CN110891788A - 制备平版印刷版的方法 - Google Patents
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Abstract
阴图制版平版印刷版前体的成像敏感度通过从前体周围的环境空气中去除臭氧来改善,该前体可在使用之前储存在诸如印版记录机之类的成像设备附近。臭氧可使用含有活性炭或其它臭氧分解手段的合适过滤剂来去除,在成像过程之前和期间环境空气通过该过滤剂进行过滤。
Description
发明领域
本发明涉及由阴图制版平版印刷版前体在具有降低的可不利影响该前体的成像敏感度的环境臭氧水平的环境中制备平版印刷版的方法。该方法在储存于成像装置附近且自动装载到成像装置上的前体的成像期间是特别有用的。此类经成像的前体在平版印刷操作期间可容易地在机(on-press)显影。
发明背景
成像系统,例如计算机直接制版(CTP)成像系统是本领域已知的,并且用于记录平版印刷版前体上的图像。此类前体包含通常由铝组成的平坦衬底,其具有其上设置一个或更多个辐射敏感可成像层的亲水表面。在平版印刷中,在平坦衬底的亲水表面上生成平印油墨接收区域,称作图像区域。当用水湿润印刷版表面并施加平版印刷油墨时,亲水区域保留水并排斥平版印刷油墨,且平印油墨接收性图像区域接受平版印刷油墨并排斥水。可能在橡皮辊(blanket roller)的使用下,将平版印刷油墨转印到其上欲复制图像的材料的表面。
平版印刷版前体被认为是“阳图制版”或“阴图制版”。将阳图制版平版印刷版前体设计为具有一个或更多个辐射敏感层,以致一经成像(imagewise)暴露于合适的辐射,所述层的曝光区域变得更可溶于碱性溶液,并且可在冲洗期间去除,以留下接受用于印刷的平印油墨的未曝光区域。
相比之下,将阴图制版平版印刷版前体设计为具有辐射敏感层,以致一经成像暴露于合适的辐射,所述层的曝光区域硬化并且在冲洗期间变得耐去除,同时未曝光区域可在冲洗期间去除,所述冲洗可在润版液、平版印刷油墨或该两者的存在下,在平版印刷期间在机进行。
在平版印刷工业的现有技术中,经常使用在通常称为印版记录机(用于CTP成像)的成像设备中的激光器将平版印刷版前体成像暴露于成像辐射(例如红外辐射),之后进行额外的冲洗(显影),以从经成像的前体中去除不想要的材料。制造商通常提供呈相同尺寸的元件的“堆叠(stacks)”形式的前体,可能通过衬纸彼此分开。可在托盘或提供支撑并简化传送的其它结构上递送前体的堆叠。或者,可在箱、盒或提供所需保护和使用定位的其它保护性外壳内容纳前体的堆叠。
许多成像系统为大量的待使用的平版印刷版前体(待使用的平版印刷版前体的堆叠)提供集成储存设施,并提供自动化机制或装置,用于选择并装载成像用的各前体。例如,印版记录机可与自动装载机(或装载装置或印版送入装置)一起使用,该自动装载机(或装载装置或印版送入装置)自动从堆叠中捡取单独的前体,并将其装载到成像鼓上,在成像鼓中,用合适的辐射使各前体适当地成像曝光。成像装置中的此类特征组合为某些高产量印刷工作(例如新闻纸的印刷)提供了相当大的自动化以及高生产量。可在印版记录机附近的供应区域中布置多个平版印刷版前体的堆叠,准备供使用自动装载机进行装载。
美国专利6,840,176(Armoni)描述了CTP系统,其包含成像单元和排列用于自动装载到成像单元(印版记录机)中的平版印刷版前体的堆叠。用于装载平版印刷版的装置还描述于美国专利8,739,702(Korolik等人)中,且用于该目的的印版处理系统描述于美国专利7,861,940(Cummings等人)中。
在此类自动印刷操作中,经常在印版记录机附近使平版印刷版前体储存延长的时段,而没有任何遮盖物来保护各前体中的辐射敏感可成像层免受环境条件。
已发现,某些平版印刷版前体(例如阴图制版平版印刷版前体)在印版记录机附近或内部在没有保护性遮盖物的情况下暴露于环境臭氧时,易于丧失成像敏感度。环境臭氧含量通常为约50 ppb,并且在电气设备附近可由于由此类设备产生的臭氧而更高。在已发现臭氧的作用所引起的该问题的情况下,平版印刷工业需要解决该问题,以便不丧失成像敏感度,并且可有效实现新闻纸的高速平版印刷。
发明概述
本发明提供由一个或更多个阴图制版平版印刷版前体制备一个或更多个平版印刷版的方法,其包括:
提供成像装置(imaging apparatus),其包含:成像设备(imaging means);和完全包围该成像设备的外壳,所述外壳包含用于将受控空气流提供到外壳中的进气单元;
使用用于从进入外壳的受控空气流中或从外壳内的环境空气中去除臭氧的设备;
将一个或更多个阴图制版平版印刷版前体供应至成像设备,各阴图制版平版印刷版前体包含其上具有阴图制版可成像层的衬底;
将一个或更多个阴图制版平版印刷版前体成像曝光,以提供在阴图制版可成像层中包含曝光区域和未曝光区域的一个或更多个经成像的前体;和
冲洗一个或更多个经成像的前体,以去除阴图制版可成像层中的未曝光区域,以形成一个或更多个平版印刷版。
在本发明的一些实施方案中,成像装置进一步包含多个阴图制版平版印刷版前体的堆叠;和自动装载设备,并且
将一个或更多个阴图制版平版印刷版前体供应至成像设备的步骤通过操作自动装载设备以将一个或更多个阴图制版平版印刷版前体从所述堆叠装载到成像设备上来执行。
一旦在成像装置附近或内部的储存前体中发现所述成像敏感度丧失的问题,发现可以通过用以使前体暴露于其的空气中的臭氧水平最小化的特殊的臭氧去除设备来解决该问题。对于在封装前体的一个或更多个堆叠连同成像设备和自动装载设备的壳体中使用的印版记录机(成像设备)而言,可提供臭氧去除设备,例如以臭氧去除过滤剂的形式,来去除臭氧。此类臭氧去除过滤剂可含有活性炭、臭氧分解催化剂或该两者。臭氧去除设备可以是放置于成像装置壳体内部的一个或更多个空气净化设备。此类空气净化设备可用于处理成像装置壳体内部或外部的环境空气。
附图简述
图1是如以下发明例1中所例示的本发明的一种实施方案的示意图。
图2是如以下发明例2中所例示的本发明的另一种实施方案的示意图。
图3是如以下发明例3中所例示的本发明的又一种实施方案的示意图。
图4是如以下发明例4中所例示的本发明的再一种实施方案的示意图。
发明详述
以下讨论涉及本发明的各种实施方案,并且虽然一些实施方案对于特定用途可以是合意的,但是所公开的实施方案不应被解释为或以其它方式被认为是限制如下面所要求保护的本发明的范围。另外,本领域技术人员将理解,以下公开内容具有比任何实施方案的讨论中所明确描述的更宽泛的应用。
定义
除非另外指明,否则如本文中用于定义阴图制版可成像层和配制物的各种组分以及本发明的实践中使用的其它材料的单数形式“一(a, an)”和“该/所述(the)”意欲包括一种或更多种组分(即,包括复数指称)。
本申请中没有明确定义的各术语应理解为具有本领域技术人员通常所接受的含义。如果术语的结构将使其在其上下文中没有含义或基本上没有含义,则应将该术语解释为具有标准的词典含义。
除非另外明确地另外指明,否则本文规定的各种范围中的数值的使用是如同所述范围内的最小值和最大值之前均有词语“约”的近似值。采用这种方式,所述范围的些许上下变化可有用于获得与该范围内的值所获得的基本相同的结果。另外,这些范围的公开意欲作为连续范围,包括最小值与最大值之间的每一个值以及该范围的端点。
除非上下文另外指明,否则当在本文中使用时,术语“阴图制版平版印刷版前体”、“前体”和“平版印刷版前体”表示同等指代本发明的实践中使用的实施方案。
术语“载体”在本文中用来指含铝材料(卷材、条材、片材、箔或其它形式),其然后可被处理或涂布,以制备“衬底”,“衬底”指具有其上设置各种层的亲水平坦表面的亲水制品。
如本文中使用的术语“红外辐射吸收剂”指吸收红外区域中的电磁辐射的化合物或材料,并且通常指在红外区域中具有最大吸收的化合物或材料。
如本文中使用的术语“红外区域”指具有至少750 nm及更高波长的辐射。在大多数情况下,术语“红外”用来指电磁波谱的“近红外”区域,在本文中将其定义为至少750 nm且至多并包括1400 nm。
为澄清针对涉及聚合物的任何术语的定义,应参考由国际纯粹和应用化学联合会(International Union of Pure and Applied Chemistry, “UPAC”)所出版的“Glossaryof Basic Terms in Polymer Science”, Pure Appl. Chem.68, 2287-2311 (1996)。然而,本文中明确阐述的任何定义应视为决定性的。
如本文中使用的术语“聚合物”用来描述通过将许多小的反应单体连接在一起而形成的具有相对较大分子量的化合物。随着聚合物链的生长,其以无规方式在其本身上回折,以形成盘绕的结构。伴随溶剂的选择,聚合物可随着链长度的生长而变得不可溶,并且变成分散于溶剂介质中的聚合物颗粒。这些颗粒分散体可以是非常稳定的,并且有用于所描述的用于在本发明中使用的辐射敏感可成像层中。在本发明中,除非另外指明,否则术语“聚合物”指未交联的材料。因此,交联的聚合物颗粒与未交联的聚合物颗粒的区别在于后者可溶解于具有良好溶剂化性质的某些有机溶剂中,然而交联的聚合物颗粒在有机溶剂中可以溶胀但是不溶解,因为聚合物链通过强共价键连接。
术语“共聚物”指由沿着聚合物主链排列的两种或更多种不同的重复(repeating或recurring)单元组成的聚合物。
术语“主链”指聚合物中可与多个侧基结合的原子的链。此类主链的实例是由一种或更多种烯键式不饱和可聚合单体的聚合获得的“全碳”主链。
本文中描述的聚合物粘合剂中的重复单元通常源自在聚合过程中使用的相应的烯键式不饱和可聚合单体,所述烯键式不饱和可聚合单体可获得自各种商业来源或使用已知的化学合成方法来制备。
如本文中使用的术语“烯键式不饱和可聚合单体”指包含一个或更多个烯键式不饱和(-C=C-)键的化合物,所述键可使用自由基或酸催化的聚合反应和条件聚合。这并不意味着指仅具有在这些条件下不可聚合的不饱和-C=C-键的化合物。
除非另外指明,否则术语“重量%”指基于组合物、配制物或层的总固体计的组分或材料的量。除非另外指明,否则针对干燥层或配制物或组合物的总固体的百分比可以相同。
如本文中使用的术语“层”或“涂层”可由一个设置或施加的层或若干个相继设置或施加的层的组合构成。若层被视为红外辐射敏感和阴图制版的,则该层既对辐射(如以上针对“辐射吸收剂”所描述的)敏感,又在平版印刷版的形成中为阴图制版的。
用途
本发明的方法有用于制备平版印刷版,所述平版印刷版通过如下文所描述的成像曝光和使用合适的显影剂脱机(off-press)冲洗经曝光的前体或使用平版印刷油墨、润版液、或平版印刷油墨与润版液的组合在机冲洗经曝光的前体而准备好用于平版印刷。
成像装置和使用
可通过参考图1-4来进一步理解本发明的方法,图1-4例示了下面发明例1-4中所展示的特别的实施方案,但是本发明不局限于使用图1-4中所显示的具体的成像装置。
在图1中显示了具有成像设备15的成像装置10,成像设备15通常为印版记录机,例如下文中更详细描述的那些,但是可以是设计用于使阴图制版平版印刷版前体成像的其它机器。成像设备15通常位于外壳20(或壳体)内,外壳20(或壳体)可以是用于特定成像机器的具体设计的壳体,或者它可以是特别设计的室。在外壳20内是用于带入未经处理的环境空气的设备例如进气单元25,其可被设计为具有一个或更多个空气进口,并且通常与用于提供并控制进入外壳20中的未经处理的环境空气流的设备(未显示)连接。用箭头30显示通过进气单元25进入外壳20中的环境空气流。
可使可包含一种或更多种臭氧去除过滤剂(设计为具有将吸收来自未经处理的环境空气中的臭氧的化学组分,例如活性炭、臭氧分解化学品(催化剂))的臭氧去除设备35位于外壳20(壳体)内接近成像设备15处,以致与成像设备15接触并围绕其循环的未经处理的环境空气非常可能通过臭氧去除设备35,从而基于外壳20内未经处理的环境空气中的臭氧原始量或引入外壳20中的受控空气中的臭氧原始量计,将在外壳20内循环的臭氧的浓度降低例如至少50 mol%或甚至至少80 mol%。本领域技术人员基于未经处理的环境空气中臭氧的量(通常为约50 ppb)的知识和被带入外壳20中的未经处理的环境空气的体积或速率可容易地设计臭氧去除设备35,以实现该结果。
多个阴图制版平版印刷版前体的堆叠显示为此类前体的托盘40,其位于成像装置10内接近成像设备15和臭氧去除设备35处。多个前体的堆叠可具有设置在相邻前体之间的衬纸,但是本发明的一个优点在于可在无衬纸的情况下储存托盘40上的阴图制版平版印刷版前体,并且成像敏感度不会被在外壳20内循环的环境空气中的臭氧严重降低。在图1中显示的实施方案中,有可能减少对多个前体中的一个或更多个中的阴图制版成像层化学的不利影响,所述前体在其被装载到成像设备15上之前暴露于循环的环境空气中。因此,臭氧去除设备35与平版印刷版前体的托盘40、自动装载设备(未显示)和成像设备15均密切邻近。可使各经成像的前体按由箭头45所代表的方向从成像设备15移动到合适的脱机冲洗(显影)装置或到用于在机显影的印刷机。下文中详细描述冲洗条件、装置和溶液。
图2显示了如图1中所例示的成像装置10的改造。区别在于臭氧去除设备35位于外壳20的外部,并且仅允许经处理的环境空气通过用以引导经处理的环境空气的合适的设备进入外壳20,例如通过可用于控制和引导环境空气流30(现在是经处理的空气)的柔性空气管50或类似的管或导管进入。
图3例示了又一种有用于实施本发明的特征的布置。所述特征与图1中所例示的那些相同,所不同的是臭氧去除设备35直接位于进气单元25中,以致未经处理的环境空气在其作为环境空气流30(现在是经处理的空气)在外壳20内循环之前应通过进气单元25。在此类实施方案中,臭氧去除设备35可以并入一个或更多个风扇单元内,所述风扇单元包含在各单元内的一个或更多个风扇,以及放置在一个或更多个风扇单元的环境空气流30的路径中的一种或更多种臭氧去除过滤剂,所述一个或更多个风扇单元位于进气单元25的一个或更多个开口(未示出)内。
最后,图4中所例示的成像装置10与图2中所例示的成像装置相似,所不同的是使用位于容纳成像装置10的室中的臭氧去除设备35来处理环境空气。
阴图制版平版印刷前体
可以使用以下组分和材料来构建在本发明中有用的阴图制版平版印刷版前体。通常,各前体具有其上设置阴图制版可成像层的衬底,该阴图制版可成像层包含用于辐射成像的合适化学(物质)和用于去除成像层的未曝光区域的合适冲洗。
衬底:
存在于前体中的衬底通常具有亲水成像侧平坦表面、或至少比在衬底的成像侧上所施加的阴图制版可成像层更亲水的表面。该衬底包含可以由常规用于制备平版印刷版前体的任何材料组成的载体。
一种有用的衬底由可以使用本领域已知的技术处理的含铝载体组成,所述技术包括通过物理(机械)磨版、电化学磨版或化学磨版的一些类型的粗糙化,其后进行阳极氧化。阳极氧化通常使用磷酸或硫酸和常规程序来完成,以在含铝载体上形成所需的亲水氧化铝(或阳极氧化物)层或涂层,所述氧化铝(阳极氧化物)层可包含单层或复合多层,其具有深度和孔隙开口形状不同的多个孔隙。因此,此类方法在阴图制版可成像层(可以如下所描述来提供)底下提供阳极氧化物层。
可以使用已知的后阳极处理(PAT)方法进一步处理阳极氧化铝载体,以密封阳极氧化物孔隙或进一步使其表面亲水化,或两者,所述后阳极处理(PAT)方法例如为在聚乙烯基膦酸(PVPA)、乙烯基膦酸共聚物、聚(甲基)丙烯酸或其碱金属盐、或丙烯酸共聚物或其碱金属盐、磷酸盐和氟化物盐的混合物、或硅酸钠的水溶液中的后处理。
衬底的厚度可以改变,但是应足以承受来自印刷的磨损并且足够薄以包绕印刷印版。有用的实施方案包括具有至少100μm且至多并包括700μm厚度的经处理的铝箔。可以用抗静电剂、滑动层或哑光层涂布衬底的背侧(非成像侧),以改善前体的处理和“感觉”。
通常将衬底形成为片状材料的连续卷(或连续卷材),所述片状材料用阴图制版可成像层配制物和任选的保护层配制物适当地涂布,然后切开或切割(或两者)成一定尺寸,以提供具有呈四个直角转角的形状或形式(因此,通常呈正方形或矩形形状或形式)的单独平版印刷版前体。通常,经切割的单独前体具有平坦或大致平坦的矩形形状。
阴图制版可成像层:
可通过以下方式形成前体:将如下所描述的阴图制版辐射敏感组合物合适地施加到合适的衬底(如上所描述)上,以在该衬底上形成阴图制版可成像层。通常,阴图制版辐射敏感组合物(和所得的辐射敏感可成像层)包含:(a)一种或更多种可自由基聚合的组分,(b)引发剂组合物,其在将阴图制版可成像层暴露于成像辐射时提供自由基,和(c)一种或更多种辐射吸收剂作为必需组分、以及任选的不同于所有前述(a)、(b)和(c)组分的聚合物粘合剂,所有所述必需组分和任选组分在下文更详细地描述。此类阴图制版可成像层通常是前体中的最外层,但是在一些实施方案中,可以存在设置在阴图制版可成像层之上的最外层水溶性亲水保护层(也称为顶涂层或氧屏障层)。
辐射敏感组合物(以及由其制备的阴图制版可成像层)包含一种或更多种可自由基聚合的组分,其各自含有可使用自由基引发来聚合的一个或更多个可自由基聚合的基团(且在一些实施方案中,两个或更多个此类基团)。在一些实施方案中,阴图制版可成像层包含两种或更多种可自由基聚合的组分,其在各自的分子中具有相同或不同数目的可自由基聚合的基团。
有用的可自由基聚合的组分可含有一种或更多种可自由基聚合的单体或低聚物,其具有一个或更多个可加成聚合的烯键式不饱和基团(例如两个或更多个此类基团)。类似地,还可使用具有此类可自由基聚合的基团的可交联聚合物。可使用低聚物或预聚物,例如聚氨酯丙烯酸酯和聚氨酯甲基丙烯酸酯、环氧化物丙烯酸酯和环氧化物甲基丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯和聚酯甲基丙烯酸酯、聚醚丙烯酸酯和聚醚甲基丙烯酸酯、以及不饱和聚酯树脂。在一些实施方案中,可自由基聚合的组分包含羧基。
一种或更多种可自由基聚合的组分有可能具有足够大的分子量或具有足够的可聚合基团,以提供可交联的聚合物基质,其用作阴图制版可成像层中的其它组分的“聚合物粘合剂”。在此类实施方案中,单独的不可聚合的或不可交联的聚合物粘合剂(如下所描述)不是必需的,但仍可以存在。
可自由基聚合的组分包括具有多个(两个或更多个)可聚合基团的脲聚氨酯(甲基)丙烯酸酯(urea urethane (meth)acrylate)或聚氨酯(甲基)丙烯酸酯。可以使用此类化合物的混合物,各化合物具有两个或更多个不饱和的可聚合基团,并且一些化合物具有三个、四个或更多个不饱和的可聚合基团。例如,可自由基聚合的组分可以通过使基于六亚甲基二异氰酸酯的DESMODUR® N100脂族多异氰酸酯树脂(Bayer Corp., Milford, Conn.)与丙烯酸羟乙酯和三丙烯酸季戊四醇酯反应来制备。有用的可自由基聚合的化合物包括可从Kowa American获得的NK Ester A-DPH(六丙烯酸二季戊四醇酯)、以及可从SartomerCompany,Inc.获得的Sartomer 399(五丙烯酸二季戊四醇酯)、Sartomer 355(二(三羟甲基丙烷)四丙烯酸酯)、Sartomer 295(四丙烯酸季戊四醇酯)和Sartomer 415[乙氧基化(20)三羟甲基丙烷三丙烯酸酯]。
众多其它可自由基聚合的组分是本领域已知的,并且描述于相当多的文献中,所述文献包括Photoreactive Polymers: The Science and Technology of Resists, AReiser, Wiley, New York, 1989, 第102-177页;B.M. Monroe, Radiation Curing: Science and Technology, S.P. Pappas编辑, Plenum, New York, 1992, 第399-440页;和A.B. Cohen和P. Walker的”Polymer Imaging”, Imaging Processes and Material,J.M. Sturge等人(编辑), Van Nostrand Reinhold, New York, 1989, 第226-262页。例如,有用的可自由基聚合的组分还描述于EP 1,182,033A1(Fujimaki等人)(以第[0170]段开始)以及美国专利6,309,792(Hauck等人)、6,569,603(Furukawa)和6,893,797(Munnelly等人)中。其它有用的可自由基聚合的组分包括描述于美国专利申请公开2009/0142695(Baumann等人)中的那些。
一种或更多种可自由基聚合的组分通常可以下列量存在于阴图制版可成像层中:至少10重量%且至多并包括70重量%,或者典型为至少20重量%且至多并包括50重量%,全部基于阴图制版可成像层的总干重计。
另外,阴图制版可成像层还包含一种或更多种辐射吸收剂,以提供所需的辐射敏感度或将辐射转化为热量,或两者。在一些实施方案中,一种或更多种辐射吸收剂是位于红外辐射敏感可成像层中的一种或更多种不同的红外辐射吸收剂,以致可使用发射红外辐射的激光器使平版印刷版前体成像。本发明还适用于设计用于使用以下者使之成像的平版印刷版前体:具有在大约405 nm处的发射峰的紫外激光器;可见光激光器,例如具有大约488nm或532 nm的发射峰的那些;或具有400 nm以下的显著发射峰的UV辐射。在此类实施方案中,可选择辐射吸收剂,以与辐射源匹配,并且许多有用的实例是本领域已知的。
基于辐射敏感可成像层的总干重计,一种或更多种辐射吸收剂的总量为至少0.5重量%且至多并包括30重量%,或典型为至少1重量%且至多并包括15重量%。
有用的红外辐射吸收剂可以是颜料或红外辐射吸收染料。合适的染料还是描述于例如美国专利5,208,135(Patel等人)、6,153,356(Urano等人)、6,309,792(Hauck等人)、6,569,603(Furukawa)、6,797,449(Nakamura等人)、7,018,775(Tao)、7,368,215(Munnelly等人)、8,632,941(Balbinot等人)和美国专利申请公开2007/056457(Iwai等人)中的那些。在一些红外辐射敏感的实施方案中,合意的是,红外辐射敏感可成像层中的至少一种红外辐射吸收剂是包含四芳基硼酸根阴离子(例如四苯基硼酸根阴离子)的花青染料。此类染料的实例包括描述于美国专利申请公开2011/003123 (Simpson等人)中的那些。
除了低分子量IR吸收染料之外,还可使用与聚合物键合的IR染料发色团。此外,还可使用IR染料阳离子,即,该阳离子是与在侧链中包含羧基、磺基、二氧磷基(phospho)或膦酰基(phosphono)的聚合物发生离子相互作用的染料盐的IR吸收部分。
阴图制版可成像层还包括引发剂组合物,其在该可成像层暴露于合适的辐射时提供自由基,以引发一种或更多种可自由基聚合的组分的聚合。引发剂组合物可以是单一化合物或者多种化合物的组合或体系。
引发剂组合物中特别有用的化合物是鎓盐,其各自在分子中包含具有至少一个鎓离子原子的阳离子,以及阴离子。鎓盐中的鎓离子原子的实例包括锍、碘鎓、铵、鏻和重氮离子(diazonium)。鎓盐的实例包括三苯基锍(盐)、二苯基碘鎓(盐)、二苯基重氮(盐)、以及通过将一种或更多种取代基引入这些化合物的苯环中所获得的衍生物。合适的取代基包括但不限于烷基、烷氧基、烷氧基羰基、酰基、酰氧基、氯、溴、氟和硝基。鎓盐中的阴离子的实例描述于例如美国专利7,524,614(Tao等人)中。
此外,本发明中还可以使用描述于日本专利公开2002-082429的说明书的第[0033]至[0038]段[或美国专利申请公开2002-0051934(Ippei等人)]中的鎓盐或描述于美国专利7,524,614(上述)中的碘鎓硼酸盐复合物。
在一些实施方案中,引发剂组合物可包含引发剂化合物的组合,例如碘鎓盐的组合,例如如下所描述的化合物A与化合物B的组合。
化合物A可由以下显示的结构(I)代表,并且统称为化合物B的一种或更多种化合物可由以下结构(II)或(III)代表:
(I)
(II)
(III)
在这些结构(I)、(II)和(III)中,R1、R2、R3、R4、R5和R6独立为取代或未取代的烷基或者取代或未取代的烷氧基,这些烷基或烷氧基各自具有2至9个碳原子(或者特别是3至6个碳原子)。这些取代或未取代的烷基和烷氧基可以为直链或支链的形式。在许多有用的实施方案中,R1、R2、R3、R4、R5和R6独立为取代或未取代的烷基,例如独立选择为具有3至6个碳原子的取代或未取代的烷基。
另外,R3和R4中的至少一个可以与R1或R2不同;R1和R2中的碳原子总数与R3和R4中的碳原子总数之间的差异为0至4(即,0、1、2、3或4);R1和R2中的碳原子总数(总和)与R5和R6中的碳原子总数(总和)之间的差异为0至4(即,0、1、2、3或4);且X1、X2和X3是相同或不同的阴离子。
有用的阴离子包括但不限于ClO4 -、PF6 -、BF4 -、SbF6 -、CH3SO3 -、CF3SO3 -、C6H5SO3 -、CH3C6H4SO3 -、HOC6H4SO3 -、ClC6H4SO3 -和由以下结构代表的硼酸根阴离子:
B-(R1)(R2)(R3)(R4)
其中R1、R2、R3和R4独立代表取代或未取代的烷基、取代或未取代的芳基(包括卤素取代的芳基)、取代或未取代的烯基、取代或未取代的炔基、取代或未取代的环烷基、或者取代或未取代的杂环基,或者R1、R2、R3和R4中的两个或更多个可与硼原子连接在一起,以形成取代或未取代的杂环,此类环具有至多7个碳、氮、氧或氮原子。R1、R2、R3和R4上的任选取代基可包括氯、氟、硝基、烷基、烷氧基和乙酰氧基。在一些实施方案中,R1、R2、R3和R4全部为相同或不同的取代或未取代的芳基,例如取代或未取代的苯基,或者所有这些基团更可能为未取代的苯基。在许多实施方案中,X1、X2和X3中的至少一个是包含相同或不同的芳基的四芳基硼酸根阴离子,或者在特别有用的实施方案中,X1、X2和X3中的一个或更多个是四苯基硼酸根阴离子或X1、X2和X3各自是四苯基硼酸根阴离子。
若需要,可使用化合物B(由结构(II)或(III)代表的化合物)的混合物。由结构(I)、(II)和(III)代表的许多有用的化合物可获得自商业来源,例如Sigma-Aldrich,或者它们可使用已知的合成方法和容易获得的原料来制备。
引发剂组合物通常存在于阴图制版可成像层中足以提供以下量的一种或更多种聚合引发剂:至少3重量%且至多并包括30重量%,或典型为至少5重量%且至多并包括18重量%,或甚至为至少7重量%且至多并包括15重量%,全部基于阴图制版可成像层的总重量计。
在许多实施方案中任选但合意的是,阴图制版可成像层进一步包含聚合物材料,其充当所述层中所有材料的聚合物粘合剂。此类“聚合物粘合剂”与以上所描述的(a)、(b)和(c)组分不同,并且通常是不可聚合的且不可交联的。
此类聚合物粘合剂可选自本领域已知的聚合物粘合剂材料,包括包含重复单元的聚合物,所述重复单元具有包含聚环氧烷链段的侧链,例如描述于例如美国专利6,899,994(Huang等人)中的那些。其它有用的聚合物粘合剂包含两种或更多种类型的重复单元,所述重复单元具有包含聚环氧烷链段的不同侧链,如描述于例如WO公开2015-156065(Kamiya等人)中。此类聚合物粘合剂中的一些可进一步包含具有氰基侧基的重复单元,如描述于例如美国专利7,261,998(Hayashi等人)中的那些。
一些有用的聚合物粘合剂以颗粒形式存在,即,以离散颗粒(非附聚颗粒)的形式存在。此类离散颗粒可具有至少10 nm且至多并包括1500 nm或典型为至少80 nm且至多并包括600 nm的平均粒度,并且通常均匀分布于辐射敏感可成像层内。其它聚合物粘合剂可作为具有至少50 nm且至多并包括400 nm的平均粒度的颗粒存在。平均粒度可以通过各种已知方法测定,所述方法包括在电子扫描显微镜图像中测量颗粒,并将设定数量的测量结果平均。
在一些实施方案中,聚合物粘合剂以具有小于阴图制版可成像层的平均干厚度(t)的平均粒度的颗粒的形式存在。通过以下方程式来计算平均干厚度(t)(按微米(µm)计):
t = w/r
其中w是按g/m2计的辐射敏感可成像层的干涂层覆盖率,且r是1 g/cm3。例如,在此类实施方案中,聚合物粘合剂可占阴图制版可成像层的平均干厚度(t)的至少0.05%且至多并包括80%或者更可能至少10%且至多并包括50%。
聚合物粘合剂还可具有包含多个(至少两个)氨基甲酸酯部分的主链以及包含聚环氧烷链段的侧基。
其它有用的聚合物粘合剂还包括包含诸如丙烯酸酯基、甲基丙烯酸酯基、乙烯基芳基和烯丙基之类的可聚合基团的那些以及包含碱可溶性基团的那些,例如羧酸。这些有用的聚合物粘合剂中的一些描述于美国专利申请公开2015/0099229(Simpson等人)和美国专利6,916,595(Fujimaki等人)中。
有用的聚合物粘合剂可获得自各种商业来源,或者它们可使用已知的程序和原料(如描述于例如上述出版物中)来制备。
当存在时,基于阴图制版可成像层的总干重计,总聚合物粘合剂可按至少10重量%且至多并包括70重量%的量,或更可能按至少20重量%且至多并包括50重量%的量存在于该阴图制版可成像层中。
本领域已知的其它聚合物材料可作为附加物存在于阴图制版可成像层中,并且此类聚合物材料通常比以上描述的聚合物粘合剂更亲水。此类亲水“第二”聚合物粘合剂的实例包括但不限于纤维素衍生物,例如羟丙基纤维素、羧甲基纤维素和具有各种皂化度的聚乙烯醇。
阴图制版可成像层的额外添加剂可包括如本领域已知的染料前体和彩色显影剂。有用的染料前体描述于美国专利6,858,374 (Yanaka)中。
阴图制版可成像层可包括具有至少2 µm或至少4 µm且至多并包括20 µm的平均粒度的交联聚合物颗粒,如描述于例如美国序列号14/642,876(由Hayakawa等人于2015年3月10日提交)以及美国专利8,383,319(Huang等人)和8,105,751 (Endo等人)中。
阴图制版可成像层还可以包括常规量的各种其它任选的附加物,包括但不限于分散剂、保湿剂、杀生物剂、增塑剂、用于涂布性能或其它性质的表面活性剂、增粘剂、pH调节剂、干燥剂、消泡剂、防腐剂、抗氧化剂、显影助剂、流变改性剂或其组合,或平版印刷领域中常用的任何其它附加物。阴图制版可成像层还可包括如美国专利7,429,445(Munnelly等人)中所描述的具有通常大于250的分子量的磷酸酯(甲基)丙烯酸酯。
制备平版印刷版前体:
可按以下方式提供用于本发明实践的阴图制版平版印刷版前体。可以使用任何合适的设备和程序,例如旋涂、刮涂、凹版涂布、口模式涂布(die coating)、狭缝式涂布(slotcoating)、棒涂(bar coating)、绕线棒涂布(wire rod coating)、辊涂或挤出料斗涂布(extrusion hopper coating),将包含以上描述的材料的阴图制版可成像层配制物施加至如以上所描述的通常作为连续衬底卷材的合适衬底的亲水表面。也可以通过喷雾将此类配制物施加到合适的衬底上。通常,一旦以合适的湿覆盖率施加阴图制版可成像层配制物,就以本领域已知的合适方式将其干燥,以提供如下所述的所需干覆盖率。
制造方法通常包括在合适的有机溶剂或其混合物[例如甲乙酮(2-丁酮)、甲醇、乙醇、1-甲氧基-2-丙醇、异丙醇、丙酮、γ-丁内酯、正丙醇、四氢呋喃和本领域容易知晓的其它溶剂、以及其混合物]中混合阴图制版可成像层化学所需的各种组分,将所得阴图制版可成像层配制物施加到连续衬底卷材上,并通过在合适的干燥条件下蒸发去除溶剂。在适当干燥之后,连续衬底卷材上的阴图制版可成像层的干涂层覆盖率通常为至少0.1 g/m2且至多并包括4 g/m2或至少0.4 g/m2且至多并包括2 g/m2,但如果需要,可使用其它干覆盖量。
在一些实施方案中,本方法中使用的阴图制版可成像层配制物是红外辐射敏感可成像层配制物,其中一种或更多种辐射吸收剂是一种或更多种红外辐射吸收剂。
成像和脱机显影
在使用期间,取决于存在于阴图制版可成像层中的辐射吸收剂,可将阴图制版平版印刷版前体暴露于合适的曝光辐射源。在其中阴图制版可成像层含有红外辐射吸收剂的一些实施方案中,可以用发射在至少750 nm且至多并包括1400 nm或至少800 nm且至多并包括1250 nm范围内的显著红外辐射的红外激光器使相应的平版印刷版前体成像。在其它实施方案中,可以使用合适的成像辐射源在电磁光谱的UV或可见光区域中使阴图制版平版印刷版前体成像。
例如,可以使用来自产生辐射的激光器(或此类激光器的阵列)的成像辐射或曝光辐射来进行成像。如果需要,也可以同时使用多个波长下的成像辐射进行成像。由于二极管激光器系统的可靠性和低维护量,因此用于使前体曝光的激光器通常是二极管激光器,但是也可以使用其它激光器,例如气体激光器或固态激光器。用于辐射成像的功率、强度和曝光时间的组合对于本领域技术人员来说将是显而易见的。
可将成像装置(或成像设备)配置为平板记录仪或鼓式记录仪,其中将辐射敏感平版印刷版前体安装到鼓的内部或外部圆柱体表面。有用的成像装置的实例可按以下型号获得:KODAK® Trendsetter印版记录机(Eastman Kodak Company)和NEC AMZISetter X-系列(NEC Corporation, 日本),其含有发射波长为约830 nm的辐射的激光二极管。其它合适的成像装置包括在810 nm波长下运行的Screen PlateRite 4300系列或8600系列印版记录机(可获得自Screen USA, 芝加哥, IL)或来自Panasonic Corporation (日本)的热CTP印版记录机。
在其中使用红外辐射源的实施方案中,取决于辐射敏感可成像层的敏感度,成像能量可以为至少30 mJ/cm2且至多并包括500 mJ/cm2,并且通常为至少50 mJ/cm2且至多并包括300 mJ/cm2。
成像曝光之后,可以按合适的方式冲洗在阴图制版可成像层中具有曝光区域和未曝光区域的经曝光的阴图制版平版印刷版前体,以去除未曝光区域。
可以在相同或不同的显影液的一次或更多次连续施加(处理或显影步骤)中使用任何合适的显影剂来进行脱机冲洗。可以用经曝光的前体进行此类一次或更多次连续的冲洗处理,持续的时间足以去除阴图制版可成像层的未曝光区域以露出衬底的亲水表面,但没有长到足以去除显著量的在相同层中已经硬化的曝光区域。在平版印刷期间,露出的亲水衬底表面排斥油墨,同时剩余的曝光区域接受平版印刷油墨。在此类脱机冲洗之后,一个或更多个平版印刷版可用于新闻纸的平版印刷。
在此类脱机冲洗之前,可使经曝光的前体经受“预热”过程,以进一步硬化阴图制版可成像层中的曝光区域。可以使用任何已知的方法和设备通常在至少60°C且至多并包括180°C的温度下进行此类任选的预热。
在这种任选的预热之后,或者代替预热,可以洗涤(漂洗)经曝光的前体。可以使用任何合适的水溶液(例如水或表面活性剂的水溶液)在合适的温度下并持续合适的时间(其对于本领域技术人员来说将是显而易见的)进行此类任选的洗涤(或漂洗)。
有用的显影剂可以是普通的水或者可以是配制的水溶液。配制的显影剂可包含选自表面活性剂、有机溶剂、碱剂和表面保护剂的一种或更多种组分。例如,有用的有机溶剂包括苯酚与环氧乙烷和环氧丙烷的反应产物[例如乙二醇苯基醚(苯氧基乙醇)]、苄醇、乙二醇和丙二醇与具有6个或更少个碳原子的酸的酯、以及乙二醇、二甘醇和丙二醇与具有6个或更少个碳原子的烷基的醚,例如2-乙基乙醇和2-丁氧基乙醇。
用于进行本发明的有用的显影剂的实例可作为TN-D1(Kodak Japan Ltd.)、TN-D2(Kodak Japan Ltd.)和HN-D (FUJIFILM Global Graphic Systems Co, Ltd.)获得。这些显影剂以浓缩形式提供,并且可以在用水以特定的稀释比率稀释时使用。
显影之后,可以洗涤(漂洗)经曝光并显影的前体,以去除残余的显影剂溶液,并然后可以用能够保护平版印刷版上的平版印刷图像(或为其“上胶”)以免受污染或损害(例如免于氧化、指纹、灰尘或划痕)的上胶溶液处理。
有用的上胶溶液的实例可作为LNF-11(Kodak Japan Ltd.)、LNF-12(Kodak JapanLtd.)和HN-GV (FUJIFILM Global Graphic Systems Co, Ltd.)获得。所有的上胶溶液以浓缩形式提供,并且可以在用水以特定的稀释比率稀释时使用。
在一些情况下,可脱机使用水性显影液,以既通过去除未曝光区域使经成像的前体显影,又在整个经成像并显影(冲洗)的前体印刷表面之上提供保护层或涂层。在该实施方案中,水溶液表现地有些像保护印刷版上的平版印刷图像(或为其“上胶”)以免受污染或损害(例如免于氧化、指纹、灰尘或划痕)的胶。
在所描述的脱机冲洗和任选的干燥之后,任选在有或没有全面(blanket)暴露或泛光(floodwise)暴露于UV或可见光辐射的情况下进一步烘烤平版印刷版。可以通过以下方式来进行印刷:将经曝光并冲洗的平版印刷版放置在合适的印刷机上,并以合适的方式将平版印刷油墨和润版液施加至平版印刷版的印刷表面。润版液被通过曝光和冲洗步骤露出的亲水衬底的表面吸收,并且平印油墨被可成像层的剩余(曝光)区域吸收。然后将平印油墨转印到合适的接收材料(例如布、纸、金属、玻璃或塑料)上,以在其上提供所需的图像印张。如果需要,可以使用中间“橡皮”辊将平印油墨从平版印刷版转印到接收材料(例如,纸张)上。
在机显影
作为脱机显影的替代,可以使用平版印刷油墨、润版液或平版印刷油墨与润版液的组合将经曝光的平版印刷版前体在机显影。在此类实施方案中,可以将经成像的辐射敏感平版印刷版前体安装到印刷机上,并且例如在新闻纸的平版印刷期间开始印刷操作。当制造初始印刷印张时,通过合适的润版液、平版印刷油墨或两者的组合去除阴图制版可成像层中的未曝光区域。水性润版液的典型成分包括pH缓冲剂、减感剂、表面活性剂和润湿剂、保湿剂、低沸点溶剂、杀生物剂、消泡剂和螯合剂。润版液的代表性实例是Varn Litho Etch142W + Varn PAR (alcohol sub)(可获得自Varn International, 艾迪生, IL)。
在使用单张给纸印刷机启动的典型的印刷机中,首先将润版辊啮合并将润版液供应到安装的经成像的前体,以使曝光的辐射敏感可成像层至少在未曝光区域中溶胀。在几转之后,啮合着墨辊并且它们供应平版印刷油墨,以覆盖平版印刷版的整个印刷表面。通常,在着墨辊啮合后5至20转内,使用所形成的油墨-润版液乳液(ink-fountainemulsion),供应印刷张以从平版印刷版去除阴图制版可成像层的未曝光区域以及橡皮滚筒上的材料(如果存在的话)。
当前体在阴图制版可成像层中包含一种或更多种聚合物粘合剂(所述聚合物粘合剂中的至少一种作为具有至少50 nm且至多并包括400 nm的平均直径的颗粒存在)时,平版印刷前体的在机显影性是特别有用的。
本发明提供至少下列实施方案及其组合,但是如技术人员将从本公开的教导中理解的,其它特征组合被认为在本发明范围内:
1. 由一个或更多个阴图制版平版印刷版前体制备一个或更多个平版印刷版的方法,其包括:
提供成像装置,其包含:成像设备;和完全包围该成像设备的外壳,所述外壳包含用于将受控空气流提供到外壳中的进气单元;
使用用于从进入外壳的受控空气流中或从外壳内的环境空气中去除臭氧的设备;
将一个或更多个阴图制版平版印刷版前体供应至成像设备,各阴图制版平版印刷版前体包含其上具有阴图制版可成像层的衬底;
将一个或更多个阴图制版平版印刷版前体成像曝光,以提供在阴图制版可成像层中包含曝光区域和未曝光区域的一个或更多个经成像的前体;和
冲洗一个或更多个经成像的前体,以去除阴图制版可成像层中的未曝光区域,以形成一个或更多个平版印刷版。
2. 实施方案1的方法,其中所述成像装置进一步包含多个阴图制版平版印刷版前体的堆叠;和自动装载设备,并且
将一个或更多个阴图制版平版印刷版前体供应至成像设备的步骤通过操作自动装载设备以将一个或更多个阴图制版平版印刷版前体从所述堆叠装载到成像设备上来执行。
3. 实施方案2的方法,其中所述多个阴图制版平版印刷版前体以无衬纸的堆叠形式布置。
4. 实施方案1至3中任意项的方法,其中用于去除臭氧的设备包含一种或更多种臭氧去除过滤剂。
5. 实施方案1至4中任意项的方法,其中所述成像装置包含作为外壳的壳体,并且用于去除臭氧的设备在该壳体内。
6. 实施方案1至5中任意项的方法,其包括从外壳内的环境空气中去除至少50mol%的臭氧。
7. 实施方案1至6中任意项的方法,其包括从进入外壳中的受控空气流中去除至少50 mol%的臭氧。
8. 实施方案1至7中任意项的方法,其中一个或更多个阴图制版平版印刷版前体包含作为最外层的阴图制版可成像层。
9. 实施方案1至8中任意项的方法,其中一个或更多个阴图制版平版印刷版前体是红外辐射敏感的。
10. 实施方案1至9中任意项的方法,其中所述阴图制版可成像层包含:
(a)一种或更多种可自由基聚合的组分;
(b)在将所述阴图制版可成像层暴露于辐射时提供自由基的引发剂组合物;
(c)一种或更多种辐射吸收剂;和任选的
(d)与(a)、(b)和(c)都不同的聚合物粘合剂。
11. 实施方案10的方法,其中所述阴图制版可成像层是红外辐射敏感的,并且一种或更多种辐射吸收剂包含至少一种红外辐射吸收剂。
12. 实施方案1至11中任意项的方法,其中:
在机冲洗一个或更多个经成像的前体的步骤使用润版液、平版印刷油墨、或润版液和平版印刷油墨两者。
13. 实施方案1至12中任意项的方法,其进一步包括:
在冲洗期间和冲洗后使用一个或更多个平版印刷版进行平版印刷。
14. 实施方案13的方法,其包括:
使用一个或更多个平版印刷版进行新闻纸的平版印刷。
15. 实施方案1至11中任意项的方法,其包括:
脱机冲洗一个或更多个经成像的前体;和
使用一个或更多个平版印刷版进行新闻纸的平版印刷。
提供下列实施例来例示本发明的实践,并且其无意于以任何方式进行限制。
印刷版前体的制备:
制备电化学磨版的衬底,并且在用于制造阴图制版平版印刷版前体的典型制造条件下用阳极氧化磷酸进一步处理一个平坦表面。各衬底的阳极层厚度为500 nm。然后用聚丙烯酸水溶液涂布各衬底以覆盖其阳极氧化表面,并然后干燥,以形成具有0.03 g/m2的覆盖率的亲水层。然后将显示于下表I中的阴图制版可成像层配制物涂布在各衬底的亲水层上,并在110°C下干燥40秒,以形成干覆盖率为0.9 g/m2的阴图制版可成像层。
表I
可成像层配制物组分 | 重量% |
1-丙醇 | 39.750 |
2-丁酮 | 40.000 |
γ-丁内酯 | 0.880 |
水 | 8.600 |
聚合物乳液A <sup>1)</sup> | 6.950 |
KLUCEL<sup>®</sup> E <sup>2)</sup> | 0.250 |
聚氨酯丙烯酸酯<sup>3)</sup> | 1.650 |
Sartomer SR399 <sup>4)</sup> | 0.770 |
双[4-(1-甲基乙基)苯基]碘鎓四苯基硼酸盐(1-)(1:1) | 0.300 |
红外吸收染料A(见下面) | 0.150 |
3-巯基-1,2,4-三唑 | 0.050 |
BYK<sup>®</sup> 336 <sup>5)</sup> | 0.180 |
Techpolymer SSX-105 <sup>6)</sup> | 0.470 |
总计 | 100.000 |
1)由重量%比率为10/70/20的聚乙二醇甲基醚甲基丙烯酸酯/丙烯腈/苯乙烯制备的颗粒状主要聚合物粘合剂乳液(在76/24重量%的1-丙醇/水溶剂混合物中的24质量%溶液,平均粒度为250 nm);
2)羟丙基纤维素(Hercules Inc.);
3)2-丁酮溶液,其含有浓度为80质量%的通过使DESMODUR® N100与丙烯酸羟乙酯和三丙烯酸季戊四醇酯反应获得的可聚合化合物;
4)三羟甲基丙烷四丙烯酸酯(Sartomer Company);
5)二甲苯/乙酸甲氧基丙酯溶液,其含有浓度为25质量%的改性聚二甲基硅氧烷共聚物;和
6)交联丙烯酸珠,平均粒度为5.0μm(Sekisui Plastics Co., Ltd.)。
红外吸收染料A
发明例1:
制备500个阴图制版平版印刷版前体的托盘,并将其放置在含有印版记录机作为成像设备(来自Panasonic的Plateliner GX-9700)的成像装置的壳体(外壳)内部(如图1中所例示)。在该壳体内部安装并操作含有活性炭过滤剂的臭氧去除设备(或空气净化单元)(来自Iris Oyama的PMAC-100)。将该500个阴图制版平版印刷版前体的托盘留在原地36小时,其中将最上面的前体阴图制版可成像层暴露于壳体内的环境空气。
如下所描述地,使按这种方式储存的阴图制版平版印刷版前体在印版记录机中成像曝光,并将结果描述于下表II中。
发明例2:
重复发明例1,所不同的是如图2中所例示,在成像装置的壳体(外壳)外部安装并操作臭氧去除设备(空气净化单元),并且通过柔性空气管将已经从中去除了臭氧的所得纯化空气送入成像设备的进气单元中。
如下所描述地,使按这种方式储存的阴图制版平版印刷版前体在印版记录机中成像曝光,并将结果描述于下表II中。
发明例3:
重复发明例1,所不同的是如图3中所例示,臭氧去除设备(空气净化单元)是放置在进气单元的路径中的活性炭过滤剂。
如下所描述地,使按这种方式储存的阴图制版平版印刷版前体在印版记录机中成像曝光,并将结果描述于下表II中。
发明例4:
重复发明例2,所不同的是移除柔性空气管,并且如图4中所例示,在成像装置附近并与其在相同室内安装并操作臭氧去除设备(空气净化单元)。
如下所描述地,使按这种方式储存的阴图制版平版印刷版前体在印版记录机中成像曝光,并将结果描述于下表II中。
比较例1:
重复发明例1,所不同的是不安装或操作臭氧去除设备(空气净化单元)。将阴图制版平版印刷版前体的托盘留在原地36小时,其中将最上面的前体阴图制版可成像层暴露于环境空气。
如下所描述地,使按这种方式储存的阴图制版平版印刷版前体在印版记录机中成像曝光,并将结果描述于下表II中。
IR-敏感度的评估:
使用Magnus800印版记录机(Kodak Japan Ltd.)将来自发明例1至4和比较例1中所使用的多个前体的各托盘的最上面和第二最上面的阴图制版平版印刷版前体成像曝光于红外辐射,以在6个步骤中使用26 mJ/cm²至124 mJ/cm²的红外辐射能量在各前体上提供六个曝光区块。在自来水的存在下对经成像曝光的前体手工上墨,以显示在各前体上保留阴图制版可成像层的未曝光区域所要求的最低能量。将该最低能量记录为IR敏感度并显示于下表II中。
表II
最上面的前体 | 第二最上面的前体 | |
发明例1 | 26 mJ/cm<sup>2</sup> | 26 mJ/cm<sup>2</sup> |
发明例2 | 26 mJ/cm<sup>2</sup> | 26 mJ/cm<sup>2</sup> |
发明例3 | 26 mJ/cm<sup>2</sup> | 26 mJ/cm<sup>2</sup> |
发明例4 | 45.6 mJ/cm<sup>2</sup> | 26 mJ/cm<sup>2</sup> |
比较例1 | 即使在124 mJ/cm<sup>2</sup>下也无图像 | 26 mJ/cm<sup>2</sup> |
表II中的数据表明,在发明例1至3中,在图1-3中所例示的成像装置布置中,最上面的前体得到良好保护以免受环境臭氧对IR敏感度的影响。在发明例4中,对最上面的前体的免受环境臭氧对IR敏感度的影响的保护不那么高,因为在图4中所例示的成像装置布置中,脱除臭氧的空气被环境室内空气稀释。在比较例1中储存并测试的阴图制版平版印刷版前体由于该前体周围的高臭氧浓度而对红外辐射没有敏感度。
部件清单
10 成像装置
15 成像设备(印版记录机)
20 外壳
25 进气单元
30 空气流的方向
35 臭氧去除设备
40 多个阴图制版平版印刷版前体的托盘
45 经成像的前体移动至显影的方向
50 柔性空气管
Claims (15)
1.由一个或更多个阴图制版平版印刷版前体制备一个或更多个平版印刷版的方法,其包括:
提供成像装置,其包含:成像设备;和完全包围所述成像设备的外壳,所述外壳包含用于将受控空气流提供到所述外壳中的进气单元;
使用用于从进入所述外壳的所述受控空气流中或从所述外壳内的环境空气中去除臭氧的设备;
将一个或更多个阴图制版平版印刷版前体供应至所述成像设备,各阴图制版平版印刷版前体包含其上具有阴图制版可成像层的衬底;
将所述一个或更多个阴图制版平版印刷版前体成像曝光,以提供在所述阴图制版可成像层中包含曝光区域和未曝光区域的一个或更多个经成像的前体;和
冲洗所述一个或更多个经成像的前体,以去除所述阴图制版可成像层中的所述未曝光区域,以形成一个或更多个平版印刷版。
2.权利要求1所述的方法,其中所述成像装置进一步包含多个阴图制版平版印刷版前体的堆叠;和自动装载设备,并且
将一个或更多个阴图制版平版印刷版前体供应至所述成像设备的步骤通过操作所述自动装载设备以将所述一个或更多个阴图制版平版印刷版前体从所述堆叠装载到所述成像设备上来执行。
3.权利要求2所述的方法,其中所述多个阴图制版平版印刷版前体以无衬纸的堆叠形式布置。
4.权利要求1所述的方法,其中所述用于去除臭氧的设备包含一种或更多种臭氧去除过滤剂。
5.权利要求1所述的方法,其中所述成像装置包含作为所述外壳的壳体,并且所述用于去除臭氧的设备在所述壳体内。
6.权利要求1所述的方法,其包括从所述外壳内的所述环境空气中去除至少50 mol%的臭氧。
7.权利要求1所述的方法,其包括从进入所述外壳中的所述受控空气流中去除至少50mol%的臭氧。
8.权利要求1所述的方法,其中所述一个或更多个阴图制版平版印刷版前体包含作为最外层的阴图制版可成像层。
9.权利要求1所述的方法,其中所述一个或更多个阴图制版平版印刷版前体是红外辐射敏感的。
10.权利要求1所述的方法,其中所述阴图制版可成像层包含:
(a)一种或更多种可自由基聚合的组分;
(b)在将所述阴图制版可成像层暴露于辐射时提供自由基的引发剂组合物;
(c)一种或更多种辐射吸收剂;和任选的
(d)与(a)、(b)和(c)都不同的聚合物粘合剂。
11.权利要求10所述的方法,其中所述阴图制版可成像层是红外辐射敏感的,并且所述一种或更多种辐射吸收剂包含至少一种红外辐射吸收剂。
12.权利要求1所述的方法,其中:
在机冲洗所述一个或更多个经成像的前体的步骤使用润版液、平版印刷油墨、或润版液和平版印刷油墨两者。
13.权利要求1所述的方法,其进一步包括:
在冲洗期间和冲洗后使用所述一个或更多个平版印刷版进行平版印刷。
14.权利要求13所述的方法,其包括:
使用所述一个或更多个平版印刷版进行新闻纸的平版印刷。
15.权利要求1所述的方法,其包括:
脱机冲洗所述一个或更多个经成像的前体;和
使用所述一个或更多个平版印刷版进行新闻纸的平版印刷。
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