下游。
7.根据权利要求1所述的超高压洗净装置，其特征在于：所述过滤罐（5）上设置有滤罐排气管（11）。
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Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59173184A (ja) * 1983-03-23 1984-10-01 Kurita Water Ind Ltd 超純水の比抵抗制御装置
JPH05299400A (ja) * 1992-04-23 1993-11-12 Oki Electric Ind Co Ltd 半導体ウエハの洗浄装置及び洗浄方法
JPH11221532A (ja) * 1998-02-05 1999-08-17 Hitachi Ltd 基板洗浄方法および基板洗浄装置
DE20114257U1 (de) * 2001-08-29 2002-01-10 Herkules Hebetechnik Gmbh Reinigungsvorrichtung für Farbspritzgeräte, z.B. Farbspritzpistolen
CN1799710A (zh) * 2004-12-31 2006-07-12 财团法人工业技术研究院 基板清洗系统与方法
US7147670B2 (en) * 2001-04-25 2006-12-12 R.R. Street & Co. Inc. Cleaning system utilizing an organic cleaning solvent and a pressurized fluid solvent
CN103406322A (zh) * 2013-07-22 2013-11-27 彩虹显示器件股份有限公司 一种用于清洗基板玻璃的装置及方法
CN103480622A (zh) * 2013-09-18 2014-01-01 合肥京东方光电科技有限公司 基板清洗装置及其工作方法、基板清洗系统
CN207573688U (zh) * 2017-12-14 2018-07-03 苏州晶洲装备科技有限公司 一种气液混合装置
CN208845342U (zh) * 2018-09-28 2019-05-10 常州市往复世佑高压泵阀有限公司 一种具有过滤效果的高压清洗泵

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004273984A (ja) * 2003-03-12 2004-09-30 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理方法および基板処理装置
JP2005064312A (ja) * 2003-08-18 2005-03-10 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理方法および基板処理装置
JP2005183791A (ja) * 2003-12-22 2005-07-07 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理方法及びその装置
JP2006080417A (ja) * 2004-09-13 2006-03-23 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理方法および基板処理装置
JP2006231319A (ja) * 2005-01-28 2006-09-07 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理方法および基板処理装置
JP2011210764A (ja) * 2010-03-29 2011-10-20 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板洗浄処理装置
CN202021173U (zh) * 2011-05-10 2011-11-02 天津格威莱德科技发展有限公司 高压冲洗机
TWI648098B (zh) * 2017-11-14 2019-01-21 亞智科技股份有限公司 氣液混合機構、製程設備及氣液混合方法
CN207806066U (zh) * 2017-12-19 2018-09-04 昆山成功环保科技有限公司 一种晶圆清洗装置
CN209379519U (zh) * 2018-11-05 2019-09-13 彩虹（合肥）液晶玻璃有限公司 一种玻璃高压喷淋清洗系统
CN209491093U (zh) * 2018-11-16 2019-10-15 四川深北电路科技有限公司 一种高密度互连印刷电路板的清洁装置

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59173184A (ja) * 1983-03-23 1984-10-01 Kurita Water Ind Ltd 超純水の比抵抗制御装置
JPH05299400A (ja) * 1992-04-23 1993-11-12 Oki Electric Ind Co Ltd 半導体ウエハの洗浄装置及び洗浄方法
JPH11221532A (ja) * 1998-02-05 1999-08-17 Hitachi Ltd 基板洗浄方法および基板洗浄装置
US7147670B2 (en) * 2001-04-25 2006-12-12 R.R. Street & Co. Inc. Cleaning system utilizing an organic cleaning solvent and a pressurized fluid solvent
DE20114257U1 (de) * 2001-08-29 2002-01-10 Herkules Hebetechnik Gmbh Reinigungsvorrichtung für Farbspritzgeräte, z.B. Farbspritzpistolen
CN1799710A (zh) * 2004-12-31 2006-07-12 财团法人工业技术研究院 基板清洗系统与方法
CN103406322A (zh) * 2013-07-22 2013-11-27 彩虹显示器件股份有限公司 一种用于清洗基板玻璃的装置及方法
CN103480622A (zh) * 2013-09-18 2014-01-01 合肥京东方光电科技有限公司 基板清洗装置及其工作方法、基板清洗系统
CN207573688U (zh) * 2017-12-14 2018-07-03 苏州晶洲装备科技有限公司 一种气液混合装置
CN208845342U (zh) * 2018-09-28 2019-05-10 常州市往复世佑高压泵阀有限公司 一种具有过滤效果的高压清洗泵

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