CN111945116A - 一种蒸镀设备和蒸镀方法 - Google Patents

Abstract

本发明实施例提供了一种蒸镀设备和蒸镀方法，该蒸镀设备包括：至少一个轨道、至少一个蒸发源和至少两个作业单元。蒸发源沿轨道运动，作业单元设置在轨道的正上方且各作业单元在轨道上的正投影不交叠，作业单元用于放置待蒸镀基板，蒸发源沿轨道运动时经过各作业单元下方一次。本申请提供的蒸镀设备，由于蒸发源经过各作业单元下方一次，避免现有技术中的蒸发源往、返经过两次作业单元，能够有效减小对待蒸镀基板的热辐射，从而进一步避免基板受损。

Description

一种蒸镀设备和蒸镀方法

技术领域

本发明涉及显示技术领域，具体涉及了一种蒸镀设备和蒸镀方法。

背景技术

有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode，OLED)显示技术是一种极具发展前景的显示技术，利用该技术制作的显示面板具有自发光、超轻薄、宽视角、响应速度快、低功耗及可实现柔性显示等优点而被广泛应用于显示领域。OLED显示器件具体包括阳极、空穴传输层、发光层、电子传输层、阴极等基本膜层，各膜层通过真空蒸镀的方式在基板上成膜。

然而，现有的蒸镀设备存在了对基板热辐射多而导致基板受损的问题。

发明内容

有鉴于此，本发明实施例提供了一种蒸镀设备和蒸镀方法，以改善现有技术中的蒸镀设备存在的基板热辐射多的问题。

本发明一实施例中提供了一种蒸镀设备，包括：

至少一个轨道；

至少一个蒸发源，所述蒸发源沿所述轨道运动；以及，

至少两个作业单元，所述作业单元设置在所述轨道的正上方且各所述作业单元在所述轨道上的正投影不交叠，所述作业单元用于放置待蒸镀基板；

其中，所述蒸发源沿所述轨道运动时经过各所述作业单元下方一次。

在一个实施例中，所述轨道为闭合轨道。此种设置方式可以使得蒸发源可以在轨道上进行循环运动，避免了蒸发源在轨道上进行安装和拆卸所耗费的时间，提高了生产效率。

在一个实施例中，所述轨道的形状包括矩形、圆形或三角形。此种设置方式提供了轨道的多种可实施方式。

在一个实施例中，所述轨道为非闭合轨道，且所述蒸发源沿所述轨道运动的起点位于所述轨道的端点。此种设置方式可以方便的对蒸发源进行更换，同时可根据蒸镀设备设计非闭合轨道的运行路线，提高可行性。

在一个实施例中，包括：

两个所述轨道；

和两个所述蒸发源，两个所述蒸发源与两个所述轨道一一对应设置。本实施例提供了蒸镀设备的一种可实施方式，两个蒸发源可用于蒸镀不同的物质，提高了蒸镀效率，减少了蒸镀腔室的数量。

在一个实施例中，两个所述轨道均为闭合轨道；优选地，两个所述轨道同心设置。此种设置方式可有效提高设备的紧凑性，能最大限度的利用该蒸镀设备的内部空间。

在一个实施例中，两个所述轨道均为非闭合轨道，且两个所述蒸发源沿所述轨道运动的起点分别位于两个所述轨道的端点。本实施例提供了蒸镀设备的轨道一种可实施方式。此种设置方式可以方便的对蒸发源进行更换，同时可根据蒸镀设备设计非闭合轨道的运行路线，提高可行性。

在一个实施例中，两个所述轨道其中之一为闭合轨道，另一为非闭合轨道；沿所述非闭合轨道运动的蒸发源的运动起点位于所述非闭合轨道的端点。提供了蒸镀设备的轨道的一种可实施方式，可以有效减少相邻轨道间的相互干扰。

本发明实施例还提供了一种蒸镀方法，包括：

提供至少一个轨道、至少一个蒸发源和至少两个作业单元，所述作业单元设置在所述轨道的正上方且各所述作业单元在所述轨道上的正投影不交叠；

将待蒸镀基板放置在所述作业单元上；

启动所述蒸发源沿所述轨道运动，所述蒸发源沿所述轨道运动时经过各所述作业单元下方一次。提供了一种蒸镀方法的可实施方式。

在一个实施例中，包括：

提供至少两个所述轨道和至少两个所述蒸发源，至少两个所述蒸发源与至少两个所述轨道一一对应设置；

所述启动所述蒸发源沿所述轨道运动的步骤包括，

分别启动每个所述蒸发源沿所述轨道运动，可保证相邻两个蒸发源之间不会相互影响；

优选地，相邻两个所述蒸发源的启动时间间隔为60s-180s，通过此种设置方式可有效在保证蒸发源蒸镀效率的基础上，能有效提高蒸发源的蒸镀质量。

本发明实施例提供了一种蒸镀设备和蒸镀方法，该蒸镀设备包括：至少一个轨道、至少一个蒸发源和至少两个作业单元，蒸发源沿轨道运动，作业单元设置在轨道的正上方且各作业单元在轨道上的正投影不交叠，作业单元用于放置待蒸镀基板，蒸发源沿轨道运动时经过各作业单元下方一次。本申请的蒸镀设备，能够有效减小对待蒸镀基板的热辐射，从而进一步避免基板受损。

附图说明

图1所示为现有技术中的蒸镀设备的结构示意图。

图2所示为本发明一实施例提供的一种蒸镀设备的结构示意图。

图3所示为本发明一实施例提供的另一种蒸镀设备的结构示意图。

图4所示为本发明一实施例提供的还一种蒸镀设备的结构示意图。

图5所示为本发明一实施例提供的又一种蒸镀设备的结构示意图。

图6所示为本发明一实施例提供的再一种蒸镀设备的结构示意图。

图7所示为本发明一实施例提供的又一种蒸镀设备的结构示意图。

图8所示为本发明一实施例提供的一种蒸镀方法的步骤示意图。

附图标记：

100-蒸镀设备；

10-蒸发源；20-轨道；30-作业单元；40-基板；

A-端点。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然所描述的实施例仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他的实施例，都属于本发明保护的范围。

在本发明的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明，而不是指示所指的装置或元件必须具有特定的方位，因此不能理解为对本发明的限制。此外，下面所描述的本发明不同实施方式中所涉及的技术特征只要彼此之间未构成冲突就可以相互结合。

发明人经过长期的研究发现，现有技术中的蒸镀设备存在对基板热辐射多而导致基板受损的问题。具体可参见图1，图1所示为现有技术中的蒸镀设备的结构示意图。该蒸镀设备100包括：蒸发源10、轨道20和作业单元30(port)，其中，作业单元30设置在轨道20的正上方，用于放置待蒸镀基板40(图中未示出)，蒸发源10可沿轨道20运动。示例性的，蒸发源10的运动方向如图1中的箭头方向所示，在其他实施例中，蒸发源10的运动方向还可以是箭头的反方向，具体可根据实际情况进行设置。该蒸发源10“U”型扫描的方式使得蒸发源10必须往、返经过两次作业单元30，增加了高温源对待蒸镀基板40的热辐射量，从而容易导致基板40受损。

基于此，本申请提供了一种蒸镀设备和蒸镀方法，能够有效减小蒸发源对待蒸镀基板的热辐射，从而进一步避免基板受损，具体如下所示。

本发明一实施例中提供了一种蒸镀设备，具体可参见图2，图2所示为本发明一实施例提供的一种蒸镀设备的结构示意图，该蒸镀设备100具体包括至少一个蒸发源10、至少一个轨道20和至少两个作业单元30。其中，作业单元30设置在轨道20的正上方，且用于放置待蒸镀基板40(图中未示出)，各作业单元30在轨道20上的正投影不交叠；蒸发源10可沿轨道20运动；蒸发源10沿轨道20运动时经过各作业单元30下方一次。示例性的，蒸发源10的运动方向如图2中的箭头方向所示，可见，蒸发源10的运动方向为顺时针方向，在其他实施例中，蒸发源10的运动方向还可以是箭头方向的反方向，具体可根据实际情况进行设置。

可以理解的是，作业单元30在轨道20上的正投影只覆盖部分轨道20，意思为，对每个轨道20而言，作业单元30在轨道20上的正投影只覆盖轨道20中的一部分或一段路线，使得蒸发源10在轨道20上运动时，对于各作业单元30，只经过其下方一次。

可以理解的是，本申请中的蒸发源10为线蒸发源。

可以理解的是，本实施例以蒸镀设备100包括一个蒸发源10、一个轨道20和两个作业单元30为例进行介绍。

可以理解的是，作业单元30设置在轨道20的正上方，意思为，作业单元30在所有轨道20的正上方，且作业单元30在轨道20上的正投影完全覆盖轨道20。

可以理解的是，本申请的蒸发源10和轨道20两者之间是滑动连接的方式。具体的，轨道20可以为凹槽，蒸发源10靠近轨道20的一侧可以设置有滑轮或滑块，此种设计方式具有稳定性好，操作简单，方便控制等优点。轨道20还可以为工字型轨道，蒸发源10靠近轨道20的一侧设置有滑轮，作用原理类同火车、地铁等列车轨道，采用这种结构很难发生脱轨等情况。具体可根据实际情况进行设置，在此不做具体的限定。

本申请提供的蒸镀设备中的作业单元、轨道和蒸发源的设置方式，由于蒸发源经过各作业单元下方一次就能完成对位于作业单元上基板的膜层的蒸镀，避免现有技术中蒸发源往、返经过两次作业单元，本申请能够有效减小对作业单元上待蒸镀基板的热辐射，从而进一步避免基板受损。

可以理解的是，本申请的蒸镀设备100还可以包括控制模块，用于控制蒸发源10沿轨道运动的速度，具体的，可以让蒸发源10沿轨道进行匀速运动，有利于保证蒸发源10中的待蒸镀的材料状态更稳定；还可以是变速运动，例如，当蒸发源10经过待蒸镀基板40时，速度可以相对慢一点，当蒸发源10没有经过待蒸镀基板40时，可以相对提高蒸发源10沿轨道的运动速度，通过此种设置方式可有效节约时间，提高蒸镀效率。

在一个实施例中，轨道20为闭合轨道。具体的，如图2所示，轨道20是闭合的，即轨道20的起点、终点相接，此种设置方式可以使得蒸发源10可以在轨道20上进行循环运动，优化了蒸镀线的布局，避免了蒸发源10在轨道20上进行安装和拆卸所耗费的时间，提高了生产效率，简化了操作步骤。

在一个实施例中，轨道20的形状包括矩形、圆形或三角形。当蒸镀设备100中设置多个轨道20时，每个轨道20的形状可以不同。例如，该蒸镀设备100可以包括三个轨道20，该三个轨道20的形状可以分别是矩形、圆形和三角形；可以是其中两个轨道20的形状为矩形，另一个轨道20的形状为圆形；可以是其中两个轨道20的形状为圆形，另一个轨道20的形状为三角形；还可以是其中两个轨道20的形状为三角形，另一个轨道20的形状为矩形。该蒸镀设备100还可以包括两个轨道20，如图5所示，图5所示为本发明一实施例提供的又一种蒸镀设备的结构示意图，该实施例中，两个轨道20的形状均为三角形。在此不一一列举每个轨道20的形状，具体可根据实际情况进行设置。

在一个实施例中，轨道20也可是为非闭合轨道，且蒸发源10沿轨道20运动的起点位于轨道20的端点，具体的如图3所示，图3所示为本发明一实施例提供的另一种蒸镀设备的结构示意图。其中，轨道20的端点为图3中的A点，可知的，一条轨道20包括两个端点A，即起点和终点；轨道20的形状可以是“U”字型、“V”字型、“S”字型或“L”字型等，以满足蒸镀设备100的特殊空间等其他要求，具体可根据实际情况进行设置，在此不做具体的限定。可知的，当蒸发源10沿轨道20从起点运动到终点时，可将蒸发源10拆卸下来重新安装到起始位置继而进行下次的蒸镀；也可以将蒸发源10运动的方向反向，使其沿轨道20从终点运动到起点继而再进行下次的蒸镀，在此不做具体的限定。

在一个实施例中，该蒸镀设备100具体包括两个蒸发源10和两个轨道20。具体的，两个蒸发源10与两个轨道20一一对应设置，即每个蒸发源10都对应一条轨道20，每个蒸发源10均可在其对应的轨道20上进行运动。可以理解的是，作业单元30在两个轨道20的正上方，即作业单元30能同时覆盖两个轨道20。可知的，两个蒸发源10依次对两个作业单元30上的待蒸镀基板40进行蒸镀，当第二个蒸发源10对第二个待蒸镀基板40蒸镀完之后可以通过运输模块把两个蒸镀完的基板40运输出去，再运输进来两个待蒸镀基板40，再继续使两个蒸发源10依次对两个作业单元30上的待蒸镀基板40进行蒸镀，循环该过程。

在一个实施例中，两个轨道20均为闭合轨道；优选地，两个轨道20同心设置。具体的，可参见图4，图4所示为本发明一实施例提供的还一种蒸镀设备的结构示意图。在图4中，该蒸镀设备100包括两个蒸发源10，两个闭合轨道20，且这两个轨道20同心设置，即该两个轨道20的中心是同一位置，此种设置方式可有效节约蒸镀设备100的空间。

在一个实施例中，两个轨道20均为非闭合轨道，且两个蒸发源10沿轨道20的运动的起点分别位于两个轨道20的端点A。具体的，可参见图6，图6所示为本发明一实施例提供的再一种蒸镀设备的结构示意图。在图6中，该蒸镀设备100包括两个非闭合轨道20和两个蒸发源10，两个蒸发源10沿轨道20的运动的起点均位于两个非闭合轨道20的端点A处，即端点A为两个蒸发源10的运动的起点；在端点A处开始运动，然后沿轨道20的路线运动到终点(非闭合轨道20的另一个端点A)，可参见图中箭头的方向。

在一个实施例中，两个轨道20其中之一为闭合轨道，另一为非闭合轨道；沿非闭合轨道20运动的蒸发源10的运动起点位于非闭合轨道20的端点A。具体的，可参见图7，图7所示为本发明一实施例提供的又一种蒸镀设备的结构示意图。在图7中，该蒸镀设备100包括两个轨道20，其中一个轨道20为闭合轨道，另一个轨道20为非闭合轨道，还包括两个蒸发源10，沿非闭合轨道20运动的蒸发源10的运动起点位于非闭合轨道20的端点A处。

在一个实施例中，该蒸镀设备100还可以包括至少两个轨道20、至少两个蒸发源10，至少两个轨道20与至少两个蒸发源10一一对应设置。示例性的，该蒸镀设备100可以包括三个蒸发源10和三个轨道20，每个蒸发源10都对应一个轨道20，每个蒸发源10均可在其对应的轨道20上进行运动。

可知的，在本实施例中，所有的轨道20可以都是闭合轨道；也可以都是非闭合轨道；可以一部分轨道20是闭合轨道，另一部分轨道20为非闭合轨道。在此不做具体限定，具体可根据实际情况进行设置，需要注意的是，当轨道20为非闭合轨道时，蒸发源10沿轨道20运动的起点位于轨道20的端点位置。具体的，所有轨道20的形状可以相同也可以不同，具体可根据实际情况进行设置。

可知的，在本实施例中，作业单元30的个数为至少两个。具体的，作业单元30的个数还可以为两个、三个、四个、五个等，可根据实际情况进行设置作业单元30的具体个数。

在一个实施例中，蒸镀设备100包括至少两个轨道20和至少两个蒸发源10，所有轨道20为闭合轨道且同心设置，至少两个轨道20的形状均相同；优选地，所有轨道20的形状为矩形。所有轨道20的形状均相同，可有效减小轨道20所占用的面积，提高设备的紧凑性，同时当轨道20的形状为矩形，能最大限度的利用该蒸镀设备100的内部空间，提高利用率，减小了蒸镀设备100的整体占用空间和成本。

在一个实施例中，蒸镀设备100包括至少两个轨道20和至少两个蒸发源10，所有轨道20为闭合轨道且同心设置，相邻两个轨道20之间的距离为0.5-4米，此种设置方式通过将相邻两个轨道20之间的距离设置在此范围内，可以在有效保证轨道20间不会相互干扰的条件下，减小轨道20的占用面积。优选地，相邻两个轨道20之间的距离为2-3米，能进一步减小轨道20的占用面积，提高蒸镀设备100的效能。

在一个实施例中，相邻两个作业单元30间隔设置；优选地，相邻两个作业单元30之间的间距相同。当蒸发源10经过其中一个作业单元30后需要经过一段轨道20再此经过下一个作业单元30，可避免对下一个作业单元30进行蒸镀时会对上一个作业单元30产生影响，提高蒸镀的准确性。当相邻两个作业单元30之间的间距相同时，能够有效保证每个作业单元30之间的稳定性。

在一个实施例中，蒸镀设备100包括至少两个轨道20和至少两个蒸发源10，每个蒸发源10都对应一条轨道20，每个蒸发源10均可在其对应的轨道20上进行运动；至少两个蒸发源10可以分别用于蒸镀不同的物质，即每个蒸发源10蒸镀的物质均不相同。通过此种设置方式，在同一个蒸镀腔室中可蒸镀至少两个不同的物质，有效减少了蒸镀腔室的使用数量，提高了蒸镀效率。具体的，当该蒸镀设备100包括两个蒸发源10时，其中一个蒸发源10可用于蒸镀空穴传输层材料，另一个蒸发源10可用于蒸镀发光层材料。由于空穴传输层材料发光较弱，在解析过程中不易发现蒸镀偏位问题，将空穴传输层材料和发光层材料两组蒸发源10集中在同一腔室蒸镀，不用调整和变更掩膜板的位置，降低了蒸镀掩膜板的使用数量及补偿层掩膜板单独对位引起的良率损失，避免了空穴传输层材料和发光层材料分别在不同的蒸镀腔室内进行蒸镀，还减少了蒸镀腔室的使用数量，提高了整体的蒸镀效率。

在一个实施例中，所有蒸发源10沿轨道20运动的方向相同，即所有蒸发源10沿轨道20逆时针运动，或所有蒸发源10沿轨道20顺时针运动，保证所有基板40上蒸镀的物质的顺序是相同的，避免蒸镀的膜层的先后顺序错乱，造成浪费、降低效率。

可以理解的是，蒸发源10还可以用于蒸镀其他物质，例如：空穴注入层材料、电子传输层材料、电子注入层材料及光取出层材料等。

本发明一实施例中还提供了一种蒸镀方法，具体如图8所示，图8为本发明一实施例提供的一种蒸镀方法的步骤示意图，具体可包括如下步骤。

S101:提供至少一个轨道、至少一个蒸发源和至少两个作业单元。

具体的，可参见图2或图3，蒸发源10沿轨道20运动；作业单元30设置在轨道20的正上方，用于放置待蒸镀基板40(图中未示出)，同时各作业单元30在轨道20上的正投影不交叠。

S102:将待蒸镀基板放置在所述作业单元上。

具体的，将待蒸镀基板40依次分别放置在各个作业单元30上，每个作业单元30上放置一块待蒸镀基板40。

可知的，将待蒸镀基板40放置在作业单元30上之后，还继续放置掩膜板，并将掩膜板与待蒸镀基板40进行对位以进行下一步骤的操作。

具体的，掩膜板位于基板40和蒸发源10之间。

S103:启动所述蒸发源沿所述轨道运动。

具体的，蒸发源10沿轨道20运动时经过各作业单元30下方一次。当包括至少两个轨道20和至少两个蒸发源10时，分别依次启动每个蒸发源10沿轨道20运动，最起码要保证前一个蒸发源10要完全蒸镀完一整块待蒸镀基板40后，下个蒸发源10才开始进行蒸镀，即相邻两个蒸发源10之间不会相互影响。

可以理解的是，当包括至少两个蒸发源10和至少两个轨道20时，至少两个蒸发源10与至少两个轨道20一一对应设置。

优选地，相邻两个蒸发源10的启动时间间隔为60s-180s，如果相邻两个蒸发源10的启动时间间隔太大，则整个蒸镀的时间太长，如果相邻两个蒸发源10的启动时间间隔太小，则相邻两个蒸发源10之间会产生干扰，通过此种设置方式，可有效在保证蒸发源10蒸镀效率的基础上，能有效提高蒸发源10的蒸镀质量。

具体的，蒸发源10具有蒸发部，在蒸发源10沿轨道20运动的过程中，蒸发部可以对蒸发材料进行加热，使其形成气态蒸发材料并凝结在待蒸镀的基板40上。

本申请提供的蒸镀方法，由于蒸发源经过各作业单元下方一次就完成对基板上进行膜层的蒸镀，避免现有技术中蒸发源必须往、返经过两次作业单元，本申请能够有效减小对作业单元上待蒸镀基板的热辐射，从而进一步避免基板受损。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种蒸镀设备，其特征在于，包括：

至少一个轨道；

至少一个蒸发源，所述蒸发源沿所述轨道运动；以及，

至少两个作业单元，所述作业单元设置在所述轨道的正上方且各所述作业单元在所述轨道上的正投影不交叠，所述作业单元用于放置待蒸镀基板；

其中，所述蒸发源沿所述轨道运动时经过各所述作业单元下方一次。

2.根据权利要求1所述的蒸镀设备，其特征在于，所述轨道为闭合轨道。

3.根据权利要求1或2所述的蒸镀设备，其特征在于，所述轨道的形状包括矩形、圆形或三角形。

4.根据权利要求1所述的蒸镀设备，其特征在于，所述轨道为非闭合轨道，且所述蒸发源沿所述轨道运动的起点位于所述轨道的端点。

5.根据权利要求1所述的蒸镀设备，其特征在于，包括：

两个所述轨道和两个所述蒸发源，两个所述蒸发源与两个所述轨道一一对应设置。

6.根据权利要求5所述的蒸镀设备，其特征在于，两个所述轨道均为闭合轨道；

优选地，两个所述轨道同心设置。

7.根据权利要求5所述的蒸镀设备，其特征在于，两个所述轨道均为非闭合轨道，且两个所述蒸发源沿所述轨道运动的起点分别位于两个所述轨道的端点。

8.根据权利要求5所述的蒸镀设备，其特征在于，两个所述轨道其中之一为闭合轨道，另一为非闭合轨道；沿所述非闭合轨道运动的蒸发源的运动起点位于所述非闭合轨道的端点。

9.一种蒸镀方法，其特征在于，包括：

提供至少一个轨道、至少一个蒸发源和至少两个作业单元，所述作业单元设置在所述轨道的正上方且各所述作业单元在所述轨道上的正投影不交叠；

将待蒸镀基板放置在所述作业单元上；

启动所述蒸发源沿所述轨道运动，所述蒸发源沿所述轨道运动时经过各所述作业单元下方一次。

10.根据权利要求9所述的蒸镀方法，其特征在于，包括：

提供至少两个所述轨道和至少两个所述蒸发源，至少两个所述蒸发源与至少两个所述轨道一一对应设置；

所述启动所述蒸发源沿所述轨道运动的步骤包括，

分别启动每个所述蒸发源沿所述轨道运动；

优选地，相邻两个所述蒸发源的启动时间间隔为60s-180s。

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