KR20100051318A - Maldi 질량분석용 시료 플레이트 및 그 제조 방법 - Google Patents

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KR20100051318A
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Abstract

본 발명은 MALDI 질량분석용 시료 플레이트와 그 제조 방법에 관한 것으로서, 시료 플레이트는 금속 플레이트; 및 상기 금속 플레이트 표면에 코팅되며 분석 대상 시료가 로딩되는 박막을 구비하며, 상기 박막은 산화물, 질화물 및 비소화물로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 무기물로 이루어지며, 상기 금속 플레이트 표면에 코팅된 후 별도로 열처리되는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 의하면, 일반적인 유기산 매트릭스를 사용하지 않고도 저분자량 시료의 정밀 분석을 효과적으로 수행할 수 있으며, 고분자량 영역(5000Da)까지 분석 대상물의 분자량 영역을 확대시킬 수 있는 효과가 있다.
말디-톱(MALDI-TOF), 매트릭스, 플레이트, 질량분석

Description

MALDI 질량분석용 시료 플레이트 및 그 제조 방법{THE PLATE FOR MATRIX-ASSISTED LASER DESORPTION/IONIZATION MASS SPECTROMETRY AND THE METHOD THEREOF}
본 발명은 MALDI 질량분석용 시료 플레이트와 그 제조 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는, 무기물을 시료 플레이트에 코팅한 후 열처리한 코팅 박막을 매트릭스로 이용함으로써 분석 대상 시료의 질량분해능을 향상시킨 질량분석용 시료 플레이트에 관한 것이다.
일반적으로 질량분석기는 화합물의 질량을 측정하는 분석기기로서, 분석대상 화합물을 하전시켜 이온화한 후 질량 대 전하량(mass-to-charge; m/z)을 측정하여 화합물의 분자량을 결정하도록 설계되어 있다. 화합물의 이온화 방법으로서는 전자빔을 이용하는 전자이온화법, 고속의 원자를 충돌시키는 방법, 레이저를 이용하는 방법 및 시료를 전기장 속에 스프레이 하는 방법 등이 알려져 있다.
한편, 단백질과 핵산 등의 거대 분자량을 갖는 생화학 물질의 질량분석을 위한 방법으로는 레이저를 이용하는 말디-톱 질량분석법(MALDI-TOF MS: Matrix- Assisted Laser Desorption Ionization Time of Flight Mass Spectroscopy; 이하 말디라 약칭함)이 있으며, 이를 이용한 질량분석기가 근래에 개발되어 널리 상품화되어 이용되고 있다. 말디를 이용한 질량분석법은 다음과 같이 수행된다. 소량의 매트릭스 용액을 금속 플레이트에 가해 건조시키고, 분석대상 시료 용액을 떨어뜨려 건조시킨다. 이후 매트릭스와 결정화된 시료가 위치한 곳에 레이저를 조사하면 매트릭스의 도움으로 시료가 탈착/이온화된다. 보통 이 시료가 위치한 금속 플레이트와 질량을 분석하는 센서 사이에 전기장을 걸게 되어 있어, 이온화된 시료가 전기장의 전위차에 의해 센서쪽으로 이동하게 된다. 이때, 시료의 전하량을 알 경우 센서에 도착하는 시간 등을 변수로 시료의 질량을 분석할 수 있는 것이다.
상기 질량분석의 원리와 같이, 말디 질량분석법으로 합성 고분자 시료를 분석할 경우, 레이저에 의한 탈착 및 이온화를 돕기 위해서 분석 시료와 함께 유기산 매트릭스를 섞어준다. 만약 유기산 매트릭스를 함께 사용하지 않을 경우, 고분자 시료가 레이저를 직접 흡수하기 때문에 고분자 시료의 분해가 일어난다. 이와 같이, 시료 자체가 분해되는 것을 방지하기 위하여 다양한 유기산 매트릭스가 MALDI-TOF 질량분석법에 사용되고 있다. 그러나, 저 분자량 영역(2000Da이하)의 합성 고분자 시료 분석의 경우, 함께 사용하는 유기산 매트릭스(분자량 150Da ~ 300Da)의 피크 및 시료와 결합한 다양한 형태의 매트릭스 관련 피크들이 분석하고자 하는 시료의 피크와 혼재하여 나타난다. 이와 같이 매트릭스 관련 피크들의 방해로 인하여 분석시료의 정밀도를 떨어뜨린다.
이러한 단점을 해결하기 위해, 말디 질량분석법을 이용한 저 분자량의 합성 고분자 및 계면활성제의 분석에 다양한 무기물 매트릭스가 적용되고 있다. GPLDI(Graphite Laser Desorption/Ionization, 흑연 레이저 탈착/이온화)방법은 기존 말디 플레이트에 흑연을 코팅한 것이고, DIOS(Desorption Ionization on Porous Silicon, 다공성 실리콘을 이용한 탈착 이온화)방법은 무기물인 실리콘을 유기산 매트릭스 대신에 사용한 것이며, 또한 다양한 금속 산화물을 말디 플레이트에 코팅하여 아미노산 등의 생체물질 분석에 적용한 예도 있다. 그 외 흑연 및 실리카 파우더를 사용한 방법들도 개발되었다.
그러나, 기존에 개발된 무기 매트릭스들은 대부분 생체물질(아미노산 등) 분석에만 한정적으로 적용되고 있고 합성 고분자에는 제한적으로 사용되어 왔으며, 현재까지 일반 유기산 매트릭스를 제외한 무기물 매트릭스를 적용한 경우 동위원소 분해능(분자량 1Da 차이를 검출할 수 있는 능력)을 확보할 수 없었다. 구조가 복잡한 유기 단분자 및 저 분자량의 공중합체 고분자 재료의 정밀한 구조 분석을 위해서는 반드시 동위원소 분해능을 확보해야 하는데, 상기와 같이 기존에 개발된 무기 매트릭스들로는 고분해능의 스펙트럼을 확보하기가 어렵다는 문제점이 있었다. 또한, 기존의 무기물 매트릭스를 이용한 질량분석의 경우, 1000Da 이하의 저 분자량 시료의 분석에만 국한되었던 한계점을 내포하고 있었다.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 제안된 것으로써, 말디-톱질 량분석에 있어서 무기물을 말디 플레이트에 코팅한 후 열처리한 코팅 박막을 매트릭스로 이용함으로써, 기존의 유기산 매트릭스를 사용하지 않고도 분석 대상 시료를 정밀하게 분석할 수 있으면서도, 기존의 무기물 매트릭스를 이용한 질량분석과 비교했을 때, 우수한 동위원소 분해능을 확보할 수 있고, 분석 대상 시료의 분자량을 5000Da까지 확대시킬 수 있는 효과를 갖는 질량분석용 말디-톱 플레이트를 제공하는데 그 목적이 있다.
상기 기술적 과제를 달성하기 위하여, 본 발명은 MALDI 질량분석용 시료 플레이트를 제공한다.
본 발명의 한 실시 양태에 따르면,
MALDI 질량분석에 의해 분석될 시료를 로딩하기 위한 시료 플레이트에 있어서,
금속 플레이트; 및
상기 금속 플레이트 표면에 코팅되며 분석 대상 시료가 로딩되는 박막을 구비하되,
상기 박막은 산화물, 질화물 및 비소화물로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 무기물 재료를 포함하고, 상기 박막은 금속 플레이트 표면에 코팅된 후 별도로 열처리되는 것을 특징으로 하는 MALDI 질량분석용 시료 플레이트가 제공된다.
여기서, 상기 금속 플레이트는 스테인레스 강으로 이루어질 수 있다.
상기 무기물 재료는 ZnO, ITO, GaN 및 GaAs로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상인 것이 바람직하다.
상기 박막은 1 내지 50 nm의 두께로 상기 금속 플레이트 표면에 코팅되는 것이 바람직하다.
상기 금속 플레이트 표면에 코팅된 박막의 열처리는 급속 열처리 시스템(Rapid Thermal Process, RTP) 또는 퍼니스(Furnace)를 이용하여 산소, 질소, 아르곤, 또는 공기 분위기에서 100 내지 700℃로 수행된다.
또한, 본 발명은 MALDI 질량분석용 시료 플레이트의 제조 방법을 제공한다.
본 발명의 한 실시 양태에 따른 시료 플레이트의 제조 방법은,
금속 플레이트를 준비하는 단계;
상기 금속 플레이트 표면에 분석 대상 시료가 로딩되는 박막을 코팅하는 단계; 및
상기 코팅된 박막을 플레이트 표면에 충분히 밀착되도록 열처리하는 단계
를 포함하며,
상기 박막은 산화물, 질화물 및 비소화물로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 무기물 재료를 포함하는 것을 특징으로 한다.
상기 금속 플레이트는 2-5 mm 두께의 스테인레스 강판을 절단 가공함으로써 제조될 수 있다.
상기 무기물 재료는 ZnO, ITO, GaN 및 GaAs로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상이며, 상기 박막의 코팅은 상기 금속 플레이트 표면에 1 내지 50 nm의 두께로 되는 것이 바람직하다.
상기 박막의 코팅은 스퍼터링, 물리적 증기 증착법, 또는 화학적 증기 증착법으로 수행된다.
상기 코팅된 박막의 열처리는 급속 열처리 시스템(RTP) 또는 퍼니스(Furnace)를 이용하여 산소, 질소, 아르곤, 또는 공기 분위기에서 100 내지 700℃로 수행된다.
또한, 상기에 설명한 본 발명에 따른 MALDI 질량분석용 시료 플레이트에 분석대상 시료를 로딩하고 이를 레이저로 조사하여 시료를 탈착 및 이온화시키는 것을 특징으로 하는 MALDI 질량분석 방법이 제공된다.
본 발명에 따라 무기물을 코팅하여 열처리한 플레이트를 이용하는 시료의 질량분석은 유기산 매트릭스의 피크가 분석 대상 시료의 피크와 혼재되어 나타나는 일이 없어, 분석대상 시료를 정밀하게 분석할 수 있으면서도, 기존의 무기물 매트릭스를 이용한 질량분석보다도 우수한 동위원소 분해능을 확보할 수 있고, 분석 대상 시료의 분자량을 5000Da까지 확대시킬 수 있는 효과가 있다.
이하에서는 첨부된 도면을 참조하여 본 발명을 상세히 설명하지만, 본 발명의 범위가 이에 한정되는 것은 아니다.
도 1은 본 발명에 따른 MALDI 질량분석용 시료 플레이트를 도시한 사시도로서, 이를 참조하면, 본 발명에 따른 시료 플레이트(1)는 분석대상 시료를 로딩하기 위한 것으로서, 금속으로 이루어지며 금속 플레이트 표면에 형성되는 무기물 박막(2)을 포함한다.
상기 금속 플레이트는 스테인레스 강으로 이루어진 것이 바람직하고, 그 두께는 쉽게 변형되지 않을 정도의 통상적으로 이용되는 두께면 족하며, 2-5 mm가 바람직하다. 이러한 금속 플레이트는 통상적인 가공 방법에 의해 제조될 수 있다. 예를 들어, 금속 플레이트는 2-5 mm의 두께를 가진 금속판을 절단 가공하여 제조할 수 있다.
상기 무기물 박막(2)은 상기 금속 플레이트(1) 표면에 얇은 박막으로서 코팅된다. 상기 무기물 박막 재료는 산화물, 질화물 및 비소화물로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 무기물이며, 구체적으로는 ZnO, ITO, GaN 및 GaAs로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상일 수 있고, 상기 무기물 박막(2)은 1 내지 50 nm의 두께로 코팅될 수 있다. 박막 두께가 1 nm가 되지 못하면 분석대상 시료의 이온화를 돕는 매트릭스로서 작용할 수 없으며, 50 nm 이상이 되면 무기물이 떨어져 나와 질량분석시 방해 스펙트럼으로서 나타날 수 있다.
상기 박막의 코팅은 상기 금속 플레이트 표면에 스퍼터링, 물리적 증기 증 착법, 또는 화학적 증기 증착법으로 수행할 수 있다. 예를 들어, "스퍼터링" 하는 경우에는, 진공 중에 불활성 가스 (예, 아르곤 가스 등)를 도입하면서 금속 플레이트와 무기물 박막 사이에 직류 고전압을 인가하고, 이온화된 가스를 박막에 충돌시켜, 튕겨져 날린 무기물 분자를 금속 플레이트 상에 퇴적시켜 박막을 형성시킬 수 있다.
물리 화학적 증착법의 예를 들면, 상기 ZnO, ITO, GaN 및 GaAs로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 무기물 함유 용액을 분무기에 넣어, 금속 상에 균일하게 도포되도록 분무하거나, 통상의 유기 박막 제작용 진공 증착 장치를 사용하여, 스테인리스 강을 넣은 진공 챔버 속에서 상기 무기물 함유 물질(고체이어도 되고 용액이어도 된다)을 가열ㆍ기화시킴으로써, 금속 플레이트 표면 상에 무기물의 박막을 형성시킬 수 있다.
상기 무기물 박막(2)은 상기 코팅된 박막을 플레이트 표면에 충분히 밀착되도록 열처리하는 단계를 포함한다. 상기 열처리는 급속 열처리 시스템(Rapid Thermal Process, RTP) 또는 퍼니스(Furnace)를 이용하여 산소, 질소, 아르곤, 또는 공기 분위기에서 100 내지 700℃로 수행될 수 있다. 100℃ 이하로 열처리를 수행하게 되면 상기 무기물 박막이 스테일레스 강 플레이트 표면에 제대로 밀착되지 않아 떨어져 나올 수 있어 이로 인해 질량분석 스펙트럼에서 방해 스펙트럼으로서 검출될 수 있고, 700℃ 이상의 고온에 노출되는 시간이 길어질 경우 금속 플레이트 자체가 변형될 수 있는 위험이 있다.
이하, 본 발명의 무기물 박막을 적용한 시료 플레이트에 관한 일 실시예에 따른 질량분석 결과를 기존의 유기산 매트릭스를 적용한 질량분석 결과를 비교하였다.
시료의 전처리 및 질량분석
도 2는 질량분석의 원리를 설명하기 위해 도시한 시료 플레이트의 부분 단면도로서, 도 1과 2를 참조하면, 상기한 바와 같은 금속 플레이트의 무기물 박막(2)에는 분석대상 시료가 다수의 스폿 형태로 로딩된다. 예를 들어, 분석대상 시료인 분자량이 400 내지 5000Da인 폴리에틸렌 글리콜(PEG)을 메탄올에 용해시켜 PEG 용액으로 만들고, PEG 시료의 이온화를 돕기 위해 NATFA(삼플루오르화아세트산 나트륨, Sodium Trifluoroacetate)염을 메탄올에 녹여 따로 용액을 제조한다. 따로 제조된 이 용액을 상기 PEG 용액에 소량 첨가하여 무기물이 코팅된 말디 플레이트에 직접 다수를 스폿팅하여 대기 중에서 건조시켜 질량분석을 위한 전처리를 완료한다. 또한, HPLC(High Performance Liquid Chromatography, 고성능 액체 크로마토그래피)나 GPC(Gel Permeation Chromatography, 겔 투과 크로마토그래피)에서 분리된 합성고분자 및 계면활성제 시료의 분액을 본 발명의 시료 플레이트에 직접 받아놓을 수도 있다.
이후, 이렇게 시료가 로딩된 플레이트는 질량분석기의 챔버(도시하지 않음)에 위치되고, 여기에 자외선 또는 적외선 레이저 빔(337 nm, 3.68 eV)을 조사하면 매트릭스의 도움으로 시료가 탈착/이온화된다. 이 시료가 위치한 금속 플레이트와 질량을 분석하는 센서 사이에 전기장을 걸면, 전기장에 의해 가속되어 일정 거리만큼 비행하여 센서(5)쪽으로 이동하게 된다. 이때, 센서(5)에서 검출되는 신호로부터 시료(4) 이온들의 비행시간을 측정할 수 있고, 이로부터 시료 이온들의 질량을 분석할 수 있는 것이다.
실시예 1: 저분자량 시료의 질량분석
ㆍ PEO의 질량분석
도 3은 분석대상 시료인 350Da의 폴리에틸렌 옥사이드(PEO, Polyethylene Oxide)를, 기존의 유기산 매트릭스(THAP, trihydroxyacetophenone)를 적용하여 얻어진 질량 스펙트럼(A)과 ZnO를 코팅한 플레이트를 이용하여 얻은 질량 스펙트럼(B)을 비교한 것인데, 이를 참조하면, (B)의 스펙트럼에서는 (A)의 스펙트럼과는 달리, 저 분자량 영역에서 매트릭스의 영향이 배제되어(원으로 표시된 부분), 시료 이온들의 피크가 보다 명확히 나타나 있음을 알 수 있다. 이로써, 본 발명에 따른 무기물 박막이 코팅된 시료 플레이트에 의하면, 기존의 유기산 매트릭스를 사용하지 않기 때문에, 매트릭스 관련 피크들을 배제시킬 수 있어 보다 정밀한 질량분석이 가능함을 확인할 수 있다.
PEG의 질량분석
도 4는 분석대상 시료인 1500Da의 폴리에틸렌 글리콜(PEG, Polyethylene Glycol)을, 기존의 유기산 매트릭스(THAP)를 적용하여 얻어진 질량 스펙트럼(A)과 ZnO를 코팅한 플레이트를 이용하여 얻은 질량 스펙트럼(B)을 비교한 것이다. 이를 참조하면, 도 3에서와 마찬가지로 (B)의 스펙트럼의 저 분자량 영역에서 매트릭스 의 영향이 배제되어, 시료 이온들의 피크가 보다 명확히 나타나 있음을 알 수 있다. 그래프에서 나타난 바와 같이, 본 발명의 무기물 매트릭스 코팅된 시료 플레이트를 이용하면 기존의 유기산 매트릭스를 이용한 경우에 비해 월등한 질량 분해능을 얻을 수 있음을 확인할 수 있다.
도 5는 도 4에서 볼 수 있는 본 발명의 동위원소 분해능이 기존의 유기산 매트릭스를 적용한 방법과 유사함을 나타낸 것으로서, 현재까지 무기물 매트릭스를 이용하여 질량분석 스펙트럼을 얻은 결과 중에서는 본 발명에서와 같은 동위원소 분해능을 확보한 결과물은 없다.
실시예 2: 고분자량 시료 PEO의 질량분석
도 6은 분석대상 시료로 고분자량인 5000Da의 PEO를, THAP를 적용하여 얻어진 질량 스펙트럼(A)과 ZnO를 코팅한 플레이트를 이용하여 얻은 질량 스펙트럼(B)을 비교한 것이다. 이를 참조하면, 본 발명에 의한 스펙트럼 결과(B)는 THAP를 적용하여 얻은 스펙트럼 결과(A)와 유사한 결과를 확보하였으며, 역시 저 분자량 영역에서 매트릭스의 영향이 배제되어, 시료 이온들의 피크가 보다 명확히 나타나 있음을 확인할 수 있었다. 또한, 기존 무기물 매트릭스를 적용한 방법보다 훨씬 높은 분자량 영역인 5000Da까지 분석대상 시료의 분자량 영역을 확대되었음을 알 수 있었다.
상기한 바와 같이, 본 발명에 따라 시료 플레이트에 코팅된 무기물 박막을 이용하여 질량분석을 수행하게 되면, 종래의 유기산 매트릭스를 사용하여 질량분석시 스펙트럼에서 나타났던 매트릭스의 영향을 제거하여 정밀한 질량 스펙트럼을 얻 을 수 있다는 장점이 있다. 또한, 분석 대상 시료 분자량이 5000Da 영역까지 스펙트럼을 확보할 수 있다는 효과도 기대할 수 있다.
이상 설명한 바와 같이, 본 발명의 우수성을 상기 도면을 참조하여 예시 및 입증하였지만, 본 발명이 반드시 상기 기재한 실시 양태에만 반드시 국한되는 것은 아니며, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러가지 치환, 변형 및 변경이 가능하다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 MALDI 질량분석용 시료 플레이트를 도시한 사시도이고,
도 2는 본 발명에 따른 질량분석용 시료 플레이트의 부분 단면도이며,
도 3은 분석대상 시료인 350Da의 폴리에틸렌 옥사이드(PEO, Polyethylene Oxide)를, 기존의 유기산 매트릭스(THAP, trihydroxyacetophenone)를 적용하여 얻어진 질량 스펙트럼(A)과 ZnO를 코팅한 플레이트를 이용하여 얻은 질량 스펙트럼(B)을 비교한 것이고,
도 4는 분석대상 시료인 1500Da의 폴리에틸렌 글리콜(PEG, Polyethylene Glycol)를 기존의 유기산 매트릭스(THAP)를 적용하여 얻어진 질량 스펙트럼(A)과 ZnO를 코팅한 플레이트를 이용하여 얻은 질량 스펙트럼(B)을 비교한 것이며,
도 5는 도 4에서 볼 수 있는 본 발명의 동위원소 분해능이 기존의 유기산 매트릭스를 적용한 방법과 유사함을 나타낸 것이고,
도 6은 분석대상 시료로 고분자량인 5000Da의 PEO를, THAP를 적용하여 얻어진 질량 스펙트럼(A)과 ZnO를 코팅한 플레이트를 이용하여 얻은 질량 스펙트럼(B)을 비교한 것이다.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
1 : 금속 플레이트 2 : 무기물 박막
3 : 분석대상 시료 4 : 센서

Claims (11)

  1. MALDI(MATRIX-ASSISTED LASER DESORPTION/IONIZATION, 매트릭스 보조된 레이저 탈착/이온화) 질량분석에 의해 분석될 시료를 로딩하기 위한 시료 플레이트에 있어서,
    금속 플레이트; 및
    상기 금속 플레이트 표면에 코팅되며 분석 대상 시료가 로딩되는 박막을 구비하되,
    상기 박막은 산화물, 질화물 및 비소화물로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 무기물 재료를 포함하고, 상기 박막은 금속 플레이트 표면에 코팅된 후 별도로 열처리되는 것을 특징으로 하는 MALDI 질량분석용 시료 플레이트.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 금속 플레이트는 스테인레스 강으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 MALDI 질량분석용 시료 플레이트.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 무기물 재료는 ZnO, ITO, GaN 및 GaAs로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상인 것을 특징으로 하는 MALDI 질량분석용 시료 플레이트.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 박막은 1 내지 50 nm의 두께로 상기 금속 플레이트 표면에 코팅되는 것을 특징으로 하는 MALDI 질량분석용 시료 플레이트.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 열처리는 급속 열처리 시스템(Rapid Thermal Process, RTP) 또는 퍼니스(Furnace)를 이용하여 산소, 질소, 아르곤, 또는 공기 분위기에서 100 내지 700℃로 수행되는 것을 특징으로 하는 MALDI 질량분석용 시료 플레이트.
  6. 금속 플레이트를 준비하는 단계;
    상기 금속 플레이트 표면에 분석 대상 시료가 로딩되는 박막을 코팅하는 단계; 및
    상기 코팅된 박막을 플레이트 표면에 충분히 밀착되도록 열처리하는 단계
    를 포함하며,
    상기 박막은 산화물, 질화물 및 비소화물로 이루어진 군으로부터 선택된 하 나 이상의 무기물 재료를 포함하는 것을 특징으로 하는 MALDI 질량분석용 시료 플레이트의 제조 방법.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 무기물 재료는 ZnO, ITO, GaN 및 GaAs로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상인 것을 특징으로 하는 MALDI 질량분석용 시료 플레이트의 제조 방법.
  8. 제6항에 있어서,
    상기 박막은 상기 금속 플레이트 표면에 1 내지 50 nm의 두께로 코팅되는 것을 특징으로 하는 MALDI 질량분석용 시료 플레이트의 제조 방법.
  9. 제6항에 있어서,
    상기 박막의 코팅은 스퍼터링, 물리적 증기 증착법, 또는 화학적 증기 증착법으로 수행하는 것을 특징으로 하는 MALDI 질량분석용 시료 플레이트의 제조 방법.
  10. 제6항에 있어서,
    상기 열처리는 급속 열처리 시스템(Rapid Thermal Process, RTP) 또는 퍼니스(Furnace)를 이용하여 산소, 질소, 아르곤, 또는 공기 분위기에서 100 내지 700℃로 수행되는 것을 특징으로 하는 MALDI 질량분석용 시료 플레이트의 제조 방법.
  11. MALDI 질량분석 방법에 있어서,
    제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 따른 질량분석용 시료 플레이트에 분석대상 시료를 로딩하고 레이저로 조사하여 시료를 탈착 및 이온화시키는 것을 특징으로 하는 MALDI 질량분석 방법.
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