CN111045299B - 一种显影洗边设备和显影洗边方法 - Google Patents

一种显影洗边设备和显影洗边方法 Download PDF

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Abstract

本发明提供一种显影洗边设备和显影洗边方法,显影洗边设备包括显影液喷洒部和冲洗部;冲洗部内的冲洗喷头安装在晶圆面上方的移动架体上,并可随移动架体一起沿晶圆径向往复移动;显影洗边设备还包括能够喷洒洗边用溶液的洗边部,所述洗边部的洗边喷头设置在所述晶圆面的上方,并能够在设定洗边起始位置与晶圆边缘之间往复移动。使用本发明显影洗边设备和显影洗边方法中可以将显影与洗边工序合二为一,简化了工序步骤,在洗边的过程中其通过将洗边用溶液喷涂在旋转的晶圆边缘从而在显影过程中直接进行光刻胶及有害残留物的清洗,不仅去边能力强,去胶效果佳,而且能够在曝光冲洗后甩干晶圆的同时进行洗边,节省工艺时间,提高了生产效率。

Description

一种显影洗边设备和显影洗边方法
技术领域
本发明涉及半导体集成电路制造领域,特别是涉及一种显影洗边设备和显影洗边方法。
背景技术
匀胶显影机承担着除曝光以外的所有光刻工艺,在匀胶显影机中,一个不容忽视的步骤就是去除晶圆边缘堆积的光刻胶,目的在于阻止其进一步污染机械手臂及其他工艺单元。现有晶圆边缘堆积光刻胶的去除主要通过两种方法来实现,一是化学去边(EBR,edgebead removal),即在涂布单元中用化学溶剂对晶圆边缘进行清洗,但这一方法由于会延长工艺时间,影响产能,故较少采用。另一种采用比较多的方法就是晶圆边缘曝光(WEE,waferedge exposure),对于WEE而言,具体的步骤就是对晶圆边缘的光刻胶进行曝光,随后边缘已曝光的光刻胶和曝光图形一起在显影单元中被显影液所溶解,然而晶圆边缘曝光后,晶圆边缘仍然有较多的光刻胶及污染物残留,因此需要提供一种显影洗边设备和显影洗边方法来在显影工艺中去除晶圆边缘的多余残留物。
发明内容
鉴于以上所述现有技术的缺点,本发明的目的在于提供一种显影洗边设备和显影洗边方法,用于解决现有技术中显影后晶圆边缘存在多余残留物污染机械手臂及其他工艺单元的问题。
为实现上述目的及其它相关目的,本发明的第一个方面是提供一种显影洗边设备,包括显影液喷洒部和冲洗部;所述冲洗部内的冲洗喷头安装在晶圆面上方的移动架体上,并可随所述移动架体一起沿晶圆径向往复移动;
还包括能够喷洒洗边用溶液的洗边部,所述洗边部的洗边喷头设置在所述晶圆面的上方,并能够在设定洗边起始位置与晶圆边缘之间往复移动。
作为本发明的一个可选方案,所述洗边喷头安装在所述移动架体上。
作为本发明的一个可选方案,所述洗边喷头设置在所述冲洗喷头背离所述晶圆圆心的一侧,且两者连线与所述移动架体的移动方向相平行。
作为本发明的一个可选方案,所述洗边喷头安装在所述冲洗喷头朝向所述晶圆圆心的一侧,且两者连线与所述移动架体的移动方向相平行,所述洗边喷头与所述冲洗喷头的距离等于所述晶圆的设定洗边宽度。
作为本发明的一个可选方案,所述洗边部还包括抽吸设备、第一管道、第二管道和容器,所述第一管道的一端与所述抽吸设备的排液口相连通,另一端与所述洗边喷头相连通;所述第二管道的一端与所述抽吸设备的抽液口相连通,另一端插入至所述容器内的溶液内。
作为本发明的一个可选方案,所述显影洗边设备还包括能够控制所述移动架体动作的可编程逻辑控制器。
作为本发明的一个可选方案,所述显影洗边设备还包括能够分别控制显影液喷头、所述冲洗喷头、所述洗边喷头启闭的至少三个电磁阀,所述至少三个电磁阀分别与所述可编程逻辑控制器相电连。
作为本发明的一个可选方案,所述溶液包括丙二醇甲醚溶液、丙二醇甲醚醋酸酯溶液中的任意一种或两种混合。
作为本发明的一个可选方案,在所述溶液喷洒的过程中所述晶圆先以0~500r/min的角速度旋转,0~10s后再以1000~3000r/min的角速度旋转。
作为本发明的一个可选方案,所述溶液的喷洒速度是200~1000ml/min。
本发明的第二个方面是提供一种显影洗边方法,包括以下过程:
在晶圆表面喷洒显影液;
至设定时间后使晶圆旋转;
冲洗晶圆;
旋转甩干冲洗液的同时,在晶圆边缘设定的洗边起始位置喷洒用于洗边的溶液,并在喷洒溶液的过程中使洗边喷头向外移动至晶圆边缘。
作为本发明的一个可选方案,所述冲洗晶圆的过程包括从旋转晶圆的中心处开始喷洒清洗液并同时使冲洗喷头沿径向向外移动至晶圆边缘后关闭冲洗喷头。
作为本发明的一个可选方案,将所述洗边喷头与所述冲洗喷头安装在同一移动架体上,所述移动架体安装在所述晶圆旁侧的固定架体上,且能在所述晶圆中心与所述晶圆边缘之间往复移动。
作为本发明的一个可选方案,所述洗边喷头安装在所述冲洗喷头背离所述晶圆圆心的一侧,且两者连线与所述移动架体的移动方向相平行,所述洗边喷头随所述冲洗喷头一起沿所述晶圆的径向移动。
作为本发明的一个可选方案,所述洗边喷头安装在所述冲洗喷头朝向所述晶圆圆心的一侧且两者连线与所述移动架体的移动方向相平行,所述洗边喷头与所述冲洗喷头的距离等于所述晶圆的设定洗边宽度,所述洗边喷头随所述冲洗喷头一起沿所述晶圆的径向移动。
作为本发明的一个可选方案,所述溶液包括丙二醇甲醚溶液、丙二醇甲醚醋酸酯溶液中的任意一种或两种混合。
作为本发明的一个可选方案,在所述溶液喷洒的过程中所述晶圆先以0~500r/min的角速度旋转,0~10s后再以1000~3000r/min的角速度旋转。
作为本发明的一个可选方案,所述溶液的喷洒速度是200~1000ml/min。
作为本发明的一个可选方案,所述冲洗液包括去离子水。
如上所述,本发明显影洗边设备中还设置有用于喷洒洗边用溶液的洗边喷头,可以将显影与洗边工序合二为一,简化了工序步骤,在洗边的过程中其通过将洗边用溶液喷涂在旋转的晶圆边缘从而在显影过程中直接进行光刻胶及有害残留物的清洗,不仅去边能力强,去胶效果佳,而且能够在曝光冲洗后甩干晶圆的同时进行洗边,节省工艺时间,提高了生产效率。本发明方法其在显影过程中增加了洗边工艺,通过将洗边用溶液喷涂在甩干过程中晶圆边缘从而在显影过程中直接进行光刻胶及有害残留物的清洗,节省工艺时间,提高了生产效率。
附图说明
图1显示为本发明显影洗边设备实施例一的俯视结构示意图;
图2显示为本发明显影洗边设备实施例一的主视结构示意图;
图3显示为本发明显影洗边设备实施例一中洗边部的结构示意图;
图4显示为本发明显影洗边设备实施例二的俯视结构示意图;
图5显示为本发明显影洗边方法的一流程示意图;
图6显示为本发明显影洗边方法的一流程示意图。
元件标号说明
10 显影洗边设备
110 移动架体
111 冲洗喷头
112 洗边部
1121 洗边喷头
1122 抽吸设备
1123 容器
1124 电磁阀
1125 第一管道
1126 第二管道
120 显影液喷洒部
121 显影液喷头
130 固定架体
20 晶圆
201 洗边起始位置
30 晶圆座
具体实施方式
匀胶显影机承担着除曝光以外的所有光刻工艺,在匀胶显影机中,一个不容忽视的步骤就是去除晶圆边缘堆积的光刻胶,目的在于阻止其进一步污染机械手臂及其他工艺单元。现有晶圆边缘堆积光刻胶的去除主要通过两种方法来实现,一是化学去边(EBR,edgebead removal),即在涂布单元中用化学溶剂对晶圆边缘进行清洗,但这一方法由于会延长工艺时间,影响产能,故较少采用。另一种采用比较多的方法就是晶圆边缘曝光(WEE,waferedge exposure),对于WEE而言,具体的步骤就是对晶圆边缘的光刻胶进行曝光,随后边缘已曝光的光刻胶和曝光图形一起在显影单元中被显影液所溶解,晶圆边缘曝光存在以下问题:
(1)WEE曝光的光源来自高压汞灯,这种类型的光源对于某些光刻胶而言并不足以充分地激发光化学反应,造成曝光不足,后续无法被显影液完全溶解。
(2)在显影单元中,显影之后产生的反应物也会堆积在边缘处,同时喷淋去离子水的喷嘴在移动过程中对晶圆边缘的反应粘附物清理能力有限。
所以,在上述两个方面的影响下,晶圆边缘仍然存在光刻胶及污染物残留的问题,因此需要提供一种显影洗边设备和显影洗边方法来在显影工艺中去除晶圆边缘的多余残留物。
以下通过特定的具体实例说明本发明的实施方式,本领域技术人员可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本发明的其它优点与功效。本发明还可以通过另外不同的具体实施方式加以实施或应用,本说明书中的各项细节也可以基于不同观点与应用,在没有背离本发明的精神下进行各种修饰或改变。
请参阅图1至图6。需要说明的是,本实施例中所提供的图示仅以示意方式说明本发明的基本构想,虽图示中仅显示与本发明中有关的组件而非按照实际实施时的组件数目、形状及尺寸绘制,其实际实施时各组件的形态、数量及比例可为一种随意的改变,且其组件布局形态也可能更为复杂。
实施例一
请参阅图1至图3,本实施例提供一种显影洗边设备10,包括显影液喷洒部120和冲洗部;晶圆20安装在额外配置的晶圆座30上,显影液喷洒部120内的显影液喷头121安装在晶圆上方,所述冲洗部内的冲洗喷头111安装在晶圆20上方的移动架体110上,并可随所述移动架体110一起沿晶圆20径向往复移动;
显影洗边设备10还包括能够喷洒洗边用溶液的洗边部112,所述洗边部112的洗边喷头1121设置在所述晶圆20面的上方,并能够在设定洗边起始位置201与晶圆20边缘之间往复移动。
本发明显影洗边设备10中设置有用于喷洒洗边用溶液的洗边喷头1121,这样通过一台设备就可以将显影与洗边工序合二为一,能够简化工序步骤,在洗边的过程中其通过将洗边用溶液喷涂在旋转的晶圆20边缘从而在显影过程中直接进行光刻胶及有害残留物的清洗,不仅去边能力强,去胶效果佳,而且能够在曝光冲洗后甩干晶圆20的同时进行洗边,节省工艺时间,提高了生产效率。
本发明显影洗边设备10中洗边喷头1121也可以安装在额外设置的移动架体上,但考虑到冲洗与洗边的工艺衔接性,本实施例中所述洗边喷头1121安装在所述冲洗喷头111的移动架体110上,所述移动架体110安装在所述晶圆20旁侧的固定架体130上,且能在所述晶圆20中心与所述晶圆20边缘之间往复移动,本发明中冲洗喷头111的移动轨迹可以不做限制,其也可以为曲线或折线等路径,只要能在移动过程中靠近或远离晶圆20圆心即可,但较佳地,本实施例中冲洗喷头111随移动架体110一起沿直线方向往复移动。需要说明的是,本实施例中移动架体110在固定架体130上的安装方式为自动化生产线常用的安装驱动方式,其可以通过多种方式来实现,如在固定架体上安装导轨,在移动架体110上安装与导轨配套的滑块,通过旋转丝杠带动安装有丝杠螺母的移动架体110来沿固定架体130往复直线移动,具体连接安装关系在此不再详述。
本发明显影洗边设备10中洗边喷头1121的安装位置可以不做限定,其只要设置在晶圆20的正上方即可以在晶圆20旋转的过程中对晶圆20进行洗边,本实施例中所述洗边喷头1121设置在所述冲洗喷头111背离所述晶圆20圆心的一侧,且两者连线与所述移动架体110的移动方向相平行。如图1所示,当冲洗喷头111与洗边喷头1121之间的距离为x,洗边宽度为y时,在冲洗喷头111到达晶圆20边缘时,只需将移动架体110沿直线方向回移x+y,即可将洗边喷头1121移动至设定的洗边起始位置201,方便快捷。
原则上讲本发明显影洗边设备10中的洗边部112可以只包括洗边喷头1121,采用外配抽吸设备1122等来实现洗边溶液的喷洒,但较佳地,本实施例中所述洗边部112还包括抽吸设备1122、第一管道1125、第二管道1126和容器1123,所述第一管道1125的一端与所述抽吸设备1122的排液口相连通,另一端与所述洗边喷头1121相连通;所述第二管道1126的一端与所述抽吸设备1122的抽液口相连通,另一端插入至所述容器1123内的溶液内。抽吸设备1122、第一管道1125、第二管道1126、容器1123可以固定在移动架体110上随移动架体110一起移动,但为了减轻移动架体110的负荷,较佳地,本实施例中第一管道1125为可伸缩软管形式,抽吸设备1122和容器1123设置在移动架体110外不随移动架体110移动。
为了便于自动化控制,较佳地,本实施例中所述显影洗边设备10还包括能够控制所述移动架体110动作的可编程逻辑控制器。
本发明显影洗边设备10中,显影液喷洒部120内的显影液喷头121、所述冲洗喷头111、所述洗边喷头1121的启闭均可以人工控制,但较佳地,本实施例中所述显影洗边设备10还包括能够分别控制显影液喷头121、所述冲洗喷头111、所述洗边喷头1121启闭的至少三个电磁阀1124,所述至少三个电磁阀分别与所述可编程逻辑控制器相电连。这样可以通过可编程逻辑控制器实现整个显影洗边过程的自动化。
本发明显影设备中所述的洗边溶液可以实现晶圆20洗边的各种溶液,其可以为丙二醇甲醚溶液、丙二醇甲醚醋酸酯溶液中的任意一种或两种混合,本实施例中为丙二醇甲醚和丙二醇甲醚醋酸酯的混合溶液。
考虑到低粘附度残留物较多,较佳地本实施例中在所述溶液喷洒的过程中所述晶圆20先以0~500r/min的角速度旋转,先以较低的转速冲洗掉低粘附度残留物,这样能够有效防止低粘附度残留物反溅至洁净晶圆表面,0~10s后待低粘附度残留物清洗掉之后,再使晶圆20以1000~3000r/min的角速度旋转,使洗边溶液对晶圆边缘的冲击力增强,能够有效去除高粘附度残留物。
考虑到溶液喷洒速度对晶圆20表面的冲击力及洗边能力的影响,较佳地,本实施例中所述溶液的喷洒速度是200~1000ml/min。
实施例二
请参阅图4,本实施例提供一种显影洗边设备10,其与实施例一大体相同,不同在于,所述洗边喷头1121安装在所述冲洗喷头111朝向所述晶圆20圆心的一侧,且两者连线与所述移动架体110的移动方向相平行,洗边喷头1121随所述冲洗喷头111一起沿所述晶圆20的径向移动。本发明显影洗边设备中所述洗边喷头1121与所述冲洗喷头111的距离x与洗边宽度y之间的关系可以不做限定,洗边时只要将洗边喷头1121移动至洗边起始位置201处即可,较佳地,本实施例中所述洗边喷头1121与所述冲洗喷头111的距离x等于所述晶圆20的设定洗边宽度y。这样当冲洗喷头111到达晶圆20边缘时,洗边喷头1121正好处于设定的洗边起始位置201上方,可以直接开始洗边操作,方便快捷。
实施例三
请参阅图1、图2和图5,本发明提供一种显影洗边方法,包括以下过程:
在晶圆20表面喷洒显影液;
至设定时间后使晶圆20旋转;
冲洗晶圆20;
旋转甩干冲洗液的同时,在晶圆20边缘设定的洗边起始位置201喷洒用于洗边的溶液,并在喷洒溶液的过程中使洗边喷头1121向外移动至晶圆20边缘。
本实施例中的上述显影洗边方法,其在显影过程中增加了洗边工艺,在晶圆20冲洗完甩干冲洗液的过程中将洗边用溶液喷涂在旋转的晶圆20边缘从而在显影过程中直接进行光刻胶及有害残留物的清洗,不仅去边能力强,去胶效果佳,而且能够在曝光冲洗后甩干晶圆20的同时进行洗边,节省工艺时间,提高了生产效率。
本发明方法中,晶圆20的冲洗方法原则上不做限定,但较佳地,本实施例中所述冲洗晶圆20的过程包括从旋转晶圆20的中心处开始喷洒清洗液并同时使冲洗喷头111沿径向向外移动至晶圆20边缘后关闭冲洗喷头111。
本发明显影洗边设备10中洗边喷头1121与冲洗喷头111也可以分别设置在两个移动架体110上,但考虑到冲洗与洗边的工艺衔接性,本实施例方法中将所述洗边喷头1121与所述冲洗喷头111安装在同一移动架体110上,所述移动架体110安装在所述晶圆20旁侧的固定架体上,且能在所述晶圆20中心与所述晶圆20边缘之间往复移动。
本发明显影洗边设备10中洗边喷头1121的安装位置可以不做限定,其只要设置在晶圆20面的正上方即可以在晶圆20旋转的过程中对晶圆20进行洗边,较佳地,本实施例中所述洗边喷头1121设置在所述冲洗喷头111背离所述晶圆20圆心的一侧,且两者连线与所述移动架体110的移动方向相平行,洗边喷头1121随所述冲洗喷头111一起沿所述晶圆20的径向移动。这样当冲洗喷头111到达晶圆20边缘后,只需将移动架体110沿直线方向向晶圆中心侧回移x+y,使洗边喷头1121至设定的洗边起始位置201正上方即可开始洗边,方便快捷。
本发明方法中移动架体110的移动可以通过多种方法来实现,较佳地,本实施例中所述移动架体110的移动通过可编程逻辑控制器与移动架体110驱动装置的控制来实现。
本发明方法中,显影液喷头121、所述冲洗喷头111、所述洗边喷头1121的启闭可以人工控制,但较佳地,本实施例中所述显影洗边设备10还包括能够分别控制显影液喷头121、所述冲洗喷头111、所述洗边喷头1121启闭的通过可编程逻辑控制器控制相对应电磁阀的方式来实现。
本发明显影设备中所述的洗边溶液可以实现晶圆20洗边的各种溶液,其可以包括丙二醇甲醚溶液、丙二醇甲醚醋酸酯溶液中的任意一种或两种混合,本实施例中为丙二醇甲醚和丙二醇甲醚醋酸酯的混合溶液。
考虑到低粘附度残留物较多,较佳地本实施例中在所述溶液喷洒的过程中所述晶圆20先以0~500r/min的角速度旋转,先以较低的转速冲洗掉低粘附度残留物,这样能够有效防止低粘附度残留物反溅至洁净晶圆表面,0~10s后待低粘附度残留物清洗掉之后,再使晶圆20以1000~3000r/min的角速度旋转,使洗边溶液对晶圆边缘的冲击力增强,能够有效去除高粘附度残留物。
考虑到溶液喷洒速度对晶圆20表面的冲击力及洗边能力的影响,较佳地,本实施例中所述溶液的喷洒速度是200~1000ml/min。
本发明方法中的冲洗液可以为现有半导体领域常用的冲洗液,本实施例中的冲洗液为去离子水。
实施例四
请参阅图4和图6本实施例提供一种显影洗边方法,其与实施例三大体相同,不同在于,本实施例中所述洗边喷头1121安装在所述冲洗喷头111朝向所述晶圆20圆心的一侧且两者连线与所述移动架体110的移动方向相平行,洗边喷头1121和冲洗喷头111一起沿所述晶圆20的径向移动,本发明方法中所述洗边喷头1121与所述冲洗喷头111的距离x与洗边宽度y之间的关系可以不做限定,洗边时只要将洗边喷头1121移动至洗边起始位置201处即可,较佳地,本实施例中所述洗边喷头1121与所述冲洗喷头111的距离x等于所述晶圆20的设定洗边宽度y。在显影洗边的过程中当冲洗喷头111到达晶圆20边缘时,洗边喷头1121正好处于设定的洗边起始位置201上方,无需调整移动架体110,只需开启洗边喷头1121,喷洒用于洗边的溶液,并在喷洒溶液的过程中使洗边喷头1121沿径向向外移动至晶圆20边缘,即可完成晶圆20的显影洗边工艺。
如上所述,本发明提供了一种显影洗边设备和显影洗边方法,这样可以在显影过程中增加了洗边工艺,通过将洗边用溶液喷涂在旋转的晶圆边缘从而在甩干晶圆的同时直接进行光刻胶及有害残留物的清洗,不仅去边能力强,去胶效果佳,而且节省工艺时间,提高了生产效率。所以,本发明有效克服了现有技术中的一些实际问题从而有很高的利用价值和使用意义。
上述实施例仅例示性说明本发明的原理及其功效,而非用于限制本发明。任何熟悉此技术的人士皆可在不违背本发明的精神及范畴下,对上述实施例进行修饰或改变。因此,举凡所属技术领域中具有通常知识者在未脱离本发明所揭示的精神与技术思想下所完成的一切等效修饰或改变,仍应由本发明的权利要求所涵盖。

Claims (10)

1.一种显影洗边设备,包括显影液喷洒部和冲洗部;所述冲洗部内的冲洗喷头安装在晶圆面上方的移动架体上,并可随所述移动架体一起沿晶圆径向往复移动;其特征在于,
还包括能够喷洒洗边用溶液的洗边部,所述洗边部的洗边喷头设置在所述晶圆面的上方,并能够在设定洗边起始位置与晶圆边缘之间往复移动;
所述洗边喷头安装在所述冲洗喷头朝向所述晶圆圆心的一侧,且两者连线与所述移动架体的移动方向相平行,所述洗边喷头与所述冲洗喷头的距离等于所述晶圆的设定洗边宽度;当冲洗所述晶圆时,从旋转的晶圆的中心处开始喷洒清洗液并同时使冲洗喷头沿径向向外移动至晶圆边缘后关闭冲洗喷头,当冲洗喷头到达晶圆边缘时,洗边喷头正好处于设定的洗边起始位置上方;
所述显影洗边设备还包括能够控制所述移动架体动作的可编程逻辑控制器和能够分别控制显影液喷头、所述冲洗喷头、所述洗边喷头启闭的至少三个电磁阀,所述至少三个电磁阀分别与所述可编程逻辑控制器相电连。
2.根据权利要求1所述的显影洗边设备,其特征在于:所述洗边喷头安装在所述移动架体上。
3.根据权利要求1所述的显影洗边设备,其特征在于:所述洗边部还包括抽吸设备、第一管道、第二管道和容器,所述第一管道的一端与所述抽吸设备的排液口相连通,另一端与所述洗边喷头相连通;所述第二管道的一端与所述抽吸设备的抽液口相连通,另一端插入至所述容器内的溶液内。
4.根据权利要求1所述的显影洗边设备,其特征在于,所述溶液包括丙二醇甲醚溶液、丙二醇甲醚醋酸酯溶液中的任意一种或两种混合。
5.一种显影洗边方法,其特征在于,包括以下过程:
在晶圆表面喷洒显影液;
至设定时间后使晶圆旋转;
冲洗晶圆;所述冲洗晶圆的过程包括从旋转晶圆的中心处开始喷洒清洗液并同时使冲洗喷头沿径向向外移动至晶圆边缘后关闭冲洗喷头,当冲洗喷头到达晶圆边缘时,洗边喷头正好处于设定的洗边起始位置上方;
旋转甩干冲洗液的同时,在晶圆设定的洗边起始位置喷洒用于洗边的溶液,所述洗边喷头安装在所述冲洗喷头朝向所述晶圆圆心的一侧且随所述冲洗喷头一起沿所述晶圆的径向移动,所述洗边喷头与所述冲洗喷头的距离等于所述晶圆的设定洗边宽度,在喷洒溶液的过程中使洗边喷头向外移动至晶圆边缘。
6.根据权利要求5所述的显影洗边方法,其特征在于:将所述洗边喷头与所述冲洗喷头安装在同一移动架体上,所述移动架体安装在所述晶圆旁侧的固定架体上,且能在所述晶圆中心与所述晶圆边缘之间往复移动。
7.根据权利要求5所述的显影洗边方法,其特征在于,所述溶液包括丙二醇甲醚溶液、丙二醇甲醚醋酸酯溶液中的任意一种或两种混合。
8.根据权利要求5所述的显影洗边方法,其特征在于,在所述溶液喷洒的过程中所述晶圆先以0~500r/min的角速度旋转,0~10s后再以1000~3000r/min的角速度旋转。
9.根据权利要求5所述的显影洗边方法,其特征在于,所述溶液的喷洒速度是200~1000ml /min。
10.根据权利要求5所述的显影洗边方法,其特征在于,所述冲洗液包括去离子水。
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