CN111462952A - 导电膜及其制作方法、触控传感器、金属网格透明天线、电子设备 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种导电膜及其制作方法、触控传感器、金属网格透明天线、电子设备,触控传感器的制作方法包括以下步骤:在透明基材表面形成第一导电层;将第一导电层形成多条第一导电通路以及多条第一断路;在第一导电通路以及第一断路处均形成绝缘的第一遮光油墨层;在第一遮光油墨层远离透明基材的表面设置负性光阻层;或在基材背面形成负性光阻层;以形成有第一遮光油墨层的第一导电层为光罩,通过曝光显影工艺在光阻层形成网格沟槽;并形成金属网格状的第二导电层;将第二导电层形成多条第二导电通路以及多条第二断路;该触控传感器具有高透过率、低方阻、高柔性、超薄的优点。
Description
技术领域
本发明涉及透明导电膜领域,特别涉及一种导电膜及其制作方法、触控传感器、金属网格透明天线、电子设备。
背景技术
金属网格导电膜(Metal-Mesh-Film)是一种金属细线密布在由基材上组成的透明导电膜。其是以极细金属网格作为导电功能层实现透明导电;应用其制作的触控传感器其具有低功耗、触控灵敏、使用寿命长等特点,更具柔性可弯曲、防水防爆、无污染等特性,因此广泛应用于触控技术领域。此外,由于金属网格传感器具有透明导电的特性,目前已有利用其作为透明天线的技术,利用其制作的透明金属网格天线,具有低阻抗、透明的特性,可作为新一代通讯天线。
现有的双层金属网格导电膜在制作过程中,通常是将两张柔性具有导电图案的导电膜用光学胶进行贴合,最后贴合在柔性盖板上,上述方法导电功能层与导电功能层之间存在对位不精准问题,而导致制作得到的触控传感器、双层金属网格透明天线性能不够优良。
发明内容
基于此,有必要提供一种双层或双面能够实现精准对位的金属网格导电膜及其制作方法。
此外,还提供一种触控传感器的制作方法以及触控传感器。
此外,还提供一种双层金属网格透明天线。
此外,还提供了一种电子设备。
一种金属网格导电膜的制作方法,包括以下步骤:
在透明基材一侧形成网格状的第一导电层;
在所述第一导电层远离透明基材的表面形成绝缘的第一遮光油墨层;
在所述第一遮光油墨层的远离透明基材表面设置透明绝缘层;
在所述透明绝缘层远离透明基材的表面设置负性光阻层;
以形成有所述第一遮光油墨层的所述第一导电层为光罩,通过曝光显影工艺在所述负性光阻层形成网格沟槽;
填充所述网格沟槽形成网格状的第二导电层。
一种金属网格导电膜的制作方法,包括以下步骤:
在透明基材表面一侧形成网格状的第一导电层;
在所述第一导电层远离透明基材的表面形成绝缘的第一遮光油墨层;
在所述透明基材远离第一导电层的表面设置负性光阻层;
以形成有所述第一遮光油墨层的所述第一导电层为光罩,通过曝光显影工艺在所述负性光阻层形成网格沟槽;
在所述网格沟槽中形成网格状的第二导电层。
上述双层或双面金属网格导电膜的制作过程中,由于金属网格状的第一导电层线路可遮光、且线路整齐均匀性较好;并且通过将第一导电通路以及第一断路均填充遮光油墨,可起到遮光效果,因此,在进行曝光显影制作过程中,能够曝光出与第一导电层线路相同的线路;采用该方法得到的第二导电层能够与第一导电层能够实现精准对位,提升了第一导电层和第二导电层内网格的一致性,对改善光学性能、柔性等性能都有提升。
一种触控传感器的制作方法,包括以下步骤:
形成有网格状的第一导电层的透明组件;
将所述第一导电层包括多条第一导电通路以及多条第一断路;所述第一导电通路与第一断路相邻设置,以使多条第一导电通路相互绝缘;且在所述第一导电通路以及第一断路均形成有网格状的第一遮光油墨层;
在所述透明组件上层叠一负性光阻层;
以形成有所述第一遮光油墨层的第一导电通路以及第一断路为光罩,通过曝光显影工艺在光阻层形成网格沟槽;
填充所述网格沟槽形成网格状的第二导电层;
将所述第二导电层形成多条第二导电通路以及多条第二断路;所述第二导电通路与第二断路相邻设置,以使多条第二导电通路相互绝缘。
上述方法在制作双面或双层触控传感器制作过程中,采用该方法得到的第二导电层能够与第一导电层能够实现精准对位,提升了第一导电层和第二导电层内网格的一致性,对改善光学性能及触控传感都有提升。制作得到的触控传感器具备高透过率、低方阻、柔性(可绕折)、超薄、支持触控笔等优点。
在其中一个实施例中,所述透明组件包括:透明基材,所述透明基材形成于所述第一导电层远离所述第一遮光油墨层的一侧;透明绝缘层,所述透明绝缘层形成于所述第一遮光油墨层远离所述透明基材的一侧;且所述负性光阻层位于所述透明绝缘层远离所述第一遮光油墨层的一侧。该方法用于制作双层的触控传感器。
在其中一个实施例中,所述透明组件包括:透明基材,所述透明基材形成于所述第一导电层远离所述第一遮光油墨层的一侧;且所述负性光阻层位于所述透明基材远离所述第一导电层的一侧。该方法用于制作双面的触控传感器。
在其中一个实施例中,所述每条第一导电通路电连接有一第一引线,每条第一断路连接有一第二引线,每条第二导电通路电连接有一第三引线,每条第二断路连接第二引线。通过引线与导电通路连接,形成导电通道。
在其中一个实施例中,将所述第一导电层形成多条第一导电通路以及多条第一断路的步骤包括:
将第一导电层的部分导电材料去除,以形成第一断路;多条第一断路将第一金属网格形成多条相互间隔且绝缘的第一导电通路;
在其中一个实施例中,在所述第一导电通路以及第一断路均形成所述第一遮光油墨层的步骤包括:
将第一导电通路以及第一断路远离透明基材一侧均填充遮光油墨;使得第一导电通路的第一遮光油墨层与第一断路的第一遮光油墨层远离透明基材的表面齐平;优选地,通过印刷、喷涂、印刷或移印方法将遮光油墨设置在第一导电通路以及第一断路处;优选地,所述遮光油墨颜色为黑色、深灰、棕黑色或褐色。第一遮光油墨层能够将第一导电层与第二导电层之间形成绝缘,且不影响触控传感器的识别性能,并能够阻止光线穿过,同时使第一导电层整面外观一致;且该第一遮光油墨对于后续制作第二导电层,进而在曝光显影制作过程中,能够准确曝光出第一导电层线路相同的线路,促进精准对位。
在其中一个实施例中,所述形成第二导电层的步骤包括:将所述负性光阻层远离透明基材面背向光源,对形成有网格状的第一遮光油墨层的第一导电通路和第一断路曝光,以形成有网格状的第一遮光油墨层的第一导电通路以及多条第一断路为光罩,在所述负性光阻层曝光出与第一导电层对应的线路;
对所述负性光阻层进行显影,以形成网格线路沟槽;
对所述沟槽处填充导电材料,以形成网格状的第二导电层;
优选地,将沟槽深度的2/3~1填充导电材料形成第二导电层。
在其中一个实施例中,将所述第一导电层形成多条第二导电通路以及多条第一断路的步骤包括:将第二导电层的部分导电材料去除,以形成第二断路;优选地,所述去除方式采用蚀刻工艺。多条第二断路将第二导电层形成多条相互间隔且绝缘的第二导电通路。
在其中一个实施例中,所述网格形状为长方形、菱形、六边形或不规则四边形形状。将沟槽设置为网格形状,能够具有较低的方阻,当金属网格为不规则的随机网格时,还可以消除莫尔条纹,提高客户体验感。及/或;
所述导电材料为Cu、Cu-Ni合金、Ag、Al、Cu-ITO、Au或Ni。导电材料选用导电性能优异的金属或合成金属,以获得较佳的导电性能。
及/或;所述透明基材的材质为玻璃、PC、PET、COP、PMMA、TPU或POL;进一步地,所述透明基材厚度为10μm~350μm。选用上述材质的透明基材均为光学性能优异的材料,具有更高的强度和表面效果。
在其中一个实施例中,所述绝缘层厚度2μm~10μm。此种范围设置,能够实现第一导电层与第二导电层绝缘,且可获得较薄的触控传感器。
在其中一个实施例中,制作方法还包括在第二导电通路以及第二断路处均设置绝缘的第二遮光油墨层。
在其中一个实施例中,设置所述第二遮光油墨层的步骤包括将第一导电通路以及第一断路远离透明基材的表面均填充遮光油墨;所述第一导电通路的第一遮光油墨层与第一断路的第一遮光油墨层远离透明基材的表面齐平。可使第二导电层整面外观更一致。
一种触控传感器,由上述的方法制作而成。该触控传感器具有高透过率、低方阻、柔性(可绕折)、超薄的优点。
一种电子设备,上述的触控传感器;所述电子设备为可穿戴电子产品、手机、平板电脑或笔记本电脑。
一种金属网格透明天线,其由所述的制作方法形成的金属网格导电膜制作而成。
一种电子设备,包括一种金属网格透明天线;所述电子设备为可穿戴电子产品、手机、平板电脑或笔记本电脑。
附图说明
图1为本发明一实施方式的制作双层金属网格导电膜的方法流程示意图;
图2为本发明一实施方式的制作双层金属网格导电膜的制作流程示意图;
图3为本发明一实施方式的第一导电层与第二导电层的结构示意图;
图4为本发明一实施方式的制作双面金属网格导电膜的方法流程示意图;
图5为本发明一实施方式的制作双面金属网格导电膜的制作流程示意图;
图6为本发明一实施方式制作的双层金属网格导电膜的结构示意图;
图7为本发明一实施方式制作的双面金属网格导电膜的结构示意图;
图8为本发明一实施方式的制作双层触控传感器的方法流程示意图;
图9为本发明一实施方式的制作双层触控传感器的制作流程示意图;
图10为本发明一实施方式的第一导电层整面导通的结构示意图;
图11为本发明一实施方式的第一导电层部分导通的结构示意图;
图12为本发明一实施方式的第二导电层整面导通的结构示意图;
图13为本发明一实施方式的第二导电层部分导通的结构示意图;
图14为本发明一实施方式的制作双面触控传感器的方法流程示意图;
图15为本发明一实施方式的制作双面触控传感器的制作流程示意图;
图16为本发明一实施方式制作的双层触控传感器的结构示意图;
图17为本发明一实施方式制作的双面触控传感器的结构示意图。
具体实施方式
为了便于理解本发明,下面将参照相关附图对本发明进行更全面的描述。附图中给出了本发明的较佳的实施例。但是,本发明可以以许多不同的形式来实现,并不限于本文所描述的实施例。相反地,提供这些实施例的目的是使对本发明的公开内容的理解更加透彻全面。
除非另有定义,本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的,不是旨在于限制本发明。
如图1所示,一实施方式的一种双层金属网格导电膜的制作方法,能够实现双层金属网格线精准对位,且制作得到透明导电膜具有高透过率、低方阻、柔性(可绕折)、超薄特点,可用于制作触控传感器、透明天线等组件,应用于可穿戴电子产品、手机、平板电脑和笔记本电脑等电子设备。
具体地,请一并参阅图2,双层金属网格导电膜的制作方法包括如下步骤:
S110:在透明基材110一侧形成网格状的第一导电层120;
具体地,形成第一导电层的方法采用本领域常用的方法,如可以采用但不限于压印、印刷、烘烤工艺形成第一导电层120;
选用透明基材110制作形成的导电膜100具有光透明的特性;透明基材110具有两个相对的表面,分别为第一表面111和第二表面112。
在其中一些实施例中,透明基材110的厚度为10μm~350μm;此范围内的基材具有更合适的强度和表面效果。
在其中一些实施例中,透明基材110的材质可采用玻璃、PC、PET、COP、PMMA、TPU、POL、PI等,选用上述材质的透明基材110均为光学性能优异的材料,具有更高的强度和表面效果。
在其中一个具体的示例中,该步骤包括:
S111:将透明基材110的第一表面111涂布成3μm~20μm的胶层113,胶层113可选用UV固化型的PDMS可简化固化工艺;
S112:采用压印技术在胶层113上压印出网格状的第一沟槽114;
S113:采用UV固化,固化应与压印同步进行,或固化紧随压印进行;
S114:在第一沟槽114内设置导电金属材料;在本实施例中,在第一沟槽114内设置金属导电材料的步骤具体包括:将导电金属材料通过印刷方式填充到第一沟槽114中;导电金属材料将第一沟槽114深度的2/3~1填充;此种设置,能够获得良好导电性能金属网格导电层,且便于后续进行填充遮光油墨。
S115:并烘烤固化后形成网格状第一导电层120;如图3所示。
在其中一个实施例中,第一导电层120的形状可以为长方形、菱形、六边形、不规则四边形等多边形形状。导电金属材料可以为Cu、Cu-Ni合金、Ag、Al、Cu-ITO、Au或Ni。当金属网格为不规则的随机网格时,还可以消除莫尔条纹,提高客户体验感。
S120:在第一导电层120远离透明基材110的表面形成绝缘的第一遮光油墨层130;
具体地,该步骤包括将位于第一导电层120远离透明基材的表面的第一沟槽114均填充遮光油墨,使第一导电层120远离透明基材110的表面外观一致;同时能够实现遮光的作用。
进一步地,将第一沟槽114完全填充,使得位于第一沟槽114的遮光油墨层表面远离透明基材的表面能够均与胶层113齐平,从而使第一导电层120远离透明基材110的第一遮光油墨层130整面外观更一致。
进一步地,通过印刷、喷涂或移印方法将遮光油墨设置在第一沟槽114处;
第一遮光油墨层130为绝缘的,从而能够将第一导电层120与第二导电层160之间形成绝缘,且不影响触控传感器100的识别性能,并能够阻止光线穿过。
遮光油墨的颜色为黑色、深灰、棕黑色或褐色,这些颜色的遮光油墨具有较好的遮光效果。遮光油墨可采用本领域常用的油墨,在其中一个实施例中,该形成遮光油墨层的油墨为南昌来捷尔新材料技术有限公司的型号为GLE2-089的黑色油墨;
S130:在第一遮光油墨层130远离透明基材110的表面设置透明绝缘层140;
具体地,绝缘层140选用透明的材质,如OCA胶或OCR胶,选用透明材质,能够实现透过率高,且便于后续制作第二导电层;
进一步地,绝缘层140厚度2μm~10μm。此种范围设置,能够实现第一导电层120与第二导电层160绝缘以避免短路,且可获得较薄的金属网格导电膜。
设置绝缘层140的方法可采用本领域常用的方法,在此不做特别的限制;如涂布方法。
S140:在透明绝缘层140远离透明基材110的表面设置负性光阻层150;
具体地,涂布的光阻选用负光阻剂,所涂的光阻要涂布均匀,采用负光阻,未曝光的部分在显影步骤被显影液去除。
具体地,采用涂布方式将光阻层涂布于绝缘层140处,涂布采用本领域常用的涂布方法,具体地,涂布可以为静电喷涂、旋转涂布等方式涂布,以将光阻层140均匀地覆盖于绝缘层140上。
具体地,负性光阻层的厚度为3μm~20μm;
S150:以形成有第一遮光油墨层130的第一导电层120为光罩,通过曝光显影工艺在负性光阻层150形成网格沟槽;填充网格沟槽形成网格状的第二导电层160;
其中,第二导电层160的金属网格线路与第一导电层160的金属网格线路相同;
具体地,形成金属网格状的第二导电层160的步骤包括:
S151:将负性光阻层150远离透明基材110面背向光源,对形成有第一遮光油墨层130的第一导电层120曝光,以以形成有网格状的第一遮光油墨层130的第一导电层120为光罩,在负性光阻层150曝光出第一导电层120对应的线路;
由于第一导电层120线路可遮光、且线路整齐均匀性较好;且本实施方式的透明基材110、胶层113、绝缘层140均为透明材料,同时,将第一沟槽114均填充遮光油墨,可起到遮光作用,因此,在进行曝光显影制作过程中,能够曝光出与填充有第一遮光油墨层130的第一导电层120线路相同的线路。
具体地,将负性光阻层150远离透明基材110面背向光源,填充有第一遮光油墨层130的第一导电层120靠近曝光机光源,利用填充有第一遮光油墨层130的第一导电层120的网格线路充当光罩,将涂布在绝缘层140表面的负性光阻层150曝光出与填充有第一遮光油墨层130的第一导电层120相同的线路;采用该方法得到的第二导电层与第一导电层能够实现精准对位,提升了导电膜的外观的一致性,提高光学性能及柔性等性能。
S152:对该负性光阻层150进行显影,蚀刻,以形成网格状的第二沟槽161;
由于涂布的光阻为负光阻剂,未曝光的部分在显影步骤被显影液去除;在负性光阻层150上曝光出与第一导电层120的线路相同的线路被去除,从而形成与第一沟槽114相同的第二沟槽161;
S153:对第二沟槽处填充导电材料,以形成金属网格状的第二导电层160。
步骤S163具体包括:
步骤S1631:在第二沟槽161内设置导电金属材料;
步骤S1632:烘烤固化后形成第二导电层160。
步骤S1631、步骤S1632与步骤S113、步骤S114相同;在此不做详细描述;
S160:在第二导电层160远离透明基材110的表面形成绝缘的第二遮光油墨层170。
通过在第二导电层160的透明基材的表面填充有遮光油墨可使整面外观更一致。
步骤S160与步骤S120的方法相同,在此不做详细描述;
如图4、图5所示,另一实施方式的一种双面金属网格导电膜101的制作方法,包括如下步骤S110'~S150':
S110':在透明基材110一侧形成网格状的第一导电层120;
S120':在第一导电层120远离透明基材的表面形成绝缘的第一遮光油墨层130;
其中,步骤S110'~S120'与上述双层金属网格导电膜100的制作步骤S110~S120相同;在此不做详细描述。
S130':在透明基材110远离第一导电层的表面设置负性光阻层150;
设置负性光阻层150的方法与步骤S140相同;在此不做详细描述。
S140':以形成有第一遮光油墨层130的第一导电层120为光罩,通过曝光显影工艺在负性光阻层150形成网格沟槽;填充网格沟槽形成网格状的第二导电层。
S150':在第二导电层160远离明基材110的表面形成绝缘的第二遮光油墨层170。
步骤S140'~S150'与步骤S150~S160相同,在此不做详细描述。
即双层金属网格导电膜100(如图6所示)与双面金属网格导电膜101(如图7所示)制作过程中,第一导电层120、第一遮光油墨层130、负性光阻层150、第二导电层160、第二遮光油墨层170的结构相同,区别在于,双面金属网格导电膜101不设置有绝缘层140,且负性光阻层150设置于透明基材的第二表面112处。
上述双层或双面金属网格导电膜至少具有如下优点:
1)由于填充有第一遮光油墨层130的第一导电层120线路可遮光、且线路整齐均匀性较好;且本实施方式的基材110、胶层113、绝缘层140均为透明材料,同时,将第一沟槽114填充遮光油墨,可起到遮光作用,因此,在进行曝光显影制作过程中,能够曝光出与填充有第一遮光油墨层130的第一导电层120相同的线路;从而制作第二导电层,采用该方法得到的第二导电层能够与第一导电层能够实现精准对位,从而提高双面或双层触控传感器性能。
2)该金属网格导电膜具备高透过率、低方阻、柔性(可绕折)、超薄等优点,可以用于可穿戴电子产品、手机、平板电脑和笔记本电脑等电子设备。
一实施方式的金属网格透明天线,其由上述制作方法形成的金属网格导电膜制作而成。该种金属网格导电膜制作而成的天线具有高透过率、低方阻、柔性(可绕折)、超薄的优点。
上述双层与双面金属网格导电膜可用于制作双层触控传感;
具体地,如图8、图9所示,双层触控传感器200的制作方法包括如下步骤S210~S260:
S210:形成有网格状的第一导电层120的透明组件;
步骤S210形成网格状的第一导电层120与步骤S110相同,具体地,如图10所示,网格状的第一导电层120电连接多条第一引线121和多条第二引线122;第一引线121与第二引线122设置在第一导电层120的同一面,且设置在第一导电层不同的区域。
第一引线121包括第一连接部1211、第一引线部1212和第一键合部1213,第一连接部1211与第一导电层120电连接,第一引线部1212一端与第一连接部1211电连接,另一端与第一键合部1213连接。第二引线122包括第二连接部1221、第二引线部1222和第二键合部1223,第二连接部1221与第一导电层120电连接,第二引线部1242一端与第二连接部1221电连接,另一端与第二键合部1223连接。第一键合部1213和第二键合部1223。
第一引线121与第二引线122可以是与第一导电层120同时制作的引线,可以由金属网格构成,也可以由一条实体线构成;具体的制作方法采用现有的常规工艺制成,如压印印刷工艺、感光银工艺等。
透明组件包括透明基材110,透明基材形110成于第一导电层120远离的第二表面112;
S220:将第一导电层120形成多条第一导电通路123以及多条第一断路124;第一导电通路123与第一断路124相邻设置,以使多条第一导电通路123相互绝缘;且在第一导电通路123以及第一断路124均形成有第一遮光油墨层140;
具体地,请一并参阅图11,该步骤包括将一部分第一导电层120中第一沟槽114中的导电金属材料去除,从而形成多条第一断路124;多条第一断路124将第一导电层120形成多条相互间隔且绝缘的第一导电通路123;此时,每条第一导电通路123连接一第一引线121;每条第一断路124连接一第二引线122;从而第一导电通路123与第一引线121形成导电通道;
进一步地,该去除方式可采用本领域常规方法,如采用蚀刻方法。
具体地,形成第一遮光油墨层130的步骤包括将第一导电通路123(填充有导电金属材料)的第一沟槽114以及第一断路124(未填充有导电金属材料)的第一沟槽114均填充遮光油墨,使第一导电层120远离透明基材110的整面外观一致;同时能够实现遮光的作用。
进一步地,将第一沟槽114完全填充,使得第一导电通路123以及第一断路124的遮光油墨层表面能够均与胶层113齐平,从而使第一导电层120整面外观更一致。
第一遮光油墨层130为绝缘的,从而能够将第一导电层120与第二导电层160之间形成绝缘,且不影响触控传感器100的识别性能,并能够阻止光线穿过。
遮光油墨的颜色为黑色、深灰、棕黑色或褐色,这些颜色的遮光油墨具有较好的遮光效果。遮光油墨可采用本领域常用的油墨,在其中一个实施例中,该形成遮光油墨层的油墨为南昌来捷尔新材料技术有限公司的型号为GLE2-089的黑色油墨;
S230:在透明组件上层叠一负性光阻层150;
具体地,透明组件包括透明绝缘层,所述透明绝缘层形成于所述第一遮光油墨层远离所述透明基材的一侧;
具体地,绝缘层140的材质、厚度、作用及设置方法与步骤S130相同,在此不做详细描述。
需要说明的是,制作绝缘层140时第一键合部1213与第二键合部1223的裸露在绝缘层140外面;便于键合柔性电路板时能够连接同第一导电层120线路。
更具体地,步骤S230在透明绝缘层140远离第一遮光油墨层130的一侧形成负性光阻层150。
负性光阻层150的材质、厚度、设置方法与步骤S130相同,在此不做详细描述。
S240:以形成有第一遮光油墨层130的第一导电通路123和第二断路124为光罩,通过曝光显影工艺在负性光阻层150形成网格沟槽;填充所述网格沟槽形成网格状的第二导电层160;
其中,第二导电层160的金属网格线路与第一导电层160的金属网格线路相同;
具体地,形成金属网格状的第二导电层160的步骤大致与步骤S150相同。
具体包括以下步骤:
S241:将负性光阻层150远离透明基材110面背向光源,对填充有第一遮光油墨层130的的第一导电通路123和第二断路124曝光,以以形成有第一遮光油墨层130的第一导电通路123和第二断路124为光罩,在负性光阻层150曝光出第一导电层120对应的线路;
由于填充有第一遮光油墨层130的的第一导电通路123和第二断路124线路可遮光、且线路整齐均匀性较好;且本实施方式的基材110、胶层113、绝缘层140均为透明材料,同时,将第一导电通路123的第一沟槽114以及第一断路124的第一沟槽114均填充遮光油墨,可起到遮光作用,因此,在进行曝光显影制作过程中,能够曝光出与第一导电层120线路相同的线路。
具体地,将负性光阻层150远离透明基材110面背向光源,填充有第一遮光油墨层130的的第一导电通路123和第二断路124靠近曝光机光源,利用填充有第一遮光油墨层130的的第一导电通路123和第二断路124的金属网格线路和第一引线121和第二引线122的线路充当光罩,将涂布在绝缘层140表面的负性光阻层150曝光出与填充有第一遮光油墨层130的的第一导电通路123和第二断路124的金属网格线路和第一引线121和第二引线122相同的线路;采用该方法得到的第二导电层与第一导电层能够实现精准对位,提升了触控传感器的外观的一致性,提高光学性能及触控传感性能。
S242:对该负性光阻层进行显影,蚀刻,以形成网格状的第二沟槽161;
由于涂布的光阻为负光阻剂,未曝光的部分在显影步骤被显影液去除;在负性光阻层150上曝光出与第一导电层120的线路相同的线路被去除,从而形成与第一沟槽114相同的第二沟槽161;
S243:对第二沟槽处填充导电材料,以形成金属网格状的第二导电层160。
步骤S243具体包括:
步骤S2431:在第二沟槽161内设置导电金属材料;
步骤S2432:烘烤固化后形成第二导电层160。
步骤S2431、步骤S2432与步骤S113、步骤S114相同;在此不做详细描述;
请一并参阅图12,该第二导电层160电连接多条第三引线162和多条第四引线163;第三引线162与第四引线163设置在第二导电层160的同一面,且设置在第二导电层160不同的区域。
第三引线162包括第三连接部1621、第三引线部1622和第三键合部1623,第三连接部1621与第二导电层160电连接,第三引线部1622一端与第三连接部1621电连接,另一端与第三键合部1623连接。第四引线163包括第四连接部1631、第四引线部1632和第四键合部1633,第四连接部1631与第二导电层160电连接,第四引线部1632一端与第四连接部1631电连接,另一端与第四键合部1633连接。
第三引线162与第四引线163可以是与第二导电层160同时制作的引线,可以由金属网格构成,也可以由一条实体线构成;具体的制作方法采用现有的常规工艺制成。
S250:将所述第二导电层160形成多条第二导电通路164以及多条第二断路165;
请一并参阅图13,该步骤包括将与第一导电通路的部分第二沟槽122中的导电金属材料去除,从而形成多条第二断路165;多条第二断路165将第二导电层160形成多条相互间隔且绝缘的第二导电通路164;第二断路165与第一断路124错开设置。每条第二导电通路164连接一第三引线162;每条第二断路165连接一第四引线163;从而第二导电通路164与第三引线124形成导电通道;
进一步地,该去除方式可采用本领域常规方法,如采用蚀刻方法。
S260:在第二导电通路164以及第二断路165处均形成绝缘的第二遮光油墨层170;通过在第二导电通路164以及第二断路165均填充有遮光油墨可使第二导电层120整面外观更一致。
步骤S260与步骤S220的方法相同,在此不做详细描述;
可以理解,本实施方式的一种双层触控传感器200的制作方法,包括如下步骤:
1)在透明基材110表面形成网格状的第一导电层120;
2)将第一导电层120形成多条第一导电通路123以及多条第一断路124,第一导电通路123与第一断路124相邻设置;
3)在第一导电通路123以及第一断路124均形成绝缘的第一遮光油墨层130;
4)在第一遮光油墨层130的远离透明基材110表面设置透明绝缘层140;
5)在透明绝缘层140远离透明基材110的表面设置负性光阻层150;
6)以形成有第一遮光油墨层130的第一导电通路123和第一断路124为光罩,通过曝光显影工艺在负性光阻层150形成网格沟槽;填充网格沟槽形成网格状的第二导电层160;
7)将第二导电层160形成多条第二导电通路164以及多条第二断路165;
8)在第二导电通路164以及第二断路165均形成绝缘的第二遮光油墨层170。
请一并参阅如图14、图15,另一实施方式的一种双面触控传感器201的制作方法,包括如下步骤S210'~S260':
S210':形成有网格状的第一导电层120的透明组件;
该步骤S210'与步骤S210步骤大致相同,区别于透明组件的不同,本实施方式的透明组件仅包括透明基材,其中在透明基材110表面形成金属网格状的第一导电层120;
S220':将第一导电层120形成多条第一导电通路123以及多条第一断路124;第一导电通路123与第一断路124相邻设置,以使多条第一导电通路123相互绝缘;且在第一导电通路123以及第一断路124均形成有网格状的第一遮光油墨层140;
该步骤S220'与步骤S220步骤相同。
S230':在透明组件上层叠一负性光阻层150;
该步骤S230'与步骤S230区别在于,在透明基材110远离第一导电层120的一面形成负性光阻层150。
形成负性光阻层150的方法与步骤S230相同;在此不做详细描述。
S240':以形成有第一遮光油墨层130的第一导电通路123和第一断路124为光罩,通过曝光显影工艺在光阻层形成网格沟槽;填充网格沟槽形成网格状的第二导电层160;
S250':请一并参阅图12~13,将所述第二导电层160形成多条第二导电通路164以及多条第二断路165;所述第二导电通路164与第二断路165相邻设置,以使第二导电通路164相互绝缘。
S260':在第二导电通路164以及第二断路165处均设置绝缘的第二遮光油墨层170;
步骤S250'~S270'与步骤S260~S280相同,在此不做详细描述。
可以理解:本实施方式的双面触控传感器201制作方法,包括以下步骤:
1)在透明基材110表面形成金属网格状的第一导电层120;
2)将所述第一导电层120形成多条第一导电通路123以及多条第一断路124;所述第一导电通路123与第一断路124相邻设置,以使第一导电通路123相互绝缘;
3)在第一导电通路123以及第一断路124处均设置绝缘的第一遮光油墨层130;
4)在透明基材第二表面112设置负性光阻层150;
5)以形成有第一遮光油墨层130的第一导电通路123和第一断路124为光罩,通过曝光显影工艺在光阻层形成网格沟槽;以形成金属网格状的第二导电层160;
6)将所述第二导电层160形成多条第二导电通路164以及多条第二断路165;所述第二导电通路164与第二断路165相邻设置,以使第二导电通路164相互绝缘。
7)在第一导电通路164以及第一断路165均设置绝缘的第二遮光油墨层170;
即双层触控传感器200与双面触控传感器201制作过程中,第一导电层120、第一遮光油墨层130、负性光阻层150、第二导电层160、第二遮光油墨层170的结构相同,区别在于,双面触控传感器201不设置有绝缘层140,且负性光阻层150设置于透明基材的第二表面112处。
上述触控传感器至少具有如下优点:
1)由于第一导电层120线路可遮光、且线路整齐均匀性较好;且本实施方式的基材110、第一导电层120的胶层113、绝缘层140均为透明材料,同时,将第一导电通路123的第一沟槽114以及第一断路124的第一沟槽114均填充遮光油墨,可起到遮光作用,因此,在进行曝光显影制作过程中,能够曝光出与第一导电层120线路相同的线路;采用该方法得到的第二导电层能够与第一导电层能够实现精准对位,从而提高双面或双层触控传感器性能。
2)具备高透过率、低方阻、柔性(可绕折)、超薄、支持触控笔等优点,可以用于可穿戴电子产品、手机、平板电脑和笔记本电脑等电子设备的传感器。
3)通过将第一导电通路123(填充有导电金属材料)的第一沟槽114以及第一断路124(未填充有导电金属材料)的第一沟槽114均填充遮光油墨,使第一导电层120整面外观一致;且该第一遮光油墨层对于后续制作第二导电层,通过填充在第一断路中,起到绝缘和遮光效果,进而在曝光显影制作过程中,能够准确曝光出第一导电层120线路相同的线路,促进精准对位。
4)通过在第二导电通路164以及第二断路165均填充有遮光油墨可使第二导电层120整面外观更一致。
一种双面触控传感器,如图14所示,由上述的双面触摸传感器制作而成;
一种双层触控传感器,如图15所示,由上述的双层触摸传感器制作而成;
上述的双面或双层传感器能够实现精准对位,且具有高透过率、低方阻、柔性(可绕折)、超薄、支持触控笔等优点。该触控传感器可用于可穿戴电子产品、手机、平板电脑和笔记本电脑等电子设备的传感器上。
一实施方式的电子设备,包括上述实施方式的制作方法制作而成的双面或双层触控传感器,电子设备可以为可穿戴电子产品、手机、平板电脑或笔记本电脑。
以下为具体实施例部分。
实施例1
本实施例的双层触控传感器的制作方法,包括以下步骤:
1)在厚度为50μm PET基材110的第一表面111涂布成5μm的PDMS胶层113,采用压印技术在PDMS胶层113上压印出正方形网格状的第一沟槽114;将导电银浆印刷至第一沟槽114中;导电银浆将第一沟槽114的3μm深度填充;并烘烤固化后形成第一导电层120。第一导电层120还设置有与第一导电层120电连接的四条第一引线121和四条第二引线122;
2)将部分第一沟槽114中的银浆蚀刻除去,形成四条相互间隔且绝缘的第一导电通路123;
3)第一导电通路123的第一沟槽114以及第一断路124的第一沟槽114均印刷绝缘的第一遮光油墨层,遮光油墨为黑墨;
4)在第一遮光油墨层130的远离透明基材110表面涂布2μm的绝缘层140;绝缘层140为OCA胶层;
5)在第一遮光油墨层140远离PET基材110的表面涂布5μm负性光阻层150;
6)将负性光阻层150远离透明基材110面朝上,第一导电层120靠近曝光机光源,利用第一导电层120的第一导电层120线路充当光罩,将涂布在绝缘层140表面的负性光阻层150曝光出与第一导电层120相同的线路。对该负性光阻层进行显影,蚀刻,以形成网格状的第二沟槽161;对第二沟槽处印刷导电银浆并烘烤,以形成正方形网格状的第二导电层160。该第二导电层160还设有与第二导电层160电连接的四条第三引线162和四条第四引线163;
7)将与第一导电通路错开的部分第二沟槽122中的导电银浆蚀刻掉,形成开路,从而形成四条相互间隔且绝缘的第二导电通路164;第一导电通路123与第二导电通路164错开设置;
8)在第二导电通路164以及第二断路165的第二沟槽161均印刷绝缘的第二遮光油墨层170,采用遮光油墨采用黑墨。
实施例2
本实施例制作的双面触控传感器的制作方法,包括以下步骤:
其中步骤1)~3)与实施例1的步骤1)~3)相同。
4)在PET基材110的第二表面112涂布5μm负性光阻层150;
5)将负性光阻层150远离透明基材110面朝上,第一导电层120靠近曝光机光源,利用第一导电层120的第一导电层120线路充当光罩,将涂布在绝缘层140表面的负性光阻层150曝光出与第一导电层120相同的线路。对该负性光阻层进行显影,蚀刻,以形成网格状的第二沟槽161;对第二沟槽处印刷导电银浆并烘烤,以形成正方形网格状的第二导电层160。该第二导电层160还设有与第二导电层160电连接的四条第三引线162和四条第四引线163;
6)将与第一导电通路错开的部分第二沟槽122中的导电金属材料蚀刻掉,形成开路,从而形成四条相互间隔且绝缘的第二导电通路164;第一导电通路123与第二导电通路164错开设置;
7)在第二导电通路164以及第二断路165的第二沟槽161均印刷绝缘的第二遮光油墨层170,遮光油墨采用黑墨。
实施例3
本实施例制作双层的触控传感器,制作方法与实施例1大致相同,区别在于:
透明基材选用350μm玻璃基材110,胶层113为10μm;导电金属材料为铜,金属网格形状为菱形。遮光油墨为棕黑色油墨;绝缘层140采用10μm的OCR胶层;负性光阻层150为10μm。
实施例4
本实施例制作双层的触控传感器,制作方法与实施例1大致相同,区别在于:
透明基材选用10μm PI基材110,胶层113为3μm;导电金属材料为镍,金属网格形状为六边形。遮光油墨为褐色油墨;绝缘层140采用2μm的OCR胶层;负性光阻层150为3μm。
实施例5
本实施例制作双层的触控传感器,制作方法与实施例1大致相同,区别在于:
透明基材选用30μm PI基材110,胶层113为20μm;导电金属材料为镍,金属网格形状为六边形。遮光油墨为褐色油墨;绝缘层140采用2μm的OCR胶层;负性光阻层150为20μm。
对比例1
本对比例制作双层的触控传感器,采用现有技术的制作方法为:
1)在厚度为50μm第一PET基材涂布5μm第一UV胶层,用压印、印刷填银、烘烤制作第一导电层;
2)在厚度为50μm第二PET基材涂布5μm第一UV胶层,用压印、印刷填银、烘烤制作第二导电层;
3)第一导电层远离PET基材表面采用贴合方式贴50um OCA,OCA的另外一面贴第二导电层(基材面)测试:
测定实施例1~5及对比例1制备而成的触控传感器的透过率、方阻、柔性度、厚度,测定结果详见表1。
其中,采用紫外-可见分光光度计方法或装置测定触控传感器的透过率;采用(外用表或四探针方阻仪)测试方阻;采用弯折测试机测试柔性度;采用膜厚仪或FIB-SEM或千分尺测试厚度。
表1
透过率(%) | 方阻(Ω) | 柔性度 | 上下层对位精度 | 厚度 | |
实施例1 | 87% | 10 | R3外弯20万次 | ±10um | 62 |
实施例2 | 88% | 10 | R3外弯20万次 | ±10um | 60 |
实施例3 | 87% | 10 | R5外弯20万次 | ±10um | 380 |
实施例4 | 85% | 10 | R3外弯20万次 | ±10um | 18 |
实施例5 | 88% | 10 | R3外弯20万次 | ±10um | 72 |
对比例1 | 85% | 10 | 柔性度较差 | ±120um | 160 |
从表1可看出,本发明制作得到的双面或双层触控传感器及透明天线具有高透过率、低方阻、柔性(可绕折)高、超薄优点。且本发明的制作的双面或双层触控传感器相对于对比例1更轻薄的情况下能够具有相当的透过率、方阻,且柔性度显著高于对比例1。
以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合,为使描述简洁,未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述,然而,只要这些技术特征的组合不存在矛盾,都应当认为是本说明书记载的范围。
以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本发明的保护范围。因此,本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。
Claims (17)
1.一种金属网格导电膜的制作方法,其特征在于,包括以下步骤:
在透明基材一侧形成网格状的第一导电层;
在所述第一导电层远离透明基材的表面形成绝缘的第一遮光油墨层;
在所述第一遮光油墨层的远离透明基材表面设置透明绝缘层;
在所述透明绝缘层远离透明基材的表面设置负性光阻层;
以形成有所述第一遮光油墨层的所述第一导电层为光罩,通过曝光显影工艺在所述负性光阻层形成网格沟槽;
填充所述网格沟槽形成网格状的第二导电层。
2.一种金属网格导电膜的制作方法,其特征在于,包括以下步骤:
在透明基材一侧形成网格状的第一导电层;
在所述第一导电层远离透明基材的表面形成绝缘的第一遮光油墨层;
在所述透明基材远离第一导电层的表面设置负性光阻层;
以形成有所述第一遮光油墨层的所述第一导电层为光罩,通过曝光显影工艺在所述负性光阻层形成网格沟槽;
填充所述网格沟槽形成网格状的第二导电层。
3.一种触控传感器的制作方法,其特征在于,包括以下步骤:
形成有网格状的第一导电层的透明组件;
将第一导电层形成多条第一导电通路以及多条第一断路;所述第一导电通路与第一断路相邻设置,以使多条第一导电通路相互绝缘;且在所述第一导电通路以及第一断路均形成有网格状的第一遮光油墨层;
在所述透明组件上层叠一负性光阻层;
以形成有所述第一遮光油墨层的第一导电通路以及第一断路为光罩,通过曝光显影工艺在所述负性光阻层形成网格沟槽;
填充所述网格沟槽形成网格状的第二导电层;
将所述第二导电层形成多条第二导电通路以及多条第二断路;所述第二导电通路与第二断路相邻设置,以使多条第二导电通路相互绝缘。
4.根据权利要求3所述的制作方法,其特征在于,所述透明组件包括:
透明基材,所述透明基材形成于所述第一导电层远离所述第一遮光油墨层的一侧;
透明绝缘层,所述透明绝缘层形成于所述第一遮光油墨层远离所述透明基材的一侧;且所述负性光阻层位于所述透明绝缘层远离所述第一遮光油墨层的一侧。
5.根据权利要求3所述的制作方法,其特征在于,所述透明组件包括:
透明基材,所述透明基材形成于所述第一导电层远离所述第一遮光油墨层的一侧;且所述负性光阻层位于所述透明基材远离所述第一导电层的一侧。
6.根据权利要求3所述的制作方法,其特征在于,所述每条第一导电通路电连接有一第一引线,每条第一断路连接有一第二引线,每条第二导电通路电连接有一第三引线,每条第二断路连接第二引线。
7.根据权利要求3所述的制作方法,其特征在于,
将所述第一导电层形成多条第一导电通路以及多条第一断路的步骤包括:
将所述第一导电层的部分导电材料去除,以形成第一断路;及/或,
将所述第二导电层形成多条第二导电通路以及多条第一断路的步骤包括:
将第二导电层的部分导电材料去除,以形成第二断路。
8.根据权利要求4或5所述的制作方法,其特征在于,在所述第一导电通路以及第一断路远离透明基材的一侧均形成所述第一遮光油墨层的步骤包括:
将第一导电通路以及第一断路均填充遮光油墨;使得第一导电通路的第一遮光油墨层与第一断路的第一遮光油墨层远离透明基材的表面齐平;优选地,通过印刷、喷涂、印刷或移印方法将遮光油墨设置在第一导电通路以及第一断路;优选地,所述遮光油墨颜色为黑色、深灰、棕黑色或褐色。
9.根据权利要求3~5任一项所述的制作方法,其特征在于,所述形成第二导电层的步骤包括:
将所述负性光阻层远离透明基材面背向光源,对形成有网格状的第一遮光油墨层的第一导电层曝光,以形成有网格状的第一遮光油墨层的第一导电层为光罩,在所述负性光阻层曝光出与第一导电层对应的线路;
对所述负性光阻层进行显影,以形成网格线路沟槽;
对所述沟槽处填充导电材料,以形成网格状的第二导电层;
优选地,将沟槽深度的2/3~1填充导电材料形成第二导电层。
10.根据权利要求3所述的制作方法,其特征在于,
所述网格状为长方形、菱形、六边形或不规则四边形形状;及/或;
所述第一导电层与第二导电层的导电材料为Cu、Cu-Ni合金、Ag、Al、Cu-ITO、Au或Ni;及/或;
所述透明基材的材质为玻璃、PC、PET、COP、PMMA、TPU或POL;优选地,所述透明基材厚度为10μm~350μm。
11.根据权利要求4所述的制作方法,其特征在于,所述透明绝缘层厚度为2μm~10μm。
12.根据权利要求4或5所述的制作方法,其特征在于,还包括在第二导电通路以及第二断路远离透明基材的表面均设置绝缘的第二遮光油墨层。
13.根据权利要求4或5所述的制作方法,其特征在于,设置所述第二遮光油墨层的步骤包括将第一导电通路以及第一断路远离透明基材的表面均填充遮光油墨;所述第一导电通路的第一遮光油墨层与第一断路的第一遮光油墨层远离透明基材的表面齐平。
14.一种触控传感器,其特征在于,由权利要求3~13任一项所述的方法制作而成。
15.一种电子设备,其特征在于,包括权利要求14所述的一种触控传感器;所述电子设备为可穿戴电子产品、手机、平板电脑或笔记本电脑。
16.一种金属网格透明天线,其特征在于,其由根据权利要求1或2所述的制作方法形成的金属网格导电膜制作而成。
17.一种电子设备,其特征在于,包括权利要求16所述的金属网格透明天线;所述电子设备为可穿戴电子产品、手机、平板电脑或笔记本电脑。
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CN202010191551.6A CN111462952B (zh) | 2020-03-18 | 2020-03-18 | 导电膜及其制作方法、触控传感器、金属网格透明天线、电子设备 |
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