CN111386463A - 使用maldi质谱法相对定量分析聚合物的方法 - Google Patents

使用maldi质谱法相对定量分析聚合物的方法 Download PDF

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Abstract

本发明提供一种使用MALDI质谱法相对定量分析聚合物的方法，该方法包括以下步骤：(S1)根据聚合物样品的浓度，经掩模电喷射包含聚合物样品和基质的溶液以制备厚度变化为30％以下的多个聚合物试样；(S2)用激光照射各个所述多个聚合物试样以得到MALDI质谱图；和(S3)由所述MALDI质谱图的峰结果使用所述聚合物样品的信号建立定量校准曲线。根据本发明，制备由不同浓度的聚合物样品制备而成的具有均匀厚度的聚合物试样，并且由所述聚合物试样得到再现性的MALDI质谱图，然后使用谱图中示出的聚合物样品的峰和基质或内标物的峰建立定量校准曲线，从而可以相对定量分析聚合物。

Description

使用MALDI质谱法相对定量分析聚合物的方法
技术领域
本申请要求于2018年8月30日提交的韩国专利申请No.10-2018-0102447和于2019年4月5日提交的韩国专利申请No.10-2019-0040021的优先权的权益，这两项专利申请的全部公开内容通过引用并入本说明书中。
本发明涉及一种使用MALDI质谱法相对定量分析聚合物的方法，更具体地，涉及一种通过得到具有均匀厚度的聚合物试样的MALDI谱图并且使用峰信号制备定量校准曲线来进行相对定量分析的方法。
背景技术
基质辅助激光解吸电离(MALDI)是一种通过基质间接电离试样的技术，并且易于用于质谱法，但是由于缺乏谱图再现性，因此难以用于聚合物材料的定量分析。
然而，已经开发了使用MALDI质谱法定量分析试样的技术。例如，据报道，如果通过在MALDI中使羽流(通过激光脉冲从试样产生的蒸气)的温度保持恒定来制备谱图，则可以实现谱图的再现性并且可以得到定量校准曲线，这使得能够定量分析。
同时，发明人发现，聚合物试样的厚度是影响MALDI谱图的图案的一个因素，并且已经通过经掩模进行电喷射均匀地调整试样的厚度来制备具有均匀厚度的试样(于2017年10月11日提交的韩国专利申请No.10-2017-0130010，申请人：LG Chem Co.,Ltd.)。上述专利文献中公开的所有内容作为本说明书的一部分被并入。
此外，本发明人继续研究使用具有均匀厚度的聚合物试样有效地进行聚合物的定量分析的技术。因此，本发明人发现，通过使用谱图中出现的物质的峰，由具有均匀厚度的聚合物试样得到再现性的MALDI质谱图之后，可以得到线性定量校准曲线，从而完成本发明。
发明内容
技术问题
因此，本发明的一个目的是提供一种相对定量分析聚合物的方法，包括：制备由具有不同浓度的聚合物样品制成的具有均匀厚度的聚合物试样以得到再现性的MALDI质谱图，并且通过使用基质或内标的峰以及谱图中出现的聚合物样品的峰来制备定量校准曲线。
技术方案
根据本发明的一个方面，提供一种通过MALDI质谱法相对定量分析聚合物的方法，包括以下步骤：
(S1)对于各个浓度的聚合物样品，经掩模电喷射包含聚合物样品和基质的溶液来制备厚度变化为30％以下的多个聚合物试样；
(S2)通过向所述多个聚合物试样中的每一个照射激光来得到MALDI质谱图；和
(S3)由所述MALDI质谱图的峰结果用聚合物样品的信号来制备定量校准曲线。
所述聚合物样品可以包括聚(N-b-羟乙基-2,2,6,6-四甲基-4-羟基哌啶基琥珀酸酯)(Tinuvin 622)、2,2-双(羟甲基)丁酸-聚(丙二醇)(BHB-PPG)、烯丙基苯酚-聚二甲基硅氧烷(AP-PDMS)、H-聚二甲基硅氧烷(H-PDMS)或它们的混合物。
可以通过由所述MALDI质谱图的峰结果计算聚合物样品与基质的信号强度比，并且根据聚合物样品的浓度将其绘制出来，来制备定量校准曲线。
在步骤(S1)中，可以通过向包含聚合物样品和基质的溶液中另外加入内标来制备聚合物试样。在这种情况下，可以通过由对于所述聚合物试样而得到的MALDI质谱图计算聚合物样品与内标的信号强度比，并且根据聚合物样品与内标的浓度比将其绘制出来，来制备具有另外加入内标的聚合物样品和基质的聚合物试样的定量校准曲线。
所述内标可以是选自聚(乙二醇)(PEG)、聚(丙二醇)(PPG)、聚苯乙烯(PS)和它们中的两种或更多种的混合物的聚合物化合物。
通过经掩模电喷射制备聚合物试样包括以下步骤：(i)准备包括样品板和电喷射主喷嘴的电喷射装置并且将掩模安装在样品板上；和(ii)通过所述主喷嘴将包含聚合物样品和基质的溶液电喷射到安装有掩模的样品板上，其中，所述掩模包括孔，从所述主喷嘴电喷射的聚合物样品溶液通过该孔传递到所述样品板上以便在所述样品板上得到厚度变化小的聚合物试样。
在步骤(ii)中，可以向包含聚合物样品和基质的溶液中另外加入内标之后进行电喷射。
所述掩模中包括孔的直径可以为1mm至2mm。另外，所述掩模可以由不锈钢或铝制成。
将掩模安装在样品板上还可以包括在x轴、y轴和z轴中的至少一个方向上调整掩模的位置的步骤。
所述电喷射装置还可以包括围绕所述主喷嘴并且与所述主喷嘴同轴的辅助喷嘴，并且通过主喷嘴将聚合物样品溶液电喷射到样品板上的步骤还可以包括通过所述辅助喷嘴喷射溶剂以防止所述基质沉积在所述主喷嘴附近的步骤。
另外，所述电喷射装置还可以包括围绕所述辅助喷嘴并且与所述辅助喷嘴同轴的鞘流气供应管，并且通过主喷嘴将聚合物样品溶液电喷射到样品板上的步骤还可以包括由所述鞘流气供应管喷射鞘流气以导流所述溶液使得所述溶液被喷射到所述样品板的预定位置的步骤。
所述聚合物样品溶液电喷射到所述样品板上的面积为40mm2至180mm2，具体为40mm2至80mm2。
所述聚合物试样的厚度可以在500nm至10μm的范围内。
在同一试样上的三个或更多个点处(点与点之间)测得的所述聚合物试样的厚度变化可以为30％以下。
在同一试样上的三个或更多个点处(点与点之间)测得的相对标准偏差(RSD)范围可以为±15％以下，所述相对标准偏差范围表示在所述聚合物试样上测得的MALDI质谱图的结果的误差。
有益效果
根据本发明，使用掩模通过电喷射制备厚度变化为30％以下的均匀聚合物试样以得到再现性的MALDI质谱图，并且使用基质或内标的峰制备定量校准曲线，从而能够对具有不同浓度的聚合物样品进行相对定量分析。
附图说明
图1示出了对于由现有技术制备的试样，根据试样的分析位置的MALDI质谱图的差异；
图2示出了根据试样的厚度的MALDI质谱图的差异和根据羽流的温度的电离效率的差异；
图3示出了在使用现有技术的电喷射的喷射过程中，基质沉积在喷嘴的端部的现象；
图4a至图4d示意性地示出了根据本发明的一个实施方案的用于制备聚合物试样的具有掩模的电喷射装置及其应用过程；
图5示出了根据本发明的一个实施方案的从使用掩模喷射的宽区域中选择试样的中心来制备厚度为1μm的试样的过程；
图6示出了由对于根据本发明的一个实施方案制备的试样得到的MALDI质谱图的数据采集过程；
图7示出了由对于根据实施例1制备的聚合物试样得到的MALDI质谱图的结果，通过根据聚合物样品浓度绘制聚合物样品与基质的信号强度比制备的定量校准曲线；
图8a至图8c是由对于根据实施例2制备的聚合物样品而得到的MALDI质谱图的结果，通过根据聚合物样品与内标的浓度比绘制聚合物样品与内标的信号强度比制备的定量校准曲线(其中，n表示单体的重复单元)；
图9是示出根据实施例2通过经掩模电喷射制备的试样和根据比较例1的通过自然干燥方法制备的试样的MALDI质谱图的再现性评价的结果。
具体实施方式
由于可以在本发明中进行各种修改和变化，因此在附图中示出了具体实施方案，并且将在详细说明中对其进行详细描述。然而，应当理解，本发明不旨在限于具体实施方案，而是包括落入本发明的精神和范围以内的所有修改、等同和替代。
本发明的一个实施方案涉及一种使用MALDI质谱法相对定量分析聚合物的方法，该方法包括以下步骤：制备聚合物试样(S1)；得到所述聚合物试样的MALDI质谱图(S2)；和由所述MALDI质谱图的峰结果使用聚合物样品的信号制备定量校准曲线(S3)。
下文中，将参照附图详细描述所述方法的具体步骤。
<制备聚合物试样>
在本发明中，为了制备用于进行MALDI质谱法的聚合物试样，经掩模电喷射包含聚合物样品和基质的溶液。此时，用具有不同浓度的聚合物样品制备多个聚合物试样，其中，各个聚合物试样中基质的浓度恒定。
在本发明的一个实施方案中，聚合物样品可以是分子量为1000Da以上，例如，3000Da至4000Da的聚合物化合物。另外，聚合物样品具有多分散性。在本说明书中，聚合物化合物是具有相同重复单元但是具有不同分子量等的不同分子种类的混合物，并且表示不同分子量分布的这些性能定义为多分散性。另外，聚合物样品具有相同的多分散性是指对于具有多分散性的两种或更多种类型的聚合物样品，分子量分布图案相同。
本发明中的聚合物样品可以包括聚(N-b-羟乙基-2,2,6,6-四甲基-4-羟基哌啶基琥珀酸酯)(Tinuvin 622)、2,2-双(羟甲基)丁酸-聚(丙二醇)(BHB-PPG)、烯丙基苯酚-聚二甲基硅氧烷(AP-PDMS)、H-聚二甲基硅氧烷(H-PDMS)或它们的混合物。
在制备聚合物试样中使用的基质是指从能量源例如激光吸收能量并且将能量转移至待分析的聚合物样品，从而加热和电离聚合物样品的物质。
对基质没有特别限制，只要它可以检测聚合物样品即可，例如，可以使用DCTB(反式-2-[3-(4-叔丁基苯基)-2-甲基-2-亚丙烯基]丙二腈)、DHB(2,5-二羟基苯甲酸)、CHCA(α-氰基-羟基肉桂酸)、SA(芥子酸，3,5-二甲氧基-4-羟基肉桂酸)等。
另外，可以通过向包含聚合物样品和基质的溶液中另外加入内标制备聚合物试样。
所述内标用于聚合物样品的相对定量分析。此处，“相对定量”是指通过一起加入特定的内标与聚合物样品来制备聚合物试样，并且测量试样的MALDI质谱图中各个样品的峰结果与内标的峰结果的相对值来对样品进行定量。
所述内标可以是选自聚(乙二醇)(PEG)、聚(丙二醇)(PPG)、聚苯乙烯(PS)和它们中的两种或更多种的混合物的聚合物化合物。另外，与聚合物样品具有相同的主链但是具有不同的末端的聚合物可以用作内标。
聚合物样品、基质和内标可以以分别溶解在有机溶剂如四氢呋喃(THF)、二甲苯或氯仿中的溶液形式使用，并且可以适当地选择其浓度。例如，聚合物样品可以以在待制备的试样中在0.1mg/ml至10mg/ml的范围内的各个浓度来使用。此外，基质和内标可以在各个试样中分别以0.1mg/ml和10mg/ml的恒定浓度来使用，但是不特别局限于此。
可以将包含聚合物样品和基质，以及可选地如上所述的内标的溶液施加至样品板，例如，不锈钢板，以制备用于MALDI质谱法的聚合物试样。
同时，MALDI质谱图中样品与基质或与内标的信号比依赖于通过激光照射的离子产生反应过程中的温度。因此，需要控制离子产生反应的温度恒定。如果待制备的聚合物试样具有不均匀厚度，则在向试样照射激光以引起离子产生反应时温度会不均匀，从而难以得到再现性的MALDI质谱图。
例如，图1示出了由现有技术制备的试样，根据试样的分析位置的MALDI质谱图的差异。从不同位置得到的MALDI谱图的结果可以看出，从试样的中心得到的谱图与从试样的边缘得到的谱图不同。换句话说，谱图趋于从试样的中心到边缘变化，并且在相似位置处测得的谱图表现出相对相似的趋势。
在MALDI中，当羽流(通过激光脉冲从试样产生的蒸气)的温度相同时，谱图趋于彼此一致，但是当羽流的温度不同时，谱图趋于不同。因此，图1的结果意味着，羽流的温度根据试样中的位置而变化。
另外，羽流的温度与试样厚度有关。随着厚度增加，羽流的温度趋于增加。因此，从该一般事实可以预测，影响聚合物的MALDI谱图图案的一个因素是试样的厚度。
图2是示出了根据试样厚度的温度变化对聚合物的电离效率的影响的结果。从图2-1)中根据BHB-PPG+PPG样品的试样位置的谱图的强度变化可以看出，BHB-PPG与PPG的信号强度比在试样的中心比在边缘大。其原因可以从示出Na+结合能根据温度而变化的图中预测。图2是示出Na+结合能根据温度而变化的图。Na+结合能越低，Na+亲和力越高。因此，可以预测，温度越高，BHB-PPG比PPG产生的离子越多。在图2-2)的AP-PDMS+H-PDMS样品的情况下，实验结果可以通过使用Na+结合能根据温度的图来充分预测。
这样，羽流的温度影响电离效率，并且羽流的温度的变化可以由试样厚度的差异造成，因此为了得到再现性的MALDI谱图结果，应该使用厚度均匀的试样。
因此，在聚合物试样的制备中，本发明使用利用掩模的电喷射法来控制聚合物试样，以在多个点处的厚度变化小，并且具体包括以下步骤：
(i)准备包括样品板和电喷射主喷嘴的电喷射装置并且将掩模安装在所述样品板上；和
(ii)通过所述主喷嘴将包含聚合物样品和基质的溶液(下文中称作“聚合物样品溶液”或“样品溶液”)电喷射到安装有掩模的样品板上。
另外，根据本发明的一个实施方案，在步骤(ii)中，可以通过向包含聚合物样品和基质的溶液中另外加入内标来进行所述电喷射。
所述掩模可以包括孔，从所述主喷嘴电喷射的聚合物样品溶液通过该孔传递到样品板上以便在样品板上得到厚度变化小的聚合物试样。
对所述掩模的材料没有具体限制，但是可以是不锈钢或铝。另外，掩模的形状也可以变化，包括矩形、圆形等，并且掩模的一条边的长度可以是数厘米大小。例如，当掩模具有矩形形状时，一条边的长度可以为1cm至4cm，当掩模具有圆形形状时，直径可以为1cm至4cm。在这种情况下，设置在掩模中的孔尺寸可以为，例如，直径为1mm至2mm。
进行经掩模电喷射以使样品溶液在掩模的孔周围散布。例如，用于样品溶液的喷射孔的直径可以为4mm至15mm，并且喷射样品溶液的面积可以在40mm2至180mm2的范围内，具体地在40mm2至80mm2的范围内。也就是说，根据本发明的用于电喷射的样品溶液的喷射面积不受掩模的孔的尺寸限制，而是可以广泛进行喷射，包括掩模的孔的周围。
以这种方式，通过孔的聚合物样品溶液可以以均匀且薄的厚度施加在样品板上，没有通过孔的溶液保留在掩模上。如果喷射面积限于掩模的孔的尺寸，则会难以制备均匀厚度的试样。
在本发明的一个实施方案中，通过如上所述的喷射制备的聚合物试样的厚度可以为500nm至10μm，例如0.5μm至5μm或1μm至2μm。当满足该厚度范围时，可以保持均匀性以使厚度变化最小化，同时确保能够分析聚合物样品的厚度。
这样，可以通过从样品溶液被喷射到样品板上的区域中仅选择厚度变化小的部分来制备均匀的聚合物试样。
通常，从可以以大面积更均匀地喷射和沉积聚合物样品的观点来看，电喷射方法已经应用于各种领域。电喷射由于喷嘴的简单形状和结构而容易构建系统，并且非常容易产生数百纳米至数十微米的液滴。另外，由于液滴具有单分散分布并且液滴的表面也带电，所以具有液滴难以彼此结合从而容易控制的优点。另外，可以大面积喷射并且在大气压下喷射。并且，由于静电效应而可以制备具有更稳定特性的试样。
然而，当使用常规电喷射法在喷射过程中喷射包含聚合物样品和基质，以及，可选地，另外的内标的溶液时，会发生基质沉积在喷嘴的端部的现象(见图3)。由于基质沉积在喷嘴的端部，因此存在样品的电喷射的再现性差的问题。换句话说，由于基质沉积在喷嘴的端部，因此难以将样品喷射到特定位置。
该问题可以通过与主喷嘴一起使用辅助喷嘴来克服。例如，从在图4a至图4d的本发明的实施方案中使用的电喷射装置及其应用过程可以看出，电喷射装置的喷嘴部100可以包括：主喷嘴110，用于喷射包含聚合物样品和基质，以及可选地另外的内标的溶液；和围绕主喷嘴110并且与主喷嘴110同轴的辅助喷嘴120，其中，辅助喷嘴120适用于喷射溶剂(见图4a)。在图4a中，主喷嘴110中的实线箭头表示从主喷嘴110喷射的聚合物样品流，辅助喷嘴120中的虚线箭头表示从辅助喷嘴120喷射的溶剂流。也就是说，在从主喷嘴110喷射聚合物样品溶液的同时，通过从围绕主喷嘴110的辅助喷嘴120另外喷射溶剂，可以防止基质在喷嘴端部沉积的现象，这是在根据现有技术使用电喷射的喷射过程中的问题，从而提高聚合物样品的电喷射的再现性。可以使用四氢呋喃(THF)作为待通过辅助喷嘴喷射的溶剂。
另外，从主喷嘴110电喷射的聚合物样品溶液将被喷射到预定位置。主喷嘴110的入口可以比辅助喷嘴120的入口更加向样品板突出。例如，主喷嘴110的入口可以比辅助喷嘴120的入口向样品板突出约1mm至2mm。待从辅助喷嘴120喷射的溶剂的量可以是，例如，从主喷嘴110喷射的溶剂的量的30％至60％。
附加地或替代地，通过设置围绕辅助喷嘴120并且与辅助喷嘴120同轴的鞘流气供应管130，当从主喷嘴110喷射聚合物样品时，鞘流气也被喷射到聚合物样品周围，从而鞘流气将待喷射的聚合物样品导流到预定位置。在图4a中，鞘流气供应管130中的粗箭头表示从鞘流气供应管130喷射的鞘流气。因此，可以提高聚合物样品的电喷射的再现性。作为鞘流气，例如，可以使用氮气(N2)。例如，氮气可以以100cc/min至1000cc/min释放，并且在一个实施方案中为1000cc/min。
如上所述，在本发明中，在从主喷嘴110喷射样品溶液的同时，从围绕主喷嘴110的辅助喷嘴120将溶剂喷射到待喷射的样品溶液周围，或者从围绕辅助喷嘴120并且与辅助喷嘴120同轴的鞘流气供应管130将鞘流气喷射到待喷射的样品溶液周围。因此，可以将从主喷嘴110电喷射的样品溶液喷射到样品板上的预定位置。
图4b示出了当使用鞘流气时，将样品溶液加载在预定位置。例如，通过以2cm的间隔重复电喷射10次来确认再现性。
另外，参考图4c，在本发明的一个实施方案中，在聚合物试样的制备中，掩模位置调整单元300可以与掩模200一起使用。也就是说，当将聚合物样品溶液电喷射到放置在样品台210上的样品板上时，将掩模200放置在用于电喷射的样品板上，从而可以从聚合物样品喷射到放置在样品台210上的样品板上的区域中仅选择厚度变化小的部分作为试样。此外，由于将掩模200安装在掩模位置调整单元300中，因此可以通过掩模位置调整单元300调整掩模200在样品板上的位置。
掩模200的中心包括孔200a，其通常对应于与具有期望的厚度变化的部分对应的试样的尺寸。待电喷射的样品中没有通过孔200a的样品保留在掩模200上。如上参考图4a所述的，聚合物样品的电喷射的再现性提高，当根据图4c将掩模200安装在样品板上时，待电喷射的聚合物样品可以通过掩模200的孔200a并且置于样品板上，以制备具有期望的厚度变化的试样。
图5示出了根据本发明的一个示例性实施方案的通过使用掩模从宽喷射区域中选择试样的中心来制备厚度为1μm的试样的过程。通过该过程，厚度变化为30％以下例如25％的样品最终保留在样品台210上。
如上所述，掩模200可以由不锈钢、铝等制成，并且可以具有矩形或圆形形状，各种其它材料和形状也是可以的。例如，当掩模200具有矩形形状时，一条边的长度可以为1cm至4cm，当掩模200具有圆形形状时，直径可以为1cm至4cm。在这种情况下，孔200a的直径可以为，例如，1mm至2mm。
另外，参考图4d，掩模位置调整单元300可以包括可以安装掩模200的掩模架310。
在本发明的一个实施方案中，掩模架310还可以包括开口310a，掩模200可以安装在开口310a中，并且安装的掩模200可以沿着一个轴线方向(例如，y轴)移动。开口310a可以具有，例如，矩形形状，并且开口310a的矩形的一条边的宽度可以与掩模200的宽度一致。开口310a的另一条边的宽度大于掩模200的宽度，使得安装在开口310a中的掩模200可以被移动和安装。开口310a的两个边缘可以包括凸部310b，从而可以将掩模200放置在开口310a的凸部310b上。
掩模位置调整单元300包括垂直于掩模架310的长度方向延伸的线性运动轨道320，并且掩模架310可以安装至线性运动轨道320的安装部320a。掩模架310通过，例如，螺栓固定至安装部320a，并且可以在线性运动轨道320的轨道部320b上在x轴上移动。轨道部320b还可以包括标尺(见图4d)以指示掩模架310，即，安装在掩模架310上的掩模300，在x轴上移动了多少。
如果掩模架310在线性运动轨道320上在x轴方向上移动，则掩模300可以如上所述在掩模架310的开口310a内在y轴方向上移动。另外，掩模位置调整单元300可以调整掩模架310在z轴方向(垂直于样品台210的上表面的方向)上的高度。作为放置试样的板，可以使用诸如不锈钢板和ITO玻璃的各种板。因此，需要根据板的高度来调整掩模架310的高度(z轴上的高度)，也就是，安装在掩模架310上的掩模300的高度。当将掩模架310安装在线性运动轨道320的安装部320a上时，可以在掩模架310和安装部320a之间设置用于调整掩模架310的高度的垫片330。例如，可以设置多个垫片，并且垫片的数量可以从0(零)增加直至达到相应高度。或者，可以提供具有对应于板的高度的各个垫片。本发明不限于上述内容，并且可以进行各种修改和改变。
另外，在本发明的一个实施方案中，掩模位置调整单元300还可以包括用于将掩模架310固定至线性运动轨道320的固定单元340。
如上所述，根据本发明的实施方案的聚合物试样的制备方法，当将聚合物样品溶液电喷射到放置在样品台210上的样品板上时，如图4b至图4c所示使用掩模200，使得从聚合物样品广泛地喷射到样品板上的区域中，可以仅选择具有30％以下的小厚度变化的部分作为试样。为了调整掩模200的位置，通过掩模架310与线性运动轨道320之间的垫片330来控制安装有掩模200的掩模架310在z轴方向上的移动。通过线性运动轨道320来控制安装有掩模200的掩模架310在x轴方向上的移动，并且掩模200可以在掩模架310的开口310a内在y轴方向上移动。然而，如上所述的调整掩模位置的方法是本发明的使用掩模制备试样的方法的一个实施方案。本发明不限于上述内容，并且可以对调整掩模位置的方法进行各种修改和改变。
另外，在本发明的一个实施方案中使用的电喷射装置10还可以包括样品注入调整单元(未示出)，并且该样品注入调整单元可以具体地包括用于调整供应到主喷嘴110的聚合物样品的注入量的泵30a和用于调整供应到辅助喷嘴120的溶剂的注入量的泵30b。此外，供应到鞘流气供应管130的鞘流气的量可以通过鞘流气调整单元(未示出)来调整。
如上所述，根据本发明，可以制备通过经掩模电喷射得到的具有30％以下，例如25％以下的均匀厚度的聚合物试样。可以将由此制备的聚合物试样应用于商用MALDI-TOFMS设备以得到再现性的MALDI谱图，误差为±30％以下，例如，±15％以下，从而能够定量分析聚合物样品。
<得到MALDI质谱图>
通过向具有小的厚度变化的多个聚合物试样中的每一个照射激光得到MALDI质谱图，并且由谱图的峰结果计算聚合物样品与基质的信号强度比或聚合物样品与内标的信号强度比。
激光是用于向聚合物试样施加能量的手段，具体地，可以是氮激光或Nd:YAG激光。
当向试样照射激光时，可以通过照射试样的单个点多次，或照射试样的多个点来得到多个离子谱图。例如，为了得到具有良好的S/N比(信噪比)的谱图，可以以试样的每个点扫描50至2000次，得到数个点，例如，20至80个点的MALDI质谱图，之后可以确定平均值。另外，可以在相同条件下对试样进行3次或更多次实验。
根据本发明的一个实施方案，可以使用Imaging S/W(例如，Fleximaging，BrukerDaltonics，德国)进行数据采集过程以得到MALDI质谱图。
图6示出了由对于根据本发明的一个实施方案制备的试样得到的MALDI质谱图的数据采集过程。参考图6，通过经掩模电喷射聚合物样品来制备具有均匀厚度的聚合物试样，并且使用Imaging S/W采集同一试样中的多个点的谱图数据，以确定平均值。可以发现，在所有点处可以得到再现性的谱图。
通过上述过程得到的MALDI质谱图的数据可以具有±30％以下的RSD(相对标准偏差)，RSD表示误差。例如，对同一试样上的三个或更多个点进行测量时(点与点之间)，可以得到再现性的MALDI质谱图，其中，误差可以在±15％以下，并且即使当测量在相同条件下制备的三个或更多个试样时(样品与样品之间)，误差也可以在±30％以下。
在MALDI质谱图中出现的离子是质子化的聚合物样品、质子化的基质、质子化的内标和离子源中产生的碎片产物。因此，MALDI质谱图的峰图案由离子数、信号比等决定。
<制备定量校准曲线>
为了使用根据本发明对于聚合物试样得到的MALDI质谱图对聚合物进行定量，可以通过绘制上面计算出的信号强度比制备定量校准曲线。
例如，可以通过根据聚合物样品的浓度绘制对于试样得到的MALDI质谱图中聚合物样品与基质的信号强度比来制备包含聚合物样品和基质的聚合物试样的定量校准曲线。
可以通过由对于试样得到的MALDI质谱图计算聚合物样品与内标的信号强度比，并且根据聚合物样品与内标的浓度比将其绘制出来，来制备另外包含内标以及聚合物样品和基质的聚合物试样的定量校准曲线。
根据本发明的一个实施方案制备的所有校准曲线表现出线性(R2≥0.98，见图7和8)。
另外，根据本发明的校准曲线中的每个点的RSD(相对标准偏差)可以为±15％以下。
下文中，将详细描述本发明的实施方案，从而本领域技术人员可以容易地实施本发明。然而，本发明可以以许多不同的形式实施，并且不应该被理解为受本说明书中描述的实施方案限制。
<实施例1>
步骤1：制备聚合物试样
制备具有
Figure BDA0002507350880000131
622(由BASF制造)分别以0.1mg/ml、0.5mg/ml、1mg/ml和3mg/ml的浓度溶解在二甲苯中作为待分析的聚合物化合物的溶液。上述溶液、作为基质的DCTB(反式-2-[3-(4-叔丁基苯基)-2-甲基-2-亚丙烯基]丙二腈)(10mg/ml THF)的溶液和NaTFA(三氟乙酸钠)(0.02M，在THF中)的溶液以9:1:1的体积比混合来制备聚合物样品溶液。此时，对于各个浓度，使用聚合物化合物溶液以制备多个聚合物样品溶液。
Figure BDA0002507350880000132
使用图4c中的电喷射装置10和具有直径为2mm的孔的掩模200分别电喷射上述制备的多个聚合物样品溶液，以制备多个聚合物试样。
具体地，将聚合物样品以0.5μL/min的流速(第一流)电喷射到不锈钢板上10分钟，并且测量电喷射的试样的厚度。然而，不锈钢板具有粗糙表面，因此不适合测量试样的厚度。因此，为了测量电喷射的试样的厚度，再次将聚合物样品溶液以0.5μL/min的流速(第一流)电喷射到ITO玻璃上10分钟，然后使用光学轮廓仪以2μm的间隔测量试样的厚度。测得的厚度轮廓的平均厚度约为1μm(见图5)。
另外，假设MALDI激光器的光斑尺寸为50μm，测量25个测量值的平均值的标准偏差，结果，厚度变化约为25％。
步骤2：得到MALDI质谱图
使用MALDI-TOF质谱仪(UltrafleXtreme，Bruker Daltonics，德国)，对于在步骤1中制备的各个聚合物试样，通过用337nm氮激光(MNL100，Lasertechnik Berlin，Berlin，德国)以每个点扫描2000次，照射20个点来进行MALDI质谱法。
对于各个聚合物试样(即，对于每个浓度的聚合物样品)进行这样的质谱法三次以得到MALDI质谱图。
随后，使用作为聚合物的
Figure BDA0002507350880000141
622的信号和作为基质的DCTB二聚体峰和DCTB三聚体峰的信号计算信号强度比并且取平均值。
步骤3：制备定量校准曲线
通过根据
Figure BDA0002507350880000142
622的浓度绘制在步骤2中计算出的
Figure BDA0002507350880000143
622与DCTB二聚体峰或DCTB三聚体峰的信号强度比制备校准曲线，结果示于图7中。
从图7可以看出，由通过对厚度变化为25％的均匀聚合物试样进行MALDI而得到的谱图，使用
Figure BDA0002507350880000144
622的信号和作为基质的DCTB二聚体峰的信号(图7A)和DCTB三聚体峰的信号(图7B)，得到线性校准曲线(R2＝0.08以上)，每个点的RSD(相对标准偏差)在15％以内。
<实施例2>
步骤1：制备聚合物试样
制备具有BHB-PPG作为待分析的聚合物化合物以0.1mg/ml、1mg/ml、2mg/ml、5mg/ml和10mg/ml的各个浓度溶解在THF(四氢呋喃)中的溶液。制备具有PPG作为内标溶解在THF(0.5mg/ml)中的溶液、DCTB(反式-2-[3-(4-叔丁基苯基)-2-甲基-2-亚丙烯基]丙二腈)作为基质溶解在THF(10mg/ml)中的溶液和NaTFA的溶液(0.02M，在THF中)。
将基质溶液、NaTFA溶液、聚合物溶液和内标溶液以9/1/0.5/0.5(v/v/v/v)混合。此时，对于各个浓度，使用聚合物化合物溶液以制备多个聚合物样品溶液。
Figure BDA0002507350880000145
使用图4c中的电喷射装置10和具有直径为2mm的孔的掩模200分别电喷射上述制备的多个聚合物样品溶液，以制备多个聚合物试样。
具体地，将聚合物样品以0.5μL/min的流速(第一流)电喷射到不锈钢板上10分钟，并且测量电喷射试样的厚度。然而，不锈钢板具有粗糙表面，因此不适合测量试样的厚度。因此，为了测量电喷射试样的厚度，再次将聚合物样品溶液以0.5μL/min的流速(第一流)电喷射到ITO玻璃上10分钟，然后使用光学轮廓仪以2μm的间隔测量试样的厚度。测得的厚度轮廓的平均厚度约为1μm。假设MALDI激光器的光斑尺寸为50μm，测量25个测量值的平均值的标准偏差，结果，厚度变化约为25％。
步骤2：得到MALDI质谱图
使用MALDI-TOF质谱仪(UltrafleXtreme，Bruker Daltonics，德国)，对于在步骤1中制备的各个聚合物试样，通过用337nm氮气激光(MNL100，Lasertechnik Berlin，Berlin，德国)以每个点扫描50次，照射40个点(总共扫描2000次)来进行MALDI质谱法。使用ImagingS/W(Fleximaging，Bruker Daltonics，德国)采集MALDI谱图(见图6)。
对于各个聚合物试样(即，对于每个浓度的聚合物样品)进行这样的质谱法三次以得到MALDI质谱图。
随后，计算聚合物样品(BHB-PPG)和内标(PPG)的信号强度比并且取平均值。
步骤3：制备定量校准曲线
通过根据BHB-PPG与PPG的浓度比绘制在步骤2中计算出的BHB-PPG与PPG的信号强度比制备校准曲线，结果示于图8a至图8c中。
图8a至图8c是对于各个浓度的BHB-PPG/PPG而得到的MALDI质谱图中，使用具有n＝27、n＝33和n＝38的单体重复单元数的聚合物峰制备的线性校准曲线。可以发现，对于具有任意的重复单元数的任何聚合物峰都可以得到线性校准曲线。另外，可以发现，BHB-PPG/PPG的MALDI谱图的平均值的RSD(相对标准偏差)在13％内，这意味着再现性非常高。
<比较例1>
使用在实施例2的步骤1中制备的聚合物样品溶液，通过干滴法制备两个试样，并且对于每个制备的试样在6个点处进行MALDI质谱法。
图9示出了在实施例2和比较例1中制备的试样的MALDI质谱图的再现性的评价结果。可以发现，使用电喷射和掩模制备的实施例2的试样的谱图的再现性更高。

Claims (18)

1.一种通过MALDI质谱法相对定量分析聚合物的方法，包括以下步骤：
S1：对于各个浓度的聚合物样品，通过经掩模电喷射包含聚合物样品和基质的溶液来制备厚度变化为30％以下的多个聚合物试样；
S2：通过向所述多个聚合物试样中的每一个照射激光来得到MALDI质谱图；和
S3：由所述MALDI质谱图的峰结果用聚合物样品的信号来制备定量校准曲线。
2.根据权利要求1所述的相对定量分析聚合物的方法，其中，所述聚合物样品包括聚(N-b-羟乙基-2,2,6,6-四甲基-4-羟基哌啶基琥珀酸酯)(Tinuvin622)、2,2-双(羟甲基)丁酸-聚(丙二醇)(BHB-PPG)、烯丙基苯酚-聚二甲基硅氧烷(AP-PDMS)、H-聚二甲基硅氧烷(H-PDMS)或它们的混合物。
3.根据权利要求1所述的相对定量分析聚合物的方法，其中，通过由所述MALDI质谱图的峰结果计算所述聚合物样品与所述基质的信号强度比，并且根据所述聚合物样品的浓度将其绘制出来，来制备定量校准曲线。
4.根据权利要求1所述的相对定量分析聚合物的方法，其中，在步骤S1中，通过向所述包含聚合物样品和基质的溶液中另外加入内标来制备所述聚合物试样。
5.根据权利要求4所述的相对定量分析聚合物的方法，其中，通过由对于所述聚合物试样得到的MALDI质谱图计算所述聚合物样品与所述内标的信号强度比，并且根据所述聚合物样品与所述内标的浓度比将其绘制出来，来制备具有另外加入内标的聚合物样品和基质的聚合物试样的定量校准曲线。
6.根据权利要求4所述的相对定量分析聚合物的方法，其中，所述内标是选自聚(乙二醇)(PEG)、聚(丙二醇)(PPG)、聚苯乙烯(PS)和它们中的两种或更多种的混合物的聚合物化合物。
7.根据权利要求1所述的相对定量分析聚合物的方法，其中，通过经掩模电喷射来制备聚合物试样包括以下步骤：
i：准备包括样品板和电喷射主喷嘴的电喷射装置并且将掩模安装在样品板上；和
ii：通过所述主喷嘴将所述包含聚合物样品和基质的溶液电喷射到安装有掩模的样品板上，
其中，所述掩模包括孔，从所述主喷嘴电喷射的聚合物样品溶液通过该孔传递到所述样品板上以便在所述样品板上得到厚度变化小的聚合物试样。
8.根据权利要求7所述的相对定量分析聚合物的方法，其中，在步骤ii中，向所述包含聚合物样品和基质的溶液中另外加入内标之后进行所述电喷射。
9.根据权利要求7所述的相对定量分析聚合物的方法，其中，所述掩模中所述孔的直径为1mm至2mm。
10.根据权利要求7所述的相对定量分析聚合物的方法，其中，所述掩模由不锈钢或铝制成。
11.根据权利要求7所述的相对定量分析聚合物的方法，其中，所述将掩模安装在样品板上还包括在x轴、y轴和z轴中的至少一个方向上调整所述掩模的位置的步骤。
12.根据权利要求7所述的相对定量分析聚合物的方法，其中，所述电喷射装置还包括围绕所述主喷嘴并且与所述主喷嘴同轴的辅助喷嘴，并且通过主喷嘴将聚合物样品溶液电喷射到样品板上的步骤还包括通过所述辅助喷嘴喷射溶剂以防止所述基质沉积在所述主喷嘴附近的步骤。
13.根据权利要求7所述的相对定量分析聚合物的方法，其中，所述电喷射装置还包括围绕所述辅助喷嘴并且与所述辅助喷嘴同轴的鞘流气供应管，并且通过主喷嘴将聚合物样品溶液电喷射到样品板上的步骤还包括由所述鞘流气供应管喷射鞘流气以导流所述溶液使得所述溶液被喷射到所述样品板的预定位置的步骤。
14.根据权利要求7所述的相对定量分析聚合物的方法，其中，所述聚合物样品溶液电喷射到所述样品板上的面积为40mm2至180mm2。
15.根据权利要求11所述的相对定量分析聚合物的方法，其中，所述聚合物样品溶液电喷射到所述样品板上的面积为40mm2至80mm2。
16.根据权利要求1所述的相对定量分析聚合物的方法，其中，所述聚合物试样的厚度在500nm至10μm的范围内。
17.根据权利要求1所述的相对定量分析聚合物的方法，其中，在同一试样上的三个或更多个点处(点与点之间)测得的所述聚合物试样的厚度变化为30％以下。
18.根据权利要求1所述的相对定量分析聚合物的方法，其中，在同一试样上的三个或更多个点处(点与点之间)测得的相对标准偏差(RSD)范围为±15％以下，所述相对标准偏差范围表示在所述聚合物试样上测得的MALDI质谱图的结果的误差。
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Citations (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20020092366A1 (en) * 2001-01-17 2002-07-18 Ansgar Brock Sample deposition method and system
WO2003040715A1 (en) * 2001-11-05 2003-05-15 Irm, Llc. Sample preparation methods for maldi mass spectrometry
US20040217276A1 (en) * 2003-04-30 2004-11-04 Dicesare Joseph L. Sample plate for matrix-assisted laser desorption and ionization mass spectrometry
CN102337341A (zh) * 2011-10-21 2012-02-01 马庆伟 Maldi-tof质谱双内标及其定量检测方法
CN103245717A (zh) * 2012-02-10 2013-08-14 华中师范大学 高压成型基质薄膜辅助-激光解析离解质谱定量分析方法
CN103901093A (zh) * 2014-03-13 2014-07-02 华东理工大学 制备亲疏水相间的微阵列芯片及其用于质谱成像定量分析的方法
US20140260700A1 (en) * 2013-03-13 2014-09-18 Sequenom, Inc. Preparation enhancements and methods of use for maldi mass spectrometry
CN104237175A (zh) * 2014-08-28 2014-12-24 中国科学院近代物理研究所 原位激光质谱光谱同步测量分析仪
US20150162176A1 (en) * 2011-07-26 2015-06-11 Kratos Analytical Limited Maldi sample preparation methods and targets
US20150221488A1 (en) * 2012-07-17 2015-08-06 Snu R&Db Foundation Method for improving mass spectrum reproducibility and quantitative analysis method using same
CN104851774A (zh) * 2015-05-22 2015-08-19 华中师范大学 一种基于微流控三维聚焦技术的氮气吹扫型高分辨质谱电喷雾电离源及质谱检测方法
CN104897835A (zh) * 2015-05-28 2015-09-09 江南大学 一种利用uplc-q-tof/ms技术快速测定寡聚古罗糖醛酸的方法
CN105223264A (zh) * 2015-09-21 2016-01-06 广东联捷生物科技有限公司 一种质谱定量分析的模拟内标方法、装置及应用
US20160056027A1 (en) * 2013-01-03 2016-02-25 Snu R &Db Foundation Quantitative analysis method using mass spectrometry wherein laser pulse energy is adjusted
US20160148793A1 (en) * 2013-01-03 2016-05-26 Asta Co., Ltd. Method for obtaining mass spectrum of ions generated at constant temperature by measuring total ion count, and use of matrix for quantitative analysis using maldi mass spectrometry
CN105973974A (zh) * 2016-07-21 2016-09-28 浙江大学 一种聚硫代碳酸酯类化合物的maldi-tof-ms的检测方法
KR20170013073A (ko) * 2015-07-27 2017-02-06 서강대학교산학협력단 Maldi-tof 질량분석방법을 이용한 고분자내 올리고머의 정량분석 방법
KR20170021398A (ko) * 2015-08-17 2017-02-28 연세대학교 산학협력단 말디톱 질량분석기에 이용가능한 시료 플레이트 및 상기 시료 플레이트의 제조방법
CN107501591A (zh) * 2016-06-14 2017-12-22 中国石油化工股份有限公司 一种双酚a分子印迹聚合物膜的制备与应用
CN107884466A (zh) * 2017-10-31 2018-04-06 北京毅新博创生物科技有限公司 校正质谱检测微生物样品的准确率的方法及产品
CN207689423U (zh) * 2017-12-19 2018-08-03 亿纳谱（浙江）生物科技有限公司 用于质谱检测的芯片及质谱仪
CN108387634A (zh) * 2017-03-01 2018-08-10 北京毅新博创生物科技有限公司 质谱基片及制备方法与用途

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2235528B (en) 1989-08-23 1993-07-28 Finnigan Mat Ltd Method of preparing samples for laser spectrometry analysis
AU2003301882A1 (en) 2002-11-01 2004-06-07 The Regents Of The University Of Colorado, A Body Corporate Quantitative analysis of protein isoforms using matrix-assisted laser desorption/ionization time of flight mass spectrometry
US7095018B2 (en) * 2004-12-29 2006-08-22 Wisconsin Alumni Research Foundation Deposition of samples and sample matrix for enhancing the sensitivity of matrix assisted laser desorption/ionization mass spectrometry
JP2006226717A (ja) 2005-02-15 2006-08-31 Shiseido Co Ltd 非イオン性界面活性剤の定量方法
JP2007263896A (ja) 2006-03-29 2007-10-11 Univ Nagoya 肺癌患者の術後予後予測のための生物マーカー及びその方法
EP2136389B1 (en) * 2007-04-12 2019-12-04 Shimadzu Corporation Ion trap mass spectrometer
DE112010000967T5 (de) 2009-03-05 2012-08-16 Hitachi High-Technologies Corp. Analysator
JP2012032279A (ja) 2010-07-30 2012-02-16 System Instruments Kk 生体高分子分析方法および生体高分子認識基板
JP2012230801A (ja) 2011-04-26 2012-11-22 Shimadzu Corp Ｍａｌｄｉ質量分析装置
KR101434092B1 (ko) 2013-03-08 2014-08-26 성균관대학교산학협력단 패턴 형성 장치
CZ2014631A3 (cs) 2014-09-16 2016-03-30 Petr Novák Způsob modifikace povrchů bílkovinami pro prekoncentraci analytu pro desorpčně- ionizační techniky hmotnostní spektrometrie a imunochemické eseje
JP6264275B2 (ja) 2014-12-12 2018-01-24 株式会社島津製作所 マトリックス膜形成装置
CZ2015405A3 (cs) 2015-06-16 2016-12-28 Petr Novák Afinitní deska pro určení fenotypu haptoglobinu, kit, který ji obsahuje a způsob určení fenotypu haptoglobinu pomocí afinitních desek v kombinaci s desorpčně-ionizačními technikami hmotnostní spektrometrie
KR101777105B1 (ko) * 2017-01-13 2017-09-11 서강대학교산학협력단 Maldi-tof 질량분석방법을 이용한 고분자내 올리고머의 정량분석 방법
KR102180624B1 (ko) 2017-10-11 2020-11-18 주식회사 엘지화학 Maldi 질량분석법을 이용한 고분자의 정량분석방법 및 고분자 정량분석을 위한 maldi 질량분석용 시편의 제조방법
KR102121644B1 (ko) 2017-11-23 2020-06-10 주식회사 엘지화학 Maldi 질량분석법을 이용한 고분자의 상대 정량분석방법

Patent Citations (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20020092366A1 (en) * 2001-01-17 2002-07-18 Ansgar Brock Sample deposition method and system
WO2003040715A1 (en) * 2001-11-05 2003-05-15 Irm, Llc. Sample preparation methods for maldi mass spectrometry
US20030138823A1 (en) * 2001-11-05 2003-07-24 Irm, Llc Sample preparation methods for maldi mass spectrometry
US20040217276A1 (en) * 2003-04-30 2004-11-04 Dicesare Joseph L. Sample plate for matrix-assisted laser desorption and ionization mass spectrometry
US20150162176A1 (en) * 2011-07-26 2015-06-11 Kratos Analytical Limited Maldi sample preparation methods and targets
CN102337341A (zh) * 2011-10-21 2012-02-01 马庆伟 Maldi-tof质谱双内标及其定量检测方法
CN103245717A (zh) * 2012-02-10 2013-08-14 华中师范大学 高压成型基质薄膜辅助-激光解析离解质谱定量分析方法
US20150221488A1 (en) * 2012-07-17 2015-08-06 Snu R&Db Foundation Method for improving mass spectrum reproducibility and quantitative analysis method using same
US20160056027A1 (en) * 2013-01-03 2016-02-25 Snu R &Db Foundation Quantitative analysis method using mass spectrometry wherein laser pulse energy is adjusted
US20160148793A1 (en) * 2013-01-03 2016-05-26 Asta Co., Ltd. Method for obtaining mass spectrum of ions generated at constant temperature by measuring total ion count, and use of matrix for quantitative analysis using maldi mass spectrometry
US20140260700A1 (en) * 2013-03-13 2014-09-18 Sequenom, Inc. Preparation enhancements and methods of use for maldi mass spectrometry
CN105324831A (zh) * 2013-03-13 2016-02-10 基纳生物技术有限公司 针对maldi质谱的制备强化和使用方法
CN103901093A (zh) * 2014-03-13 2014-07-02 华东理工大学 制备亲疏水相间的微阵列芯片及其用于质谱成像定量分析的方法
CN104237175A (zh) * 2014-08-28 2014-12-24 中国科学院近代物理研究所 原位激光质谱光谱同步测量分析仪
CN104851774A (zh) * 2015-05-22 2015-08-19 华中师范大学 一种基于微流控三维聚焦技术的氮气吹扫型高分辨质谱电喷雾电离源及质谱检测方法
CN104897835A (zh) * 2015-05-28 2015-09-09 江南大学 一种利用uplc-q-tof/ms技术快速测定寡聚古罗糖醛酸的方法
KR20170013073A (ko) * 2015-07-27 2017-02-06 서강대학교산학협력단 Maldi-tof 질량분석방법을 이용한 고분자내 올리고머의 정량분석 방법
KR20170021398A (ko) * 2015-08-17 2017-02-28 연세대학교 산학협력단 말디톱 질량분석기에 이용가능한 시료 플레이트 및 상기 시료 플레이트의 제조방법
CN105223264A (zh) * 2015-09-21 2016-01-06 广东联捷生物科技有限公司 一种质谱定量分析的模拟内标方法、装置及应用
CN107501591A (zh) * 2016-06-14 2017-12-22 中国石油化工股份有限公司 一种双酚a分子印迹聚合物膜的制备与应用
CN105973974A (zh) * 2016-07-21 2016-09-28 浙江大学 一种聚硫代碳酸酯类化合物的maldi-tof-ms的检测方法
CN108387634A (zh) * 2017-03-01 2018-08-10 北京毅新博创生物科技有限公司 质谱基片及制备方法与用途
CN107884466A (zh) * 2017-10-31 2018-04-06 北京毅新博创生物科技有限公司 校正质谱检测微生物样品的准确率的方法及产品
CN207689423U (zh) * 2017-12-19 2018-08-03 亿纳谱（浙江）生物科技有限公司 用于质谱检测的芯片及质谱仪

Non-Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
JOANNE HSU: "MALDI-TOF and ESI-MS Analysis of Oligosaccharides Labeled with a New Multifunctional Oligosaccharide Tag", 《AMERICAN SOCIETY FOR MASS SPECTROMETRY》 *
WILLIAM J. ERB等: "Development of a dual-spray electrospray deposition system for matrix-assisted laser desorption/ionization time-of-flight mass spectrometry", 《RAPID COMMUNICATIONS IN MASS SPECTROMETRY》 *
于博昊等: "MALDI TOF质谱分析尼龙66时溶剂的影响", 《实验室研究与探索》 *
唐爱民等: "对位芳纶端基结构分析的MALDI-TOF MS方法的建立与优化", 《分析测试学报》 *
樊娟等: "利用MALDI-TOF MS测定氟代丙烯酸酯聚合物分子量方法的建立", 《高校实验室工作研究》 *

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