CN110764370A - 曝光机 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种曝光机，包括光罩导轨、光罩平台、转移构件、静电消除构件以及控制装置，光罩导轨包括互相平行的第一光罩导轨和第二光罩导轨；光罩平台放置在光罩导轨上，用于承载光罩；转移构件用于转移光罩；静电消除构件用于在转移构件转移光罩时，消除光罩因脱离光罩平台所产生的静电；控制装置用于在满足预定条件时，控制静电消除构件的工作。本发明通过设置静电消除构件，消除了光罩平台和光罩脱离过程中产生的静电，改善了因静电原因造成的光罩电路图形损坏。

Description

曝光机

技术领域

本发明涉及显示领域，具体涉及一种曝光机。

背景技术

现有技术中的曝光机中，光罩放置在光罩平台上以对玻璃基板进行曝光，为保证曝光效果，通常在光罩与光罩平台之间用空气吸附固定，使用完成后需要将光罩从光罩平台上脱离。然而，剥离过程中会产生大量的静电，破坏光罩上的电路图形。

因此，现有技术的曝光机存在光罩剥离时电路图形被破坏的技术问题，需要改进。

发明内容

本发明提供一种曝光机，以解决现有曝光机在光罩剥离时，电路图形被破坏的技术问题。

为解决上述问题，本发明提供的技术方案如下：

本发明提供一种曝光机，包括：

光罩导轨，包括互相平行的第一光罩导轨和第二光罩导轨；

光罩平台，放置在所述光罩导轨上，用于承载光罩；

转移构件，用于转移所述光罩；

静电消除构件，用于在所述转移构件转移所述光罩时，消除所述光罩因脱离所述光罩平台所产生的静电；

控制装置，用于在满足预定条件时，控制所述静电消除构件的工作。

在本发明的曝光机中，所述静电消除构件为软X射线静电消除器。

在本发明的曝光机中，所述静电消除构件设置在所述第一光罩导轨远离所述第二光罩导轨的一侧、以及所述第二光罩导轨远离所述第一光罩导轨的一侧中的至少一个。

在本发明的曝光机中，所述静电消除构件设置在靠近所述光罩平台的至少一个角处。

在本发明的曝光机中，所述静电消除构件设置在所述第一光罩导轨和第二光罩导轨之间。

在本发明的曝光机中，所述控制装置包括控制器和传感器，所述传感器用于检测所述转移构件与光罩平台之间的距离，所述控制器用于在所述距离小于预设值时，控制所述静电消除构件的工作。

在本发明的曝光机中，所述控制装置包括传感器和控制器，所述传感器用于检测所述转移构件与光罩平台之间的距离，所述控制器用于在根据所述传感器检测结果确定所述距离变化时，控制所述静电消除构件的工作。

在本发明的曝光机中，所述传感器为超声波测距离传感器、激光测距传感器或红外线测距传感器中的一种或多种。

在本发明的曝光机中，所述控制装置包括控制器，所述控制器用于在接收到光刻结束信号时，打开所述静电消除构件。

在本发明的曝光机中，所述传感器设置在所述光罩平台外部。

本发明的有益效果为：本发明提供一种曝光机，包括光罩导轨、光罩平台、转移构件、静电消除构件以及控制装置，所述光罩导轨包括互相平行的第一光罩导轨和第二光罩导轨；所述光罩平台放置在所述光罩导轨上，用于承载光罩；所述转移构件用于转移光罩；所述静电消除构件用于在所述转移构件转移所述光罩时，消除所述光罩因脱离所述光罩平台所产生的静电；所述控制装置用于在满足预定条件时，控制所述静电消除构件的工作。本发明通过设置静电消除构件，消除了光罩平台和光罩脱离过程中产生的静电，改善了因静电原因造成的光罩电路图形损坏。

附图说明

为了更清楚地说明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明实施例提供的曝光机的俯视图；

图2为本发明实施例提供的曝光机的正视图；

图3为为本发明实施例提供的曝光机的工作示意图。

具体实施方式

以下各实施例的说明是参考附加的图示，用以例示本发明可用以实施的特定实施例。本发明所提到的方向用语，例如[上]、[下]、[前]、[后]、[左]、[右]、[内]、[外]、[侧面]等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本发明，而非用以限制本发明。在图中，结构相似的单元是用以相同标号表示。

本发明提供一种曝光机，以改善现有曝光机存在的光罩剥离时电路图形被破坏的技术问题。

图1为本发明实施例提供的曝光机的俯视图，图2为本发明实施例提供的曝光机的正视图，下面结合图1和图2对曝光机进行具体说明。

曝光机包括光罩导轨10、光罩平台20、转移构件30、静电消除构件60以及控制装置。

光罩导轨10包括互相平行的第一光罩导轨11和第二光罩导轨12，光罩平台20放置在光罩导轨10上，用于承载光罩40。在本实施例中，光罩平台20包括第一光罩平台21和第二光罩平台22，其中第一光罩平台21放置在第一光罩导轨11上，第二光罩平台22放置在第二光罩导轨12上，当光罩40放置在第一光罩平台21和第二光罩平台22上时，光罩40上的电路图案处于第一光罩平台21和第二光罩平台22之间。

转移构件30用于转移光罩40，在本实施例中，转移构件30为机械夹爪。

当曝光机工作时，转移构件30将所需要的光罩40转移至光罩平台20上，在光罩导轨10的下方放置玻璃基板，在光罩40上方放置曝光光源，曝光光源发出的光通过光罩40，将光罩40上的电路图案转印至玻璃基板上。

当曝光机工作完成后，转移构件30将光罩平台20上的光罩40移走，放至对应的光罩存储区(图未示出)。

静电消除构件60用于在转移构件30转移光罩40时，消除光罩40因脱离光罩平台20所产生的静电。

在一种实施例中，静电消除构件60为软X射线静电消除器，在工作时产生软X射线，等量地生成正、负离子，快速、高效地进行消除静电。当然，静电消除构件60也可以是其他能消除静电的装置。

静电消除构件60的设置位置有多种方式。

在一种实施例中，静电消除构件60设置在光罩导轨11远离光罩导轨12的一侧、以及光罩导轨12远离光罩导轨11的一侧中的至少一个。

在一种实施例中，静电消除构件60设置在靠近所述光罩平台20的至少一个角处。

在一种实施例中，静电消除构件60设置在所述光罩导轨11和光罩导轨12之间。

控制装置用于在满足预定条件时，控制静电消除构件60的工作。

在一种实施例中，预定条件可以是曝光机工作的条件，此时，控制装置在检测到曝光机工作时，判定为满足预定条件，控制静电消除构件60的工作；预定条件还可以是转移构件与光罩平台之间的距离小于预设值，此时，控制装置在检测到转移构件与光罩平台之间的距离小于预设值时，判定为满足预定条件，控制静电消除构件60的工作；当然，预定条件还可以根据需要设置。

在一种实施例中，预设值可以是绝对数值，例如10厘米、5厘米等绝对数值，也可以是相对数值，例如在曝光机不工作时，转移构件与光罩平台之间的距离为L，那么预设值可以是0.1L至0.5L中的任意取值，还可以根据其他需要设置。

现有技术中的曝光机中，光罩40放置在光罩平台20上以对玻璃基板进行曝光，为保证曝光效果，通常在光罩40与光罩平台20之间用空气吸附固定，使用完成后再将光罩40从光罩平台20上脱离。然而，脱离过程中，光罩40和光罩平台20之间会产生大量的静电，若直接脱离，会破坏光罩40上的电路图形。

本发明通过设置控制装置和静电消除构件60，在满足预定条件时，静电消除构件60先将光罩40与光罩平台20之间的静电消除，再将光罩40与光罩平台20脱离，改善了因静电原因造成的光罩40电路图形损坏的技术问题。

在一种实施例中，控制装置包括控制器(图未示出)和传感器70，传感器70用于检测转移构件30与光罩平台20之间的距离，控制器用于在距离小于预设值时，控制静电消除构件60的工作。

具体地，转移构件30在常态下处于远离光罩平台20的区域，当曝光完成后，转移构件30需将光罩40从光罩平台20上移走，因此转移构件30从常态位置逐渐向光罩平台20上方移动，转移构件30与光罩平台20之间的距离也随之逐渐减小。传感器70用于检测转移构件30与光罩平台20之间的距离，当转移构件30与光罩平台20之间的距离小于预设值时，控制器控制静电消除构件60打开，静电消除构件60将光罩40与光罩平台20之间的静电消除，然后转移构件30再将光罩40从光罩平台20上移走。此时，由于光罩40与光罩平台20之间无静电作用，转移动作不会破坏光罩40上的电路图形，延长了光罩40的使用寿命。

转移构件30将光罩40从光罩平台20上移走时，转移构件30从光罩平台20上方逐渐向光罩存储区移动，转移构件30与光罩平台20之间的距离也随之逐渐增大，传感器70用于检测转移构件30与光罩平台20之间的距离，当转移构件30与光罩平台20之间的距离大于预设值时，控制器控制静电消除构件60关闭。此时，静电消除构件60只需在转移构件30与光罩平台20之间的距离小于预设值时工作，其他状态时静电消除构件60保持关闭状态，延长了静电消除构件60的使用寿命。

在一种实施例中，控制装置包括传感器70和控制器(图未示出)，传感器70用于检测转移构件30与光罩平台20之间的距离，控制器用于在根据传感器检测结果确定距离变化时，控制静电消除构件60的工作。

具体地，转移构件30在常态下处于远离光罩平台20的区域，当曝光完成后，转移构件30需将光罩40从光罩平台20上移走，因此转移构件30从常态位置逐渐向光罩平台20上方移动，转移构件30与光罩平台20之间的距离也随之逐渐减小。传感器70用于检测转移构件30与光罩平台20之间的距离变化，当转移构件30与光罩平台20之间的距离趋于减小时，控制器判断转移构件30即将进行将光罩40从光罩平台20上移走的操作，控制器控制静电消除构件60打开，静电消除构件60将光罩40与光罩平台20之间的静电消除，然后转移构件30再将光罩40从光罩平台20上移走。此时，由于光罩40与光罩平台20之间无静电作用，转移动作不会破坏光罩40上的电路图形，延长了光罩40的使用寿命。

转移构件30将光罩40从光罩平台20上移走时，转移构件30从光罩平台20上方逐渐向光罩存储区移动，转移构件30与光罩平台20之间的距离也随之逐渐增大，传感器70用于检测转移构件30与光罩平台20之间的距离变化，当转移构件30与光罩平台20之间的距离趋于增大时，控制器判断转移构件30已完成将光罩40从光罩平台20上移走的操作，控制器控制静电消除构件60关闭。此时，静电消除构件60只需在转移构件30与光罩平台20之间的距离小于预设值时工作，其他状态时静电消除构件60保持关闭状态，延长了静电消除构件60的使用寿命。

在一种实施例中，传感器70设置在所述光罩平台20外部，且在保证不影响转移构件30工作的前提下，尽可以靠近光罩平台20，这样可以提供检测精度。

在一种实施例中，传感器70为超声波测距离传感器、激光测距传感器或红外线测距传感器中的一种或多种。

超声波测距离传感器，采用超声波回波测距原理，运用精确的时差测量技术，检测传感器与目标物之间的距离。

激光测距传感器先由激光二极管对准目标发射激光脉冲，经目标反射后激光向各方向散射，部分散射光返回到传感器接收器，被光学系统接收后成像到雪崩光电二极管上。雪崩光电二极管是一种内部具有放大功能的光学传感器，因此它能检测极其微弱的光信号，记录并处理从光脉冲发出到返回被接收所经历的时间，即可测定目标距离。

红外线测距离传感器是一种利用红外线反射原理对障碍物距离进行测量的传感器。

通过设置传感器70，可以实时检测转移构件30的工作状态，以决定是否需要打开静电消除构件60。

在一种实施例中，控制装置为控制器(图未示出)，用于在接收到光刻结束信号时，打开静电消除构件60。

曝光过程，就是紫外线通过光罩40照射玻璃基板上的光刻胶，使光罩40上的图案转印到光刻胶上的过程。如果是正性光刻胶，则光罩40上不透光区域的图案转印到光刻胶上；如果是负型光刻胶，则光罩40上透光区的图案转印到光刻胶上。在阵列工程中，光刻胶起到掩膜的作用，即通过曝光形成的光刻胶图案，保护了其下面的薄膜在刻蚀工艺中不被刻蚀掉，最后除去光刻胶，掩膜板上的图形就转印到薄膜上了，这个过程即光刻过程。

当光刻工作结束后，控制器接收到光刻结束信号，打开静电消除构件60，将光罩40与光罩平台20之间的静电消除，然后转移构件30再将光罩40从光罩平台20上移走。

此外，本发明的曝光机还可以有其他消除静电的方式。

在一种实施例中，转移构件30上设置有第一连接端子，光罩40上设置有第二连接端子，由于转移构件30通常为金属材质，当转移构件30转移光罩40时，第一连接端子与第二连接端子接触，光罩40与光罩平台20之间的静电可沿着第一连接端子与第二连接端子释放至转移构件30，也可以缓解一部分静电影响。

在一种实施例中，光罩平台20上图案化形成有凸起，当光罩40放置在光罩平台20上时，光罩40与光罩平台20的接触面积减小，产生的静电也减少，也可以缓解一部分静电影响。

将上述实施例的静电消除方式与静电消除构件30相结合，可以达到更好的静电消除效果。

如图3所示，为本发明实施例提供的曝光机的工作示意图。

光罩40放置在光罩平台20上，以对下方的玻璃基板(图未示出)进行曝光，传感器70固定在传感器支架80上，设置在光罩平台20外部，传感器支架80高度可调节，当转移构件30抓取光罩40时，传感器70与转移构件30平行，以便检测更精确。

为保证曝光效果，通常在光罩40与光罩平台20之间用空气吸附固定，使用完成后需要将光罩40从光罩平台20上脱离。

在曝光工作结束后，转移构件30沿着轨道120移动至光罩平台20上方，此时，传感器70侦测到转移构件30已经到达光罩平台20的上方，控制器将静电消除构件60打开。转移构件30将光罩40与光罩平台20脱离后，沿着轨道120移动至光罩中继台50的上方，此时，传感器70侦测到转移构件30已经不在光罩平台20的上方，控制器将静电消除构件60关闭。转移构件30将光罩40放置在光罩中继台50上，光罩盒取放臂100向上移动至光罩中继台50下方，将光罩40取走，并移动至光罩盒储存柜110中，将光罩40储存在光罩盒储存柜110中。

根据上述实施例可知：

本发明提供一种曝光机，包括光罩导轨、光罩平台、转移构件、静电消除构件以及控制装置，光罩导轨包括互相平行的第一光罩导轨和第二光罩导轨；光罩平台放置在光罩导轨上，用于承载光罩；转移构件用于转移光罩；静电消除构件用于在转移构件转移光罩时，消除光罩因脱离光罩平台所产生的静电；控制装置用于在满足预定条件时，控制静电消除构件的工作。本发明通过设置静电消除构件，消除了光罩平台和光罩脱离过程中产生的静电，改善了因静电原因造成的光罩电路图形损坏。

综上所述，虽然本发明已以优选实施例揭露如上，但上述优选实施例并非用以限制本发明，本领域的普通技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，均可作各种更动与润饰，因此本发明的保护范围以权利要求界定的范围为准。

Claims (10)

1.一种曝光机，其特征在于，所述曝光机设备包括：

光罩导轨，包括互相平行的第一光罩导轨和第二光罩导轨；

光罩平台，放置在所述光罩导轨上，用于承载光罩；

转移构件，用于转移所述光罩；

静电消除构件，用于在所述转移构件转移所述光罩时，消除所述光罩因脱离所述光罩平台所产生的静电；

控制装置，用于在满足预定条件时，控制所述静电消除构件的工作。

2.根据权利要求1所述的曝光机，其特征在于，所述静电消除构件为软X射线静电消除器。

3.根据权利要求1所述的曝光机，其特征在于，所述静电消除构件设置在所述第一光罩导轨远离所述第二光罩导轨的一侧、以及所述第二光罩导轨远离所述第一光罩导轨的一侧中的至少一个。

4.根据权利要求3所述的曝光机，其特征在于，所述静电消除构件设置在靠近所述光罩平台的至少一个角处。

5.根据权利要求1所述的曝光机，其特征在于，所述静电消除构件设置在所述第一光罩导轨和第二光罩导轨之间。

6.根据权利要求1所述的曝光机，其特征在于，所述控制装置包括控制器和传感器，所述传感器用于检测所述转移构件与光罩平台之间的距离，所述控制器用于在所述距离小于预设值时，控制所述静电消除构件的工作。

7.根据权利要求1所述的曝光机，其特征在于，所述控制装置包括传感器和控制器，所述传感器用于检测所述转移构件与光罩平台之间的距离，所述控制器用于在根据所述传感器检测结果确定所述距离变化时，控制所述静电消除构件的工作。

8.根据权利要求6或7任一项所述的曝光机，其特征在于，所述传感器为超声波测距离传感器、激光测距传感器或红外线测距传感器中的一种或多种。

9.根据权利要求1所述的曝光机，其特征在于，所述控制装置包括控制器，所述控制器用于在接收到光刻结束信号时，打开所述静电消除构件。

10.根据权利要求8所述的曝光机，其特征在于，所述传感器设置在所述光罩平台外部。

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