CN110989065B - 偏振器、包括偏振器的显示面板和制造偏振器的方法 - Google Patents

偏振器、包括偏振器的显示面板和制造偏振器的方法 Download PDF

Info

Publication number
CN110989065B
CN110989065B CN201911167343.6A CN201911167343A CN110989065B CN 110989065 B CN110989065 B CN 110989065B CN 201911167343 A CN201911167343 A CN 201911167343A CN 110989065 B CN110989065 B CN 110989065B
Authority
CN
China
Prior art keywords
line
shaped metal
polarizer
layer
cushioning member
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201911167343.6A
Other languages
English (en)
Other versions
CN110989065A (zh
Inventor
韩康洙
金垠廷
赵国来
赵亨彬
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Samsung Display Co Ltd
Original Assignee
Samsung Display Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Samsung Display Co Ltd filed Critical Samsung Display Co Ltd
Publication of CN110989065A publication Critical patent/CN110989065A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN110989065B publication Critical patent/CN110989065B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G02B5/3025—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state
    • G02B5/3058—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state comprising electrically conductive elements, e.g. wire grids, conductive particles
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29D—PRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
    • B29D11/00—Producing optical elements, e.g. lenses or prisms
    • B29D11/00634—Production of filters
    • B29D11/00644—Production of filters polarizing
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/02—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of crystals, e.g. rock-salt, semi-conductors
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/04—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of organic materials, e.g. plastics
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133528—Polarisers
    • G02F1/133536—Reflective polarizers
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133528—Polarisers
    • G02F1/133548—Wire-grid polarisers

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Ophthalmology & Optometry (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)

Abstract

本发明涉及一种偏振器、包括偏振器的显示面板和制造偏振器的方法。偏振器包括缓冲构件和线形金属图案。缓冲构件包括突起。每个突起具有向下增加的宽度。缓冲构件由聚合物形成。彼此隔开的线形金属图案在第一方向上延伸。每个线形金属图案覆盖各自的突起。

