CN110874026A - 彩色滤光片用剥离液组合物及利用其的方法 - Google Patents

彩色滤光片用剥离液组合物及利用其的方法 Download PDF

Info

Publication number
CN110874026A
CN110874026A CN201910820861.7A CN201910820861A CN110874026A CN 110874026 A CN110874026 A CN 110874026A CN 201910820861 A CN201910820861 A CN 201910820861A CN 110874026 A CN110874026 A CN 110874026A
Authority
CN
China
Prior art keywords
color filter
stripping
liquid composition
filter according
color
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201910820861.7A
Other languages
English (en)
Other versions
CN110874026B (zh
Inventor
朴峻贤
曹长佑
李河娜
俞珍浩
李相大
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
ENF Technology CO Ltd
Original Assignee
ENF Technology CO Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from KR1020190098842A external-priority patent/KR20200026053A/ko
Application filed by ENF Technology CO Ltd filed Critical ENF Technology CO Ltd
Publication of CN110874026A publication Critical patent/CN110874026A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN110874026B publication Critical patent/CN110874026B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/42Stripping or agents therefor
    • G03F7/422Stripping or agents therefor using liquids only
    • G03F7/426Stripping or agents therefor using liquids only containing organic halogen compounds; containing organic sulfonic acids or salts thereof; containing sulfoxides
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/0007Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/42Stripping or agents therefor
    • G03F7/422Stripping or agents therefor using liquids only
    • G03F7/425Stripping or agents therefor using liquids only containing mineral alkaline compounds; containing organic basic compounds, e.g. quaternary ammonium compounds; containing heterocyclic basic compounds containing nitrogen

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

本发明涉及彩色滤光片用剥离液组合物及利用其的剥离方法,根据本发明,具有在去除彩色光阻时使基板的腐蚀最小化的同时减少彩色光阻所需时间的效果,而且可在较低温度的工艺下去除基板上的彩色光阻,因此工艺容易、可提高彩色滤光片回收利用的生产性。

Description

彩色滤光片用剥离液组合物及利用其的方法
技术领域
本发明涉及一种彩色滤光片用剥离液组合物及利用其的方法。
背景技术
随着进入信息化时代,处理及显示大量信息的显示器的需求也在增大。因此,需要开发可以实现低耗电、轻薄型、高清晰度且可以使空间使用最大化的便携式显示器。
作为实现显示器轻薄化而做出努力的例,可例举在TFT结构物内直接用感光性组合物来形成液晶显示器(LCD)的彩色滤光片的方法。但是,目前为止,在TFT结构物制造的彩色滤光片出现不良时,几乎无法通过仅去除图案错误的部分来进行修复。因此形成有不良彩色滤光片的基板不经过修理等修复工作,直接废弃处理。
因此,用于去除彩色光阻的具有强大剥离性能的组合物的需求在增大。尤其是,彩色滤光片未形成于上部基板而形成于底部基板的薄膜晶体管的情况下,在去除彩色光阻时,可能会发生对底部薄膜晶体管,尤其是由包含Al的金属形成的电极造成损伤的情况,因此要求改善此类问题的剥离性能。
为去除彩色光阻,目前为止使用的是利用无机类剥离液与等离子体的RIE(反应离子蚀刻、reactive ion etching)。但是所述无机类剥离液通过高温加热硫酸、硝酸、发烟硫酸、硝酸与过氧化氢的混合液等而使用,因此,不仅对操作者的安全产生恶劣影响,还可能因加热而增加火灾的危险性,因此存在操作时需要特别注意的不便。这种利用等离子体的RIE方法具体公开于专利文献1至专利文献3。但,这种利用等离子体的RIE方法不仅需要高真空、高能量,还存在工艺条件苛刻、难以使用于大面积的缺点。同时,该方法还存在使用高价的设备的缺点。如上所述,现有的彩色光阻等有机膜去除的方法不仅难以稳定地去除大面积的彩色光阻,还会对操作者的安全产生影响或对商业方面不利。
现有技术文献
专利文献
US 5756239 A
US 5059500 A
EP 0119337 B1
发明内容
要解决的课题
本发明的目的在于,提供一种在不损伤基板的情况下能够在短时间内有效地去除彩色光阻及有机绝缘膜的彩色滤光片用剥离液组合物及利用其的剥离方法。
详细地,本发明目的在于,提供一种具有强剥离力与清洗力,且防腐能力优异的彩色滤光片用剥离液组合物及利用其的剥离方法。
更详细地,本发明目的在于,提供一种能够在较低温度的工艺条件下进行剥离,并且可以使基板的腐蚀最小化的彩色滤光片用剥离液组合物及利用其的剥离方法。
解决课题的手段
为了解决所述课题,本发明提供包含无机碱;选自锂盐及锌盐的金属盐;选自烷醇胺及聚胺的胺类化合物;环状醇类化合物;及水的彩色滤光片用剥离液组合物。
本发明一实施例的彩色滤光片用剥离液组合物中,所述无机碱可为氢氧化钠、氢氧化钾或其组合。
本发明一实施例的彩色滤光片用剥离液组合物中,所述金属盐可为无机酸盐、有机酸盐、氢氧化物或卤化物。
本发明一实施例的彩色滤光片用剥离液组合物可为,以总重量为基准,包含1-7重量百分比的所述无机碱;0.01-3重量百分比的所述金属盐;5-35重量百分比的所述胺类化合物;3-20重量百分比的所述环状醇类化合物;及余量的水。
本发明一实施例的彩色滤光片用剥离液组合物中,所述环状醇类化合物为选自由下述化学式1及化学式2表示的化合物的至少一种。
[化学式1]
Figure BDA0002185994710000031
[化学式2]
Figure BDA0002185994710000032
在所述化学式1及化学式2中,
R1为氢、羟基或(C1-C4)烷基;
A为-NR-、-S-或-O-,所述R为氢或羟基(C1-C5)烷基;
a,b及c各自独立地选自0-5的整数,所述a或b为0的整数时意味着直接结合,所述c为0的整数意味着剩余的取代基均为氢;
d及e各自独立地为0或1的整数,所述d为0的整数时意味着所述A为-NR-、所述R为羟基(C1-C5)烷基,所述e为0的整数时意味着直接结合。
本发明一实施例的彩色滤光片用剥离液组合物中,所述环状醇类化合物为选自下述化合物的一个或两个以上,即选自苯酚、甲酚、二甲苯酚、邻苯二酚、间苯二酚、对苯二酚、邻苯三酚、苯三酚、邻羟基苄醇、苯甲醇、天麻苷元、苯乙醇及酪醇等的环状芳香族醇;及选自四氢糠醇、吡咯烷甲醇、吡咯烷乙醇、哌啶甲醇及哌啶乙醇等的环状脂环类醇。
本发明一实施例的彩色滤光片用剥离液组合物中,所述胺类化合物可为所述烷醇胺及聚胺的混合物、可为以1重量份的所述烷醇胺为基准、混合0.1–5重量份的所述聚胺的混合物。
本发明一实施例的彩色滤光片用剥离液组合物还可包含亚烷基二醇烷基醚化合物。
本发明一实施例的彩色滤光片用剥离液组合物还可包含非离子型表面活性剂。
并且,本发明提供一种包括利用上述彩色滤光片用剥离液组合物来剥离固化了的彩色光阻的步骤的剥离方法。
并且,本发明提供一种利用上述彩色滤光片用剥离液组合物来去除固化的彩色滤光片,从而回收利用薄膜晶体管的方法。
发明效果
根据本发明,用于去除液晶显示装置彩色滤光片的固化的RGB彩色光阻图案,不需要将彩色光阻从基板拔起(lift-off),而是以溶解的方式去除彩色光阻,因此能够有效地去除彩色光阻,可以使基板的损伤最小化。另外,其剥离力与清洗力优异,能够提高彩色光阻的回收利用的生产性。
根据本发明,能够在较低温度的工艺下进行,不会发生因玻璃液组合物的挥发导致的组合物析出或药液内析出物的出现,解决了工艺上的管道及过滤器的堵塞问题。另外,不仅防止了剥离性能的降低而有效地进行剥离工序,还不会引发分解导致的刺激性异味,提高了操作者的安全性。
根据本发明,不仅对固化了的RGB彩色光阻图案的去除,还对由固化度更高且化学稳定性和热稳定性高的丙烯酸类树脂等形成的有机绝缘膜的去除也具有效果。尤其在薄膜晶体管上形成的彩色光阻与负型有机绝缘膜的去除上有效,具有在不损伤底部的薄膜晶体管的情况下可进行剥离工艺的优点。
附图说明
图1是本发明实施例1的彩色滤光片用剥离液组合物的有机绝缘膜及彩色光阻的去除试验中,通过光学显微镜观察到TFT-基板表面的图。
图2是本发明比较例1的彩色滤光片用剥离液组合物的有机绝缘膜及彩色光阻的去除试验中,通过光学显微镜观察到TFT-基板表面的图。
图3是本发明比较例1的彩色滤光片用剥离液组合物对基板的损伤确认试验中,通过扫描电子显微镜(Scanning Electron Microscope,SEM)观察到的基板表面及截面的图。
具体实施方式
下面,参照附图详细说明本发明的彩色滤光片用剥离液组合物及利用其的方法。下面介绍的图是为了给本领域技术人员充分传递本发明的思想而提供的例示。因此,本发明不限于下面提示的图,可具体化为其他形式,而为了明确本发明的思想,下面的图有可能会被夸张地示出。
本说明书中所使用的技术用语及科学用语若没有给出其他定义,则说明其为本发明所属的技术领域中具有常规知识的技术人员通常所理解的含义,在下面说明及附图中省略了可能会导致本发明要旨不明确的公知的功能及构成的说明
在说明书中若没有特别提示,所使用的单位以重量为基准,作为一例,百分比或比率的单位意味着重量百分比或重量比,所述重量百分比若没有别的定义,则意味着整个组合物中一种成分占有的重量百分比。
并且,本说明书中所使用的数值范围包括下限值与上限值以及其范围内的所有值、在所定义的范围的形式与幅度内逻辑性引导出的增量、双重限定的所有值及以互不相同的形式限定的数值范围的上限及下限的所有可能的组合。在本发明的说明书中,若没有特殊定义,则实验误差及四舍五入后可能发生的数值范围外的值也包含在所定义的数值范围内。
本说明书的用语“包含”为与“具备”、“含有”、“具有”或“以其为特征”等表述具有等价含义的开放型记载,不排除没有追加列举的要素、材料或工艺。
本说明书中的用语“实质上不包含”意味着未与特定的要素、材料或工艺一起列举的其他要素、材料或工艺等按照如下方式存在或完全不存在,所述存在是以对发明的至少一项基本且新颖性技术要旨未产生其不允许的显著的影响的方式存在。
本发明人为了解决去除彩色光阻的现有技术中存在的问题,申请过有关彩色滤光片用剥离液组合物的专利(KR 10-2018-0024368A)。根据所述专利,可以短时间内在不损伤基板底部膜的情况下去除彩色光阻,但是存在如下限制,即不能兼顾抑制基板腐蚀的效果。
因此,本发明人深化了不仅可以使剥离基板上所形成的彩色光阻所需的时间最小化的同时,还可以有效抑制底部膜以及基板的腐蚀的彩色滤光片用剥离液组合物的研究。结果,根据选自规定的金属盐的一个或两个以上的组合,在目标效果中确认到可以赋予协同作用,从而提出了本发明。
根据本发明,彩色光阻的去除有效,在去除工艺中不损伤铝、铜等金属配线,而且还具有同时抑制所述金属配线与基板的腐蚀的优点。并且,对彩色光阻的有机绝缘膜的剥离力与清除力优异,彩色滤光片发生不良时,可以在短时间内去除不良面。因此可提供提高工艺收率以及节俭成本的效果。
根据本发明,使用于RGB彩色光阻图案的去除,通过溶解的方式而不是拔起的方式,有效去除彩色光阻。并且,对彩色光阻与有机绝缘膜的溶解力超强,不仅可以用于上部基板上形成的彩色光阻,也可用于下部基板上形成的彩色光阻,还不仅用于正型有机绝缘膜,也可用于负型有机绝缘膜。另外,有效抑制金属配线与基板的腐蚀。因此,本发明可提高多种形式的彩色光阻的回收使用的生产性。
另外,本发明中,在彩色光阻等的剥离工艺中因分解而引起药液内析出物的生成的烷基氢氧化铵等铵类有机碱不理想。另外,使用所述铵类有机碱时,出现药液不稳定、产生析出物或药液内部分解而导致刺激性异味等给工艺上的稳定带来不利影响。因此,在本发明中,优选实质上不含铵类有机碱等。由此可以提供如下优点,即不引起药液内所存在的金属被析出而导致药液组成的变化,给工序提供优点。
以下,具体说明本发明。
为体现所述的效果,本发明提供包含无机碱;选自锂盐及锌盐的金属盐;选自烷醇胺及聚胺的胺类化合物;环状醇类化合物及水的彩色滤光片用剥离液组合物。
满足所述构成的本发明的彩色滤光片用剥离液组合物作为构成彩色光阻或有机绝缘膜的高分子成分渗透能力优秀,其剥离能力也显著。而且,药液组成的变化微小,不会引起因挥发导致的固体成分的析出,或由药液的组成变化引起的基板及底部膜的损伤。
也就是说,根据本发明的包含锂、锌或其组合的金属盐的彩色滤光片用剥离液组合物同时满足现有技术中成为问题的短时间内在不损伤基板底部膜的情况下去除彩色光阻,以及抑制基板腐蚀的效果而备受瞩目。但对于所述效果,在包含与锂或锌为同族的金属的金属盐的使用中未发现该效果,在这一点上本发明属于本领域技术人员完全无法预测的新的发现。
作为一例,包含可与锂属于同族的作为碱金属的钠、钾等的金属盐的使用中,不能同时满足对基板与底部膜的腐蚀的抑制。
在本发明的一实施例的彩色滤光片用剥离液组合物中,所述无机碱可为氢氧化钠、氢氧化钾或其组合。
在本发明的一实施例的彩色滤光片用剥离液组合物中,所述金属盐可为无机酸盐、有机酸盐、氢氧化物或卤化物。
作为一例,所述金属盐可为选自锂的无机酸盐、有机酸盐、氢氧化物、卤化物或其组合;及锌的锂的无机酸盐、有机酸盐、氢氧化物、卤化物或其组合的一个或两个以上。
所述无机酸盐只要为常规的无机酸盐则不受限制,可为前述的金属的碳酸盐、磷酸盐、硫酸盐或硝酸盐等。
所述有机酸盐只要为常规的有机酸盐则不受限制,可为前述的金属的乙酸盐、苯甲酸盐、马来酸盐、丙烯酸盐、富马酸盐、羟乙磺酸盐、枸橼酸盐、乳酸盐、葡萄糖酸盐、琥珀酸盐、草酸盐、苯乙酸盐、甲磺酸盐、甲苯磺酸盐、水杨酸盐、苯磺酸盐、苯胺磺酸盐、天冬氨酸盐、谷氨酸盐、硬脂酸盐、棕榈酸盐、油酸盐、月桂酸盐、泛酸盐、单宁酸盐、抗坏血酸盐、戊酸盐、己二酸盐、溴酸盐、褐藻酸盐、天冬氨酸盐、樟脑酸盐、庚酸盐或己酸盐等。
所述卤化物只要为常规的卤化物则不受限制,可为前述金属的氟化物、氯化物、溴化物、碘化物等。
所述氢氧化物可为氢氧化锂或氢氧化锌。
作为一例,所述彩色滤光片用剥离液组合物优选包含选自选自磷酸盐、硫酸盐、硝酸盐等的无机酸盐;选自乙酸盐、苯甲酸盐等的有机酸盐;氯化物;及氢氧化物的一个或两个以上的金属盐。
作为一例,所述彩色滤光片用剥离液组合物包含至少一种以上的锌盐时,可有利于药液的稳定性,但不限于此。
作为一例,所述彩色滤光片用剥离液组合物包含互不相同的2种金属盐时,可以按1:0.1至1:10的重量比混合使用。
根据本发明的一实施例的彩色滤光片用剥离液组合物,以总重量为基准,可包含1至7重量百分比的所述无机碱;0.01至3重量百分比的所述金属盐;5至35重量百分比的所述胺类化合物;3至20重量百分比的所述环状醇类化合物;及余量的水。
作为一例,所述彩色滤光片用剥离液组合物可包含2至7重量百分比的所述无机碱;0.05至2重量百分比的所述金属盐;5至30重量百分比的所述胺类化合物;5至20重量百分比的所述环状醇类化合物;及40至80重量百分比的水。
作为一例,所述彩色滤光片用剥离液组合物可包含3.5至6重量百分比的所述无机碱;0.1至1.0重量百分比的所述金属盐;7至20重量百分比的所述胺类化合物;8至20重量百分比的所述环状醇类化合物;及45至75重量百分比的水。
如上所述,本发明的彩色滤光片用剥离液组合物能够以多种使用量的组合来使用。此时,环状醇类化合物超过通常添加剂的使用量以上,即超过5重量百分比时,在去除彩色光阻时,底部薄膜晶体管,尤其是对由含Al的金属形成的基板的腐蚀效果更加显著。
所述醇类化合物可为由下述化学式1或化学式2表示的化合物。
[化学式1]
Figure BDA0002185994710000091
[化学式2]
Figure BDA0002185994710000101
在所述化学式1及化学式2中,
R1为氢、羟基或(C1-C4)烷基;
A为-NR-、-S-或-O-,所述R为羟基(C1-C5)烷基;
a,b及c为相互独立地选自0-5的整数,所述a或b为0的整数时意味着直接结合,所述c为0的整数时意味着剩余的取代基均为氢;
d及e为相互独立地为0或1的整数,所述d为0时意味着所述A为-NR-,所述R为羟基(C1-C5)烷基,所述e为0的整数时意味着直接结合。
作为一例,所述彩色滤光片用剥离液组合物优选含至少一个以上的环状脂环醇。
作为一例,所述环状脂环醇可为选自由下述化学式2-1及化学式2-2表示的化合物的至少一种。
[化学式2-1]
Figure BDA0002185994710000102
[化学式2-2]
Figure BDA0002185994710000103
在所述化学式2-1及化学式2-2中,
A'为-S-或-O-;
b相互独立地选自0-5的整数;
e相互独立地为0或1的整数
所述醇类化合物的非限定性的例选自下述化合物的一个或者两个以上,即选自苯酚、甲酚、二甲苯酚、邻苯二酚、间苯二酚、对苯二酚、邻苯三酚、苯三酚、邻羟基苄醇、苯甲醇、天麻苷元、苯乙醇、酪醇及糠醇的环状芳香族醇;及选自四氢糠醇、吡咯烷甲醇、吡咯烷乙醇、哌啶甲醇及哌啶乙醇等的环状脂环类醇。
作为一例,所述环状脂环醇优选选自四氢糠醇、1-吡咯烷甲醇、2-吡咯烷甲醇、1-吡咯烷乙醇、2-吡咯烷乙醇、1-哌啶甲醇、2-哌啶甲醇、1-哌啶乙醇及2-哌啶乙醇等。
本发明一实施例的彩色滤光片用剥离液组合物中,所述胺类化合物起到加强剥离力与清洗力的作用,加速作为彩色光阻内部高分子的渗透及膨胀。为了这种效果的协同,优选所述胺类化合物同时包含烷醇胺及聚胺,所述烷醇胺或聚胺单独使用的方式,也示出了本发明的目的效果,因而理想。
所述烷醇胺可包含碳数1-10的烷醇基。
所述烷醇胺的非限定性例可为单甲醇胺、单乙醇胺、N-甲基二乙醇胺、N-乙基乙醇胺、N-丙基乙醇胺、N-丁基乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、N-甲基二乙醇胺、N-乙基二乙醇胺、二异丙醇胺、二异丙醇胺、三异丙醇胺、N-甲基异丙醇胺、N-乙基异丙醇胺、N-丙基二异丙醇胺、2-氨基丙烷-1-醇、N-甲基-2-氨基丙烷-1-醇、N-乙基-2-氨基丙烷-1-醇、1-氨基丙烷-3-醇、N-甲基-1-氨基丙烷-3-醇、N-乙基-1-氨基丙烷-3-醇、1-氨基丁烷-2-醇、N-甲基-1-氨基丁烷-2-醇、N-乙基-1-氨基丁烷-2-醇、2-氨基丁烷-1-醇、N-甲基-2-氨基丁烷-1-醇、N-乙基-2-氨基丁烷-1-醇、3-氨基丁烷-1-醇、N-甲基-3-氨基丁烷-1-醇、N-乙基-3-氨基丁烷-1-醇、1-氨基丁烷-4-醇、N-甲基-1-氨基丁烷-4-醇、N-乙基-1-氨基丁烷-4-醇、1-氨基-2-甲基丙烷-2-醇、2-氨基-2-甲基丙烷-1-醇、1-氨基戊烷-4-醇、2-氨基-4-甲基戊烷-1-醇、2-氨基己烷-1-醇、3-氨基庚烷-4-醇、1-氨基辛烷-2-醇、5-氨基辛烷-4-醇、1-氨基丙烷-2,3-二醇、2-氨基丙烷-1,3-二醇、三(羟甲基)氨基甲烷、1,2-二氨基丙烷-3-醇、1,3-二氨基丙烷-3-醇及2-(2-氨基乙氧基)乙醇等脂肪醇胺。
作为一例,优选所述烷醇胺包含甲醇基(HO-CH2-*)或乙醇基(HO-CH2CH2-*)。
作为所述聚胺的非限定性例可为乙二胺、丙二胺、丁二胺、三亚甲基二胺、四亚甲基二胺、1,3-二氨基丁烷、2,3-二氨基丁烷、五亚甲基二胺、2,4-二氨基戊烷、六亚甲基二胺、七亚甲基二胺、八亚甲基二胺、九亚甲基二胺、N-甲基乙二胺、N,N-二甲基乙二胺、三甲基乙二胺、N-乙基乙二胺、N,N-二乙基乙二胺、三乙基乙二胺、1,2,3-三氨基丙烷、三(2-氨基乙基)胺、四(氨基甲基)甲烷、二亚乙基三胺、三亚乙基四胺、四亚乙基五胺、五亚乙基辛烷及九亚乙基十胺等。
作为一例,所述聚胺优选包含至少3个以上的氨基。
作为一例,所述聚胺优选包含选自二亚乙基三胺、三亚乙基四胺、四亚乙基五胺、六亚乙基辛烷及九亚乙基十胺等的一个或两个以上。
如上所述,所述胺类化合物可为所述烷醇胺及聚胺的混合物。此时,可为以1重量份的所述烷醇胺为基准,混合0.1-5重量份的所述聚胺的混合物。
作为一例,所述胺类化合物可为以1:0.1至1:3的重量比(A:B)混合的烷醇胺(A)与聚胺(B)的混合物。
作为一例,所述胺类化合物可为以1:0.3至1:2的重量比(A:B)混合的烷醇胺(A)与聚胺(B)的混合物。
本发明一实施例的彩色滤光片用剥离液组合物为了提高彩色光阻的溶解力与药液的稳定度,还可包含亚烷基二醇烷基醚化合物。另外,除去未固化的彩色光阻时有效,因此,可适用于显影工序后的洗净步骤、或去除彩色滤光片镀膜中所使用的有机绝缘膜的步骤。
所述亚烷基二醇烷基醚化合物只要为常规的亚烷基二醇烷基醚化合物则不受限制,为了降低表面张力,优选分子内包含醚基与羟基,且为可以与水混合的化合物。
所述亚烷基二醇烷基醚化合物可为选自单亚烷基二醇单烷基醚、二亚烷基二醇单烷基醚及三亚烷基二醇单烷基醚等。所述亚烷基或烷基的碳数可为1-4。
作为一例,所述亚烷基二醇烷基醚化合物可为选自如下化合物的一个或两个以上。即选自乙二醇一甲醚、二甘醇一甲醚、三乙二醇一甲醚、丙二醇一甲醚、二丙二醇一甲醚、三丙二醇一甲醚、乙二醇一乙醚、二甘醇一乙醚、三乙二醇一乙醚、丙二醇一乙醚、二丙二醇一乙醚、三丙二醇一乙醚、乙二醇一丙醚、二甘醇一丙醚、三乙二醇一丙醚、丙二醇一丙醚、二丙二醇一丙醚、三丙二醇一丙醚、乙二醇一丁醚、二甘醇一丁醚、三乙二醇一丁醚、丙二醇一丁醚、二丙二醇一丁基及三丙二醇一丁基醚等;及乙二醇二甲醚、二甘醇二甲醚、三乙二醇二甲醚、丙二醇二甲醚、二丙二醇二甲醚、三丙二醇二甲醚、乙二醇二乙醚、二甘醇二乙醚、三乙二醇二乙醚、丙二醇二乙醚、二丙二醇二乙醚、三丙二醇二乙醚、乙二醇二丙醚、二甘醇二丙醚、三乙二醇二丙醚、丙二醇二丙醚、二丙二醇二丙醚、三丙二醇二丙醚、乙二醇二丁醚、二甘醇二丁醚、三乙二醇二丁醚、丙二醇二丁醚、二丙二醇二丁醚及三丙二醇二丁基醚等。
并且,所述亚烷基二醇烷基醚化合物以总重量为基准,可包含3-30重量百分比,具体地可包含3-25重量百分比,更具体的可包含5-20重量百分比。
本发明的一实施例的彩色滤光片用剥离液组合物还可包含非离子型表面活性剂。所述非离子型表面活性剂对疏水性层间的有机绝缘膜可增加打湿性,因此可以使用于防止对去除彩色光阻后基板等的表面污斑。
所述非离子型表面活性剂只要为常规的非离子型表面活性剂则不受限制,可选自聚氧乙烯烷基醚型、聚氧乙烯烷基苯基醚型、聚氧乙烯聚氧丙烯烷基醚型、聚氧乙烯聚氧丁烯烷基醚型、聚氧乙烯烷基氨基醚型、聚氧乙烯烷基酰胺基醚型、聚乙二醇脂肪酸酯型、失水山梨醇脂肪酸酯型、聚氧乙烯失水山梨醇脂肪酸酯型、脂肪酸甘油酯型、烷基醇酰胺型及甘油酯型等。
另外,相对于组合物的总重量,所述非离子型表面活性剂可包含0.01-5重量百分比。
另外,本发明一实施例的彩色滤光片用剥离液组合物中,还包含烷基氢氧化铵等铵类有机碱的组合物也可为本发明的一种方式。在这种情况下,从确保上述药液内的稳定性方面考虑,可将无机碱按照添加剂的用量添加。
如上所述,本发明的彩色滤光片用剥离液组合物用于去除液晶显示装置的彩色滤光片的固化的RGB彩色光阻图案,不仅能够在短时间内有效去除,还保护金属配线与基板,可以显著地抑制其腐蚀和损伤。另外,对于有机绝缘膜的剥离力与清洗力超强,因此可以同时有效去除这些。即,根据本发明,可以减少强碱性彩色滤光片用剥离液组合物对基板的损伤,在彩色滤光片发生不良时,可在短时间内去除不良面。
因此,根据本发明可以从不良基板中有效地回收利用TFT排列基板,其优点在于可提供工艺收率的提高且节俭成本的效果。
本发明可为利用所述彩色滤光片用剥离液组合物,剥离固化了的彩色光阻的步骤的方法。
所述剥离步骤可为利用所述彩色滤光片用剥离液组合物,通过浸渍法或喷雾法去除在基板上形成的彩色光阻,即固化了的彩色光阻的步骤。
并且,本发明提供包含所述剥离步骤的,回收利用薄膜晶体管的排列基板的方法。此时,所述薄膜晶体管的排列基板可为使用后废弃的基板,也可为包含以不良方式形成的彩色滤光片的基板。
即,本发明提供一种通过去除在彩色滤光片工序中发生的不良基板的彩色光阻,以此回收利用所述不良基板的方法,尤其是,在包含具有高固化度的丙烯酸类树脂、酚醛清漆树脂等的有机绝缘膜的彩色滤光片中,也能够以快速的去除速度,良好的完成彩色光阻的去除。
作为一例,去除固化的彩色光阻的步骤可利用浸渍法、喷雾法等。此时,浸渍、喷雾的实施温度无太大限制,可在15-100℃下实施,具体地可在40-80℃下实施。并且,实施时间可为30秒-40秒,具体地可为1分钟-20分钟。在本说明书中,去除彩色光阻步骤的实施时间为10分钟以内时判断为良好地完成。
以下,通过实施例更详细的说明利用本发明的彩色滤光片用剥离液组合物以及利用其的剥离方法。但,下述实施例仅为详细说明本发明的一个参考例,本发明并不受限于下述实施例,可以以各种形态体现。且,在无特别定义的情况下,所有技术用语及科学用语与本领域的技术人员的通常所理解的含义有着相同的含义。另外,本发明说明述中所使用的用语单纯只是为了更有效的记述特定的实施例,而不会限制本发明。
(评价方法)
1.有机绝缘膜及彩色光阻的去除试验
使用下述实施例及比较例中制得的彩色滤光片用剥离液组合物,实施了有机绝缘膜及彩色光阻的去除试验。
具体地讲,将包含作为有机绝缘膜的丙烯酸膜的彩色光阻感光剂形成的TFT-基板(玻璃,5㎝×5㎝)作为试验片。将所述试验片在75℃下分别浸渍在彩色滤光片用剥离液组合物中,用光学显微镜观察了开始浸渍到有机绝缘膜以及彩色光阻完全剥离为止所需的时间,并将其结果图示在下述表3及图1-2。
有机绝缘膜及彩色光阻的去除试验中,其完成去除的时间优选可为12分钟以下,更优选可为10分钟以下。
2.基板损伤确认试验(玻璃)
利用下述实施例及比较例中制得的彩色滤光片用剥离液组合物,定量评价对基板(玻璃)的损伤程度。
具体来讲,使用了在玻璃上将聚铟锡氧化物(Poly ITO)图案化(Patterning)了的试验片。将各试验片在实施例及比较例中制得的彩色滤光片用剥离液组合物中浸渍60分钟后,将其用去离子水洗净30秒,再用氮气干燥10秒。将干燥的试验片在光学显微镜及扫描电子显微镜(Scanning Electron Microscope,SEM)下仔细观察了其表面与截面。为了定量地确认基板(玻璃、Glass)的腐蚀程度,测定了腐蚀面积的大小(nm),并将其结果图示在下表3以及图3。
基板损伤确认试验中,优选的数值可为玻璃腐蚀30nm以下,更优选的数值可为玻璃腐蚀25nm以下。
3.基板损伤确认试验(底部膜)
利用通过下述实施例及比较例制得的彩色滤光片用剥离液组合物,定量评价对基板(底部膜)的损伤程度。
具体地,使用了在所述有机绝缘膜及彩色光阻的去除试验中使用过的试验片,即去除了有机绝缘膜及彩色光阻的试验片。将各个试验片再次浸漬到相同组成的新的彩色滤光片用剥离液组合物的恶劣的环境条件下,试验了基板的损伤程度。这时,将各试验片在实施例与比较例中制得的彩色滤光片用剥离液组合物中再次浸漬60分钟后,将其用去离子水洗净30秒后用氮气干燥10秒钟。将各个干燥的试验片翻过来,仔细观察了底部膜。为了定量地测定各底部膜的损伤程度,在1x1cm范围内测量底部膜腐蚀的个数,并将其结果图示在下表3和图1。
(实施例1至实施例15)
根据下表1中记载的含量混合各成分而制备彩色滤光片用剥离液组合物(100g)。
(表1)
Figure BDA0002185994710000171
(对比例1至对比例12)
根据下表2记载的含量混合各成分而制备彩色滤光片用剥离液组合物(100g)。
(表2)
Figure BDA0002185994710000181
Figure BDA0002185994710000191
(表3)
Figure BDA0002185994710000192
Figure BDA0002185994710000201
根据上述表3所述的是否包含金属盐的效果来看,实施例1至实施例15中,确认到有机绝缘膜及彩色光阻的去除完成时间均在10分钟以内,显示有机绝缘膜及彩色光阻的去除效果良好。玻璃腐蚀的大小在25nm以下,完全没有看到底部膜的缺陷。
相反,在所述的不含金属盐的比较例1与比较例6的情况下,不仅去除有机绝缘膜与彩色光阻的时间超过10分钟,对玻璃的腐蚀也明显。尤其是底部膜的缺陷个数明显增加。另外,含钾盐的比较例11及比较例12的情况下,玻璃与底部膜的腐蚀的抑制效果不理想。
使用作为有机碱的四甲基氢氧化铵时,由于有机碱的分解,在剥离过程中诱发刺激性的气味。另外,在有机绝缘膜与彩色光阻的去除试验中,显示了低的剥离力。由此,对于有机绝缘膜与彩色光阻的去除完成时间不理想。
上述表3中对是否包含亚烷基二醇烷基醚化合物的效果来看,确认到可以满足短时间的有机绝缘膜与彩色光阻的去除完成时间。这是由于亚烷基二醇烷基醚化合物增加了有机绝缘膜与彩色光阻打湿程度,从而提高了去除性能而带来的效果。
如下图1所示,可以确认,利用本发明的彩色滤光片用剥离液组合物来实现剥离工序时,可在短时间内充分去除彩色光阻与作为有机绝缘膜的丙烯酸膜,而且几乎不会发生对基板表面与截面的损伤。相反的,如下图2所示,比较例1中发现了多数的底部膜缺陷。并且,如下图3所示,比较例1中对玻璃的腐蚀非常严重。
综上所述,确认到本发明的彩色滤光片用剥离液组合物的彩色光阻的剥离力优异、对玻璃及底部膜的腐蚀抑制的特性显著,由此更加明显提高彩色滤光片的回收利用的生产性。另外,不仅对彩色光阻的剥离力,对于显影工序中可导致的尚未固化的彩色光阻残留物的清洗力优异,从而也适用于去除用于彩色滤光片涂层的有机绝缘膜。
如上所述,本发明通过特定的事项及限定的实施例与比较例来说明,但上述实施例与比较例是为了助于对本发明全面的理解而提供的,本发明不限于上述实施例,本领域技术人员可通过本发明的记载内容实现多样的修改及变形。
因此本发明的思想不应局限于说明的实施例,后述的权利要求书的范围及与权利要求书的范围均等或等价变形的均属于本发明的思想范畴。

Claims (12)

1.一种彩色滤光片用剥离液组合物,其特征在于,包含无机碱;选自锂盐、锌盐的金属盐;选自烷醇胺及聚胺的胺类化合物;环状醇类化合物;以及水。
2.根据权利要求1所述的彩色滤光片用剥离液组合物,其特征在于,所述无机碱为氢氧化钠、氢氧化钙或其组合。
3.根据权利要求1所述的彩色滤光片用剥离液组合物,其特征在于,所述金属盐为无机酸盐、有机酸盐、氢氧化物或卤化物。
4.根据权利要求1所述的彩色滤光片用剥离液组合物,其特征在于,以总量为基准,包含1-7重量百分比的所述无机碱;0.01-3重量百分比的所述金属盐;5-35重量百分比的所述胺类化合物;3-20重量百分比的所述环状醇类化合物;以及余量的水。
5.根据权利要求1所述的彩色滤光片用剥离液组合物,其特征在于,所述环状醇类化合物选自由下述化学式1及化学式2表示的化合物的至少一种,
[化学式1]
Figure FDA0002185994700000011
[化学式2]
Figure FDA0002185994700000012
在所述化学式1及化学式2中,
R1为氢、羟基或(C1-C4)烷基;
A为-NR-、-S-或-O-,所述R为氢或羟基(C1-C5)烷基;
a、b及c相互独立地选自0-5的整数,所述a或b为0的整数时意味着直接结合,所述c为0的整数时意味着剩余的取代基均为氢;
d与e相互独立地为0或1的整数,但所述d为0的整数时意味着所述A为-NR-、所述R为羟基(C1-C5)烷基,所述e为0的整数时意味着直接结合。
6.根据权利要求1所述的彩色滤光片用剥离液组合物,其特征在于,所述环状醇类化合物选自下述化合物的一个或两个以上,即选自苯酚、甲酚、二甲苯酚、邻苯二酚、间苯二酚、对苯二酚、邻苯三酚、苯三酚、邻羟基苄醇、苯甲醇、天麻苷元、苯乙醇及酪醇的环状芳香族醇;及选自四氢糠醇、吡咯烷甲醇、吡咯烷乙醇、哌啶甲醇及哌啶乙醇的环状脂环类醇。
7.根据权利要求1所述的彩色滤光片用剥离液组合物,其特征在于,所述胺类化合物为所述烷醇胺及所述聚胺的混合物。
8.根据权利要求7所述的彩色滤光片用剥离液组合物,其特征在于,所述混合物为以1重量份的所述烷醇胺为基准,混合0.1-5重量份的所述聚胺的混合物。
9.根据权利要求1所述的彩色滤光片用剥离液组合物,其特征在于,还包括亚烷基二醇烷基醚化合物。
10.根据权利要求1所述的彩色滤光片用剥离液组合物,其特征在于,还包括非离子型表面活性剂。
11.剥离方法,其特征在于,包括使用权利要求1所述的彩色滤光片组合物剥离固化了的彩色光阻的步骤。
12.回收利用薄膜晶体管排列基板的方法,其特征在于,通过使用权利要求1所述的彩色滤光片组合物去除固化了的彩色光阻来实现。
CN201910820861.7A 2018-08-31 2019-08-30 彩色滤光片用剥离液组合物及利用其的方法 Active CN110874026B (zh)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR20180103882 2018-08-31
KR10-2018-0103882 2018-08-31
KR10-2019-0098842 2019-08-13
KR1020190098842A KR20200026053A (ko) 2018-08-31 2019-08-13 칼라 필터용 박리액 조성물 및 이를 이용한 방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN110874026A true CN110874026A (zh) 2020-03-10
CN110874026B CN110874026B (zh) 2024-07-12

Family

ID=69717751

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201910820861.7A Active CN110874026B (zh) 2018-08-31 2019-08-30 彩色滤光片用剥离液组合物及利用其的方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN110874026B (zh)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111638632A (zh) * 2020-06-24 2020-09-08 福建省佑达环保材料有限公司 一种cf工序光刻胶返工液组合物
CN111944356A (zh) * 2020-09-18 2020-11-17 东莞市四辉表面处理科技有限公司 低划伤玻璃脱漆剂及其制备方法
CN113741159A (zh) * 2021-08-27 2021-12-03 漳州思美科新材料有限公司 一种pi膜剥离液及其制备方法和剥离方法

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW425425B (en) * 1994-08-03 2001-03-11 Lubrizol Corp Lubricating compositions, concentrates, and greases containing the combination of an organic polysulfide and an overbased composition or a phosphorus or boron compound
CN101398639A (zh) * 2007-09-28 2009-04-01 三星电子株式会社 用于剥离的组合物以及剥离方法
CN102163011A (zh) * 2011-04-29 2011-08-24 西安东旺精细化学有限公司 一种光致抗蚀剂的剥离液组合物
KR20140122082A (ko) * 2013-04-09 2014-10-17 동우 화인켐 주식회사 레지스트 박리액 조성물
CN106959589A (zh) * 2016-01-12 2017-07-18 东友精细化工有限公司 彩色光阻剂或有机系绝缘膜剥离液组合物
KR20170141581A (ko) * 2016-06-15 2017-12-26 동우 화인켐 주식회사 레지스트 박리액 조성물
KR20180024368A (ko) * 2016-08-30 2018-03-08 주식회사 이엔에프테크놀로지 칼라필터용 박리액 조성물

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW425425B (en) * 1994-08-03 2001-03-11 Lubrizol Corp Lubricating compositions, concentrates, and greases containing the combination of an organic polysulfide and an overbased composition or a phosphorus or boron compound
CN101398639A (zh) * 2007-09-28 2009-04-01 三星电子株式会社 用于剥离的组合物以及剥离方法
CN102163011A (zh) * 2011-04-29 2011-08-24 西安东旺精细化学有限公司 一种光致抗蚀剂的剥离液组合物
KR20140122082A (ko) * 2013-04-09 2014-10-17 동우 화인켐 주식회사 레지스트 박리액 조성물
CN106959589A (zh) * 2016-01-12 2017-07-18 东友精细化工有限公司 彩色光阻剂或有机系绝缘膜剥离液组合物
KR20170141581A (ko) * 2016-06-15 2017-12-26 동우 화인켐 주식회사 레지스트 박리액 조성물
KR20180024368A (ko) * 2016-08-30 2018-03-08 주식회사 이엔에프테크놀로지 칼라필터용 박리액 조성물

Non-Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
"眉山晶瑞电子材料新建年产87000吨光电显示、半导体用新材料项目", 乙醛醋酸化工, no. 04, 5 April 2018 (2018-04-05) *
SHI KAI ET AL: "Effect of solution treatment on microstructure and properties of Mg-6A1-5Pb-1Zn-0.3Mn anode", JOURNAL OF CENTRAL SOUTH UNIVERSITY (SCIENCE AND TECHNOLOGY), vol. 43, no. 10, 26 October 2012 (2012-10-26), pages 40 *
中国有色金属工业协会主编: "中国锂、铷、铯", vol. 1, 北京:冶金工业出版社, pages: 40 *

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111638632A (zh) * 2020-06-24 2020-09-08 福建省佑达环保材料有限公司 一种cf工序光刻胶返工液组合物
CN111638632B (zh) * 2020-06-24 2022-08-05 福建省佑达环保材料有限公司 一种cf工序光刻胶返工液组合物
CN111944356A (zh) * 2020-09-18 2020-11-17 东莞市四辉表面处理科技有限公司 低划伤玻璃脱漆剂及其制备方法
CN113741159A (zh) * 2021-08-27 2021-12-03 漳州思美科新材料有限公司 一种pi膜剥离液及其制备方法和剥离方法
CN113741159B (zh) * 2021-08-27 2024-05-17 漳州思美科新材料有限公司 一种pi膜剥离液及其制备方法和剥离方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN110874026B (zh) 2024-07-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN110874026A (zh) 彩色滤光片用剥离液组合物及利用其的方法
TWI494713B (zh) Photoresist stripping solution
US6455479B1 (en) Stripping composition
JP4773562B2 (ja) フォトレジスト用ストリッパー組成物
US6475966B1 (en) Plasma etching residue removal
CN101878452B (zh) 剥离液组合物、使用了该剥离液组合物的树脂层的剥离方法
TW201533549A (zh) 光阻剝離液
JP2005043873A (ja) フォトレジスト剥離液組成物及びそれを用いたフォトレジストの剥離方法
KR100856112B1 (ko) 마이크로일렉트로닉스의 박리 및 세정 조성물
US20040220066A1 (en) Stripper
TWI406112B (zh) 光阻清除組成物及清除光阻之方法
KR100544889B1 (ko) 포토레지스트용 스트리퍼 조성물
KR101758051B1 (ko) 칼라필터용 박리액 조성물
KR102317153B1 (ko) 레지스트 박리액 조성물
KR20200026053A (ko) 칼라 필터용 박리액 조성물 및 이를 이용한 방법
KR102542260B1 (ko) 칼라필터용 박리액 조성물
KR20120023256A (ko) 레지스트 박리액 조성물
CN107193187B (zh) 抗蚀剂剥离液组合物
US20240241447A1 (en) Resist stripper composition and pattern formation method using same
KR20110049066A (ko) 컬러 레지스트 박리액 조성물
KR102675757B1 (ko) 레지스트 박리액 조성물
JP2011049301A (ja) カラーフィルタ基板再生用レジスト剥離液組成物およびカラーフィルタ基板の再生方法
KR20080066322A (ko) 레지스트 박리액 조성물 및 이를 이용한 레지스트의박리방법
KR20170076083A (ko) 칼라 레지스트 박리액 조성물
CN115039036A (zh) 用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物和使用其剥离光致抗蚀剂的方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant