CN103219069A - 导电膜及其制备方法以及包含该导电膜的触摸屏 - Google Patents

Abstract

一种导电膜，包括基片、遮光层、第一基质层、第一导电层、第一引线电极、第二基质层、第二导电层及第二引线电极。第一基质层及第二基质层上分别开设有第一网格凹槽及第二网格凹槽，且在第一网格凹槽及第二网格凹槽中填充导电材料以分别形成第一导电层及第二导电层。由于第一导电层及第二导电层分别位于第一网格凹槽及第二网格凹槽内，故第一基质层及第二基质层分别包覆第一导电层及第二导电层。因此，第一基质层和第二基质层可对第一导电层及第二导电层提供保护，从而防止在制造触摸屏时对第一导电层及第二导电层造成刮伤，进而可提高产品的良率。此外，本发明还提供一种导电膜的制备方法及触摸屏。

Description

导电膜及其制备方法以及包含该导电膜的触摸屏

技术领域

本发明涉及电子技术，特别是涉及一种导电膜及其制备方法以及包含该导电膜的触摸屏。

背景技术

在日常生活中，电容式触摸屏已广泛应用于各种电子产品，给人们的生活带来极大方便。随着人们对用户体验的进一步提高，电子产品越来越向轻薄化的方向发展。触摸屏是决定电子设备是否做薄的重要因素。因此，随着对电子产品的轻薄化需要，触摸屏也逐步向轻薄化发展。OGS(One Glass Solution，即一体化触控)是触摸屏向轻薄化发展的重要途径。OGS的主要思路在保护玻璃上直接形成ITO导电膜及传感器，使一块玻璃同时起到保护玻璃和触摸传感器的双重作用。

生产触摸屏时需先制备导电膜，再将显示模组贴附于导电膜上以得到触摸屏。在一般的OGS工艺中，大多是直接在保护玻璃表面形成导电层（一般为ITO层），从而得到用于制备触摸屏的导电膜。故在传统工艺得到的导电膜中，导电层突出于玻璃表面。而由于导电材料，如ITO的质地一般较软，故突出于玻璃表面的导电层容易被划伤。因此，在贴合显示模组时可能会划伤导电层而导致电膜报废传统，进而使得产品良率不高。

发明内容

基于此，有必要提供一种可提高产品良率的导电膜及其制备方法以及包含该导电膜的触摸屏。

一种导电膜，包括：

基片，包括第一表面及与所述第一表面相对设置的第二表面；

遮光层，位于所述第一表面的边缘；

第一基质层，附着于所述第一表面，所述第一基质层由胶状物涂层固化形成，所述遮光层夹持于所述基片与所述第一基质层之间，且所述遮光层在所述第一基质层上的投影区域形成第一非可视区域，所述第一基质层远离所述基片的一侧开设有第一网格凹槽，所述第一网格凹槽内填充导电材料，形成第一导电层与第一引线电极；

所述第一引线电极与所述第一导电层电连接，所述第一引线电极位于所述第一非可视区域；

第二基质层，附着于所述第一基质层上远离所述基片的一侧，所述第二基质层由胶状物涂层固化形成，所述遮光层在所述第二基质层上的投影区域形成第二非可视区域，所述第二基质层远离所述基质层的一侧开设有第二网格凹槽，所述第二网格凹槽内填充导电材料，形成第二导电层与第二引线电极；

所述第二引线电极与所述第二导电层电连接，所述第二引线电极位于所述第二非可视区域。

在其中一个实施例中，所述第一导电层的厚度不大于所述第一网格凹槽的深度，所述第二导电层的厚度不大于所述第二网格凹槽的深度。

在其中一个实施例中，所述导电材料为银。

在其中一个实施例中，所述第二基质层的一端开设一缺口，所述第一引线电极的引脚位于所述缺口内。

在其中一个实施例中，所述第一网格凹槽及所述第二网格凹槽的宽度介于1～5微米，深度介于2～6微米，且深宽比大于1，所述第一导电层及所述第二导电层的透过率大于85%。

在其中一个实施例中，所述第一引线电极及所述第二引线电极的网格周期小于50，且透过率小于70%。

在其中一个实施例中，所述遮光层为油墨层或黑色光阻层，且厚度为1μm～10微米。

在其中一个实施例中，所述基片为玻璃。

在其中一个实施例中，所述第一网格凹槽及所述第二网格凹槽的网格为随机网格。

在其中一个实施例中，所述第一基质层的厚度大于所述遮光层的厚度。

一种触摸屏，包括：

如上述优选实施例中任一项所述的导电膜；

显示模组，通过光学胶贴附于所述第二基质层远离所述第一基质层的一侧。

一种导电膜的制备方法，包括以下步骤：

提供一基片，所述基片包括第一表面及与所述第一表面相对设置的第二表面；

在所述第一表面的边缘涂覆遮光材料，以形成环形的遮光层；

在所述基片设有所述遮光层的表面涂覆胶状物，并使所述胶状物固化以形成第一基质层，在所述第一基质层上远离所述基片的一侧开设第一网格凹槽；

向所述第一网格凹槽内填充导电材料，以形成第一导电层及与所述第一导电层电连接的第一引线电极；

在所述第一基质层上远离所述基片的一侧涂覆胶状物，并使所述胶状物固化以形成第二基质层，在所述第二基质层上开设第二网格凹槽；

向所述第二网格凹槽中填充导电材料，以形成第二导电层及与所述第二导电层电连接的第二引线电极。

与传统的导电膜相比，上述导电膜具有至少如下优点：

1、由于第一导电层及第二导电层分别位于第一网格凹槽及第二网格凹槽内，第一导电层及第二导电层分别被第一基质层及第二基质层包覆。因此，第一基质层和第二基质层可对第一导电层及第二导电层提供保护，从而防止在制造触摸屏时对第一导电层及第二导电层造成刮伤，进而可提高产品的良率；

2、基片的边缘设有遮光层，第一引线电极及第二引线电极可设置于由遮光层投影形成的第一非可视区域及第二非可视区域内。因此，在组装成触摸屏时，从屏幕正面观察不到第一引线电极及第二引线电极的布线，从而可改善产品的外观。

附图说明

图1为本发明较佳实施例中触摸屏的层状结构示意图；

图2图1所示触摸屏中导电膜的层状结构示意图；

图3为图2所示导电膜另一视角的层状结构示意图；

图4为图2所示导电膜的结构示意图；

图5为一个实施例中导电膜的制备方法的流程示意图。

具体实施方式

为了便于理解本发明，下面将参照相关附图对本发明进行更全面的描述。附图中给出了本发明的较佳实施例。但是，本发明可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本发明的公开内容的理解更加透彻全面。

需要说明的是，当元件被称为“固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本发明。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。

请参阅图1，本发明较佳实施例中的触摸屏10包括导电膜100及显示模组200。其中，显示模组200通过光学胶贴附于导电膜100上。

请一并参阅2及图3，导电膜100包括基片110、遮光层120、第一基质层130、第一导电层140、第一引线电极150、第二基质层160、第二导电层170及第二引线电极180。

基片110为板状结构，包括第一表面（图未标）及第二表面（图未标），其中第一表面与第二表面相对设置。在本实施例中，基片110为玻璃基片，且用于制造基片110的玻璃经过强化处理，故得到基片110强度高，可很好的起到保护作用。需要指出的是，在其他的实施例中，基片110还可为其他材质的薄膜，如聚对苯二甲酸丁二酯（PBT）、聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）、聚碳酸酯塑料（PC）以及对苯二甲酸乙二酯（PET）薄膜等。当导电膜100应用于触摸屏制备时，制备基片110的材料优选为透明绝缘材料。

遮光层120由遮光材料涂覆于基片110第一表面的边缘形成。所形成的遮光层120为环形层状结构。遮光层120由不透光的材料制成，故可在基片110边缘形成阴影。在本实施例中，遮光层120为油墨层或黑色光阻层，其厚度介于1～10微米。遮光层120为油墨层时，遮光层120的厚度可为6微米，而遮光层120为黑色光阻层时，遮光层120的厚度可为1微米，从而达到更薄的厚度。

第一基质层130附着于基片110的第一表面。第一基质层130由涂覆于基片110上的胶状物固化形成，因此，其厚度小于基片110的厚度。此外，第一基质层130由透明绝缘材料制成，且该材料异于基片110的材料。遮光层120夹持于基片110与第一基质层120之间，且遮光层120在第一基质层130上的投影区域形成第一非可视区域（图未标）。在本实施例中，第一基质层130的厚度大于遮光层120的厚度，以使遮光层120不突出于第一基质层130的表面。

此外，第一基质层130远离基片110的一侧开设有第一网格凹槽131。导电材料填充于第一网格凹槽131内，以形成第一导电层140及第一引线电极150。其中，第一导电层140与第一引线电极150电连接。由于第一导电层140位于于第一网格凹槽131内，故第一基质层130可包覆第一导电层140。因此，第一基质层130可对第一导电层140形成保护，从而防止该第一导电层140在后续的贴合程序中被刮伤。

具体的，导电材料填充于第一网格凹槽131以形成第一导电层140，第一导电层140为由导电细线交叉构成的导电网格。由于ITO在做大尺寸的导电膜时电阻比较大，故传统的利用包含ITO导电层的导电膜所制备的触摸屏的灵敏度不好。而网格状的结构可有效的减小电阻，从而使第一导电层140的电阻较小，进而可提高产品的灵敏度。

具体的，第一网格凹槽131包括用于形成第一引线电极网格状凹槽部分，导电材料填充于该网格状凹槽内以形成第一引线电极150。第一引线电极150为导电细线呈网格交叉连接形成导电网格。由于第一导电层140为网格状结构，故同为网格状的第一引线电极150可更好的与第一导电层140实现电连接。导电膜100用于制备电子设备的触摸屏时，第一引线电极150用于将第一导电层140与电子设备的控制器电连接，从而使控制器感测到触摸屏上的操作。第一引线电极150位于第一非可视区域。因此，在制备的电子设备上观测不到第一引线电极的布线，从而有助于提升产品外观。

第二基质层160附着于第一基质层130上远离基片110的一侧。第二基质层160由涂覆于第一基质层130上的胶状物固化形成，其厚度小于基片110的厚度。具体的，第二基质层160远离第一基质层130的一侧与显示模组200贴合，以使显示模组200贴附于导电膜100上。遮光层120在第二基质层160上的投影区域形成第二非可视区域（图未标）。

此外，第二基质层160远离第一基质层130的一侧开设有第二网格凹槽161.导电材料填充于第二网格凹槽161内，以形成第二导电层170及第二引线电极180。其中，第二引线电极180与第二导电层170电连接。由于第二导电层170位于第二网格凹槽161内，故第二基质层160可包覆第二导电层170。因此，第二基质层160对第二导电层170形成保护，防止该第二导电层170在后续贴合程序中被刮伤。

具体的，导电材料填充于第二网格凹槽161以形成第一导电层170，第二导电层170为由导电细线交叉构成的导电网格。由于ITO在做大尺寸的导电膜时电阻比较大，故传统的利用ITO导电层的导电膜所制备的触摸屏的灵敏度不好。而网格状的结构可有效的减小电阻，从而使第二导电层140的电阻较小，进而提高产品的灵敏度。

进一步的，第二网格凹槽161包括用于形成第二引线电极180的网格状凹槽部分，导电材料填充于该网格状凹槽内以形成第二引线电极180，第二引线电极180的结构与第一引线电极150的结构相同，从而可便于第二引线电极180与第二导电层170更好的电连接。导电膜100用于制备电子设备的触摸屏时，第二引线电极180用于将第二导电层170与电子设备的控制器电连接，从而使控制器感测到触摸屏上的操作。此外，第二引线电极180位于第二非可视区域。因此，在制备的电子设备上观测不到第二引线电极的布线，从而有助于提升产品外观。

在本实施例中，形成第一导电层140、第一引线电极150、第二导电层170及第二引线电极180的导电材料为银。银为良导体，电阻率小，从而可进一步提高产品的灵敏度。需要指出的是，在其他实施例中，导线材料还可为高分子导电材料、石墨烯、碳纳米管以及氧化铟锡（ITO）等。

在本实施例中，第一网格凹槽131及第二网格凹槽161的网格为随机网格。由于随机网格的中心随机分布，从而使的第一导电层140与第二导电层170之间不会产生干涉现象，进而避免产生莫尔条纹，提升导电膜100显示效果。需要指出的是，在其他实施例中，上述网格还可为正多边形，而第一导电层140与第二导电层170的网格中心错开，以避免产生莫尔条纹。

在本实施例中，第一导电层140的厚度不大于第一网格凹槽131的深度，第二导电层170的厚度不大于第二网格凹槽161的深度。因此，第一导电层140与第二导电层170可通过第一基质层130及第二基质层160绝缘，从而在第一导电层140与第二导电层170之间形成电容结构。需要指出的是，在其他实施例中，还可通过在第一基质层130与第二基质层160铺设绝缘层的方式使第一导电层140与第二导电层170绝缘。

请一并参阅图4，在本实施例中，第二基质层161的一端开设一缺口163，第一引线电极150的引脚位于缺口163内。因此，包含导电膜100的触摸屏10应用与电子设备时，可便于将第一引线电极150的引脚引出，从而便于第一引线电极150与控制器的柔性电路板实现电连接。

在本实施例中，第一网格凹槽131及第二网格凹槽161的宽度介于1～5微米，高度介于2～6微米，且深宽比大于1。因此，形成的第一导电层140及第二导电层170的透过率大于85%，光线从导电层穿过使不会有太多损耗，从而可使包含导电膜100的显示屏具有更佳的显示效果。

进一步的，第一引线电极150及第二引线电极180的网格周期小于50，且透过率小于70%。由于第一引线电极150及第二引线电极180的作用是导电，故需要其具有较密的网格。而当网格周期较小时，又会导致透过率偏低。因此，需要将第一引线电极150及第二引线电极180分别设置于第一非可视区域及第二非可视区域内。

与传统的导电膜相比，导电膜100具有至少如下优点：

1、由于第一导电层140及第二导电层170分别位于第一网格凹槽131及第二网格凹槽161内，第一导电层140及第二导电层170分别被第一基质层130及第二基质层160包覆。因此，第一基质层130和第二基质层160可对第一导电层140及第二导电层170提供保护，从而防止在制造触摸屏时对第一导电层140及第二导电层170造成刮伤，进而可提高产品的良率；

2、基片110的边缘设有遮光层120，第一引线电极150及第二引线电极180可设置于由遮光层120投影形成的第一非可视区域及第二非可视区域内。因此，在组装成触摸屏10时，从屏幕正面观察不到第一引线电极150及第二引线电极180的布线，从而可改善产品的外观。

此外，本发明还提供一种导电膜的制备方法。

请参阅图5，在一个实施例中，导电膜的制备方法包括步骤S110～S160。

步骤S110，提供一基片，所述基片包括第一表面及与第一表面相对设置的第二表面。

本实施例中，基片的材质为玻璃。而且，玻璃经过强化处理，使得基片能很好的起到保护作用。需要指出的是，在其他的实施例中，基片还可为其他材质，如聚对苯二甲酸丁二酯（PBT）、聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）、聚碳酸酯塑料（PC）以及对苯二甲酸乙二酯（PET）等。

步骤S120，在第一表面的边缘涂覆遮光材料，以形成环形的遮光层。

具体的，遮光层由不透光的材料制成，故可在基片边缘形成阴影。在本实施例中，形成遮光层的材料可为油墨或黑色光阻，其厚度介于1～10微米。当采用油墨形成遮光层时，遮光层的厚度可为6微米，而当采用黑色光阻形成遮光层时，遮光层的厚度可为1微米。因此，采用黑色光阻形成遮光层能进一步降低导电膜的厚度。

步骤S130，在基片设有遮光层的表面涂覆胶状物，并使胶状物固化以形成第一基质层，在第一基质层上远离基片的一侧开设第一网格凹槽。

具体的，形成的第一基质层将遮光层夹持于基片与第一基质层之间，遮光层在第一基质层上的投影区域形成第一非可视区域。进一步的，在本实施例中，可采用压印的方式在第一基质层远离基片的一侧形成第一网格凹槽，且第一网格凹槽的深度小于第一基质层的厚度。

步骤S140，向第一网格凹槽内填充导电材料，以形成第一导电层及与第一导电层电连接的第一引线电极。

在本实施例中，导电材料形成在第一网格凹槽内形成相互交错的导电细线，该导电细线组成导电网格。具体地，可先向第一网格凹槽中填充导电银浆，再使导电银浆烧结固化，形成导电网格。

进一步的，在本实施例中，第一网格凹槽包括用于形成第一引线电极的网格凹槽。而且，该网格凹槽位于第一非可视区域内。在向第一网格凹槽内填充导电材料时，导电材料在用于形成第一引线电极的网格凹槽内形成第一引线电极。因此，第一引线电极与第一导电层电连接，且位于第一非可视区域内。

步骤S150，在第一基质层上远离基片的一侧涂覆胶状物，并使胶状物固化以形成第二基质层，在第二基质层上开设第二网格凹槽。

具体的，形成第二基质层的材料与形成第一基质层的材料相同。而且，遮光层在第二基质层上的投影区域形成第二非可视区域。进一步的，在本实施例中，可采用压印的方式在第二基质层远离第一基质层的一侧形成第二网格凹槽，且第二凹槽的深度小于第二基质层的厚度。

步骤S160，向第二网格凹槽中填充导电材料，以形成第二导电层及与第二导电层电连接的第二引线电极。

在本实施例中，导电材料形成在第二网格凹槽内形成相互交错的金属导电细线，该金属导电细线组成导电网格。具体地，可先向第一网格凹槽中填充导电银浆，再使导电银浆烧结固化，形成导电网格。

进一步的，在本实施例中，第二网格凹槽包括用于形成第二引线电极的网格凹槽。而且，该网格凹槽位于第二非可视区域内。在向第二网格凹槽内填充导电材料时，导电材料在用于形成第二引线电极的网格凹槽内形成第二引线电极。因此，第二引线电极与第二导电层电连接，且位于第二非可视区域内。

与传统的导电膜制备方法相比，通过上述导电膜的制备方法得到的导电膜的第一导电层及第二导电层分别包覆于第一基质层及第二基质层内。因此，第一基质层和第二基质层可对第一导电层及第二导电层提供保护，从而防止在制造触摸屏时对第一导电层及第二导电层造成刮伤，进而可提高产品的良率。此外，基片的边缘设有遮光层，第一引线电极及第二引线电极可设置于由遮光层投影形成的第一非可视区域及第二非可视区域内。因此，在组装成触摸屏时，从屏幕正面观察不到第一引线电极及第二引线电极的布线，从而可改善产品的外观。

以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (12)

1.一种导电膜，其特征在于，包括：

基片，包括第一表面及与所述第一表面相对设置的第二表面；

遮光层，位于所述第一表面的边缘；

第一基质层，附着于所述第一表面，所述第一基质层由胶状物涂层固化形成，所述遮光层夹持于所述基片与所述第一基质层之间，且所述遮光层在所述第一基质层上的投影区域形成第一非可视区域，所述第一基质层远离所述基片的一侧设有第一网格凹槽，所述第一网格凹槽内填充导电材料，形成第一导电层与第一引线电极；

所述第一引线电极与所述第一导电层电连接，所述第一引线电极位于所述第一非可视区域；

第二基质层，附着于所述第一基质层上远离所述基片的一侧，所述第二基质层由胶状物涂层固化形成，所述遮光层在所述第二基质层上的投影区域形成第二非可视区域，所述第二基质层远离所述第一基质层的一侧开设有第二网格凹槽，所述第二网格凹槽内填充导电材料，形成第二导电层与第二引线电极；

所述第二引线电极与所述第二导电层电连接，所述第二引线电极位于所述第二非可视区域。

2.根据权利要求1所述的导电膜，其特征在于，所述第一导电层的厚度不大于所述第一网格凹槽的深度，所述第二导电层的厚度不大于所述第二网格凹槽的深度。

3.根据权利要求2所述的导电膜，其特征在于，所述导电材料为银。

4.根据权利要求1所述的导电膜，其特征在于，所述第二基质层的一端开设一缺口，所述第一引线电极的引脚位于所述缺口内。

5.根据权利要求1～4任一所述的导电膜，其特征在于，所述第一网格凹槽及所述第二网格凹槽的宽度介于1～5微米，深度介于2～6微米，且深宽比大于1，所述第一导电层及所述第二导电层的透过率大于85%。

6.根据权利要求1～4任一所述的导电膜，其特征在于，所述第一引线电极及所述第二引线电极的网格周期小于50，且透过率小于70%。

7.根据权利要求1所述的导电膜，其特征在于，所述遮光层为油墨层或黑色光阻层，且厚度为1～10微米。

8.根据权利要求1所述的导电膜，其特征在于，所述基片为玻璃。

9.根据权利要求1所述的导电膜，其特征在于，所述第一网格凹槽及所述第二网格凹槽的网格为随机网格。

10.根据权利要求1所述的导电膜，其特征在于，所述第一基质层的厚度大于所述遮光层的厚度。

11.一种触摸屏，其特征在于，包括：

如上述权利要求1～10任一项所述的导电膜；

显示模组，通过光学胶贴附于所述第二基质层远离所述第一基质层的一侧。

12.一种导电膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

提供一基片，所述基片包括第一表面及与所述第一表面相对设置的第二表面；

在所述第一表面的边缘涂覆遮光材料，以形成环形的遮光层；

在所述基片设有所述遮光层的表面涂覆胶状物，并使所述胶状物固化以形成第一基质层，在所述第一基质层上远离所述基片的一侧开设第一网格凹槽；

向所述第一网格凹槽内填充导电材料，以形成第一导电层及与所述第一导电层电连接的第一引线电极；

在所述第一基质层上远离所述基片的一侧涂覆胶状物，并使所述胶状物固化以形成第二基质层，在所述第二基质层上开设第二网格凹槽；

向所述第二网格凹槽中填充导电材料，以形成第二导电层及与所述第二导电层电连接的第二引线电极。

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