Description

偏振器、包括偏振器的显示面板和制造偏振器的方法
本发明申请是申请日为2015年10月26日、申请号为201510701072.3且发明名称为“偏振器、包括偏振器的显示面板和制造偏振器的方法”的发明申请的分案申请。
技术领域
本发明涉及线栅偏振器、制造偏振器的方法和包括偏振器的显示面板。
背景技术
偏振器控制光的透射率。偏振器可发射平行于发射轴线的偏振分量，并且可以吸收或反射垂直于发射轴线的偏振分量。
偏振器包括吸收偏振器和反射偏振器。反射偏振器反射入射光的特定偏振分量，以进行偏振。入射光的反射偏振分量可以由背光组件的反射板再次利用，以增加显示设备的亮度。
发明内容
根据本发明的一个示例性实施例，一种偏振器包括缓冲构件和线形金属图案。缓冲构件包括突起。每个突起具有向下增加的宽度。缓冲构件由聚合物形成。彼此隔开的线形金属图案在第一方向上延伸。每个线形金属图案覆盖各自的突起。
根据本发明的一个示例性实施例，一种制造偏振器的方法被提供如下。包括聚合物的缓冲层和金属层被形成。金属层被形成在缓冲层上。通过使用具有按压图案的模具按压金属层和缓冲层由金属层和缓冲层分别形成线形金属图案和多个突起。每个突起的至少一部分被插入到各自的线形金属图案中。
根据本发明的一个示例性实施例，一种显示面板包括第一基底、面对第一基底的第二基底和设置在第一基底与第二基底之间的液晶层。第一基底包括包含多个线形金属图案以及由聚合物形成并具有多个突起的缓冲构件的偏振器。每个突起的一部分被插入到各自的线形金属图案中。每个突起具有锥形形状。
根据本发明的一个示例性实施例，一种显示面板包括缓冲构件和金属线。缓冲构件包括突起。每个突起从缓冲构件的上表面突出，突起使缓冲构件具有波纹表面。金属线被设置在缓冲构件的波纹表面上。每个突起由各自的金属线包围，两条相邻的金属线暴露缓冲构件的上表面的在两条相邻的金属线之间的一部分。
附图说明
通过参考附图详细描述发明构思的示例性实施例，发明构思的这些和其它特征将变得更加明显，附图中：
图1是根据本发明的一个示例性实施例的偏振器的剖视图；
图2是根据本发明的一个示例性实施例的偏振器的俯视图；
图3是图1的区域“A”的放大剖视图；
图4至图7是示出了根据本发明的一个示例性实施例的制造图1所示的偏振器的方法的剖视图；
图8是使用辊的按压工艺的透视图；
图9是根据本发明的一个示例性实施例的偏振器的剖视图；
图10和图11是示出了根据本发明的一个示例性实施例的制造图9所示的偏振器的方法的剖视图；
图12至图14是示出了根据本发明的一个示例性实施例的制造偏振器的方法的剖视图；
图15是根据本发明的一个示例性实施例的偏振器的剖视图；
图16是根据本发明的一个示例性实施例的偏振器的剖视图；
图17和图18是示出了根据本发明的一个示例性实施例的制造图16的偏振器的方法的剖视图；
图19是根据本发明的一个示例性实施例的偏振器的剖视图；
图20和图21是示出了根据本发明的一个示例性实施例的制造图19的偏振器的方法的剖视图；
图22至图24是根据本发明的示例性实施例的偏振器的剖视图；
图25是根据本发明的一个示例性实施例的显示面板的剖视图；
图26是根据本发明的一个示例性实施例的显示面板的剖视图；和
图27是根据本发明的一个示例性实施例的显示面板的剖视图。
具体实施方式
下面将参考附图详细描述本发明的示例性实施例。然而，本发明可以以不同的形式体现，不应被解释为限于本文中提出的实施例。在图中，为了清楚，层和区域的厚度可能被放大。还将理解，当一个元件被称为在另一元件或基底“上”时，它可以直接在另一元件或基底上，或者也可以存在中间层。还将理解的是，当一个元件被称为“被联接到”或“被连接到”另一元件时，它可以被直接联接或连接到另一元件，或者也可以存在中间元件。在整个说明书和图中，相同的附图标记可以指代相同的元件。
图1是根据一个示例性实施例的偏振器的剖视图。图2是根据一个示例性实施例的偏振器的俯视图。图3是图1的区域“A”的放大剖视图。
参考图1和图2，偏振器包括基座基底10a、设置在基座基底10a上的缓冲构件11a以及设置在缓冲构件11a上的线栅阵列。线栅阵列包括在第一方向D1上延伸并在与第一方向D1相交的第二方向D2上彼此隔开的多个线形金属图案13a。缓冲构件11a包括突起12a。突起12a的至少一部分被插入到线形金属图案13a内。
基座基底10a可以包括玻璃基底、石英基底、蓝宝石基底、塑料基底等。塑料基底可包括聚酰亚胺、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘、聚氯乙烯等。
基座基底10a可以在形成线栅阵列之后被除去。
如果缓冲构件11a具有足够的厚度，基座基底10a可以在线栅阵列的制造中省略。在这种情况下，在线栅阵列的形成后除去基座基底10a也可以省略。
缓冲构件11a包括聚合物，使得缓冲构件11a是有弹性的。聚合物可包括热塑性树脂或热固性树脂。例如，缓冲构件11a可以包括聚甲基丙烯酸甲酯、聚二甲基硅氧烷、聚碳酸酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚苯乙烯、聚乙烯、聚丙烯、聚乙烯醇等。聚合物可被修改或是共聚物。
在一个示例性实施例中，缓冲构件11a可以包括在室温下具有橡胶相并具有等于或小于约50℃的软化点的聚合物。例如，缓冲构件11a可以包括聚二甲基硅氧烷或其共聚物。聚二甲基硅氧烷共聚物的示例可包括聚二甲基硅氧烷/聚碳酸酯共聚物、聚二甲基硅氧烷/聚甲基丙烯酸甲酯共聚物等。
可替代地，缓冲构件11a可包括具有等于或大于约100℃的软化点的聚合物。例如，缓冲构件11a可以包括聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯或其共聚物。
缓冲构件11a可以取决于线形金属图案13a的厚度和制造工艺具有各种厚度。例如，缓冲构件11a的厚度可以是约30纳米至约500纳米。
缓冲构件11a包括从缓冲构件11a的上表面突出的突起12a。例如，缓冲构件11a可包括具有平坦层形状的基座和从基座突出的突起12a。突起12a被插入到线形金属图案13a内，使得突起12a的上表面和侧表面被线形金属图案13a覆盖。在一个示例性实施例中，突起12a的大致整个部分可被插入到线形金属图案13a内。
突起12a可以在与线形金属图案13a延伸的方向相同的方向上延伸。例如，突起12a在第一方向D1上延伸。突起12a被设置成对应于每一个线形金属图案13a。因此，突起12a被布置为在第二方向D2上彼此平行。突起12a和缓冲构件11a被形成在单一的单个单元中。因此，突起12a和缓冲构件11a由相同的材料形成。
线栅阵列用于执行偏振。例如，当光入射到线栅阵列上时，光的平行于线栅阵列的透射轴线的分量可以被透射，光的垂直于线栅阵列的透射轴线的分量可以被反射。
线形金属图案13a可以包括金属。例如，线形金属图案13a可以包括铝、金、银、铜、铬、铁、镍、钛、钼、钨或其合金。在一个示例性实施例中，线形金属图案13a可以包括铝、金、银或铜。在一个示例性实施例中，线形金属图案13a包括具有相对高的延展性和反射率的铝。此外，线形金属图案13a可以具有包括不同的金属层的多层结构。此外，线形金属图案13a可以进一步包括金属氧化物、金属氮化物等。
线形金属图案13a可以具有间距、厚度和线宽，使得线形金属图案13a用于偏振光。
例如，线形金属图案13a的间距可以小于入射光的波长。例如，线形金属图案13a的间距P可等于或小于约400纳米，以偏振可见光。在一个示例性实施例中，线形金属图案13a的间距P可等于或小于约150纳米。例如，线形金属图案13a的间距可为约50纳米至约150纳米。
在一个示例性实施例中，线形金属图案13a的厚度H可被定义为突起12a的上端和线形金属图案13a的上端之间的长度。线形金属图案13a的厚度H可等于或大于约80纳米。在一个示例性实施例中，厚度H可以是约80纳米至约300纳米。
线栅阵列的透射率或折射率可取决于线宽与间距P的比例。线宽可以取决于线形金属图案13a的形状和突起12a的尺寸来不同地定义。例如，线宽可以被定义为线形金属图案13a的下端的宽度W1或线形金属图案13a的上端的宽度W2。线形金属图案13a可以具有锥形形状。因此，下端的宽度W1可以大于上端的宽度W2。在一个示例性实施例中，线宽可小于或等于约100纳米。例如，线宽可以是约20纳米至约100纳米。
参考图3，缓冲构件11a的突起12a以及线形金属图案13a可以具有包括比上端更宽的下端的锥形形状。
因此，线形金属图案13a的由线形金属图案13a的侧表面与缓冲构件11a的上表面限定的锥角θ1以及突起12a的由突起12a的侧表面和从缓冲构件11a的上表面延伸的水平线限定的锥角θ2可以小于约90°。此外，突起12a的锥角θ2可以小于线形金属图案13a的锥角θ1。
尽管图1所示的线形金属图案13a具有锥形形状，使得下端的宽度W1大于上端的宽度W2，但本发明不限于此。线形金属图案13a的形状可以取决于例如模具的形状而改变。例如，线形金属图案13a的横截面可以具有基本上矩形的形状，以增加偏振。
此外，尽管突起12a的横截面具有图1至图3中的梯形形状，本发明不限于此。突起12a的横截面可以取决于例如模具的形状或制造工艺的条件而改变。例如，突起12a的横截面可具有三角形形状、圆弧状等。
图4至图7是示出了制造图1的偏振器的方法的剖视图。图8是使用辊160的按压工艺的透视图。
参考图4和图5，缓冲层BL被形成在基座基底10a上，金属层ML被形成在缓冲层BL上。
缓冲层BL可以包括聚甲基丙烯酸甲酯、聚二甲基硅氧烷、聚碳酸酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚苯乙烯、聚乙烯、聚丙烯、聚乙烯醇或其共聚物。
包括被分散在诸如醇、二醇、醚等的溶剂中的聚合物的组合物可以被提供在基座基底10a上。溶剂可以通过干燥工艺去除，以形成缓冲层BL。在一个示例性实施例中，缓冲层BL被首先形成为片状，缓冲层BL例如通过层压被附着到基座基底10a。在一个示例性实施例中，包括聚合物树脂、固化剂和聚合引发剂的组合物被提供在基座基底10a上，组合物可以通过热固化或光固化被固化，以形成包括固化的高分子树脂的缓冲层BL。
金属层ML可以包括铝、金、银、铜、铬、铁、镍、钛、钼、钨或其合金。在一个示例性实施例中，金属层ML可以包括铝、金、银或铜。金属层ML可通过例如溅射、层压等的用于形成金属层的常规方法形成。
在形成金属层ML之后，包括按压图案17a的模具16a被设置在金属层ML上，以按压金属层ML。在按压工艺中按压图案17a接近金属层ML。
模具16a包括具有比金属层ML高的表面硬度的材料。例如，模具16a可以包括具有高表面硬度的材料，例如硅、镍、钨等。
按压图案17a在一个方向上延伸。多个按压图案17a在与延伸方向相交的方向上被布置成彼此平行。按压图案17a的横截面具有锥形形状，使得上端的宽度大于下端的宽度。按压图案17a彼此隔开，以在其间形成槽。槽可具有与将在按压工艺中形成的线形金属图案基本相同的形状。
参考图5和图6，随着模具16a被按压到金属层ML，模具16a的按压表面的形状被转移到金属层ML和缓冲层BL。金属层ML的一部分和缓冲层BL的一部分沿着模具16a的按压表面的形状变形。尽管缓冲层BL具有橡胶弹性，缓冲层BL的变形部分由金属层ML的塑性变形部分覆盖，因此缓冲层BL的变形部分保持突出的形状，该变形部分接触按压图案17a的下端，可以穿透到缓冲层BL。在传送工艺中，金属层ML可沿缓冲层BL的变形部分拉长，拉长的金属层ML在接触按压图案17a的下端的区域中被断开。
其结果是，形成了线栅阵列包括彼此隔开并被布置成彼此平行的多个线形金属图案13a的线栅阵列。此外，缓冲层BL被部分按压，以形成包括被插入到线形金属图案13a内的突起12a的缓冲构件11a。即使缓冲构件11a包括在室温下具有橡胶相的聚合物，因为突起12a被线形金属图案13a约束，因而突起12a的形状可得到保持。因为突起12a通过按压图案17a的穿透而形成，突起12a可以具有比线形金属图案13a更小的锥角。
在按压模具16a的工艺中，金属层ML和缓冲层BL可以被加热。例如，如果缓冲层BL包括在室温下具有固相的聚合物并且如果按压工艺在室温下进行，缓冲层BL可以具有不足的柔性。当在室温下具有固相的聚合物被加热到接近玻璃转变温度或软化点的温度时，聚合物的相改变到橡胶相。因此，缓冲层BL可以提供足够的柔性和弹性。
加热温度可以取决于缓冲层BL的聚合物的性能而变化。例如，加热温度可以是但不限于约100℃至约200℃。
在一个示例性实施例中，热量HEAT通过基座基底10a被提供。例如，传送基座基底10a的传送带可包括中心部来加热基座基底10a。可替代地，模具16a可以被加热。热量可以在模具16a接近基座基底10a之前被提供。
在一个示例性实施例中，模具16a可以具有板的形状。可替代地，图8所示的模具16a可具有辊的形状。具有辊的形状的模具可以减少制造大尺寸偏振器的制造时间。
参考图7，模具16a从缓冲构件11a和线栅阵列脱下。
根据一个示例性实施例，模具可被直接压入设置在提供弹性和柔性的缓冲层上的金属层内，以形成线栅阵列。因此，使用掩模的蚀刻工艺可以省略。因此，可以防止或减少由于蚀刻工艺对线栅图案的损坏。此外，用于偏振器的制造时间可以减少。
此外，由于缓冲构件的突起被插入到线形金属图案内，线形金属图案的下表面具有不均匀的横截面。因此，当在显示器基底中使用偏振器时，可以防止或减少外部光的反射，以提高显示质量。
此外，偏振器可以包括具有柔性的缓冲构件，或者可以被直接形成在柔性基底上。因此，偏振器可以用于柔性显示设备。
图9是根据本发明的一个示例性实施例的偏振器的剖视图。图10和图11是示出了制造图9所示的偏振器的方法的剖视图。
在下面的示例性实施例中，对于和图1至图3的偏振器具有相同功能并包括相同材料的元件的任何重复说明将被省略。
参考图9，偏振器包括基座基底10b、设置在基座基底10b上的缓冲构件11b以及被设置在缓冲构件11b上的线栅阵列。线栅阵列包括在第一方向上延伸并在与第一方向相交的第二方向上彼此隔开的多个线形金属图案。缓冲构件11b包括多个突起12b。每个突起12b由各自的线形金属图案覆盖。在一个示例性实施例中，每个突起12b的至少一部分被插入到各自的线形金属图案内。
线形金属图案包括下金属图案13b和覆盖下金属图案13b的上保护图案14。缓冲构件11b的突起12b被插入到下金属图案13b内。上保护图案14覆盖下金属图案13b的上表面和侧表面。
下金属图案13b和上保护图案14由彼此不同的材料形成。例如，下金属图案13b可以包括铝、金、银、铜或其合金。上保护图案14可包括钼、钨、钛、镍、其合金、其氧化物或其氮化物。上保护图案14可用于在形成下金属图案13b后的后续工艺中保护下金属图案13b。
参考图10和图11，缓冲层BL被形成在基座基底10b上。第一金属层ML1被形成在缓冲层BL上。第二金属层ML2被形成在第一金属层ML1上。在一个示例性实施例中，第二金属层ML2比第一金属层ML1薄。
缓冲层BL可以包括在上面列举的聚合物。
第一金属层ML1可以包括铝、金、银、铜或其合金。第二金属层ML2可以包括钼、钨、钛、镍或其合金。
在第二金属层ML2被形成在基座基底10b上之后，使用具有按压图案17b的模具16b按压基座基底10b。在按压中，第一金属层ML1和第二金属层ML2以及缓冲层BL被按压达到形成图9的结构的程度。
其结果是，形成了包括彼此隔开的多个线形金属图案的线栅阵列，线形金属图案中的每一个包括下金属图案13b和上保护图案14。
图12至图14是示出了根据本发明的一个示例性实施例的制造偏振器的方法的剖视图。
参考图12和图13，包括按压图案17c的模具16c被用来按压金属层，以形成线形金属图案13c和包括突起12c的缓冲构件11c。根据按压工艺条件，图13所示的线形金属图案13c由在按压工艺后保留的连接部分15彼此连接。
如图14所示，使用蚀刻工艺去除连接部分15。例如，在模具16c从基座基底10c升高之后，蚀刻剂ETCH被提供，使得连接部分15被去除。线形金属图案13c在去除连接部分15的蚀刻工艺中被部分去除。在去除连接部分15的工艺中，线形金属图案13c的厚度降低，两个相邻的线形金属图案13c的间距增加。蚀刻工艺可以包括各向同性蚀刻工艺或各向异性蚀刻工艺。为了防止线形金属图案13c的轮廓损坏，连接部分15可通过各向异性蚀刻工艺去除。
可替代地，如果连接部分15薄到可见光穿过连接部分15的程度，则连接部分15不必被去除。例如，如果包括铝的连接部分15可以具有等于或小于约10纳米的厚度，可见光可以穿过连接部分15，因此连接部分不必被去除。因此，具有连接部分15的线栅阵列可以用于偏振入射光。
图15是根据本发明的一个示例性实施例的偏振器的剖视图。
参考图15，偏振器包括基座基底10d、设置在基座基底10d上的缓冲构件11d、设置在缓冲构件11d上的多个线形金属图案13d以及设置在线形金属图案13d上的保护层20。线形金属图案13d在第一方向上延伸，并在与第一方向相交的第二方向上彼此隔开。缓冲构件11d包括突起12d。每个线形金属图案13d覆盖各自的突起12d。在一个示例性实施例中，每个突起12d的至少一部分可被插入到各自的线形金属图案13d内。
保护层20具有连续膜的形状。保护层20保护线形金属图案13d。保护层20具有和缓冲构件11d相对的平坦薄膜的形状。因此，气隙50被形成在相邻的线形金属图案13d之间。气隙50可以增加偏振器的折射率差，以提高偏振特性。
保护层20可以由包括氧化硅(SiOx)、碳氧化硅(SiOC)、氮化硅(SiNx)等的无机绝缘材料形成。保护层20的厚度可为约100纳米至约1微米。例如，可以使用化学气相沉积工艺形成保护层20。
尽管在该示例性实施例中偏振器包括具有平坦薄膜形状的保护层使得气隙被形成在相邻的线形图案之间，根据另一示例性实施例的偏振器可包括填充了线形图案之间的间隙50的有机绝缘层或无机绝缘层。
图16是根据本发明的一个示例性实施例的偏振器的剖视图。图17和图18是示出了用于制造图16的偏振器的方法的剖视图。
参考图16，偏振器包括基座基底10e、设置在基座基底10e上的缓冲构件11e、设置在缓冲构件11e上的线栅阵列以及由与线栅阵列相同的层形成的反射部件22。线栅阵列包括在第一方向上延伸并在与第一方向相交的第二方向上彼此隔开的多个线形金属图案13e。缓冲构件11e包括第一突起12e和第二突起21。第一突起12e的至少一部分被插入到线形金属图案13e内。第二突起21的至少一部分被插入到反射部件22中。
反射部件22具有大于线形金属图案13e的宽度。第二突起21具有大于第一突起12e的宽度。包括反射部件22的偏振器可以反射入射到其上的光，以增加液晶显示面板中的光的再利用。
参考图17和图18，缓冲层BL被形成在基座基底10e上，金属层ML被形成在缓冲层BL上。
在形成金属层ML之后，包括按压图案17e的模具16e被设置在金属层ML上，以按压金属层ML。多个按压图案17e在模具16e的第一区域R1中彼此隔开第一距离，以形成线栅图案，并在模具16e的第二区域R2中彼此隔开大于第一距离的第二距离，以形成反射槽18。
其结果是，形成了线栅阵列和由与线栅阵列相同的层形成的反射部件22。
图19是根据一个示例性实施例的偏振器的剖视图。图20和图21是示出了制造图19所示的偏振器的方法的剖视图。
参考图19，偏振器包括基座基底10f、设置在基座基底10f上的橡胶相缓冲构件23、设置在橡胶相缓冲构件23上的固相缓冲构件11f以及设置在固相缓冲构件11f上的线栅阵列。线栅阵列包括在第一方向上延伸并在与第一方向相交的第二方向上彼此隔开的多个线形金属图案13f。固相缓冲构件11f包括突起12f。突起12f的至少一部分被插入到线形金属图案13f内。
固相缓冲构件11f和橡胶相缓冲构件23由不同的材料形成。
例如，橡胶相缓冲构件23可以包括在室温下具有橡胶相的聚合物。例如，橡胶相缓冲构件23可以包括具有等于或小于约50℃的软化点的聚合物。例如，橡胶相缓冲构件23可以包括聚乙烯、聚丙烯、聚二甲基硅氧烷或其共聚物。在一个示例性实施例中，橡胶相缓冲构件23可以包括聚二甲基硅氧烷或其共聚物。
固相缓冲构件11f可以包括在室温下具有固(玻璃)相的聚合物。例如，固相缓冲构件11f可以包括具有等于或大于约100℃的软化点的聚合物。例如，固相缓冲构件11f可以包括聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯或其共聚物。
橡胶相缓冲构件23可包括与固相缓冲构件11f的突起12f交迭的突起24。
参考图20和图21，第一缓冲层BL1、第二缓冲层BL2和金属层ML被形成在基座基底10f上。
第一缓冲层BL1包括在室温下具有橡胶相，例如具有等于或小于约50℃的软化点的聚合物。第二缓冲层BL2在室温下具有固相，例如，具有等于或大于约100℃的软化点。
在形成金属层ML之后，包括按压图案17f的模具16f被设置在金属层ML上，以按压金属层ML。
在按压金属层ML的工艺中，第二缓冲层BL2由等于或大于第二缓冲层BL2的软化点的温度加热，并变成橡胶相。因此，按压图案17f可以刺入金属层ML达到金属层ML被按压图案17f断开的程度。
当去除模具16f时，温度降低。因此，由第二缓冲层BL2形成的固相缓冲构件11f和突起12f被固化。因此，可以防止改变设置在固相缓冲构件11f上的线栅阵列的布置。
由第一缓冲层BL1形成的橡胶相缓冲构件23对室温下的偏振器提供弹性和柔性，以防止被外力隔开并增加偏振器的柔性。
在一个示例性实施例中，橡胶相缓冲构件23包括突起24，以形成不平坦的上表面。可替代地，根据被包括在其中的聚合物的特性或制造条件，橡胶相缓冲构件23不包括突起24，使得橡胶相缓冲构件23具有平坦的上表面。
在一个示例性实施例中，线形金属图案具有锥形形状。本发明不限于此，可以具有各种形状。
例如，参考图22，偏振器包括基座基底10g、设置在基座基底10g上的缓冲构件11g以及设置在缓冲构件11g上并包括线形金属图案13g的线栅阵列。缓冲构件11g包括被插入到线形金属图案13g中的突起12g。线形金属图案13g具有基本上矩形的形状。因此，线形金属图案13g的侧表面可以在大致垂直于基座基底10g的上表面的方向上延伸。线形金属图案13g的矩形形状可以增加偏振器的偏振特性。
参考图23，偏振器包括基座基底10h、设置在基座基底10h上的缓冲构件11h以及设置在缓冲构件11h上并包括线形金属图案13h的线栅阵列。缓冲构件11h包括被插入到线形金属图案13h内的突起12h。线形金属图案13h包括比上部宽的下部。上部的侧表面在基本上垂直于基座基底10h的上表面的方向上延伸。下部的侧表面延伸以与基座基底10h的上表面形成小于约90°的角度。线形金属图案13h可以增加偏振器的偏振特性。此外，由于线形金属图案13h由具有尖锐端部的模具形成，金属层可以被容易地断开。
参考图24，偏振器包括基座基底10i、设置在基座基底10i上的缓冲构件11i以及设置在缓冲构件11i上并包括线形金属图案13i的线栅阵列。缓冲构件11i包括被插入到线形金属图案13i内的突起12i。线形金属图案13i包括上部和具有从上部在不同的方向上的侧表面的下部。例如，上部具有小于下部的锥角。线形金属图案13i包括具有不同锥角的两个部分。可替代地，线形金属图案13i可以具有蛾眼形状，使得锥角从下端朝上端逐渐减小。线形金属图案13i可以减少入射到其上的光的反射率，以实现抗反射。
根据一个示例性实施例，线栅阵列图案可以由模具直接转印，而无需使用掩模的蚀刻工艺。因此，线栅阵列图案可具有所希望的各种轮廓。
图25是根据一个示例性实施例的显示面板的剖视图。图26是根据一个示例性实施例的显示面板的剖视图。图27是根据一个示例性实施例的显示面板的剖视图。
参考图25，显示面板包括第一基底100、面对第一基底100的第二基底200以及被插入在第一基底100和第二基底200之间的液晶层。显示面板接收来自设置在显示面板下方的光源模块LS的光LIGHT，以显示图像。
第一基底100包括第一偏振器和薄膜晶体管阵列。从光源模块LS入射到第一偏振器上的光可以被部分透射和部分反射。第一偏振器反射的光可进入光源模块LS，并可以由光源模块LS的反射构件反射，以重新进入显示面板。
第一基底100包括第一基座基底110、第一缓冲构件111、包括第一线形金属图案113的线栅阵列、第一保护层114、栅电极GE、栅绝缘层115、有源图案AP、源电极SE、漏电极DE、钝化层116、有机绝缘层117和像素电极PE。
第一缓冲构件111被设置在第一基座基底110和线栅阵列之间。第一缓冲构件111包括聚合物。第一缓冲构件111包括从第一缓冲构件111的上表面向上突出的突起112。突起112的至少一部分被插入到第一线形金属图案113中，使得突起112的上表面和侧表面由第一线形金属图案113覆盖。
突起112和第一线形金属图案113在第一方向上延伸。多个突起112和多个第一线形金属图案113在与第一方向相交的第二方向上被布置成彼此平行。突起112和第一缓冲构件111被形成在由相同的材料形成的单个整体单元中。
线栅阵列可用于偏振入射光LIGHT。第一线形金属图案113包括金属。在一个示例性实施例中，第一线形金属图案113可以由包括不同的金属层的多层结构形成。在这种情况下，第一线形金属图案113可以进一步包括金属氧化物、金属氮化物等。
突起112和第一线形金属图案113可以具有下端比上端宽的锥形形状。突起112的锥角可小于第一线形金属图案113的锥角。
第一保护层114被形成在线栅阵列上，以保护线栅阵列。
第一偏振器和图15的偏振器基本相同。因此，对第一偏振器的描述将被省略。
栅电极GE、有源图案AP、源电极SE和漏电极DE形成薄膜晶体管。薄膜晶体管被电连接到像素电极PE。第一偏振器被设置在薄膜晶体管与第一基座基底110之间。在第一偏振器被形成在第一基座基底110上之后，薄膜晶体管阵列可以被形成在第一偏振器上。
栅电极GE被设置在第一保护层114上。栅电极GE被电连接到在第一基座基底110上在一个方向上延伸的栅极线。栅电极GE可以包括铝、铜、铬、钼、钨、钛、金、银、镍或其合金。此外，栅电极GE可以具有单层结构或包括不同的金属层的多层结构。例如，栅电极GE可具有铝/钼/铝的三层结构，或包括铜形成的上层和钛形成的下层的双层结构。
栅绝缘层115覆盖栅电极GE。栅绝缘层115可以包括诸如氧化硅、氮化硅等的无机绝缘材料。栅绝缘层115可具有单层结构或包括不同的材料的多层结构。例如，栅绝缘层115可以包括包含氧化硅的上层和包含氮化硅的下层。
有源图案AP被设置在栅绝缘层115上，并与栅电极GE交迭。有源图案AP形成源电极SE和漏电极DE之间的通道。有源图案AP可以包括无定形硅、多晶硅、氧化物半导体等。当有源图案AP包括非晶硅时，有源图案AP可以进一步包括接触源电极SE和漏电极DE的欧姆接触层。氧化物半导体可包括多组分的金属氧化物，如氧化铟镓、氧化铟镓锌等。
源电极SE被电连接到数据线。数据线、源电极SE和漏电极DE可以由相同的金属层形成。源电极SE可以包括铝、铜、铬、钼、钨、钛、金、银、镍或其合金。此外，源电极SE可以具有单层结构或包括不同的金属层的多层结构。例如，源电极SE可以具有铝/钼/铝的三层结构，或包括铜形成的上层和钛形成的下层的双层结构。可替代地，源电极SE可以包括包含金属氧化物的阻挡层。例如，源电极SE可以包括铜层和设置在铜层上或下方的金属氧化物层。金属氧化物层可包括氧化铟锌、氧化铟镓、氧化镓锌等。
钝化层116覆盖源电极SE、漏电极DE和栅绝缘层115。钝化层116可以包括诸如氧化硅、氮化硅等的无机绝缘材料。
有机绝缘层117被设置在钝化层116上，以平坦化基底。有机绝缘层117可包括诸如丙烯酸树脂、酚醛树脂等的有机绝缘材料。可替代地，钝化层116和/或有机绝缘层117可被省略。
像素电极PE被设置在有机绝缘层117上。像素电极PE被电连接到漏电极DE。像素电压通过薄膜晶体管被施加到像素电极PE，使得由像素电压和施加到共用电极的共用电压之间的电压差形成电场。
在一个示例性实施例中，像素电极PE穿过钝化层116和有机绝缘层117以接触漏电极DE。像素电极PE可以包括诸如氧化铟锡、氧化铟锌等的透明导电材料。
第二基底200包括第二基座基底210、包括突起212的第二缓冲构件211、包括第二线形金属图案213的线栅阵列、第二保护层214、阻光构件BM、滤色器CF、外敷层OC和共用电极CE。
包括包含突起212的第二缓冲构件211、第二线形金属图案213和第二保护层214的第二偏振器和第一偏振器基本相同。第一偏振器和第二偏振器被布置成彼此面对。例如，第一缓冲构件的突起112和第二缓冲构件的突起212面向相反的方向。因此，对第二偏振器的描述将被省略。
第二线形金属图案213在与第一线形金属图案113相同的方向上延伸。本发明不限于此。例如，第二线形金属图案213可以在与第一线形金属图案113不同的方向上，例如垂直于第一线形金属图案113的方向上延伸。
阻光构件BM被设置在第二保护层214上。阻光构件BM可以是具有矩阵形状的黑矩阵。阻光构件BM与薄膜晶体管交迭。
滤色器CF被设置在第二保护层214上。滤色器CF面对像素电极PE并与之交迭。滤色器CF可以包括红色滤色器、绿色滤色器、蓝色滤色器、青色滤色器、黄色滤色器、洋红色滤色器、白色滤色器等。
外敷层OC覆盖阻光构件BM和滤色器CF。外敷层OC可包括有机绝缘材料。
共用电极CE被设置在外敷层OC上并与像素电极PE交迭。共用电极CE可以包括诸如氧化铟锡、氧化铟锌等的透明导电材料。
在一个示例性实施例中，像素电极PE被设置在第一基底100上，共用电极CE被设置在第二基底200中。本发明不限于此。例如，像素电极和共用电极可被设置在同一基底上。滤色器和/或阻光构件可以被设置在具有薄膜晶体管基底的基底中。
根据一个示例性实施例，显示面板包括线栅偏振器。线栅偏振器可以和显示器基底共享基座基底，以减少显示面板的厚度，并可替代昂贵的吸收型偏振器。
此外，可以在不需要使用掩模的蚀刻工艺的情况下来制造偏振器。因此，金属图案的轮廓可以被保护，制造效率可以增加。
此外，偏振器的线形金属图案的下表面由于缓冲构件的突起形成不平坦的表面。不平坦的表面可以防止外部光的反射率，以增加显示面板的显示质量。
参考图26，显示面板包括第一基底300、面对第一基底300的第二基底400以及被插入在第一基底300和第二基底400之间的液晶层。
第一基底300包括第一偏振器和薄膜晶体管阵列。第一基底300包括第一基座基底310、包括突起312的第一缓冲构件311、包括第一线形金属图案313的线栅阵列、第一保护层314、栅电极GE、栅绝缘层315、有源图案AP、源电极SE、漏电极DE、钝化层316、有机绝缘层317和像素电极PE。
第二基底400包括第二基座基底410、包括突起412的第二缓冲构件411、包括第二线形金属图案413的线栅阵列、第二保护层414、阻光构件BM、外敷层OC和共用电极CE。
除了第一基座基底310被设置在第一偏振器和薄膜晶体管阵列之间并且第一偏振器垂直倒转之外，第一基底300和图25所示的第一基底100基本相同。在这种情况下，第一缓冲构件311的突起312和第二缓冲构件411的突起412面向相同的方向。
第二基底400和图25的第二基底200基本相同。
第一线形金属图案313的不平坦表面面对液晶层。因此，可以增加从光源模块提供到第一基底300的光的透射率。
参考图27，显示面板包括第一基底500、面对第一基底500的第二基底600以及被插入在第一基底500和第二基底600之间的液晶层。
第一基底500包括第一偏振器和薄膜晶体管阵列。第一基底500包括第一基座基底510、包括突起512的第一缓冲构件511、包括第一线形金属图案513的线栅阵列、第一保护层514、栅电极GE、栅绝缘层515、有源图案AP、源电极SE、漏电极DE、钝化层516、有机绝缘层517和像素电极PE。
第二基底600包括第二基座基底610、包括突起612的第二缓冲构件611、包括第二线形金属图案613的线栅阵列、第二保护层614、阻光构件BM、外敷层OC和共用电极CE。
除了第一基底500进一步包括由与线栅阵列相同的层形成的反射部件519以及第一缓冲构件511进一步包括至少一部分被插入到反射部件519中的第二突起518之外，第一基底500和图25的第一基底100基本相同。
第二基底600和图25的第二基底200基本相同。
反射部件519由与第一线形金属图案513相同的材料形成。此外，反射部件519具有大于第一线形金属图案513的宽度。反射部件519可以被设置在阻光区域中。例如，反射部件519与薄膜晶体管或阻光构件BM交迭。
当第一基底500不包括反射部件519时，进入阻光区域的光可以被透射并且由阻光构件BM吸收。反射部件519反射入射到其上的光，以使反射的光可以被再次使用。因此，显示面板的亮度可以增加。
本发明可以用于包括偏振器的各种显示设备中。例如，本发明可以用在包括偏振器的有机发光设备或光学器件中。
尽管已经参考本发明的示例性实施例示出和描述了本发明，但对本领域普通技术人员来说将明显的是，可以在不脱离由下面的权利要求所限定的发明构思的精神和范围的情况下对形式和细节进行各种改变。

Claims (23)

1.一种偏振器，包括：
包括多个突起的缓冲构件，其中所述缓冲构件由聚合物形成；和
彼此隔开并在第一方向上延伸的多个线形金属图案，
其中每个线形金属图案覆盖各自的突起，
其中每个线性金属图案具有覆盖一个突起的顶部部分的梯形形状，所述梯形形状包括覆盖所述一个突起的侧部的延伸部，并且
其中所述延伸部相对于所述缓冲构件的上表面的角度为锐角，并且所述侧部相对于所述缓冲构件的所述上表面的角度小于所述锐角，
所述偏振器进一步包括：设置在所述线形金属图案上并与所述缓冲构件相对的保护层，使得气隙被形成在相邻的所述线形金属图案之间。
2.根据权利要求1所述的偏振器，其中所述线形金属图案包括铝、金、银、铜、铬、铁、镍、钛、钼、钨或其合金。
3.根据权利要求1所述的偏振器，其中所述缓冲构件包括聚甲基丙烯酸甲酯、聚二甲基硅氧烷、聚碳酸酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚苯乙烯、聚乙烯、聚丙烯、聚乙烯醇或其共聚物。
4.根据权利要求1所述的偏振器，其中所述线形金属图案包括下金属图案和覆盖所述下金属图案的上保护图案，并且
其中所述下金属图案包括铝、金、银、铜或其合金，并且所述上保护图案包括镍、钛、钼、钨、其合金、其氧化物或其氮化物。
5.根据权利要求1所述的偏振器，进一步包括设置在两个相邻的线形金属图案之间的连接部分，其中所述连接部分薄到光穿过所述连接部分的程度。
6.根据权利要求1所述的偏振器，进一步包括：
设置在所述线形金属图案上并与所述缓冲构件相对的保护层，其中所述保护层由无机材料形成。
7.根据权利要求1所述的偏振器，进一步包括：
邻近所述线形金属图案设置的反射部件，其中所述反射部件和所述线形金属图案由相同的材料形成，其中所述反射部件的宽度大于每个线形金属图案的宽度，其中所述反射部件的顶表面和每个线形金属图案的顶表面位于相同的高度。
8.根据权利要求1所述的偏振器，其中所述缓冲构件包括橡胶相缓冲构件和设置在所述橡胶相缓冲构件上的固相缓冲构件，并且
其中所述固相缓冲构件包括插入到所述线性图案中的突起，并且
其中所述橡胶相缓冲构件包括具有等于或小于50℃的软化点的聚合物，并且所述固相缓冲构件包括具有等于或大于100℃的软化点的聚合物。
9.一种制造偏振器的方法，该方法包括：
形成包括聚合物的缓冲层和金属层，其中所述金属层被形成在所述缓冲层上，和
通过使用具有按压图案的模具按压所述金属层和所述缓冲层由所述金属层和所述缓冲层分别形成多个线形金属图案和多个突起，其中每个突起的至少一部分被插入到各自的线形金属图案中，
其中每个线性金属图案具有覆盖一个突起的顶部部分的梯形形状，所述梯形形状包括覆盖所述一个突起的侧部的延伸部，并且
其中所述延伸部相对于所述缓冲构件的上表面的角度为锐角，并且所述侧部相对于所述缓冲构件的所述上表面的角度小于所述锐角，
所述方法进一步包括：在所述线形金属图案上设置与所述缓冲构件相对的保护层，使得气隙被形成在相邻的所述线形金属图案之间。
10.根据权利要求9所述的方法，其中所述缓冲层包括聚甲基丙烯酸甲酯、聚二甲基硅氧烷、聚碳酸酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚苯乙烯、聚乙烯、聚丙烯、聚乙烯醇和其共聚物中的至少一种。
11.根据权利要求9所述的方法，其中所述金属层包括铝、金、银、铜、铬、铁、镍、钛、钼、钨和其合金中的至少一种。
12.根据权利要求9所述的方法，其中在按压所述金属层之后所述线形金属图案由所述金属层的剩余部分彼此连接。
13.根据权利要求9所述的方法，其中形成所述缓冲层包括：
形成第一缓冲层，该第一缓冲层包括具有等于或小于50℃的软化点的第一聚合物；以及
在所述第一缓冲层上形成第二缓冲层，该第二缓冲层包括具有等于或大于100℃的软化点的第二聚合物。
14.一种显示面板，包括：
第一基底；
面对所述第一基底的第二基底；和
设置在所述第一基底与所述第二基底之间的液晶层，
其中所述第一基底包括偏振器，该偏振器包括多个线形金属图案以及由聚合物形成并包括多个突起的缓冲构件，其中每个突起的一部分被插入到各自的线形金属图案中，
其中每个线性金属图案具有覆盖一个突起的顶部部分的梯形形状，所述梯形形状包括覆盖所述一个突起的侧部的延伸部，并且
其中所述延伸部相对于所述缓冲构件的上表面的角度为锐角，并且所述侧部相对于所述缓冲构件的所述上表面的角度小于所述锐角，
所述偏振器进一步包括：设置在所述线形金属图案上并与所述缓冲构件相对的保护层，使得气隙被形成在相邻的所述线形金属图案之间。
15.根据权利要求14所述的显示面板，其中所述线形金属图案包括铝、金、银、铜、铬、铁、镍、钛、钼、钨或其合金中的至少一种。
16.根据权利要求14所述的显示面板，其中所述缓冲构件包括聚甲基丙烯酸甲酯、聚二甲基硅氧烷、聚碳酸酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚苯乙烯、聚乙烯、聚丙烯、聚乙烯醇和其共聚物中的至少一种。
17.根据权利要求14所述的显示面板，其中所述第一基底进一步包括由与所述线形金属图案相同的材料形成的反射部件，其中所述反射部件具有大于每个线形金属图案的宽度。
18.根据权利要求17所述的显示面板，其中所述第一基底进一步包括设置在所述偏振器上的薄膜晶体管和电连接到所述薄膜晶体管的像素电极，并且其中所述反射部件与所述薄膜晶体管交迭。
19.根据权利要求14所述的显示面板，其中所述缓冲构件包括橡胶相缓冲构件和固相缓冲构件，
其中所述固相缓冲构件被设置在所述橡胶相缓冲构件上，并且
其中所述突起由所述固相缓冲构件形成，并且
其中所述橡胶相缓冲构件包括具有等于或小于50℃的软化点的聚合物，并且所述固相缓冲构件包括具有等于或大于100℃的软化点的聚合物。
20.一种显示面板，包括：
包括多个突起的缓冲构件，其中每个突起从所述缓冲构件的上表面突出，所述突起使所述缓冲构件具有波纹表面；和
设置在所述缓冲构件的所述波纹表面上的多条金属线，其中每个突起由各自的金属线包围，并且其中两条相邻的金属线暴露所述缓冲构件的所述上表面在两条相邻的金属线之间的一部分，
其中每个线性金属图案具有覆盖一个突起的顶部部分的梯形形状，所述梯形形状包括覆盖所述一个突起的侧部的延伸部，并且
其中所述延伸部相对于所述缓冲构件的上表面的角度为锐角，并且所述侧部相对于所述缓冲构件的所述上表面的角度小于所述锐角，
所述显示面板进一步包括：设置在所述金属线上并和光源相对的薄膜晶体管；和被插入在所述薄膜晶体管和所述金属线之间的保护层，使得所述保护层、所述两条相邻的金属线和所述缓冲构件的所述上表面的所述一部分形成气隙。
21.根据权利要求20所述的显示面板，其中穿过所述缓冲构件的光被所述金属线偏振，其中两条相邻金属线之间的间隔小于所述光的波长。
22.根据权利要求21所述的显示面板，其中每个突起在从所述光源发射光的方向上突出。
23.根据权利要求21所述的显示面板，进一步包括：
设置在所述金属线上并和所述光源相对的薄膜晶体管，其中每个突起在从所述光源发射光的相反方向上突出。
CN201911167343.6A 2014-10-29 2015-10-26 偏振器、包括偏振器的显示面板和制造偏振器的方法 Active CN110989065B (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020140148420A KR102295624B1 (ko) 2014-10-29 2014-10-29 편광자, 편광자의 제조 방법 및 표시 패널
KR10-2014-0148420 2014-10-29
CN201510701072.3A CN105572778B (zh) 2014-10-29 2015-10-26 偏振器、包括偏振器的显示面板和制造偏振器的方法

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201510701072.3A Division CN105572778B (zh) 2014-10-29 2015-10-26 偏振器、包括偏振器的显示面板和制造偏振器的方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN110989065A CN110989065A (zh) 2020-04-10
CN110989065B true CN110989065B (zh) 2022-01-25

Family

ID=55852453

Family Applications (3)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201911167343.6A Active CN110989065B (zh) 2014-10-29 2015-10-26 偏振器、包括偏振器的显示面板和制造偏振器的方法
CN201510701072.3A Active CN105572778B (zh) 2014-10-29 2015-10-26 偏振器、包括偏振器的显示面板和制造偏振器的方法
CN202210010017.XA Pending CN114296172A (zh) 2014-10-29 2015-10-26 偏振器、包括偏振器的显示面板和制造偏振器的方法

Family Applications After (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201510701072.3A Active CN105572778B (zh) 2014-10-29 2015-10-26 偏振器、包括偏振器的显示面板和制造偏振器的方法
CN202210010017.XA Pending CN114296172A (zh) 2014-10-29 2015-10-26 偏振器、包括偏振器的显示面板和制造偏振器的方法

Country Status (3)

Country Link
US (4) US10222527B2 (zh)
KR (2) KR102295624B1 (zh)
CN (3) CN110989065B (zh)

Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102295624B1 (ko) 2014-10-29 2021-08-31 삼성디스플레이 주식회사 편광자, 편광자의 제조 방법 및 표시 패널
KR102562896B1 (ko) * 2016-03-18 2023-08-04 삼성디스플레이 주식회사 디스플레이 장치
KR102567008B1 (ko) * 2016-03-18 2023-08-14 삼성디스플레이 주식회사 금속선 편광자를 포함하는 표시 장치 및 그 제조 방법
KR20170143054A (ko) * 2016-06-17 2017-12-29 삼성디스플레이 주식회사 액정 표시 장치
CN106125426A (zh) * 2016-06-27 2016-11-16 京东方科技集团股份有限公司 一种基板、显示装置及基板的制造方法
JP6935318B2 (ja) * 2016-12-28 2021-09-15 デクセリアルズ株式会社 偏光板及びその製造方法、並びに光学機器
CN106597599A (zh) * 2017-01-17 2017-04-26 京东方科技集团股份有限公司 背光模组、显示面板及显示装置
US10312228B2 (en) * 2017-01-25 2019-06-04 Innolux Corporation Display device
CN107482037B (zh) * 2017-07-19 2019-10-11 武汉华星光电技术有限公司 一种圆偏光片及显示器
JP2019061125A (ja) * 2017-09-27 2019-04-18 デクセリアルズ株式会社 偏光板及びその製造方法、並びに光学機器
JP6642560B2 (ja) * 2017-12-26 2020-02-05 セイコーエプソン株式会社 ワイヤーグリッド偏光素子、ワイヤーグリッド偏光素子の製造方法、および電子機器
KR102559836B1 (ko) * 2018-01-31 2023-07-27 삼성디스플레이 주식회사 편광자, 상기 편광자를 포함한 광학 장치, 상기 편광자를 포함한 디스플레이 장치 및 상기 편광자의 제조 방법
KR102142981B1 (ko) * 2018-05-29 2020-08-11 한국기계연구원 나노패턴을 가지는 금속층 제조방법
KR20200005689A (ko) * 2018-07-05 2020-01-16 삼성디스플레이 주식회사 백라이트 유닛 및 이를 포함하는 표시 장치
US11249234B2 (en) * 2019-07-29 2022-02-15 Moxtek, Inc. Polarizer with composite materials
JP7444721B2 (ja) * 2019-12-18 2024-03-06 住友化学株式会社 複合偏光板及び液晶表示装置
TWI731572B (zh) * 2020-02-06 2021-06-21 友達光電股份有限公司 感光裝置以及感測指紋的方法
WO2024042941A1 (ja) * 2022-08-26 2024-02-29 国立研究開発法人産業技術総合研究所 ワイヤグリッド型偏光素子、及びその製造方法

Family Cites Families (35)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002303726A (ja) * 2001-04-06 2002-10-18 Nitto Denko Corp 偏光フィルム、偏光子用保護フィルム、偏光フィルムの製造方法、偏光フィルムを用いた光学フィルムならびに液晶表示装置
WO2004106983A2 (en) * 2003-05-22 2004-12-09 Optical Research Associates Illumination in optical systems
TWI223103B (en) * 2003-10-23 2004-11-01 Ind Tech Res Inst Wire grid polarizer with double metal layers
CN1621866A (zh) * 2003-11-28 2005-06-01 日本板硝子株式会社 薄膜结构与制造该薄膜结构的方法
WO2006064693A1 (ja) * 2004-12-16 2006-06-22 Toray Industries, Inc. 偏光板、その製造方法およびそれを用いた液晶表示装置
JP2006310737A (ja) * 2005-03-29 2006-11-09 Seiko Epson Corp 発光素子、発光素子の製造方法及び画像表示装置
EP1887390A4 (en) * 2005-05-27 2010-09-15 Zeon Corp GRID POLARIZATION FILM, METHOD FOR PRODUCING THE SAME, OPTICAL LAMINATE, MANUFACTURING METHOD THEREOF, AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY
KR100642003B1 (ko) * 2005-06-02 2006-11-02 엘지전자 주식회사 와이어 그리드 편광판, 그의 제조 방법 및 그를 갖는백라이트 유닛
JP4275692B2 (ja) * 2005-10-17 2009-06-10 旭化成株式会社 ワイヤグリッド偏光板及びそれを用いた液晶表示装置
US20070242352A1 (en) * 2006-04-13 2007-10-18 Macmaster Steven William Wire-grid polarizers, methods of fabrication thereof and their use in transmissive displays
JP2008279597A (ja) * 2006-05-10 2008-11-20 Oji Paper Co Ltd 凹凸パターン形成シートおよびその製造方法、反射防止体、位相差板、工程シート原版ならびに光学素子の製造方法
CN101101411A (zh) * 2006-07-07 2008-01-09 日东电工株式会社 液晶面板和液晶显示装置
JP4795214B2 (ja) * 2006-12-07 2011-10-19 チェイル インダストリーズ インコーポレイテッド ワイヤーグリッド偏光子及びその製造方法
KR100863570B1 (ko) 2006-12-19 2008-10-15 삼성전자주식회사 와이어 그리드 편광자의 제조방법
CN101622557A (zh) * 2007-01-12 2010-01-06 东丽株式会社 偏振片和使用该偏振片的液晶显示装置
US8373928B2 (en) * 2007-04-19 2013-02-12 Samsung Display Co., Ltd. Polarizer and organic light emitting display apparatus comprising the polarizer
KR100980284B1 (ko) * 2007-09-07 2010-09-06 미래나노텍(주) 접착력이 향상된 나노 와이어 그리드 편광자 및 그 제조방법
KR100987024B1 (ko) * 2008-02-19 2010-10-11 미래나노텍(주) 나노 와이어 그리드 편광판 및 그 제조 방법
KR20110002008A (ko) * 2008-04-03 2011-01-06 아사히 가라스 가부시키가이샤 와이어 그리드형 편광자 및 그 제조 방법
CN102046357B (zh) * 2008-06-05 2014-06-25 旭硝子株式会社 纳米压印用模具、其制造方法及表面具有微细凹凸结构的树脂成形体以及线栅型偏振器的制造方法
JP5459210B2 (ja) * 2008-07-10 2014-04-02 旭硝子株式会社 ワイヤグリッド型偏光子およびその製造方法
JP2010048999A (ja) * 2008-08-21 2010-03-04 Asahi Kasei E-Materials Corp ワイヤグリッド偏光子及びそれを用いた表示装置
JP5291425B2 (ja) * 2008-10-03 2013-09-18 旭化成イーマテリアルズ株式会社 吸収型ワイヤグリッド偏光子及び液晶表示装置
JP2010204626A (ja) * 2009-02-05 2010-09-16 Asahi Glass Co Ltd ワイヤグリッド型偏光子およびその製造方法
US8752608B2 (en) * 2009-04-15 2014-06-17 The Regents Of The University Of Michigan Dynamic nano-inscribing for continuous and seamless metal and polymer nanogratings
KR20120106923A (ko) 2009-07-01 2012-09-27 아사히 가라스 가부시키가이샤 미세 요철 구조를 표면에 갖는 물품의 제조 방법 및 와이어 그리드형 편광자의 제조 방법
KR20120085252A (ko) * 2009-10-08 2012-07-31 아사히 가라스 가부시키가이샤 와이어 그리드형 편광자 및 그 제조 방법
JPWO2011132649A1 (ja) * 2010-04-19 2013-07-18 旭硝子株式会社 ワイヤグリッド型偏光子の製造方法および液晶表示装置
KR101116977B1 (ko) 2010-07-12 2012-03-14 고려대학교 산학협력단 태양전지 및 그 제조방법
KR101367530B1 (ko) 2011-12-19 2014-02-27 고려대학교 산학협력단 복합기능 광학 필름의 제조방법
JP6433895B2 (ja) * 2012-08-10 2018-12-05 テマセク ポリテクニックＴｅｍａｓｅｋ Ｐｏｌｙｔｅｃｈｎｉｃ 光回折格子
KR20140118027A (ko) * 2013-03-28 2014-10-08 삼성디스플레이 주식회사 액정표시장치
KR102116308B1 (ko) 2013-09-04 2020-06-01 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치
KR102150859B1 (ko) 2014-01-13 2020-09-03 삼성디스플레이 주식회사 표시장치
KR102295624B1 (ko) 2014-10-29 2021-08-31 삼성디스플레이 주식회사 편광자, 편광자의 제조 방법 및 표시 패널

Also Published As

Publication number Publication date
CN105572778A (zh) 2016-05-11
US20210373220A1 (en) 2021-12-02
CN105572778B (zh) 2019-12-20
KR102295624B1 (ko) 2021-08-31
US11719871B2 (en) 2023-08-08
CN110989065A (zh) 2020-04-10
US10222527B2 (en) 2019-03-05
KR20210110785A (ko) 2021-09-09
KR102435171B1 (ko) 2022-08-24
US20210373221A1 (en) 2021-12-02
US11112549B2 (en) 2021-09-07
US20190162891A1 (en) 2019-05-30
US20160124133A1 (en) 2016-05-05
CN114296172A (zh) 2022-04-08
KR20160052937A (ko) 2016-05-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN110989065B (zh) 偏振器、包括偏振器的显示面板和制造偏振器的方法
KR101977061B1 (ko) 편광 소자, 이를 포함하는 표시 패널 및 이의 제조 방법
KR102352016B1 (ko) 표시 기판, 표시 패널 및 편광 소자의 제조 방법
US9223069B2 (en) Polarizer and method of manufacturing the same
US10656460B2 (en) Liquid crystal display and manufacturing method thereof
KR101494951B1 (ko) 간섭형 필터층 부착 기판 및 그것을 사용한 표시 장치
KR102554120B1 (ko) 액정 표시 장치
US20160124265A1 (en) Polarizer, method for manufacturing polarizer and display panel
US20150070762A1 (en) Polarizer, display device having the same, and method of manufacturing the same
KR102254533B1 (ko) 편광 소자의 제조 방법 및 이를 포함하는 표시 패널
CN105700056B (zh) 偏振板、包括该偏振板的tft基板及制造该偏振板的方法
KR20130024041A (ko) 와이어 그리드 편광자 및 그 제조방법, 와이어 그리드 편광자를 포함한 액정표시장치
KR20140131473A (ko) 유기발광 표시장치 및 그 제조방법
US20150241735A1 (en) Display panel, display apparatus having the same and method of manufacturing the same
US9581745B2 (en) Wire grid polarizer and method for fabricating the same
KR102305461B1 (ko) 곡면 표시 장치
KR20160014835A (ko) 와이어 그리드 편광자 및 이의 제조방법
KR102079163B1 (ko) 와이어 그리드 편광자, 이를 포함하는 표시 장치 및 이의 제조방법
US20090244906A1 (en) Display apparatus and method of manufacturing the same
KR101941165B1 (ko) 광 스위칭 소자, 이를 포함한 영상 표시 장치 및 그 제조 방법
US20160209703A1 (en) Method of manufacturing display device
KR20170112582A (ko) 터치 센서가 일체화된 플렉서블 컬러 필터와 플렉서블 액정 표시 장치 및 그 제조방법
TWI333112B (en) Liquid crystal driving electrode and liquid crystal display using the same
KR20110049478A (ko) 액정표시장치의 제조방법
KR20170112251A (ko) 필름형 박막 트랜지스터 어레이와 그를 포함하는 플렉서블 액정 표시 장치 및 플렉서블 액정 표시 장치 제조방법

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant