CN111164472A - 光学构件的制造方法及制造装置 - Google Patents

Abstract

[课题]提供一种研磨屑等粉体的附着少的光学构件的制造方法和制造装置。[解决手段]光学构件的制造方法包括：准备具有光学膜(50)及在光学膜(50)的一个面设置的粘合剂层(80)、且在其端面(E)附着有粉体(f)的层叠体(100)的工序；以及使干冰粒子(d)冲击层叠体(100)的端面(E)而将粉体(f)从端面(E)去除的工序。

Description

光学构件的制造方法及制造装置

技术领域

本发明涉及光学构件的制造方法及制造装置。

背景技术

以往，已知具备偏振片等光学膜及粘合剂层的光学构件。

作为得到期望尺寸的光学构件的方法，已知将具有光学膜及粘合剂层的原材层叠体用激光、刀片进行切割(参照专利文献1、2)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：WO2014/189078号公报

专利文献2：日本特开2009-86675号公报

发明内容

发明要解决的课题

然而，近年来，对于使用了光学膜及粘合剂层的光学构件的尺寸精度的要求越来越严格。因此，仅对原材层叠体进行切割难以获得期望的尺寸精度。于是，有时对切割后的层叠体的端面进行研削及研磨等加工。

然而，若对层叠体的端面进行研磨等加工，则会有研磨屑等粉体附着于层叠体的端面的情况。若粉体残留于层叠体，则引起包含层叠体的最终产品的污染等，故而不优选。

本发明是鉴于上述课题而作出的，其目的在于，提供研磨屑等粉体的附着少的光学构件的制造方法及制造装置。

用于解决课题的手段

本发明所述的光学构件的制造方法包括：准备具有光学膜及在所述光学膜的一个面设置的粘合剂层、且在其端面附着有粉体的层叠体的工序(准备工序)；以及通过使干冰粒子冲击所述层叠体的所述端面而将所述粉体从所述端面去除的工序(冲击工序)。

根据本发明，利用干冰粒子，将切割屑、切削屑、研磨屑等粉体从层叠体(光学构件)的端面合适地去除。

此处，所述干冰粒子的平均粒径可以为100～1000μm。

由此，能够合适地去除研削屑等粉体，并且能够抑制端面的粘合剂的缺损。

另外，在所述冲击工序中，能够使所述干冰粒子冲击将所述层叠体层叠多个而得的层叠结构体的端面。

由此，能够进行层叠体的大量处理。

另外，能够使所述干冰粒子冲击所述端面的一部分，同时对所述层叠体的所述端面的其它部分进行选自由切割、切削及研磨组成的组中的至少一种。

由此，能够同时并行地进行多个工序，可以缩短工序时间。

另外，能够在所述准备工序中对所述端面进行选自由切割、切削及研磨组成的组中的至少一种处理，在使所述干冰粒子冲击所述端面的一部分时，不对所述端面进行选自所述组中的任一种处理。

由此，能够区分成通过干冰粒子的冲击来去除粉体的气氛(空间)和产生粉体的加工的气氛(空间)，因此，能够抑制因端面的加工而产生的粉体污染干冰所冲击的部分。

所述光学膜可以为选自偏振片、保护膜、相位差膜、亮度提高膜、窗膜、触控传感器中的至少一种；包含2个以上的选自所述组中的至少1种的层叠膜、或者包含选自所述组中的至少2种的层叠膜。

所述冲击工序中的气氛的相对湿度可以为30～75％。

本发明所述的光学构件的制造装置具备：对具有光学膜及在所述光学膜的一个面设置的粘合剂层的层叠体的端面进行切割、切削或研磨的端面加工部；以及使干冰粒子冲击所述层叠体中的被加工成所述端面加工部的部分的干冰粒子供给部。

上述光学构件的制造装置可以还具备：使所述层叠体在所述端面加工部与所述干冰粒子供给部之间发生移动的运送部。

发明的效果

根据本发明，能够提供研磨屑等粉体的附着少的光学构件的制造方法及制造装置。

附图说明

图1的(a)及(b)是本发明的1个实施方式所述的层叠体100的截面图。

图2的(a)及(b)分别是层叠体的另一例的截面图。

图3是干冰粒子供给部的概要构成图。

图4是示出使干冰粒子冲击具有多个层叠体100的层叠结构体120的端面的方式的概念图。

图5是本发明的1个实施方式所述的光学构件的制造装置的立体图。

图6是示出图5中的端面加工部的另一例的立体图。

图7是示出使干冰粒子冲击具有贯通孔H’的层叠结构体120的内侧的端面的方式的概念图。

具体实施方式

参照附图，对本发明的实施方式所述的光学构件的制造方法及制造装置进行说明。

(在端面附着有粉体的层叠体的准备)

首先，如图1的(a)所示那样地，准备具有光学膜50及在光学膜50的一个面设置的粘合剂层80、且在其端面E附着有粉体f的层叠体100。需要说明的是，端面E不限于层叠体100的外侧的端面。例如，如图1的(b)所示那样地，层叠体100具有在层叠方向上贯通的孔H的情况下，会有在孔H的内壁、即层叠体100的内侧的端面E也附着有开孔屑等粉体f的情况。

(光学膜)

光学膜50是指使可见光的至少一部分透射的膜。

光学膜50的例子为偏振片、保护膜、相位差膜、亮度提高膜、窗膜、触控传感器，光学膜50可以具有具备多个这些膜中的单一种类的层叠结构，也可以具有具备这些膜中的多种的层叠结构。

(偏振片)

偏振片是指直线偏振光的透射率在面内的正交的2个方向上互不相同的膜。作为偏振片的材料，可以使用一直以来在偏振片的制造中使用的公知材料，可举出例如聚乙烯醇系树脂、聚乙酸乙烯酯树脂、乙烯/乙酸乙烯酯(EVA)树脂、聚酰胺树脂、聚酯系树脂等。其中，优选聚乙烯醇系树脂。通过将这些树脂膜进行拉伸处理后，施加基于碘或二色性染料的染色及硼酸处理，由此可以得到膜状的偏振片(膜型偏振片)。

膜型偏振片的厚度例如可以为1～75μm。

另外，作为所述偏振片的另一例，可以为由液晶性化合物形成的液晶涂布型偏振片。该液晶涂布型偏振片例如可以通过使用合适的基材，并在该基材上涂布液晶偏振光组合物来制造。在该基材上涂布液晶偏振光组合物之前，也可以形成取向膜。所述液晶偏振光组合物可以包含液晶性化合物及二色性色素化合物。作为所述液晶性化合物，只要具有显示液晶状态的性质即可，特别是优选具有近晶相等高阶的液晶状态，这是因为所得到的液晶涂布型偏振片能够发挥出高的偏振性能。另外，所述液晶性化合物还优选具有聚合性官能团。所述二色性色素化合物是与所述液晶化合物一起取向而显示二色性的色素，二色性色素自身也可以具有液晶性，也可以具有聚合性官能团。液晶偏振光组合物所含的任意化合物优选具有聚合性官能团。所述液晶偏振光组合物还可以包含引发剂、溶剂、分散剂、流平剂、稳定剂、表面活性剂、交联剂、硅烷偶联剂等。

此处，示出通过在基材上形成取向膜，并在形成有取向膜的基材上涂布液晶偏振光组合物，从制造液晶涂布型偏振片的方法的典型例。

利用该方法制造的液晶涂布光型偏振片与所述膜型偏振片相比，能够使厚度变薄。所述液晶涂布光型偏振片的厚度为0.5～10μm、优选为1～5μm。

对于所述取向膜，通过例如在基材上涂布取向膜形成组合物而形成涂布膜，并利用摩擦、偏振光照射等对该涂布膜赋予取向性，从而可以在所述基材上形成取向膜。所述取向膜形成组合物包含取向剂，除了取向剂之外，也可以包含溶剂、交联剂、引发剂、分散剂、流平剂、硅烷偶联剂等。作为所述取向剂，可举出例如聚乙烯醇类、聚丙烯酸酯类、聚酰胺酸类、聚酰亚胺类。作为赋予所述取向性的方法，应用光取向的情况下，优选包含肉桂酸酯基的取向剂。

所述取向剂可以为高分子。对于高分子的取向剂，其重均分子量为10000～1000000左右。在所述基材上形成的所述取向膜的厚度优选为5nm～10000nm，特别是若为10～500nm，则能表现出充分的取向限制力，因此优选。

通过在形成有取向膜的基材上涂敷液晶偏振光组合物，并根据需要使其干燥，从而形成液晶偏振光组合物的涂布膜，由该液晶偏振光组合物的涂布膜制造液晶涂布型偏振片。

由此制造的所述液晶偏振片可以从基材剥离。作为将液晶涂布型偏振片从基材剥离的方法，例如通过使用将第二基材贴合于液晶涂布型偏振片的未层叠基材的面，然后将基材剥离，从而得到由液晶涂布型偏振片-第二基材构成的层叠体的方法，还能够将液晶涂布型偏振片转印至第二基材，也可以不转印至第二基材而是保持层叠于所述基材的状态。所述基材或所述第二基材还优选发挥作为保护膜、相位差板、窗膜的透明基材的功能。

(保护膜)

保护膜是防止偏振片等其它光学膜和/或之后粘贴有层叠体100的光学设备(液晶单元等)损伤等破损的透明膜。保护膜可以为各种透明树脂膜。

此处，对保护偏振片的保护膜进行记述。形成该保护膜的树脂的例子为：

以三乙酰纤维素为代表例的纤维素系树脂；

以聚丙烯系树脂为代表例的聚烯烃系树脂；

以降冰片烯系树脂为代表例的环状烯烃系树脂；

以聚甲基丙烯酸甲酯系树脂为代表例的丙烯酸系树脂；及

以聚对苯二甲酸乙二醇酯系树脂为代表例的聚酯系树脂。这些之中，纤维素系树脂为代表。

保护膜的厚度例如可以为5～90μm。

所述保护膜根据需要可以包含增塑剂、紫外线吸收剂、红外线吸收剂、颜料、染料那样的着色剂、荧光增白剂、分散剂、热稳定剂、光稳定剂、抗静电剂、抗氧化剂、润滑剂、溶剂等。

在所述保护膜的至少一面，为了提高所述保护膜表面的耐擦伤性，也可以设置硬涂层。硬涂层的厚度通常为2～100μm的范围内。所述硬涂层的厚度小于2μm的情况下，难以确保充分的耐擦伤性，若超过100μm，则耐弯曲性降低，在将保护膜贴合于偏振片等时，有时会产生因固化收缩而发生卷曲的问题。

所述硬涂层可以利用包含照射活性能量射线或热能量射线而形成交联结构的反应性材料的硬涂组合物来形成。这些之中，优选由活性能量射线照射而得到的硬涂层。活性能量射线被定义为：能够使产生活性物种的化合物分解并产生活性物种的能量射线。作为活性能量射线，可举出可见光、紫外线、红外线、X射线、α射线、β射线、γ射线及电子束等。这些之中，特别优选紫外线。所述硬涂组合物优选含有自由基聚合性化合物及阳离子聚合性化合物中的至少1种。这些自由基聚合性化合物及阳离子聚合性化合物部分地聚合而得的低聚物也可以包含于硬涂组合物中。

首先，对于自由基聚合性化合物进行说明。

所述自由基聚合性化合物是指具有自由基聚合性基团的化合物。作为所述自由基聚合性基团，只要是能够发生自由基聚合反应的官能团即可，可举出包含碳-碳不饱和双键的基团等，可例示乙烯基、(甲基)丙烯酰基等。需要说明的是，所述自由基聚合性化合物在1分子中具有2个以上的自由基聚合性基团的情况下，这些自由基聚合性基各自可以相同，也可以不同。所述自由基聚合性化合物在1分子中具有2个以上的自由基聚合性基团的情况下，得到的硬涂层的硬度有提高的倾向。作为所述自由基聚合性化合物，从反应性高的方面出发，其中优选具有(甲基)丙烯酰基的化合物，可举出例如1分子中具有2～6个(甲基)丙烯酰基的被称为多官能丙烯酸酯单体的化合物、环氧(甲基)丙烯酸酯、氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯、被称为聚酯(甲基)丙烯酸酯的在分子内具有多个(甲基)丙烯酰基且分子量从数百至数千的低聚物。具有(甲基)丙烯酰基的化合物之中，优选为选自环氧(甲基)丙烯酸酯、氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯及聚酯(甲基)丙烯酸酯中的1种以上。

接下来，对阳离子聚合性化合物进行说明。

所述阳离子聚合性化合物是指具有环氧基、氧杂环丁基、乙烯基醚基等阳离子聚合性基团的化合物。关于所述阳离子聚合性化合物在1分子中所具有的阳离子聚合性基团的数量，从提高所得到的硬涂层的硬度的观点出发，优选为2个以上，进一步优选为3个以上。另外，作为所述阳离子聚合性化合物，优选具有环氧基及氧杂环丁基中的至少1种阳离子聚合性基团的化合物。环氧基、氧杂环丁基的环状醚基具有与聚合反应相伴的收缩小的优点。另外，具有环状醚基之中的环氧基的化合物中，多种结构的化合物容易从市场获得，且不易对得到的硬涂层的耐久性产生不良影响。硬涂组合物组合使用自由基聚合性化合物及阳离子聚合性化合物的情况下，具有环氧基的化合物有与自由基聚合性化合物的相容性也容易控制的优点。另外，环状醚基之中的氧杂环丁基与环氧基相比具有以下优点：聚合度容易变高，为低毒性，加快由所得硬涂层的阳离子聚合性化合物得到的网络形成速度，在与自由基聚合性化合物混在的区域中未反应的单体也不会残留在膜中而是形成独立的网络等。

作为具有环氧基的化合物，可举出例如

具有脂环族环的多元醇的聚缩水甘油基醚；

通过将含有环己烯环、环戊烯环的化合物用过氧化氢、过氧酸等合适的氧化剂进行环氧化而得到的脂环族环氧树脂；

脂肪族多元醇或其环氧烷烃加成物的聚缩水甘油基醚；

脂肪族长链多元酸的聚缩水甘油基酯；

(甲基)丙烯酸缩水甘油基酯的均聚物、共聚物等脂肪族环氧树脂；

通过双酚A、双酚F、氢化双酚A等双酚类、或其环氧烷烃加成体、己内酯加成体等衍生物与表氯醇的反应而制造的缩水甘油基醚；以及

属于酚醛型环氧树脂等且由双酚类衍生的缩水甘油基醚型环氧树脂等。

所述硬涂组合物中可以还包含聚合引发剂。作为聚合引发剂，可以根据硬涂组合物所含的聚合性化合物的种类而选择使用合适的物质(自由基聚合引发剂、阳离子聚合引发剂)。这些聚合引发剂通过活性能量射线照射及加热中的至少一种而分解，产生自由基或阳离子，进行自由基聚合、阳离子聚合。

自由基聚合引发剂只要能利用活性能量射线照射及加热中的至少任意者而放出引发自由基聚合的物质即可。例如，作为热自由基聚合引发剂，可举出过氧化氢、过苯甲酸等有机过氧化物、偶氮二丁腈等偶氮化合物等。

作为活性能量射线自由基聚合引发剂，有利用分子的分解而生成自由基的Type1型自由基聚合引发剂、以及与叔胺共存并利用夺氢型反应而生成自由基的Type2型自由基聚合引发剂，它们可以单独使用或组合使用。

阳离子聚合引发剂只要能利用活性能量射线照射及加热中的至少任意者而放出引发阳离子聚合的物质即可。作为阳离子聚合引发剂，可以使用芳香族碘鎓盐、芳香族锍盐、环戊二烯基铁(II)络合物等。它们根据结构的不同而利用活性能量射线照射或加热中的任一者或任意者来引发阳离子聚合。

所述聚合引发剂相对于所述硬涂组合物整体重量可以包含0.1～10重量％。所述聚合引发剂的含量小于0.1重量％的情况下，无法充分地进行固化，容易发生最终得到的硬涂层的机械物性降低、或者无法实现硬涂层及保护膜的密合力。超过10重量％的情况下，会有产生因硬涂层形成时的固化收缩而导致的粘接力不良、裂缝现象及卷曲现象的情况。

所述硬涂组合物可以还包含选自溶剂、添加剂中的一种以上。

所述溶剂能够使所述聚合性化合物及聚合引发剂溶解或分散，如果是作为本技术领域的硬涂组合物的溶剂而已知的物质，则可以没有限制地使用。

所述添加剂为无机粒子、流平剂、稳定剂、表面活性剂、抗静电剂、润滑剂、防污剂等。

接下来，对将保护膜贴合于偏振片的情况的方法进行说明。

偏振片的保护膜适合借助粘接剂而粘贴于偏振片。作为该粘接剂，可举出：

使用了聚乙烯醇系树脂水溶液、水系二液型聚氨酯系乳液粘接剂等的水系粘接剂；

使用了包含聚合性化合物及光聚合引发剂的固化性组合物、包含光反应性树脂的固化性组合物、包含粘结剂树脂及光反应性交联剂的固化性组合物等的活性能量射线固化型粘接剂等。

作为粘接剂而使用的聚乙烯醇系树脂水溶液所含的聚乙烯醇系树脂中包括：将作为乙酸乙烯酯的均聚物的聚乙酸乙烯酯进行皂化处理而得到的乙烯醇均聚物，以及将乙酸乙烯酯与能够与其共聚的其它单体的共聚物进行皂化处理而得到的乙烯醇系共聚物，以及将它们的羟基部分地改性而得的改性聚乙烯醇系聚合物等。在这样的水系粘接剂中，也可以进一步添加多元醛、水溶性环氧化合物、三聚氰胺系化合物、氧化锆化合物、锌化合物等作为添加剂。

另外，作为用作粘接剂的活性能量射线固化型粘接剂，可举出与作为上述硬涂组合物之一而例示的、包含照射活性能量射线而形成交联结构的反应性材料的粘接剂相同的粘接剂。

以上，对于将树脂膜用作保护膜(或具有硬涂层的保护膜)，并将其贴合于偏振片的方法进行了说明，但也可以替代所述树脂膜而将更薄的保护层直接层叠于偏振片来制成保护膜。

作为将更薄的保护层直接层叠于偏振片的方法，例如将包含活性能量射线固化性树脂的涂膜形成于偏振片的表面，利用活性能量射线(UV等)的照射使涂膜固化时，能够在偏振片的表面直接形成比现有的保护膜更薄的保护膜。作为该活性能量射线固化性树脂，可举出作为上述硬涂组合物之一而例示的、包含照射活性能量射线而形成交联结构的反应性材料的树脂。

(窗膜)

另一方面，将防止之后粘贴有层叠体100的光学设备(液晶单元等)损伤等破损的透明保护膜称为窗膜。就窗膜而言，例如在光学膜50具有具备多个膜的层叠结构的情况下，配置在多个膜中的与设置有粘合剂层80的面相反一侧的最外表面。

窗膜配置于柔性图像显示装置的观察侧，发挥保护其它的构成要素免受来自外部的冲击或温湿度等环境变化的影响的功能。以往作为这样的保护层而使用玻璃，但柔性图像显示装置中的窗膜不像玻璃那样是刚性且坚硬的，而是具有柔性的特性。所述窗膜包含柔性的透明基材，也可以在至少一面包含硬涂层。

(透明基材)

对于作为窗膜可以使用的透明基材进行说明。

透明基材的可见光线的透射率为70％以上、优选为80％以上。所述透明基材只要是具有透明性的高分子膜，则可以使用任意的材料。具体而言，可以为由以下等高分子形成的膜，也可以为将这些高分子分别单独或混合2种以上而形成的膜：

具有包含聚乙烯、聚丙烯、聚甲基戊烯、降冰片烯或环烯烃的单体的单元的环烯烃系衍生物等聚烯烃类；

二乙酰纤维素、三乙酰纤维素、丙酰纤维素等(改性)纤维素类；

甲基丙烯酸甲酯(共)聚合物等丙烯酸类；

苯乙烯(共)聚合物等聚苯乙烯类；

丙烯腈·丁二烯·苯乙烯共聚物类、丙烯腈·苯乙烯共聚物类；

乙烯-乙酸乙烯酯共聚物类；

聚氯乙烯类、聚偏二氯乙烯类；

聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯、聚芳酯等聚酯类；

尼龙等聚酰胺类；

聚酰亚胺类、聚酰胺酰亚胺类、聚醚酰亚胺类；

聚醚砜类、聚砜类；

聚乙烯醇类、聚乙烯醇缩醛类；

聚氨酯类；

环氧树脂类。

另外，该膜也可以使用未拉伸膜、单轴拉伸膜或双轴拉伸膜。优选为所例示的高分子的透明基材中的透明性及耐热性优异的聚酰胺膜、聚酰胺酰亚胺膜或聚酰亚胺膜、聚酯系膜、烯烃系膜、丙烯酸膜、纤维素系膜。另外，所述透明基材之中，还优选分散有二氧化硅等无机粒子、有机微粒、橡胶粒子等。进而，也可以含有颜料、染料那样的着色剂、荧光增白剂、分散剂、增塑剂、热稳定剂、光稳定剂、红外线吸收剂、紫外线吸收剂、抗静电剂、抗氧化剂、润滑剂、溶剂等配合剂。所述透明基材的厚度为5～200μm、优选为20～100μm。

(硬涂层)

也可以将在所述透明基材的至少一面设置有硬涂层的材料作为窗膜。作为硬涂层，可以使用与上述保护膜的硬涂层相同的硬涂层。

(相位差膜)

相位差膜是折射率在面内的正交的2个方向上互不相同的透明膜，对透射的光赋予相位差。

相位差膜的材料的例子为聚碳酸酯系树脂膜、聚砜系树脂膜、聚醚砜系树脂膜、聚芳酯系树脂膜、降冰片烯系树脂膜。

这些树脂膜可以通过拉伸而赋予期望的相位差。

另外，也可以使用能够从市场容易获得的相位差膜。

相位差膜的厚度例如可以为0.5～80μm。

(亮度提高膜)

亮度提高膜是使面内的与第一方向平行的偏振光透射，并且使面内的与正交于第一方向的第二方向平行的偏振光反射的膜。本发明所用的光学膜在具有偏振片的情况下，适合使第一方向与偏振片的透射轴一致。

亮度提高膜可以是将具有双折射的层、与实质上不具有双折射的层交替层叠而得的多层层叠体。具有双折射的层的材料的例子为萘二甲酸聚酯(例如聚萘二甲酸乙二醇酯)、聚碳酸酯及丙烯酸系树脂(例如聚甲基丙烯酸甲酯)，实质上不具有双折射的层的例子为萘二甲酸与对苯二甲酸的共聚酯。

亮度提高膜的厚度例如可以为10～50μm。

上述例示的构成光学膜的各膜也可以具有多种功能。例如，保护膜也可以是兼备相位差膜、亮度提高膜之类的光学功能的膜。

(光学膜内的粘接)

光学膜50具有包含多个膜的层叠结构的情况下，这些膜间可以借助粘接剂而粘接。粘接剂没有特别限定，可以为上述水系粘接剂、活性能量射线固化型粘接剂中的任意者。

另外，作为粘接剂也可以使用粘合剂。关于该粘合剂，在后文进行说明。

粘接剂的厚度可以设为1～200μm。

(层叠体时的光学膜的厚度)

光学膜50具有包含多个膜的层叠结构时的光学膜50的整体厚度可以设为10～1200μm。

(粘合剂层)

如上述那样地，本发明中使用的层叠体具有光学膜和在其一个面设置的粘合剂层。该粘合剂层是指利用粘合剂而形成的层。此处，对粘合剂进行说明。

粘合剂是压敏性粘接剂，是指在室温附近(例如25℃)的温度区域中呈柔软的固体(粘弹性体)的状态，并且具有通过压力而简单地粘接于被粘物的性质的材料。此处所述的粘合剂由“C.A.Dahlquist，Adhesion：Fundamental and Practice”，McLaren&Sons，(1966),P.143”定义，一般而言，可以是具有满足复拉伸弹性模量率E^＊(1Hz)<10⁷dyne/cm²的性质的材料(典型而言，在25℃下具有上述性质的材料)。此处公开的技术中的粘合剂也可以作为粘合剂组合物的固体成分(不挥发成分)或粘合剂层的构成成分来把握。

粘合剂的例子为：以丙烯酸系树脂、苯乙烯系树脂、硅系树脂等作为基础聚合物，并在其中加入异氰酸酯化合物、环氧化合物、氮丙啶化合物等交联剂的组合物。该说明书中，粘合剂的“基础聚合物”是指该粘合剂所含的橡胶状聚合物的主成分。上述橡胶状聚合物是指在室温附近的温度区域中显示出橡胶弹性的聚合物。另外，该说明书中，“主成分”是指在没有特别说明的情况下包含超过50重量％的成分。

粘合剂的厚度可以设为1～40μm。

(层叠体时的光学膜的厚度)

光学膜50具有包含多个膜的层叠结构时的光学膜50的整体厚度可以设为10～1200μm。

粘合剂层80设置于光学膜(单一层结构或层叠结构)50的至少一个面。

作为粘合剂，可以使用上述的粘合剂。

(隔离膜)

层叠体100可以在粘合剂层80中的与光学膜50接触的面相反一侧的面具有隔离膜90。

隔离膜90是指与光学膜50相比，与粘合剂层80的粘接性弱的膜。在将光学膜50借助粘合剂层80粘贴于光学设备(液晶单元)等其它构件前的层叠体100的运送时、保管时，隔离膜90保护粘合剂层80的表面。在将粘合剂层80粘贴于其它构件时，隔离膜90可容易地从粘合剂层80剥离。

隔离膜并非必须为透明，但优选为透明。隔离膜的材料的例子为聚对苯二甲酸乙二醇酯。隔离膜的厚度可以设为1～40μm。

(防护膜)

另外，层叠体100可以具有在光学膜50中配置在与设置有粘合剂层80的面相反一侧的外表面的防护膜70。

防护膜70具有以下功能：抑制在层叠体100的加工中或将层叠体100粘贴于光学设备(液晶单元等)时或在粘贴了层叠体100的光学设备的运送中等中的光学设备和/或光学膜50损伤的功能。

这样的防护膜的材料的例子为聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚乙烯、聚丙烯等。防护膜70并非必须为透明的，但优选为透明的。防护膜的厚度可以设为1～40μm。

该防护膜70也可以是至使用了光学膜50的产品的使用时为止保护光学膜50的膜。该情况下，即使将光学膜50借助粘合剂层80粘贴于光学设备(液晶单元等)后，防护膜70也不会从光学膜50剥离。

防护膜70可以借助粘合剂层或利用基于静电吸附的自粘合而粘贴于光学膜50。

层叠体100的层叠结构的具体例示于图2的(a)及(b)。

图2的(a)的层叠体100中，防护膜70、保护膜2、偏振片3、保护膜2及粘合剂层80、隔离膜90依次层叠。保护膜2、偏振片3及保护膜2构成光学膜50。

图2的(b)的层叠体100中，防护膜70、保护膜2及偏振片3、粘合剂层80及隔离膜90依次层叠。保护膜2及偏振片3构成光学膜50。并且，虽然未图示，但在任意的例子中，各光学膜50内的膜间可以利用粘接剂或粘合剂粘接。

(柔性图像显示装置用层叠体)

本发明中使用的光学膜50也可以为在可弯折等的柔性图像显示装置中使用的柔性图像显示装置用层叠体。

关于该柔性图像显示装置，具有柔性图像显示装置用层叠体和有机EL显示面板的图像显示装置是典型例。该典型例中，通常，相对于有机EL显示面板在观察侧配置有柔性图像显示装置用层叠体，柔性图像显示装置以可弯折的形式构成。作为柔性图像显示装置用层叠体，也可以含有窗膜、圆偏振板、触控传感器，它们的层叠顺序为任意的，但优选从观察侧以窗膜、圆偏振板及触控传感器的层叠顺序或窗膜、触控传感器及圆偏振板的层叠顺序构成。若在触控传感器的观察侧存在圆偏振板，则触控传感器的图案难以被视觉辨认，显示图像的视觉辨认性变好，因此优选。各构件可以使用粘接剂、粘合剂等进行层叠。另外，可以具备在所述窗膜、圆偏振板、触控传感器的任意层的至少一面形成的遮光图案。

(圆偏振板)

圆偏振板是通过在直线偏振板上层叠作为相位差膜的λ/4相位差板而具有仅使右或左圆偏振光成分透射的功能的功能膜。进入显示装置的外部光通过配置在观察侧的圆偏振板时，变换为右圆偏振光，出射到有机EL面板侧。当该右圆偏振光被有机EL面板的金属电极反射(反射光)时，该反射光成为左圆偏振光。由于左圆偏振光不能透射圆偏振板，因此其结果是，该反射光不被出射到显示设备的外部。通过这样的功能，在显示装置的显示面板中观察到的仅是有机EL的发光成分，通过仅使该发光成分透射，能够防止反射光的影响，容易观察图像。

为了实现圆偏振光功能，直线偏振板的吸收轴和λ/4相位差板的慢轴理论上必须是45°，但实用上为45±10°。直线偏振板和λ/4相位差板不一定必须邻接层叠，只要吸收轴和慢轴的关系满足上述范围即可。虽然优选在全部波长下实现完全的圆偏振光，但在实用上并不一定需要这样，所以本发明的圆偏振板也包含椭圆偏振板。优选在直线偏振板的观察侧进一步层叠λ/4相位差板，使出射光成为圆偏振光，由此提高在戴上偏振光太阳镜的状态下的观察性。

所谓直线偏振板，是具有使在透射轴方向振动的光通过，但将与其垂直的振动成分的偏振光遮蔽的功能的功能层。上述直线偏振板通常为具备偏振片和在其至少一面上贴附的保护膜的构成。该偏振片可以是上述的膜型偏振片或液晶涂布型偏振片中的任一种。保护膜也可以使用已经说明的保护膜。构成圆偏振板的直线偏振板的厚度优选为200μm以下，更优选为0.5μm～100μm。该厚度超过200μm时，有时可应用于柔性图像显示装置用层叠体的柔软性(柔性)降低。通过适当调节所述的偏振片和保护膜的厚度，可以调节合适的直线偏振板的厚度。

作为相位差膜的所述λ/4相位差板是指被称为1/4波长板的相位差板，对入射光的偏振光面赋予π/2(＝λ/4)的相位差。从所述的相位差膜中选择这样的性能的相位差膜，也能够准备λ/4相位差板，作为其它的一例，也可以将涂布液晶组合物而形成的液晶涂布型相位差板作为λ/4相位差板。如后述那样地，涂布该液晶组合物而形成的液晶涂布型相位差板能够得到厚度极其薄的λ/4相位差板。因此，该液晶涂布型相位差板作为构成柔性图像显示装置用层叠体的圆偏振板的λ/4相位差板是特别优选的。

此处，针对形成所述λ/4相位差板的液晶组合物进行说明。

所述液晶组合物包括具有显示出向列型、胆甾型、近晶型等液晶状态的性质的液晶性化合物。所述液晶性化合物具有聚合性官能团。所述液晶组合物也可以包含多种液晶化合物，在包含多种液晶化合物的情况下，其中的至少1种液晶化合物具有聚合性官能团。所述液晶组合物可以还包含引发剂、溶剂、分散剂、流平剂、稳定剂、表面活性剂、交联剂、硅烷偶联剂等。所述液晶涂布型相位差板与在所述液晶偏振片的制造方法中说明的同样地，通过在预先形成了取向膜的基材的取向膜上涂布·固化液晶组合物，从而在取向膜上形成液晶相位差层，由此可以进行制造。液晶涂布型相位差板与拉伸型相位差板相比可以使厚度较薄地形成。所述液晶偏振光层的厚度为0.5～10μm、优选为1～5μm。所述液晶涂布型相位差板也可以从基材剥离并转印而层叠，也可以将所述基材直接层叠。所述基材还优选发挥作为保护膜、相位差板的透明基材的作用。

构成相位差膜的通常的材料大多波长越短则显示出越大的双折射且波长越长则显示出越小的双折射。该情况下，在全部可见光区域中无法实现λ/4的相位差，因此大多对于视觉可见度高的560nm附近设计为成为λ/4的面内相位差为100～180nm、优选为130～150nm。使用具有与通常相反的双折射率波长分散特性的材料的逆分散λ/4相位差板的使用能够使视觉辨认性变好，因此优选。作为这样的材料，在拉伸型相位差板的情况下优选使用日本特开2007-232873号公报等记载的材料，在液晶涂布型相位差板的情况下优选使用日本特开2010-30979号公报记载的材料。

另外，作为形成构成圆偏振板的优选的相位差膜的其它方法，还已知通过与λ/2相位差板组合来得到宽带域λ/4相位差板的技术(日本特开平10-90521号公报)。λ/2相位差板也利用与λ/4相位差板同样的材料方法来制造。拉伸型相位差板与液晶涂布型相位差板的组合是任意的，但均使用液晶涂布型相位差板能够使膜的厚度变薄，因此优选。

为了提高所述圆偏振板的倾斜方向的视觉辨认性，还已知层叠正C板的方法(日本特开2014-224837号公报)。该正C板也是可以为液晶涂布型相位差板，也可以为拉伸型相位差板。该正C板的厚度方向的相位差为-200～-20nm、优选为-140～-40nm。

(触控传感器)

触控传感器作为输入机构使用。作为触控传感器，提出了电阻膜方式、表面弹性波方式、红外线方式、电磁感应方式、静电容量方式等各种方式，任意方式均可以。这些之中优选静电容量方式。

静电容量方式触控传感器从显示面板面观察而区分为活性区域及位于所述活性区域的外廓部的非活性区域。活性区域是在显示面板中与显示画面的区域(显示部)对应的区域，是可感知到使用者的触摸的区域，非活性区域是在显示装置中与未显示画面的区域(非显示部)对应的区域。

触控传感器可以包含：具有柔性特性的基板；在所述基板的活性区域中形成的感知图案；和在所述基板的非活性区域中形成，且用于借助垫部将所述感知图案与外部的驱动电路连接的各感测线。作为具有柔性特性的基板，可以使用由与所述窗膜的透明基板同样的材料形成的基板。从抑制触控传感器的裂纹的方面出发，触控传感器的基板的韧性优选为2000MPa％以上。更优选为韧性也可以为2000MPa％～30000MPa％。

所述感知图案可以具备在第一方向形成的第一图案及在第二方向形成的第二图案。第一图案与第二图案在互不相同的方向上配置。第一图案及第二图案在同一层形成，并且为了感知触摸的地点，各图案必须电连接。第一图案是各单元图案借助接合处相互连接的形态，第二图案成为各单元图案以岛状形态相互分离的结构，因此为了将第二图案电连接需要另外的桥接电极。感知图案由公知的透明电极原材料形成。作为该透明电极原材料，可举出例如铟锡氧化物(ITO)、铟锌氧化物(IZO)、锌氧化物(ZnO)、铟锌锡氧化物(IZTO)、镉锡氧化物(CTO)、PEDOT(聚(3,4-乙烯二氧噻吩))、碳纳米管(CNT)、石墨烯、金属线(金属线所使用的金属没有特别限定，可举出例如银、金、铝、铜、铁、镍、钛、碲、铬等。它们可以单独使用或混合2种以上使用)等，它们可以单独使用或混合2种以上使用。优选为ITO。可在感知图案上部隔着绝缘层而在所述绝缘层上部形成桥接电极，并且可在基板上形成桥接电极，并在其上形成绝缘层及感知图案。所述桥接电极可由与感知图案相同的原料形成，也可由钼、银、铝、铜、钯、金、铂、锌、锡、钛或它们之中的2种以上的合金等金属形成。第一图案与第二图案必须为电绝缘，因此在感知图案与桥接电极之间形成有绝缘层。绝缘层可只形成在第一图案的接合处与桥接电极之间，也可形成为覆盖感知图案的层的构造。为后者时，桥接电极可借助形成于绝缘层的接触孔(contact hole)而连接第二图案。所述触控传感器可在基板与电极之间还包含光学调节层，以作为用于适当补偿形成有图案的图案区域与未形成图案的非图案区域间的透射率之差，具体而言为利用这些区域中的折射率之差导致的光透射率之差。所述光学调节层可含有无机绝缘物质或有机绝缘物质。光学调节层可将含有光固化性有机粘合剂及溶剂的光固化组合物涂布在基板上而形成。所述光固化组合物可还含有无机粒子。利用所述无机粒子可提高光学调节层的折射率。

所述光固化性有机粘合剂例如可包含丙烯酸酯系单体、苯乙烯系单体、羧酸系单体等各单体的共聚物。所述光固化性有机粘合剂例如可以是包含含环氧基的重复单元、丙烯酸酯重复单元、羧酸重复单元等互不相同的各重复单元的共聚物。

所述无机粒子例如可包含氧化锆粒子、氧化钛粒子、氧化铝粒子等。

所述光固化组合物也可还包含光聚合引发剂、聚合性单体、固化辅助剂等各添加剂。

形成所述柔性图像显示装置用层叠体的各层(窗膜、圆偏振板、触控传感器)可通过粘接剂而形成。作为粘接剂，通常使用已说明的水系粘接剂或活性能量射线固化型粘接剂、粘合剂。

(遮光图案)

所述遮光图案可应用作为所述柔性图像显示装置的边框或外壳的至少一部分。通过以遮光图案将配置于所述柔性图像显示装置的边缘部的布线隐藏而使其难以视觉辨认，可提高图像的视觉辨认性。所述遮光图案可为单层或多层的形态。遮光图案的颜色并无特别限制，可为黑色、白色、金属色等各种颜色。遮光图案可由用于显现颜色的颜料、及丙烯酸系树脂、酯系树脂、环氧系树脂、聚氨酯、硅酮树脂等高分子形成。也可将它们单独使用或以2种以上的混合物使用。所述遮光图案可以利用印刷、平版印刷、喷墨等各种方法形成。遮光图案的厚度可为1μm～100μm，优选为2μm～50μm。并且，可对遮光图案的厚度方向赋予倾斜等形状。

以上说明了本发明的制造方法所使用的层叠体中所含的光学膜及粘合剂。接下来，对本发明的制造方法进行说明。

(粉体)

再次参照图1的(a)及(b)来说明本发明的制造方法。

附着于光学膜50的端面E的粉体f因层叠体100的端面的加工而附着于端面。通常，为了从层叠体100的原材得到期望尺寸的层叠体100，将层叠体100的端面进行加工。加工的例子为切割、切削、研磨。此处，切削是指包含开孔的概念。因此，如上所述，层叠体100的端面不仅包含如图1的(a)所示的层叠体100的外侧的端面E，还包含形成层叠体100的孔(开口部)H的内壁的内侧的端面E。

切割是指通过基于插入刀片、激光的去除等而产生从层叠体的表面到背面的切缝的工序，由此可制定层叠体的大概形状。

切削是指通过使相对地运动的切削刀(刀片)与层叠体的端部接触而切削端部的一部分，以形成新的端面的工序。并且，该切削如上所述，包含开孔加工。开孔加工是指，例如如图1的(b)所示，对层叠体100使用钻头等，在期望的位置设置孔H的加工。在如此的开孔加工中，有时会在形成孔H的内壁的内侧的端面E附着粉体f(开孔加工屑)。

研磨是指使相对地运动的磨粒(可为固定磨粒或游离磨粒)与层叠体的端面接触，以切削端面的一部分的工序。研磨也包含被称为研削的工序。

例如将层叠体100的原材以刀片、激光切割成比期望大小稍大的平面形状后，通过经切割的层叠体的端面研削和/或研磨，可将层叠体的平面形状设成预先制定的尺寸，并且可提高端面的直角度、平面性。

层叠体的平面形状(从厚度方向观察的形状)并无特别限定。例如可设为正方形、矩形、圆形等。

因对于层叠体的端面的这些加工，产生构成层叠体100的材料的粉体，其一部分会附着于层叠体100的端面E。因此，对所述层叠体进行这些加工是本发明的制造方法中的准备工序的一个实施方式。端面E可以是连接层叠体100的2个主面间的面。

粉体的平均粒径例如可为10～3000μm。该粒径是基于激光衍射法的重量基准的粒度分布的D50。

(冲击工序(基于干冰粒子的冲击的粉体去除工序))

接下来，使干冰粒子冲击层叠体100的端面E，以将端面上的粉体f从端面去除。

具体而言，将干冰粒子以气体运送而使其冲击层叠体100的端面E是合适的。

要冲击的干冰粒子的平均粒径并无特别限定，从将粉体效率良好地去除的观点出发，优选为100μm以上。并且，从抑制粘合剂层被干冰冲击而缺损的观点出发，优选为1000μm以下。

干冰粒子的平均粒径可通过激光多普勒测速计而测定。

要冲击的干冰粒子的速度可设为5m/秒至100m/秒。

干冰的运送气体并无特别限定，例如可设为氮气、空气、二氧化碳。

具体而言，可使用如图3那样的干冰粒子供给部(装置)300。

该装置具备：液体二氧化碳源310、喷嘴320、运送气体源330、连接液体二氧化碳源310及喷嘴320的管线L1、及连接运送气体源330及喷嘴320的管线L2。

管线L1中设置有阀340及孔口350，管线L2中设置有阀360。

开启阀340，使液体二氧化碳源310的液体在孔口350绝热膨胀而生成干冰粒子(干冰雪)，并输送至喷嘴320。开启阀360，将气体从运送气体源330供给至喷嘴320，并利用气体使干冰粒子d从喷嘴320喷出并供给至层叠体100的端面E。

干冰粒子d的粒径可通过在孔口350绝热膨胀后直到被喷嘴320喷出为止的距离(绝热膨胀距离)、或者喷嘴320与干冰粒子的供给对象的距离(喷射距离)来调整。并且，也可进行使用干冰粒子供给部(装置)的适当的预备实验，确认粉体f的去除程度以调整绝热膨胀距离、喷射距离。

喷嘴320与层叠体100的端面E的距离(喷射距离)设为小于20mm是合适的。并且，绝热膨胀距离例如可设为10～500mm。

通过运送部400使层叠体100与喷嘴320的位置相对移动，从而使干冰粒子d冲击的部分在端面E上进行扫描是合适的。例如在图3中，可使用运送部400，使层叠体100在与干冰粒子d的喷出方向(横向)正交的面内扫描，以使端面E的干冰粒子d的冲击部移动。

在端面E上的干冰粒子d的冲击部的扫描速度可设为1～100m/秒。

(作用)

根据本实施方式，对层叠体100的端面E吹送干冰粒子d，因此从端面上适当去除切割屑、切削屑、开孔加工屑、研磨屑等粉体。由此，在后续工序中减少因粉体造成的污染，故为优选。并且，与胶带的贴附及剥离等方法相比，粉体的去除所耗费的时间也短。

并且，要冲击的干冰粒子的粒径设为100～1000μm时，可提高粉体的去除率，同时抑制端面的粘合剂层的缺损，故为优选，设为200～700μm时为更优选。

(对层叠有多个层叠体的层叠结构体的粉体去除)

在上述中，对一个层叠体100冲击干冰粒子，但如图4所示，对在厚度方向层叠有多个层叠体100的层叠结构体120的端面E冲击干冰也是合适的。由此，可大量处理层叠体100。

(端面的加工与粉体的去除顺序)

层叠体100的端面的一部分的加工(切割、切削、及研磨)结束后，在对层叠体100的端面的其它部分加工的期间，可同时并行对端面的加工结束的部分吹送干冰粒子以去除粉体。由此，可缩短工序时间。

相反地，对于层叠体的端面的切割、切削、研磨等加工全部结束后，对层叠体100的端面冲击干冰粒子以清洁端面的粉体，在对端面冲击干冰粒子时，也可不进行层叠体的端面的其它部分的加工。此时，可区分成通过干冰粒子的冲击来去除粉体的气氛(空间)、及加工端面的气氛(空间)，因此也可防止因加工所产生的粉体造成端面污染。

(冲击工序(粉体的去除工序)时的气氛)

利用干冰粒子所进行的层叠体及层叠结构体的端面的粉体的去除工序时，层叠体及层叠结构体的周围气氛可以为空气气氛，但可根据需要设为氮、二氧化碳等气氛。并且，气氛的温度通常为20～30℃，优选为20～27℃。气氛的相对湿度通常小于80％，优选为30～75％，更优选为40～70％。气氛的相对湿度为80％以上时，会因层叠体、层叠结构体的冷却而产生结露，使层叠体中吸水性高的膜(例如偏振片)等吸水而发生溶胀等，有时会对层叠体、层叠结构体的外观、光学特性造成不良状况。

(光学构件的制造装置)

接下来，参照图5来说明适合实施上述方法的光学构件的制造装置1000。

该制造装置1000具备：对层叠体100或层叠结构体120的端面进行切割、切削或研磨等加工的端面加工部200；对层叠体100中的被加工成端面加工部200的部分冲击干冰粒子的干冰粒子供给部300；及运送层叠体100的运送部400。

在图5中，绘制切削装置作为端面加工部200。该切削装置具备：在水平方向延伸的旋转轴210、安装于旋转轴的圆盘220、及安装于圆盘220的切削刀230。通过切削刀230的旋转，可将层叠体等的端面进行切削。

在干冰粒子供给部300中，为了方便起见，只记载喷嘴320。

运送部400具有：从厚度方向夹持层叠体100或层叠结构体120并支承的一对上夹具420及下夹具422；将上夹具420在上述厚度方向(下方向)进行压制的圆柱430；与下夹具422连结而使上夹具420及下夹具422沿垂直轴(Z轴)周围旋转的旋转机构410；及使上夹具420及下夹具422沿水平方向(X方向)移动的移动机构440。

接下来，说明使用该装置的光学构件的制造方法。首先，在上夹具420及下夹具422间夹持层叠体100或层叠结构体120。其次，通过圆柱430，将上夹具420朝向下夹具422压制，从而固定层叠体100或层叠结构体120。在本实施方式中，层叠体100或层叠结构体120从上方观察为矩形，且具有4个端面。因此，以使2个端面E平行地朝向X轴的方式，利用旋转机构410调整层叠体100或层叠结构体120的旋转位置。

接着，启动端面加工部200。具体而言，使圆盘220旋转。其次，利用移动机构440，使层叠体100及层叠结构体120在X方向上移动而使端面加工部200的切削刀230与端面E接触。由此，层叠体100及层叠结构体120的彼此相对的一对端面E被切削刀230切削。此时，在端面E附着有切削屑。

接着，利用运送部400，使层叠体100及层叠结构体120在-X方向上移动，并且从干冰粒子供给部300的喷嘴320供给干冰粒子。由此，对层叠体100及层叠结构体120的切削完的端面E冲击干冰粒子，从而去除端面E的粉体。

接着，利用运送部400使层叠体100及层叠结构体120进一步在一个方向移动，利用旋转机构410使层叠体100及层叠结构体120旋转，以使剩余的2个端面与X方向平行。然后，与先前同样地，只要依次进行剩余的2个端面的加工及后续的利用干冰粒子的粉体去除即可。

端面加工部200可根据加工的方式而设为各种形态。例如如图6所示地，可以利用CANNA型的旋转刀片进行切削，该CANNA型的旋转刀片具有沿垂直轴周围旋转的圆柱体240、及以在圆柱体240的外周面上沿轴方向延伸的方式设置的长刀片250。

并且，也可使用在圆盘的表面设置有大量磨粒的研磨板来代替切削刀230，由此进行研磨。

并且，不需要进行切削及研磨时，也可设为切割装置。

最后，关于将附着于层叠体100所设置的孔H的端面E的粉体f(开孔加工屑)去除的方法的一例，参照图7进行说明。

首先，分别对层叠体100进行开孔加工，并准备在孔H的内侧的端面E附着有粉体(开孔加工屑)f的多个层叠体100。如图1的(b)所示，各层叠体100通过开孔加工而具有设置在规定的位置的孔H。其次，以使各层叠体100的孔H的位置在一个轴(在厚度方向延伸的轴)上并排的方式层叠这些层叠体100而得到层叠结构体120。由此地，经层叠的各层叠体100的各孔H彼此连结，在该层叠结构体120形成在层叠结构体120的厚度方向贯通的贯通孔H’。

将该层叠结构体120在厚度方向压制的一对上夹具420及下夹具422中，在一个夹具上预先设置干冰粒子供给口420a，在另一个夹具上预先设置干冰粒子回收口422b。以使贯通孔H’与干冰粒子供给口420a及干冰粒子回收口422b连通的方式，配置上夹具420及下夹具422，并将该层叠结构体120在厚度方向压制。由此，干冰冲击工序前的准备工序结束。

接下来，借助干冰粒子供给口420a而从喷嘴320供给干冰粒子至贯通孔H’内(冲击工序)。从喷嘴320喷射的干冰粒子会随着前进而在宽方向扩散，冲击至层叠结构体120的贯通孔H’的端面E，与粉体f一起从干冰粒子回收口422b排出。若使用这种装置，则可从通过开孔加工而在孔H的内壁的端面E附着有粉体f的层叠体100将粉体f有效地去除。

实施例

(层叠体原材)

得到具有下述层构成的原材层叠体：防护膜(PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)制：53μm)/保护膜(TAC(三乙酰纤维素)制：32μm)/偏振片(PVA(碘吸附聚乙烯醇)：12μm)/保护膜(COP(环状烯烃系树脂)制：23μm)/粘合剂层(丙烯酸系粘合剂：20μm)/隔离膜(PET：38μm)。

保护膜与偏振片通过水系粘接剂粘接。层叠体的厚度为178μm。

(层叠体的端面的加工)

利用汤姆森刀片将原材层叠体冲裁出140×65mm的尺寸的矩形形状而得到层叠体。

接下来，重叠50片层叠体而得到层叠结构体。将层叠结构体的各端面利用切削装置进行切削。然后将层叠结构体的各端面通过研磨装置进行研磨。

(层叠体的端面的粉体的去除)

对于各实施例及比较例，以下述条件进行层叠体的端面的粉体的去除。

(实施例1)

干冰粒子供给装置：二氧化碳式干冰喷射

CO₂压力：5Mpa(需要说明的是，CO₂压力是指对孔口的供给压力)

空气压力：0.5Mpa

喷嘴前端与端面的距离：约50mm

喷嘴的扫描速度：50mm/5秒

喷嘴的中心位置及喷嘴扫描方向：使喷嘴朝向层叠结构体的端面的厚度方向的中央，将喷嘴在与层叠结构体的端面的厚度垂直的方向进行扫描。

干冰粒子的平均粒径：1～100μm

气氛温度：24℃～26℃、气氛的相对湿度：45％～65％

(实施例2)

干冰粒子供给装置：二氧化碳式干冰喷射

CO₂压力：7Mpa

空气压力：0.5Mpa

喷嘴前端与端面的距离：约50mm

喷嘴的扫描速度：50mm/5秒

喷嘴的中心位置及喷嘴扫描方向：使喷嘴朝向层叠结构体的端面的厚度方向的中央，将喷嘴在与层叠结构体的端面的厚度垂直的方向进行扫描。

干冰粒子的平均粒径：200～700μm以下

气氛温度：24℃～26℃、气氛的相对湿度：45％～65％

(实施例3)

干冰粒子供给装置：颗粒式干冰喷射

颗粒直径：φ3mm

空气压力：0.5Mpa

喷嘴前端与端面的距离：约50mm

喷嘴的扫描速度：50mm/5秒

喷嘴的中心位置及喷嘴扫描方向：使喷嘴朝向层叠结构体的端面的厚度方向的中央，将喷嘴在与层叠结构体的端面的厚度垂直的方向进行扫描。

干冰粒子的平均粒径：1000μm以上

气氛温度：24℃～26℃、气氛的相对湿度：45％～65％

(实施例4)

除了将气氛温度设为26℃，并将气氛的相对湿度设为80～90％以外，以与实施例2同样的条件进行层叠体的端面的粉体的去除。

需要说明的是，因在去除时与干冰粒子接触，使得层叠体冷却，在层叠体产生结露。确认产生结露的部分时，虽不产生研磨屑、缺损，但在层叠体的端部产生溶胀。

(比较例1)

利用浸渗有乙醇的洁净室用擦拭器(KURARAY KURAFLEX制)擦拭层叠结构体的端面。

(比较例2)

使OLFA制切割刀沿着层叠结构体的端面移动。

(比较例3)

将粘合胶带(Nichiban公司制Cellotape(注册商标))贴附于层叠结构体的端面后，将粘合胶带从端面剥离。

(比较例4)

除了不供给液体二氧化碳以外，与实施例1同样地将空气流吹送至层叠结构体的端面。

(评价)

用显微镜观察端面，调查端面的粉体残留状态、及端面的粘合剂层的缺陷的有无。

将结果示于表1。

[表1]

需要说明的是，“端面的粉体残留”的○表示在与厚度正交的方向的30mm长度(以下简称为长度)的视野内未观察到粉体，△表示在30mm长度的视野内观察到1～2个粉体，×表示在30mm长度的视野内观察到3个以上的粉体。

并且，“端面的粘合剂层缺陷”的○表示在与厚度正交的方向的30mm长度(以下简称为长度)的视野内未观察到缺陷，△表示在30mm长度的视野内观察到1～2个缺陷，×表示在30mm长度的视野内观察到3个以上位置的缺陷。

附图标记说明

50…光学膜、80…粘合剂层、100…层叠体、120…层叠结构体、200…端面加工部、300…干冰粒子供给部、400…运送部、1000…光学构件的制造装置、f…粉体、E…端面。

Claims (9)

1.一种光学构件的制造方法，其包括：

准备具有光学膜及在所述光学膜的一个面上设置的粘合剂层、且在其端面附着有粉体的层叠体的工序；以及

通过使干冰粒子冲击所述层叠体的所述端面而将所述粉体从所述端面去除的工序。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述干冰粒子的平均粒径为100μm～1000μm。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其中，在所述冲击工序中，使所述干冰粒子冲击将多个所述层叠体层叠而得的层叠结构体的端面。

4.根据权利要求1或2所述的方法，其中，使所述干冰粒子冲击所述端面的一部分，同时对所述层叠体的所述端面的其它部分进行选自由切割、切削及研磨组成的组中的至少一种。

5.根据权利要求1或2所述的方法，其中，在所述准备工序中，对所述端面进行选自由切割、切削及研磨组成的组中的至少一种处理，在使所述干冰粒子冲击所述端面的一部分时，不对所述端面进行选自所述组中的任一种处理。

6.根据权利要求1～5中任一项所述的方法，其中，所述光学膜为选自由偏振片、保护膜、相位差膜、亮度提高膜、窗膜和触控传感器组成的组中的至少一种；包含2个以上的选自所述组中的至少1种的层叠膜、或者包含选自所述组中的至少2种的层叠膜。

7.根据权利要求1～6中任一项所述的方法，其中，使所述干冰粒子冲击所述端面的工序中的气氛的相对湿度为30％～75％。

8.一种光学构件的制造装置，其具备：

对具有光学膜及在所述光学膜的一个面上设置的粘合剂层的层叠体的端面进行切割、切削或研磨的端面加工部；以及

使干冰粒子冲击所述层叠体中的被加工成所述端面加工部的部分的干冰粒子供给部。

9.根据权利要求8所述的光学构件的制造装置，其还具备：使所述层叠体在所述端面加工部与所述干冰粒子供给部之间移动的运送部。

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