CN1117921A - 平版印刷板 - Google Patents
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Abstract
公开了适合用IR激光器成像的平版印刷板,它不需湿显影。该印刷板包括:承载热敏感涂层的基片,该涂层含有光热转换体而且在热作用下变得相对更亲水。
Description
本发明涉及一种能用于红外激光成像并且不必湿显影的平版印刷板。
因为在图像艺术工业中图像信息的电子生成,贮存和输出的广泛使用,所以人们对提供可用激光成像,最好用红外半导体激光成像的印刷板越来越感兴趣。目前,典型地使用图像排版器来输出图像至胶片上,后者接着用于在一个接触过程中使印刷板曝光。很久之前便认识到,用图像排版器或类似装置使印刷板直接曝光可以节省大量时间和金钱。
EP 0444786,JP 63-208036和JP 63-274592A公开了对近红外线敏感的光聚合物阻挡层。目前为止,还没有一种证明具有商用可行性,而且都需要湿显影以洗去未曝光区域。EP 0514145公开了一种受激光寻址照射的板,其中用激光曝光所产生的热使板涂层上的颗粒熔化并凝聚,从而改变它们的溶解特性。同样这也需湿显影。
在US 3,787,210,US 3,962,152,EP0001068和JP 04-140191中公开了一种略有不同的方法。通过激光照射供体板而产生的热量被用于将一种树脂材料从供体板物理转移至与供体板紧密接触的受体板上。如果受体板表面具有合适的亲水性,就能用作印刷板。该方法的优点是不必湿显影,但是为了实现具有现实意义的写入时间,需使用大功率的YAG(或类似的)激光器,这限制了该方法的使用。
能对应于光照射而引起表面性能改变的聚合物涂料是在本领域中公知的。WO 92/09934公开了辐射后成为亲水性的涂料,WO92/02855分开了辐照后变粘的涂料。在这二种情形中,涂料含有一种对酸敏感的聚合物和一种光化学性的强酸源,而且在二种情形中优选的对酸敏感的聚合物来自丙烯酸或甲基丙烯酸的环缩醛酯,如(甲基)丙烯酸四氢吡喃酯。
WO 92/02855公开了对酸敏感聚合物与低Tg聚合物共混从而产生一种起初不粘但照射后因酸感敏聚合物的化学转变而发生相分离,从而变粘的涂料。尽管提及了激光曝光可能性但没有给出细节,而且没有公开IR敏感性,只提及UV/可见光。但是,同样的材料是题为“光照变粘作用的进展”(“Advances in phototackification”)的文章的主题,见1993 Is &T/SPIE Conference,Symposium onElectronic Science and Technology第1912—36页。其中进一步公开了光酸产生剂可以用IR染料(尤其是带硫代吡喃鎓末端基团的squarylium染料)代替,并且可用二极管激光器件实现曝光。论述的这种染料并不知道具有产酸性能。这种技术是US 5,286,654的主题。
WO 92/09934公开,一种酸敏感聚合物可任选地与一种或多种其他聚合物如马来酸酐以及一种光酸产生剂共混。在用UV/可见光按图像照射曝光后,曝光区域是可被水优先湿润的,而且涂层可以起平版印刷板的作用而不需湿显影过程。没有提及使用激光寻址照射。
根据本发明提供了一种不需溶解过程的平版印刷板,它包括载有热敏感涂层的底层,该涂层在热作用下变得相对更亲水,还包括一种光热转换体。
“光热转换体”意指任何能吸收入射的辐照并将其转移成热的物质。在优选实施例中,光热转换体吸收红外辐射。然而,可以吸收其他波光的光,如可见光,并将其转变成热的其他材料也可以使用,如在JP 51-88016中公开的材料。
本发明还扩展至一种形成平版印刷表面的方法,即用发出波长落于光热转换体的吸收光谱范围之内的激光器将图像曝光于上面提及的印刷板。
在优选实施例中,热敏感涂层含有一种光热转换体和一种聚合物,该聚合物具有侧链憎水基团,它们在热和/或酸的作用下反应形成亲水性基团。最佳的,光热转换体通过吸收辐照后产生酸和热,和/或在涂层中存在另一种酸源。
涂层最初的憎水的,因而能轻易地接受通常用于平版印刷的油墨。一旦用辐射曝光,最好用红外线,涂层变得相对更亲水,因此在印刷机贮存器水溶液存在时,曝光区域是排斥油墨的,即板是起正片作用的(positive-acting)。
“更亲水”意指基本中性pH(即pH4—10)的水溶液对涂层的的可湿性增加,而涂层维持其结构完整性。可湿性的增加以涂层和水溶液的接触角的下降为证。
优选的照射源是激光器,尤其是IR激光器如YAG激光器或激光二极管,从而使板具有卓越的数字寻址性而且不需湿处理。
优选的印刷板的形成是用波长480-1200nm的光曝光而成像的,曝光量小于5.0J/cm2,通常小于1.0J/cm2,较佳小于0.5J/cm2,最佳小于0.3J/cm2。这使得曝光能用较低功率设备(如小于1W)在有实际意义的扫描时间内进行。
热敏感涂层,可以是一层或两层,典型地含有一种光热转换体和一种具有能在光和/或酸下反应形成极性更强的、更亲水的基团的侧链基团的聚合物。这样的基团的例子包括羧酸叔-烷基酯,如叔-丁基酯,如EP 0249139中所公开的;碳酸叔-烷基酯,如碳酸叔-丁基酯,如在Polymer Bulletin,17,1—6,(1987)中公开的;羧酸苄基酸,如US4963463中公开的硝基苄基或氰基苄基酯,以及Polym.Mater.Sci.Eng.1989,60,142中公开的二甲基苄基酯;和烷氧基烷基酯,如WO 92/09934中公开的。后者的优先的,而且可用式(I)表示:其中:R1和R2中一个是氢,另一个是氢或C1-18烷基;
R3为C1-18烷基;或R1、R2和R3中任两个共同形成一个环;和
T为二价的与聚合物骨架相连的连接基团。
关于T的合适种类和聚合物骨架的更多的细节公开于WO 92/09934。
较佳的,R1是H,而R2和R3合起来形成5员或6员环。
在式(II)单元中的环缩醛酯基团是较憎水的,而且在中性或碱性下于室温是稳定的。当温度升高时,据信发生断裂反应,产生相应的极性和亲水的羧酸:
该过程因酸存在而大大加速,而且能产生平版印刷表面而不需溶解显影,因为在相关的聚合物涂层中按图像产生的热和/或酸在涂层上产生了相应的由亲水(排斥油墨)和憎水(接受油墨)区域组成的图案。
活泼的聚合物的性能能通过与其他聚合物,如WO 92/09934中公开的,共混而增强。马来酸酐的聚合物和共聚物特别适用于该目的,含量可以高达涂层的90wt%,但较佳不超过50wt%。得到的共混物具更好的耐久性,而且可湿性的差别更大。
活泼的聚合物可以含有得自一种或多种不含热敏感或酸敏感基团的共聚单体的重复单元。例如,THPM(或类似单体)可以和任一种传统的丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯或其他乙烯基单体共聚合,产生具有不同物理性质的聚合物,只要该共聚单体不含强酸基团(如羧酸,磺酸等),否则会造成不需要的反应基团的断裂,也不含强碱基团(如氨基),否则会消除任何在成像过程中产生的酸催化剂。优选的共聚单体包括乙烯基官能团三烷氧基硅烷,如甲基丙烯酰氧丙基三甲氧基硅烷(MPTS),含量可高达活泼聚合物的50(mol)%。优选的共聚单体含有90%(摩尔)THPM和10%(摩尔)MPTS。
本发明的印刷板的另一主要成份是光热转换体,它是一种能吸收曝光用辐照并将其转变成热的吸收体。为了能用常用的激光器如二极管激光器和YAG激光器进行照射,吸收体的选择通常使之提供650-1100nm的强吸收,对二极管激光器寻址750—850nm更佳,但是也可以使用其他波长的吸收以使用其他类型的激光器曝光。吸收体可以和活泼聚合物在同一层,也可以涂在分开的底层。前一种的优点是便于制造,但后一种的敏感度高。将光热转换体置于底层使得能使用更大剂量,而不会有改变活泼聚合物性能的危险。无论位置如何,光热转换体的含量应足以使曝光波长下的光密度(OD)大于0.5,较佳大于0.75,更佳大于1.0。
原则上,任何吸收材料都可以使用,只要它在所需的波长有足够强的吸收而且能掺入或制成均匀的涂层。染料和颜料都可使用,而且在双层结构情况下,可以用染料和颜料(包括金属或金属氧化物)的蒸气沉积层。形成这种层的技术是本领域公知的,如在US.4,430,366,US 4,364,995,US 4,268,541,US 4,271,256,US 4,587,198,US 4,599,298和US 4,657,840中有描述。任何一种公知的IR—吸收性的染料和颜料都可用于制造本发明的印刷板,但非常优选的一类是那些在辐射时产生酸的类型。具有这种性能的吸收IR的染料的例子包括:由强酸衍生的具有抗衡离子的芳香二胺二阳离子染料,如在WO 90/12342和US 4,656,121中分开的。可从美国氰胺公司以品名CYASORB IR 165,126和99购得的染料是这种类型的,其吸收范围在YAG激光器的波长范围内。与二极管激光寻址照射相匹配的另一类染料是四芳基多次甲基(TAPM)染料,例如在US 5,135,842中分开的。较佳的例子具有通式(III)的核:
其中Ar1至Ar4是相同或不相同的芳基,使得Ar1至Ar4中至少2个具有4位的叔氨基,X是阴离子。叔氨基的例子包括二烷基氨基,二芳基氨基和吡咯烷代吗啉代哌啶子基之类的环取代基。叔氨基可以形成稠环系统的一部分,例如Ar1—Ar4中一个或多个可以为久洛尼定基团。
较佳的阴离子X衍生自强酸(如HX的PKa应小于3,较佳小于1)。适合的X的类型包括ClO4,BF4,CF3SO3,PF6,AsF6,SbF6等。这些染料据信在照射下可以形成酸HX,而且当并不是所有的Ar1—Ar4都相同时效果显得特别强。较佳的式(III)染料包括:DYE Ar1 Ar2 Ar3 Ar4D1
D2
D3
(各例子中X=CF3SO3)
为了增加板从灵敏度,在结构中含有第三种成份即热酸产生剂是有利的。这种化合物具有在因照射而使光热转换体产生热的条件下释放一种酸的性质。因为活性聚合物的断裂反应是酸催化类型的,因此热酸源会增加灵敏度而且能够缩短对于给定激光功率下的写入时间。任何一种本领域已知的热酸产生剂原则上都可使用,但优选的类型是三卤代甲基杂环化合物,尤其是三氯代甲基杂环化合物。这种化合物据信在热作用下最初会产生卤自由基,但在缺乏清除剂时它们会进一步反应产生相应的氢卤酸。这一类型中适合的化合物包括三氯甲基三嗪,如三氯甲基均三嗪。
另一类热酸产生剂是“鎓”盐如二芳基碘鎓盐和三芳基锍盐,其中阴离子来自强酸。已知它们在热作用下会分解(也会光解)产生强酸,因而在本发明中能使用。碘鎓盐是优选的,而且可以和二价铜盐以及羟基化合物一起使用,如Crivello、Lockhard和Lee等人在J.Polymer Science,Polymer Chemistry Edition,21,97(1983)中所述的那样。
热酸产生剂的用量通常为固体总量的1.0—35.0wt%,更常用的为2.0—30wt%,取决于选用的特定的化合物。通常而言,三氯甲基三嗪的用量较高(8—25wt%)而碘鎓盐的用量较低(2—15wt%)。在二层结构中酸产生剂可以存在于二层中的任一层或二层都有。
在上面覆有涂层的基底可以选自大量不同的材料,唯一的要求是它有足够的韧性和尺寸稳定性从而能在印刷机上安装和使用。不需要那些给予传统的平版底衬的昂贵的表面处理。因此可以使用种类繁多的廉价材料如塑料,纸和金属如铝。优先的材料是铝和聚酯片(如4微米厚的)任意用任何一种传统方法处理以提高以后施涂料时的可湿性和粘附性(如电晕放电处理或涂胶层等)。
本发明的涂层可以用任何一种传统的涂层方法进行施涂如刀涂、滚涂、槽涂、帘涂、棍涂等。在双层结构时首先施涂含吸收剂的涂层。在获得必需的OD以及维持均匀覆盖的条件下,这涂层尽可能薄(如小于1微米)。出于这种原因不含粘合剂的涂层是优选的,尽管这并不是必需的而且如果吸收性的染料或颜料本质上不能形成薄膜,那么它可以用在适当粘合剂中的溶液或分散液的形式进行施涂。获得不含粘合剂涂层的另一种方法是蒸气沉积。这对于形成的高吸收性的颜料涂层如金属,金属氧化物,酞菁等是特别适用的。
含活性聚合物的涂层通常是用含5—15wt%固体的溶液进行施涂,湿度为12微米,涂层厚度并不严格—较厚的涂层具有更长的印刷寿命,但需要更多的能量来成像。在单层结构中为获得给定的OD会决定最小的涂层厚度。
本发明的印刷板可以用任何一种通常使用的激光器进行成像;取决于所用的吸收剂,但最适合用近红外发射激光器如二极管激光器和YAG激光器进行寻址照射。可以使用任何一种已知的描述装置的平床扫描器、外鼓扫描器或内鼓扫描器。在这些设备中待成像的印刷板固着于鼓或床(如真空固定法),而且激光束在板表面的某一点上会聚(如直径级20微米)。该点在待成像的整个区域进行扫描,同时激光器根据以电子学方法贮藏的图像信息发出脉冲。二个或多个激光器可以同时扫描板的不同区域,而且如果需要,二个或多个激光器的输出可以以光学方式合并成强度更高的一点。
成像后,印刷板可以置于印刷机上面无需进一步处理。此后在用传统方法上油墨之前,最好用贮存溶液清洗。板上已受到曝光的区域是明显地更亲水的,而且在使之湿润的溶液存在下是排斥油墨的。二层结构中酸产生剂可以存在于二层中的任一层或二层都有。
这种印刷板适气用于任何传统的胶印平板印刷机,使用传统的油墨贮存溶液。根据本发明的板已表明能印刷千次而没有磨损的痕迹。
本发明将通过以下的实施例来进一步阐述。除非另外说明,成像是用外鼓扫描器进行,配有830nm激光二极管,在成像平面输出高达100mW,而且会聚成20微米光斑。该光斑在不同激光功率设置下的扫描线速度为200—1200cm/秒。通过检测得到的径迹的油墨附着性或者排斥性,可以估计出为了实现憎水一亲水的转变单位面积所需的最低能量,该数值被引作为灵敏度。
除非另外说明,印刷测试在Apollo卷筒纸输入的印刷机上用Van Son Black 40904油墨(橡胶基)和新闻印刷纸进行。
所有的涂层都是用线绕的棒(K-棒,RK Print Coat Ltd提供)手工施涂,并于室温下空气干燥。
实施例1制备THPM-MPTS共聚物
将100g甲基丙烯酸四氢吡喃-2-基酯,10g甲基丙烯酰氧丙基三甲氧基硅烷和1.93g偶氮双异丁腈(AIBN)于100cm3MEK中的溶液加热至70℃4小时。向反应混合物中加入583cm3MEK得含17wt%固体的共聚物溶液。向一份100cm3这种溶液再加入100cm3MEK。该混合物再倒入1L甲醇,沉淀出共聚物。收集白然固体,得23.3g纯共聚物。
该材料,下文称为“共聚物”,用于下面所有的实施例中。实施例2
将染料D1(0.15g)在丙酮(5g)中的溶液涂于聚酯基片,湿厚度为12微米,作为IR吸收底层。样品再在上层涂下列物质,得单元1—3:
单元1—2-丁酮(5g)中的共聚物(0.5g),50μm湿厚度。
单元2—2-丁酮(5g)中的共聚物(0.5g),12μm湿厚度。
单元3—2-丁酮(10g)中的共聚物(0.7g),12μm湿厚度。
所有三者都能以100点/英寸的分辨率成功地成像,灵敏度分别为0.1,0.084和0.084焦/cm2。三者都能成功地用Mander Kidd贮存溶液印刷,至少印1000次。
实施例3
本例子显示了在两层结构中使用不同用量的不同吸收剂。
单元4—8的吸收底层涂于聚酯基片上,如下:
单元4—染料D1(0.45g),丙酮(15g),12μm湿厚度。
单元5—同单元4,36μm湿厚度。
单元6—同单元4,50μm湿厚度。
单元7—染料D2(0.044g),二氯甲烷(2g),12μm湿厚度。
单元8—染料D3(0.044g),二氯甲烷(2g),12μm湿厚度。
每个样品用共聚物于2-丁酮的10%溶液重涂,湿度为12μm。每种都如上所述那样成功地成像和用于印刷,除了单元4—6的印刷试验用Onyx(TM)PE 366贮存液(得自3M)和Norset S/C纸。
记录的灵敏度如下:单元 4 5 6 7 8830nm处OD 1.6 2.2 3.0 0.775 1.025灵敏度(J/cm2) 0.083 0.063 0.05 0.071 0.10
结果表明,对于给定的吸收染料,随着OD增加,因更有效地利用激光能量而使灵敏度增加。在给定OD时不同染料显示的灵敏度的差别,据信是由它们产酸能力的差别造成的。实施例4
本例子为单层结构。
将共聚物(0.35g)和染料D1(0.0365g)于2-丁酮(5g)的溶液涂于聚酯基片上,湿厚为12μm(单元9)和36μm(单元10)。同上进行干燥涂层的成像和印刷测试,得如下结果:
单元 9 10
830mn处OD 0.75 2.1
灵敏度(J/cm2) 0.094 0.125
单元9的灵敏度更高,尽管其吸收值较低。据信,单元10的更厚的涂层需更高的能量输入以实现憎水—亲水转变。实施例5
本例子显示了使用蒸气沉积的IR吸收底层。
将共聚物的10wt%丙酮溶液(也含0.02wt%二丁基二月桂酸锡)涂于覆有酞菁钒(Vanadyl phthalocyanine)蒸气沉积层(830nm处OD为0.9)的聚酯基片上,湿厚度12μm。得到的单元11同上进行成像,并在Rotaprint单纸供入印刷机上用下列成分的贮存液印刷并评估:
水 880g
2-丙醇 100g
正磷酸(85%) 5.7g
三(羟甲基)氨基甲烷 14.3g
记录的灵敏度为0.29J/cm2,这显著地低于用染料D1—D3时类似的印刷板。据信这表明酞菁吸收剂不产生酸(与染料D1—D3),相反,成像只依赖于热产生。实施例6
该例子显示了使用三(三氯甲基)-均三嗪(TTT)作为热酸产生剂。
单元12—15的制备是通过将染料D1(0.15g)在丙酮(5g)中的溶液涂于聚酯基片上,湿厚度24μm,再在上部涂覆含不同量TTT的共聚物(0.35g)于2-丁酮中的溶液(湿厚度12μm)。所有的单元都成功地成像并顺利通过印刷评估,测得的灵敏度如下:
单元 12 13 14 15
加入的TTT(g) 0 0.05 0.075 0.10
灵敏度(J/cm2) 0.062 0.05 0.04 0.05
很明显,使用TTT增加了灵敏度。实施例7
该例子显示了使用碘鎓盐作为热酸产生剂。
单元16—19包括聚酯基片,用染料D1(0.15g),丙酮(5g)和不同量碘鎓盐的溶液涂成的湿厚为24μm的底层,以及用共聚物(0.5g)二月桂酸二丁基锡(0.001g),2-丁酮(5g)和不同量碘鎓盐的溶液涂成的湿度为12μm的上层。在各例子中碘鎓盐是六氟代碳酸双(4-甲氧苯基)碘。在成像和印刷评估之后,测得下列灵敏度。
单元 16 17 18 19
碘鎓(底)* 0 0 0.015 0.03
碘鎓(上)* 0 0.05 0.05 0.05
灵敏度 0.062 0.05 0.04 0.04*加入至涂料溶液的克数。
在一层或两层中加入碘鎓盐都明显提高了灵敏度。实施例8
该例子显示了同时使用碘鎓盐和铜(II)盐作为热酸产生剂
制备下列底涂层溶液并涂在聚酯基片上,湿厚度24μm:
单元20—染料D1(0.15g),丙酮(5g)
单元21—同单元20,加碘鎓盐(0.02g),2-乙基己酸铜(II)(0.015g)和PKHH苯氧树脂(Union Carbide)(0.012g)。
两者都用下列配剂施涂上层,湿厚度24μm:
共聚物(0.5g),2-丁酮(4g),乙醇(1g),
二月桂酸二丁基锡(0.001g),碘鎓盐(0.015g),2-乙基己酸铜(II)(0.015g)和PKHH树脂(0.025g)。
同上进行成像和评估后,单元20的灵敏度为0.04J/cm2,而单元21为0.0375J/cm2。实施例9
该例子显示了用YAG激光器寻址照射。
单元22为双层结构,制备如下:
底层:Cyasorb IR 165(American Cyanamid)(0.15g)于2-丁酮(5g)中,施涂成36μm湿厚度。
上层,共聚物(0.5g),二月桂酸二丁基锡(0.001g)和2-丁酮(5g),涂成24μm湿厚度。
单元23是单层结构;
Cyasorb IR 165(0.2g),共聚物(0.5g)丙酮(4g),施涂成36μm湿厚度。
两者都用装于内鼓扫描代上的YAG激光器进行成像。光束会聚成20μm直径的光斑,以1600cm/sec扫描,功率在成像平面上于0.225—1.8瓦之间变动。如实施例5进行印刷评估,测得的阈值灵敏度为0.07J/cm2。实施例10
该例子显示了使用铝作为基片。
下列溶液按24μm湿厚度涂于聚酯(单元24)和刷干净的铝印刷板基片上(单元25):
丙酮 5g
共聚物 0.5g
染料D1 0.21g
二月桂酸二丁基锡 0.001g
两个单元都同上用二极管激光器成像,并成功地进行印刷测试,两者的灵敏度都为0.071J/cm2。
单元26的制备是通过将上面的配剂按24μm湿厚度涂于阳极化处理过的铝印刷板基片上,用Cyasorb IR 165(0.15g)取代染料D1)。如实施例9进行成像和印刷测试,但扫描速度为64000cm/sec而成像平面上的功率为2瓦,相应的灵敏度为0.1J/cm2。
Claims (12)
1.一种不需溶解处理的平版印刷板,其特征在于,包括承载有热敏感涂层的基片,该涂层含有光热转换体,并且在热作用下涂层变得相对更亲水。
2.如权利要求1所述的平版印刷板,其特征在于,包括一个承载有在一层或多层聚合物和光热转换体的基片,该聚合物具有会在热和/或酸作用下形成亲水基团的侧链憎水基团。
3.如权利要求2所述的平版印刷板,其特征在于,侧链憎水基团选自羧酸叔-烷基酯,碳酸叔-烷基酯,羧酸苄基酯和烷氧基烷基酯。
4.如权利要求3所述的平版印刷板,其特征在于,其中的侧链憎水基团具有式(I):其中:
R1和R2中一个是氢,另一个是氢或C1-18烷基;
R3为C1-18烷基;或R1、R2和3中任两个共同形成一个环;和
T为二价的与聚合物骨架相连的连接基团。
5.如权利要求4所述的平版印刷板,其特征在于,聚合物包括式(II)重复单元:
6.如权利要求5所述的平版印刷板,其特征在于,聚合物是和丙烯酸酯,甲基丙烯酸酯或其他乙烯基聚合物形成的共聚物。
7.如权利要求6所述的平版印刷板,其特征在于,聚合物是甲基丙烯酸四氢吡喃酯(THPM)和甲基丙烯酰氧丙基三甲氧基硅烷(MPTS)的共聚物。
8.如权利要求1—7所述的平版印刷板,其特征在于,含有一种在照射下会产生酸的光热转换体。
9.如权利要求8所述的平版印刷板,其特征在于,光热转换体包括芳香二胺二阳离子染料,它具有来自强酸的抗衡离子,而且是具有式(III)核的化合物:其中:
Ar1—Ar4是相同或不同的芳基,使得Ar1—Ar4中至少2个具有4位叔氨基,而X为阴离子。
10.如权利要求1—9所述的平版印刷板,其特征在于,还包括一种选自下列物质的热酸产生剂:三卤代甲基杂环化合物,二芳基碘鎓盐和三芳基锍盐,其中阴离子来自酸。
11.如权利要求10或14所述的平版印刷板,其特征在于,热酸产生剂在热敏感介质中的含量为固体总量的2—30重量%。
12.一种形成用于印刷的平版印刷板的方法,其特征在于,包括使用发出波长在光热转换体的吸收光谱内的激光器按图像将权利要求1—11所述的印刷板曝光,将印刷板装于印刷机上,对板上油墨和用该印刷板印刷。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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GB939322705A GB9322705D0 (en) | 1993-11-04 | 1993-11-04 | Lithographic printing plates |
GB9322705.6 | 1993-11-04 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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CN1117921A true CN1117921A (zh) | 1996-03-06 |
Family
ID=10744604
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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CN 94116034 Pending CN1117921A (zh) | 1993-11-04 | 1994-10-27 | 平版印刷板 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0652483B1 (zh) |
JP (1) | JPH07186562A (zh) |
CN (1) | CN1117921A (zh) |
DE (1) | DE69410212T2 (zh) |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C01 | Deemed withdrawal of patent application (patent law 1993) | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |