CN111687699B - 一种带有中心孔的回转状零件用的多面一体式打磨设备 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种带有中心孔的回转状零件用的多面一体式打磨设备,包括打磨台、设置在打磨台上的定位座、水平滑装在打磨台上且位于定位座上方的支撑滑架;所述支撑滑架上设有水平圆周转动且在转动过程中以往复上升、径向平移、下降的运动方式进行三面一体式打磨的打磨装置。与现有技术相比,本发明通过设置的转动架、一号驱动电机、打磨头、升降打磨轨迹组件、平移打磨轨迹组件,使得本发明进行回转零件的多面一体式打磨,无需面与面之间进行打磨切换,省去了重新定位打磨位置工序,缩短了打磨时间,提高了打磨效率,并且因其为一体式打磨,保证了打磨质量;此外,无需增设过多的打磨头,使得本发明的结构简单、易于操作、造价成本较低。
Description
技术领域
本发明涉及零部件打磨设备技术领域,具体为一种带有中心孔的回转状零件用的多面一体式打磨设备。
背景技术
带有中心孔的回转状零件是常见的零部件之一,如圆盘状的传动盘、回转凸台状的承载转座,其广泛应用在各行业中的机械设备中。零件在生产加工过程中其表面多多少少残留有加工时的毛刺或粗糙面,为了保证使用精度,零件要求在加工完成后进行打磨,打磨的位置根据所使用的要求各有不同。而带有中心孔的回转状零件一般要求打磨其外圆周侧面、上圆周端面以及中心孔内孔壁。
针对此带有中心孔的回转状零件的打磨方式有两种,一种是设置多个打磨头对其三面同步打磨,其特点是打磨效率高,但是其结构复杂,造价成本较高,且后期维修麻烦;另一种是设置单个打磨头,依次对其三面进行打磨,其特点是易于操作,造价成本较低,维修简单,但是在每次面与面打磨切换时都需要重新定位一次打磨位置,导致其打磨效率低下,并且打磨效果容易受到影响。
发明内容
为了解决上述技术问题,本发明提出了一种带有中心孔的回转状零件用的多面一体式打磨设备。
本发明所要解决的技术问题采用以下技术方案来实现:
一种带有中心孔的回转状零件用的多面一体式打磨设备,包括打磨台、设置在打磨台上的定位座、水平滑装在打磨台上且位于定位座上方的支撑滑架;所述支撑滑架上设有水平圆周转动且在转动过程中以往复上升、径向平移、下降的运动方式进行三面一体式打磨的打磨装置。
进一步地,所述打磨台上设有用于驱使支撑滑架滑移的驱使机构,该驱使机构包括分布在打磨台上的驱使丝杆、驱使导杆以及驱使电机,所述支撑滑架两侧架体对应安装在驱使丝杆、驱使导杆上。
进一步地,所述打磨装置包括设置在支撑滑架底部且其旋转轴线与定位座的中心轴线共线的转动架、设置在转动架上的打磨头,所述转动架上设有带动打磨头往复上升、径向平移、下降以进行三面一体式打磨的打磨轨迹驱动组件,所述支撑滑架上设有驱使转动架转动的一号驱动电机。
进一步地,所述打磨轨迹驱动组件包括相互配合的升降打磨轨迹组件及平移打磨轨迹组件,所述升降打磨轨迹组件带动打磨头上升及下降,所述平移打磨轨迹组件带动打磨头往复径向平移,所述打磨头设置在平移打磨轨迹组件上。
进一步地,所述平移打磨轨迹组件包括设置在转动架上的平移丝杆及平移导杆、与平移丝杆连接的二号驱动电机、设置在平移丝杆及平移导杆上的平移滑座,所述平移滑座上设有与打磨头连接的升降螺纹杆,所述升降螺纹杆上设有与升降打磨轨迹组件配合以带动升降螺纹杆转动,实现打磨头升降的传动摩擦锥形盘。
进一步地,所述升降打磨轨迹组件包括水平分布在转动架上的转杆、与转杆连接的三号驱动电机、对称分布在转杆两端处的升降摩擦锥形盘,所述升降摩擦锥形盘与传动摩擦锥形盘适配。
进一步地,所述定位座呈内部带有台阶环槽的圆环形状结构。
本发明的有益效果是:
与现有技术相比,本发明通过设置的转动架、一号驱动电机、打磨头、升降打磨轨迹组件、平移打磨轨迹组件,使得本发明进行回转零件的多面一体式打磨,无需面与面之间进行打磨切换,省去了重新定位打磨位置工序,缩短了打磨时间,提高了打磨效率,并且因其为一体式打磨,保证了打磨质量;此外,无需增设过多的打磨头,使得本发明的结构简单、易于操作、造价成本较低。
附图说明
下面结合附图和实施例对本发明进一步说明:
图1为本发明的俯视结构示意图;
图2为图1中的A-A剖视示意图。
图中:1、打磨台;2、支撑滑架;3、驱使丝杆;4、驱使导杆;5、驱使电机;6、转动架;7、打磨头驱动马达;8、打磨头;9、一号驱动电机;10、平移丝杆;101、平移导杆;11、平移滑座;12、升降螺纹杆;13、传动摩擦锥形盘;14、转杆;15、升降摩擦锥形盘;16、定位座;161、台阶环槽;17、二号驱动电机;18、三号驱动电机。
具体实施方式
为了使本发明实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,下面结合附图以及实施例对本发明进一步阐述。
如图1至图2所示,一种带有中心孔的回转状零件用的多面一体式打磨设备,包括打磨台1、设置在打磨台1上的定位座16、水平滑装在打磨台1上且位于定位座16上方的支撑滑架2;所述支撑滑架2上设有水平圆周转动且在转动过程中以往复上升、径向平移、下降的运动方式进行三面一体式打磨的打磨装置。
作为本发明的进一步改进,所述定位座16位于打磨台1的中部位置,所述定位座16呈内部带有台阶环槽161的圆环形状结构,通过该台阶环槽161的设置,针对带有中心孔的圆盘状回转零件时,可以将圆盘状回转零件放置在台阶环槽161内进行定位;针对带有中心孔的凸台状回转零件时,台阶环槽161与凸台状回转零件上的凸台适配,也能对其进行定位;使得本发明适用于多种形状的回转零件,提高了本发明的适用范围。
作为本发明的进一步改进,所述支撑滑架2左右方向分布,所述打磨台1上设有用于驱使支撑滑架2滑移的驱使机构,该驱使机构包括左右分布在打磨台1上的驱使丝杆3、驱使导杆4以及与驱使丝杆3后端部同轴连接的驱使电机5,所述支撑滑架2左右两侧架体对应安装在驱使丝杆3、驱使导杆4上。
所述支撑滑架2设置成前后滑动的目的在于,不对零件拿放时造成干涉,方便打磨好后的零件从定位座16上拿取或将未打磨的零件放置在定位座16上。
作为本发明的进一步改进,所述打磨装置包括设置在支撑滑架2底部中部处的转动架6,所述支撑滑架2上设有与转动架6同轴连接以用于驱使转动架6转动的一号驱动电机9,所述转动架6的旋转轴线要求与定位座16的中心轴线共线。
所述转动架6上设有单个打磨头8,该打磨头8带有用于驱使其转动的打磨头驱动马达7,该打磨头8与打磨头驱动马达7为一体式结构,所述打磨头8的侧周面、底部均为打磨面,以方便对零件的外圆周侧面、上圆周端面以及中心孔内孔壁进行打磨。所述转动架6上设有打磨轨迹驱动组件,所述打磨头8与打磨头驱动马达7设置在打磨轨迹驱动组件上,所述打磨轨迹驱动组件能够带动打磨头8以往复上升、径向平移、下降的运动轨迹对回转零件的外圆周侧面、上圆周端面以及中心孔内孔壁三面进行一体式打磨。
上述打磨轨迹中的上升轨迹,用于打磨头8从回转零件的外圆周侧面打磨完成后上升至与回转零件的外圆周端面处的径向外侧齐平处;径向平移轨迹,用于打磨头8从回转零件的外圆周端面的径向外侧移动至回转零件的外圆周端面的径向内侧;下降轨迹,用于打磨头8从回转零件的外圆周端面的径向内侧齐平处下降至中心孔内孔壁处。通过往复上述打磨轨迹,并且往复的过程中,转动架6在一号驱动电机9的驱使下缓慢水平圆周转动,从而实现了回转零件的三面一体式打磨。
通过该种打磨轨迹,与现有技术相比,无需增设过多的打磨头,本发明的结构简单、易于操作、造价成本较低;另一方面,实现了面与面之间一体式打磨,无需面与面之间进行打磨切换,省去了重新定位打磨位置工序,缩短了打磨时间,提高了打磨效率,并且因其为一体式打磨,保证了打磨质量。
作为本发明的进一步改进,所述打磨轨迹驱动组件包括相互配合的升降打磨轨迹组件及平移打磨轨迹组件,所述升降打磨轨迹组件实现带动打磨头8上升及下降,所述平移打磨轨迹组件实现带动打磨头8往复径向平移,所述打磨头8设置在平移打磨轨迹组件上。所述平移打磨轨迹组件位于升降打磨轨迹组件的下方位置处。
作为本发明的进一步改进,所述平移打磨轨迹组件包括径向水平设置在转动架6上的平移丝杆10及平移导杆101、与平移丝杆10右端部同轴连接的二号驱动电机17、设置在平移丝杆10及平移导杆101上的平移滑座11,通过平移丝杆10的转动驱使、平移导杆101的水平导向、二号驱动电机17正反向转动,使得平移滑座11沿平移丝杆10轴线方向往复移动。
所述平移滑座11上设有与打磨头8连接的升降螺纹杆12,所述升降螺纹杆12的底部与打磨头8之间通过连接轴承连接,所述升降螺纹杆12上设有与其适配的传动摩擦锥形盘13,该传动摩擦锥形盘13与升降打磨轨迹组件配合,使得升降打磨轨迹组件通过传动摩擦锥形盘13带动升降螺纹杆12转动,使得升降螺纹杆12上下升降,进而实现打磨头8的上升、下降。
作为本发明的进一步改进,所述升降打磨轨迹组件包括水平分布在转动架6上的转杆14、与转杆14右端部同轴连接的三号驱动电机18、对称分布在转杆14两端处的两个升降摩擦锥形盘15,所述升降摩擦锥形盘15与传动摩擦锥形盘13适配,当传动摩擦锥形盘13随平移滑座11往复移动至平移丝杆10的端部处时,所述升降摩擦锥形盘15均会与传动摩擦锥形盘13摩擦抵合。
使用过程:
初始时,支撑滑架2位于打磨台1的侧边处,将回转零件放置在定位座16上,接着,通过驱使机构使支撑滑架2移动至打磨台1的中部位置,使打磨头8与回转零件的外圆周侧面贴合,平移滑座11位于平移丝杆10的左端部,且传动摩擦锥形盘13与转杆14上左端部处的升降摩擦锥形盘15相互摩擦抵合。
圆盘状的带有中心孔的回转零件:
要求该圆盘状回转零件的厚度要大于台阶环槽161的深度且直径与台阶环槽161直径适配,放置时,将该圆盘状回转零件放置在台阶环槽161内,此时,该圆盘状回转零件要保证有至少一半外露在台阶环槽161外。
打磨时,启动打磨头驱动马达7,驱使打磨头8转动对该圆盘状回转零件的外圆周侧面打磨。打磨一定时间后,启动三号驱动电机18正转,通过转杆14带动升降摩擦锥形盘15转动,通过升降摩擦锥形盘15与传动摩擦锥形盘13的摩擦转动,打磨头8及打磨头驱动马达7上升至圆盘状回转零件外圆周端面的径向外侧齐平处,同时关闭三号驱动电机18、启动二号驱动电机17,通过平移丝杆10驱使平移滑座11带着打磨头8及打磨头驱动马达7从圆盘状回转零件外圆周端面的径向外侧移动至圆盘状回转零件外圆周端面的径向内侧,在移动过程中打磨头8的底部对圆盘状回转零件的外圆周端面打磨,且当打磨头8侧移动至圆盘状回转零件外圆周端面的径向内侧时,传动摩擦锥形盘13与右侧的升降摩擦锥形盘15摩擦抵合,接着关闭二号驱动电机17、启动三号驱动电机18并使其反转,使打磨头8及打磨头驱动马达7下降至中心孔内,使打磨头8的侧面与中心孔内侧壁贴合并打磨。
上述的上升、径向平移、下降三个运动被视为一个打磨周期,一个打磨周期打磨圆盘状回转零件的外圆周侧面、外圆周端面以及中心孔内侧壁,通过二号驱动电机17、三号驱动电机18的正反转,使得打磨头8往复打磨,配合着打磨头8往复打磨期间一号驱动电机9带动转动架6缓慢水平圆周转动,使得打磨头8在往复打磨过程中转动,实现了圆盘状回转零件的外圆周侧面、外圆周端面以及中心孔内侧壁三面的一体式打磨。
在圆盘状回转零件三面打磨后,需要将其翻面,使位于台阶环槽161内的部分朝上,然后重复上述打磨过程。通过该打磨过程,实现了圆盘状回转零件的三面全部快速打磨。
凸台状带有中心孔的回转零件:
要求该凸台状回转零件的下部凸台部与定位座16的内径适配,使得凸台状回转零件放置在定位座16上后,凸台状回转零件的下端面与定位座16的上端面贴合,凸台状回转零件的外圆周侧面完全露在外面。
凸台状回转零件的打磨过程与圆盘状回转零件的打磨过程相同,不同之处在于,不需要将凸台状回转零件翻面,只需一次打磨过程即可。
以上显示和描述了本发明的基本原理、主要特征和本发明的优点。本行业的技术人员应该了解,本发明不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的只是本发明的原理,在不脱离本发明精神和范围的前提下,本发明还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内。本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。
Claims (3)
1.一种带有中心孔的回转状零件用的多面一体式打磨设备,其特征在于:包括打磨台(1)、设置在打磨台(1)上的定位座(16)、水平滑装在打磨台(1)上且位于定位座(16)上方的支撑滑架(2);所述支撑滑架(2)上设有水平圆周转动且在转动过程中以往复上升、径向平移、下降的运动方式进行三面一体式打磨的打磨装置;
所述打磨装置包括设置在支撑滑架(2)底部且其旋转轴线与定位座(16)的中心轴线共线的转动架(6)、设置在转动架(6)上的打磨头(8),所述转动架(6)上设有带动打磨头(8)往复上升、径向平移、下降以进行三面一体式打磨的打磨轨迹驱动组件,所述支撑滑架(2)上设有驱使转动架(6)转动的一号驱动电机(9);
所述打磨轨迹驱动组件包括相互配合的升降打磨轨迹组件及平移打磨轨迹组件,所述升降打磨轨迹组件带动打磨头(8)上升及下降,所述平移打磨轨迹组件带动打磨头(8)往复径向平移,所述打磨头(8)设置在平移打磨轨迹组件上;
所述平移打磨轨迹组件包括设置在转动架(6)上的平移丝杆(10)及平移导杆(101)、与平移丝杆(10)连接的二号驱动电机(17)、设置在平移丝杆(10)及平移导杆(101)上的平移滑座(11),所述平移滑座(11)上设有与打磨头(8)连接的升降螺纹杆(12),所述升降螺纹杆(12)上设有与升降打磨轨迹组件配合以带动升降螺纹杆(12)转动,实现打磨头(8)升降的传动摩擦锥形盘(13);
所述升降打磨轨迹组件包括水平分布在转动架(6)上的转杆(14)、与转杆(14)连接的三号驱动电机(18)、对称分布在转杆(14)两端处的升降摩擦锥形盘(15),所述升降摩擦锥形盘(15)与传动摩擦锥形盘(13)适配。
2.根据权利要求1所述的一种带有中心孔的回转状零件用的多面一体式打磨设备,其特征在于:所述打磨台(1)上设有用于驱使支撑滑架(2)滑移的驱使机构,该驱使机构包括分布在打磨台(1)上的驱使丝杆(3)、驱使导杆(4)以及驱使电机(5),所述支撑滑架(2)两侧架体对应安装在驱使丝杆(3)、驱使导杆(4)上。
3.根据权利要求1所述的一种带有中心孔的回转状零件用的多面一体式打磨设备,其特征在于:所述定位座(16)呈内部带有台阶环槽(161)的圆环形状结构。
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
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SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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GR01 | Patent grant | ||
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