CN111847496A - 一种稳定态氢氧化铜制备方法 - Google Patents
一种稳定态氢氧化铜制备方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN111847496A CN111847496A CN202010578902.9A CN202010578902A CN111847496A CN 111847496 A CN111847496 A CN 111847496A CN 202010578902 A CN202010578902 A CN 202010578902A CN 111847496 A CN111847496 A CN 111847496A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- copper hydroxide
- copper
- waste liquid
- solution
- stable
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- JJLJMEJHUUYSSY-UHFFFAOYSA-L Copper hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Cu+2] JJLJMEJHUUYSSY-UHFFFAOYSA-L 0.000 title claims abstract description 53
- 239000005750 Copper hydroxide Substances 0.000 title claims abstract description 53
- 229910001956 copper hydroxide Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 53
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims abstract description 10
- 239000002699 waste material Substances 0.000 claims abstract description 39
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims abstract description 35
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 33
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims abstract description 27
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 22
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 20
- 229910000365 copper sulfate Inorganic materials 0.000 claims abstract description 20
- ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L copper(II) sulfate Chemical compound [Cu+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims abstract description 20
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 claims abstract description 19
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims abstract description 15
- 238000001914 filtration Methods 0.000 claims abstract description 14
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 claims abstract description 13
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 11
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 claims abstract description 10
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 claims abstract description 10
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims abstract description 8
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 claims abstract description 8
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims abstract description 8
- 239000012065 filter cake Substances 0.000 claims abstract description 7
- 239000000047 product Substances 0.000 claims abstract description 5
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 claims abstract description 4
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 claims abstract description 4
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 claims abstract description 4
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 claims abstract description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims abstract description 4
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical group [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 30
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N Ascorbic acid Chemical compound OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1O CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N 0.000 claims description 12
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 12
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims description 7
- 229960005070 ascorbic acid Drugs 0.000 claims description 6
- 235000010323 ascorbic acid Nutrition 0.000 claims description 6
- 239000011668 ascorbic acid Substances 0.000 claims description 6
- 239000006228 supernatant Substances 0.000 claims description 6
- 159000000003 magnesium salts Chemical class 0.000 claims description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 4
- CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N Fe2+ Chemical compound [Fe+2] CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910001448 ferrous ion Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000012452 mother liquor Substances 0.000 claims description 3
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 claims description 3
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims description 3
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 claims description 3
- 230000032798 delamination Effects 0.000 claims description 2
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims description 2
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 239000005751 Copper oxide Substances 0.000 abstract description 4
- 229910000431 copper oxide Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 2
- TWRXJAOTZQYOKJ-UHFFFAOYSA-L Magnesium chloride Chemical compound [Mg+2].[Cl-].[Cl-] TWRXJAOTZQYOKJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- YIXJRHPUWRPCBB-UHFFFAOYSA-N magnesium nitrate Chemical compound [Mg+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O YIXJRHPUWRPCBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- PTVDYARBVCBHSL-UHFFFAOYSA-N copper;hydrate Chemical compound O.[Cu] PTVDYARBVCBHSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 229910001629 magnesium chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N sodium oxide Chemical compound [O-2].[Na+].[Na+] KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001948 sodium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
- C01G3/00—Compounds of copper
- C01G3/02—Oxides; Hydroxides
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Removal Of Specific Substances (AREA)
Abstract
本发明公开了一种稳定态氢氧化铜制备方法,包括如下步骤:步骤一,将酸性蚀刻废液与碱性蚀刻废液同时按比例加入中和槽中进行沉淀反应;步骤二,将沉淀槽中的沉淀物和废液通入压滤机内压滤脱水,将压滤后的滤饼加入反应釜中;步骤三:在反应釜中按比例加入硫酸溶液,反应得到硫酸铜溶液,将硫酸铜溶液送入结晶槽内冷却得到硫酸铜晶体;步骤四:向反应釜中加入硫酸铜晶体和碱水反应得到氢氧化铜,漂洗抽滤得到氢氧化铜粉体;步骤五:在氢氧化铜粉体内加入稳定剂搅拌,搅拌完成后脱水干燥得到氢氧化铜成品;本生产工艺增加了加入稳定剂搅拌这一步骤,保证了氢氧化铜晶体的稳定状态,使其在温度高达60度的环境中也可保持一年不变成氧化铜。
Description
技术领域
本发明涉及氢氧化铜制备方法,特别涉及一种稳定态氢氧化铜制备方法。
背景技术
氢氧化铜是一种蓝色或蓝绿色凝胶或酸铜溶液和氢氧化钠溶液制取氢氧化铜淡蓝色结晶粉末,目前的氢氧化铜制备完成后,受热易分解为氧化铜和水,从而导致氢氧化铜无法长时间保证状态的稳定性。
发明内容
本发明解决的技术问题是提供一种保持氢氧化铜稳定状态的稳定态氢氧化铜制备方法。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:一种稳定态氢氧化铜制备方法,包括如下步骤:
步骤一,将中和槽加水加温70°,接着酸性蚀刻废液与碱性蚀刻废液同时按比例加入中和槽中,用流量器控制,将中和槽内的蚀刻废液的PH值控制在5.5之间,通过反应沉淀进行;
步骤二,将沉淀槽中的沉淀物和废液同时通入压滤机内压滤脱水,将压滤后的滤饼加入反应釜中;
步骤三:在反应釜中按比例加入硫酸溶液,使得硫酸溶液与滤饼进行反应,得到硫酸铜溶液,将硫酸铜溶液送入结晶槽内冷却得到硫酸铜晶体;
步骤四:向反应釜中加入硫酸铜晶体和碱水反应得到氢氧化铜分体沉淀物,将生成的氢氧化铜沉淀物与母液送入抽滤槽内,漂洗抽滤得到氢氧化铜粉体;
步骤五:在氢氧化铜粉体内加入稳定剂搅拌,搅拌完成后脱水干燥得到氢氧化铜成品。
进一步的是:所述步骤五中稳定剂为甘油和抗坏血酸,所述加入的甘油和抗坏血酸占氢氧化铜晶体的比重为1%-2%。
进一步的是:在步骤一前先向酸性蚀刻废液中加入氧化剂以氧化所述酸性蚀刻废液中的亚铜离子和亚铁离子,再加入活性炭,经沉降分层后取上清液进行过滤处理,得到除杂后的酸性蚀刻废液;
往碱性蚀刻废液中加入可溶性镁盐进行反应,经沉降分层后取上清液进行过滤处理,得除杂后的碱性蚀刻废液。
进一步的是:所述碱水为氢氧化钠溶液,所述氢氧化钠溶液的浓度为20wt%,所述氢氧化钠溶液与硫酸铜晶体的体积重量比为(1.2~1.3)L:1Kg。
进一步的是:所述步骤三中硫酸溶液的浓度为大于等于98wt%。
进一步的是::所述步骤五中在氢氧化铜晶体内加入稳定剂搅拌,搅拌时间为20-40min,搅拌速度为65r/min~85r/min。
本发明的有益效果是:本生产工艺增加了加入稳定剂搅拌这一步骤,保证了氢氧化铜晶体的稳定状态,使其在温度高达60度的环境中也可保持一年不变成氧化铜。
附图说明
图1为氢氧化铜制备工艺图。
具体实施方式
为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂,下面结合附图对本发明的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发明。但是本发明能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施,本领域技术人员可以在不违背本发明内涵的情况下做类似改进,因此本发明不受下面公开的具体实施例的限制。
如图1所示,本发明公开了一种稳定态氢氧化铜制备方法,包括如下步骤:
步骤一,将中和槽加水加温70°,接着酸性蚀刻废液与碱性蚀刻废液同时按比例加入中和槽中,用流量器控制,将中和槽内的蚀刻废液的PH值控制在5.5之间,通过反应沉淀进行;
步骤二,将沉淀槽中的沉淀物和废液同时通入压滤机内压滤脱水,实现固液分离,接着将压滤后的滤饼加入反应釜中;
步骤三:在反应釜中按比例加入硫酸溶液,使得硫酸溶液与滤饼进行反应,得到硫酸铜溶液,将硫酸铜溶液送入结晶槽内冷却得到硫酸铜晶体,所述硫酸溶液的浓度为大于等于98wt%;
步骤四:向反应釜中加入硫酸铜晶体和碱水反应得到氢氧化铜分体沉淀物,将生成的氢氧化铜沉淀物与母液送入抽滤槽内,漂洗抽滤得到氢氧化铜粉体;
步骤五:在氢氧化铜晶体内加入稳定剂搅拌,搅拌完成后脱水干燥得到氢氧化铜成品。
所述步骤五中稳定剂为甘油或抗坏血酸,所述加入的甘油或抗坏血酸占氢氧化铜晶体的比重为1%-2%,本工艺通过增加了加入稳定剂搅拌这一步骤,保证了氢氧化铜晶体的稳定状态,使其在温度高达100度的环境中也可保持一年不变成氧化铜。
在上述基础上,在步骤一前先向酸性蚀刻废液中加入氧化剂以氧化所述酸性蚀刻废液中的亚铜离子和亚铁离子,再加入活性炭,经沉降分层后取上清液进行过滤处理,得到除杂后的酸性蚀刻废液,具体的所述活性炭的用量与所述酸性蚀刻废液的质量体积比为(0.3~0.5)g:1L,活性炭的用量主要根据酸性蚀刻废液的体积和其中有机杂质的量来决定,按照1L酸性蚀刻废液加入0.3~0.5g活性炭的标准进行,即可有效除去酸性蚀刻废液中的有机杂质;
往碱性蚀刻废液中加入可溶性镁盐进行反应,经沉降分层后取上清液进行过滤处理,得除杂后的碱性蚀刻废液,具体的可溶性镁盐选自氯化镁、硫酸镁和硝酸镁等中的至少一种,具体反应时,将可溶性镁盐加入碱性蚀刻废液中,搅拌反应1-2小时,分层过滤,取得的上清液即为去除杂质的碱性蚀刻废液;
本步骤对酸性蚀刻废液和碱性蚀刻废液进行除杂处理,从而可保证后续操作的稳定进行。
在上述基础上,所述碱水为氢氧化钠溶液,所述氢氧化钠溶液的浓度为20wt%,所述氢氧化钠溶液与硫酸铜晶体的体积重量比为(1.2~1.3)L:1Kg,即具体反应时,可将氧化钠溶液与硫酸铜晶体配比定为1.2L:1Kg、1.25L:1Kg、1.3L:1Kg等。
在上述基础上,所述步骤五中在氢氧化铜晶体内加入稳定剂搅拌,搅拌时间为20-40min,搅拌速度为65r/min~85r/min,此种设置可使得甘油与氢氧化铜晶体充分接触,从而保证氢氧化铜晶体成品的稳定性。
以上所述的具体实施例,对本发明的目的、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明,所应理解的是,以上所述仅为本发明的具体实施例而已,并不用于限制本发明,凡在本发明的精神和原则之内,所做的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (6)
1.一种稳定态氢氧化铜制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
步骤一,将中和槽加水加温70°,接着酸性蚀刻废液与碱性蚀刻废液同时按比例加入中和槽中,用流量器控制,将中和槽内的蚀刻废液的PH值控制在5.5之间,通过反应沉淀进行;
步骤二,将沉淀槽中的沉淀物和废液同时通入压滤机内压滤脱水,将压滤后的滤饼加入反应釜中;
步骤三:在反应釜中按比例加入硫酸溶液,使得硫酸溶液与滤饼进行反应,得到硫酸铜溶液,将硫酸铜溶液送入结晶槽内冷却得到硫酸铜晶体;
步骤四:向反应釜中加入硫酸铜晶体和碱水反应得到氢氧化铜分体沉淀物,将生成的氢氧化铜沉淀物与母液送入抽滤槽内,漂洗抽滤得到氢氧化铜粉体;
步骤五:在氢氧化铜粉体内加入稳定剂搅拌,搅拌完成后脱水干燥得到氢氧化铜成品。
2.如权利要求1所述的一种稳定态氢氧化铜制备方法,其特征在于:所述步骤五中稳定剂为甘油、抗坏血酸,所述加入的甘油、抗坏血酸占氢氧化铜晶体的比重为1%-2%。
3.如权利要求1所述的一种稳定态氢氧化铜制备方法,其特征在于:在步骤一前先向酸性蚀刻废液中加入氧化剂以氧化所述酸性蚀刻废液中的亚铜离子和亚铁离子,再加入活性炭,经沉降分层后取上清液进行过滤处理,得到除杂后的酸性蚀刻废液;
往碱性蚀刻废液中加入可溶性镁盐进行反应,经沉降分层后取上清液进行过滤处理,得除杂后的碱性蚀刻废液。
4.如权利要求1所述的一种稳定态氢氧化铜制备方法,其特征在于:所述碱水为氢氧化钠溶液,所述氢氧化钠溶液的浓度为20wt%,所述氢氧化钠溶液与硫酸铜晶体的体积重量比为(1.2~1.3)L:1Kg。
5.如权利要求1所述的一种稳定态氢氧化铜制备方法,其特征在于:所述步骤三中硫酸溶液的浓度为大于等于98wt%。
6.如权利要求1所述的一种稳定态氢氧化铜制备方法,其特征在于:所述步骤五中在氢氧化铜晶体内加入稳定剂搅拌,搅拌时间为20-40min,搅拌速度为65r/min~85r/min。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202010578902.9A CN111847496A (zh) | 2020-06-23 | 2020-06-23 | 一种稳定态氢氧化铜制备方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202010578902.9A CN111847496A (zh) | 2020-06-23 | 2020-06-23 | 一种稳定态氢氧化铜制备方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN111847496A true CN111847496A (zh) | 2020-10-30 |
Family
ID=72989531
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202010578902.9A Pending CN111847496A (zh) | 2020-06-23 | 2020-06-23 | 一种稳定态氢氧化铜制备方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN111847496A (zh) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN114620760A (zh) * | 2022-03-14 | 2022-06-14 | 河北允升精细化工有限公司 | 一种邻甲酸甲酯苯磺酰胺生产过程中硫酸铜回收处理工艺 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101195497A (zh) * | 2006-12-04 | 2008-06-11 | 沈祖达 | 氢氧化铜或氧化铜的制备方法 |
CN103011253A (zh) * | 2012-12-21 | 2013-04-03 | 嘉兴德达资源循环利用有限公司 | 使用铜氨蚀刻废液制备氢氧化铜的方法 |
CN103952704A (zh) * | 2014-04-02 | 2014-07-30 | 西安交通大学 | 使用酸性和碱性蚀刻废液制备硫酸铜溶液的系统及方法 |
CN104355474A (zh) * | 2014-11-07 | 2015-02-18 | 清远市中宇环保实业有限公司 | 一种从工业废水中提取铜离子的工艺 |
CN108249472A (zh) * | 2018-02-07 | 2018-07-06 | 韶关鹏瑞环保科技有限公司 | 一种含铜蚀刻废液的综合回收利用工艺 |
CN108341424A (zh) * | 2018-03-29 | 2018-07-31 | 东莞市恒建环保科技有限公司 | 硫酸铜的生产方法 |
-
2020
- 2020-06-23 CN CN202010578902.9A patent/CN111847496A/zh active Pending
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101195497A (zh) * | 2006-12-04 | 2008-06-11 | 沈祖达 | 氢氧化铜或氧化铜的制备方法 |
CN103011253A (zh) * | 2012-12-21 | 2013-04-03 | 嘉兴德达资源循环利用有限公司 | 使用铜氨蚀刻废液制备氢氧化铜的方法 |
CN103952704A (zh) * | 2014-04-02 | 2014-07-30 | 西安交通大学 | 使用酸性和碱性蚀刻废液制备硫酸铜溶液的系统及方法 |
CN104355474A (zh) * | 2014-11-07 | 2015-02-18 | 清远市中宇环保实业有限公司 | 一种从工业废水中提取铜离子的工艺 |
CN108249472A (zh) * | 2018-02-07 | 2018-07-06 | 韶关鹏瑞环保科技有限公司 | 一种含铜蚀刻废液的综合回收利用工艺 |
CN108341424A (zh) * | 2018-03-29 | 2018-07-31 | 东莞市恒建环保科技有限公司 | 硫酸铜的生产方法 |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
鲁伶兰等: "稳定态氢氧化铜的制备", 《天津化工》 * |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN114620760A (zh) * | 2022-03-14 | 2022-06-14 | 河北允升精细化工有限公司 | 一种邻甲酸甲酯苯磺酰胺生产过程中硫酸铜回收处理工艺 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN108341424B (zh) | 硫酸铜的生产方法 | |
CN109402394B (zh) | 一种从锂离子电池电极废料中综合回收有价金属的方法 | |
CN102070198B (zh) | 铁屑还原浸出软锰矿制备高纯硫酸锰和高纯碳酸锰的方法 | |
CN109500059B (zh) | 一种硫化砷渣转型及微胶囊固化稳定化方法 | |
CN108675323A (zh) | 一种低品位磷酸锂酸性转化法制备电池用碳酸锂的方法 | |
CN109809440B (zh) | 制备高纯度氯化锂、高纯度甲酸锂及高纯度碳酸锂的方法 | |
CN101259956A (zh) | 一种粗碲粉深度除杂的方法 | |
CN111847527A (zh) | 钛白绿矾深度提纯的方法 | |
CN111847496A (zh) | 一种稳定态氢氧化铜制备方法 | |
CN115403019A (zh) | 一种磷酸铁的制备方法 | |
JP2023502146A (ja) | 電池グレードのNi-Co-Mn混合液及び電池グレードのMn溶液の調製方法 | |
CN112047336B (zh) | 一种无氟化学提纯天然石墨的工艺 | |
CN106044838B (zh) | 一种低硫氢氧化镧生产工艺 | |
JP2024052508A (ja) | バナジウム電解液及びその製造方法、並びに応用 | |
CN114735738B (zh) | 一种无铁高纯硫酸铝的生产工艺 | |
CN110615453B (zh) | 一种直接制备电池级碳酸锂的方法 | |
CN111392763B (zh) | 一种从硫酸盐溶液中分离回收硫酸锌镁复盐的工艺和应用 | |
CN109336191B (zh) | 一种去除硫酸盐结晶后母液中杂质离子镉的方法 | |
CN116639670A (zh) | 一种采用肥料级磷酸一铵制备电池级磷酸铁的方法 | |
CN103420409B (zh) | 一种高纯硫酸银的合成方法 | |
CN111017968A (zh) | 以轻烧苦土为原料不加任何除杂剂制备纯硫酸镁的方法 | |
RU2714201C1 (ru) | Извлечение щавелевой кислоты из промышленного оксалата железа | |
CN111892227A (zh) | 一种辅助强化含磷废水除磷及回收磷的工艺 | |
CN115010176B (zh) | 一种高纯度五氧化二钒的制备方法 | |
CN101628730A (zh) | 一次性结晶制备照相级硝酸银的方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20201030 |
|
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |