CN110941145A - 一种掩膜版检测装置及方法、掩膜版库设备 - Google Patents

一种掩膜版检测装置及方法、掩膜版库设备 Download PDF

Info

Publication number
CN110941145A
CN110941145A CN201811106744.6A CN201811106744A CN110941145A CN 110941145 A CN110941145 A CN 110941145A CN 201811106744 A CN201811106744 A CN 201811106744A CN 110941145 A CN110941145 A CN 110941145A
Authority
CN
China
Prior art keywords
mask
detection
light source
mask plate
processing module
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201811106744.6A
Other languages
English (en)
Other versions
CN110941145B (zh
Inventor
唐文力
祝玥华
吴钱忠
朱骏宇
陈淮阳
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shanghai Micro Electronics Equipment Co Ltd
Original Assignee
Shanghai Micro Electronics Equipment Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shanghai Micro Electronics Equipment Co Ltd filed Critical Shanghai Micro Electronics Equipment Co Ltd
Priority to CN201811106744.6A priority Critical patent/CN110941145B/zh
Publication of CN110941145A publication Critical patent/CN110941145A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN110941145B publication Critical patent/CN110941145B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70733Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
    • G03F7/70741Handling masks outside exposure position, e.g. reticle libraries
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/7085Detection arrangement, e.g. detectors of apparatus alignment possibly mounted on wafers, exposure dose, photo-cleaning flux, stray light, thermal load

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Library & Information Science (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)

Abstract

本发明实施例公开了一种掩膜版检测装置及方法、掩膜版库设备。其中,掩膜版检测装置包括:光源模块、掩膜版检测模块和信号处理模块;光源模块包括第一多路选通开关和多个第一光源;第一多路选通开关用于控制第一光源发出第一检测光线;掩膜版检测模块包括第二多路选通开关和多个第一传感器;第一传感器用于接收第一检测光线并转换为第一检测电信号;第二多路选通开关用于控制第一传感器接收第一检测光线;信号处理模块用于获取第一传感器的第一检测电信号并判断第一传感器所处的掩膜版槽是否存在掩膜版。本发明实施例提供的技术方案,可解决现有掩膜版库设备设置的掩膜版检测装置的数量较多,占用空间较大,装配精度要求较高的问题。

Description

一种掩膜版检测装置及方法、掩膜版库设备
技术领域
本发明实施例涉及半导体制造技术领域,尤其涉及一种掩膜版检测装置及方法、掩膜版库设备。
背景技术
光刻设备是一种将掩模版上的图案曝光成像到衬底基板上的设备,光刻设备需要设置掩膜版库设备:外部版库设备和内部版库设备,用于分别放置掩膜版。其中,外部版库设备是光刻设备接收掩膜版的接口,内部版库设备是光刻设备内部用于存贮掩模版的设备。外部版库设备是光刻设备的掩膜版接口,用户将带有掩模版的版盒支撑板放置在外部版库设备上,外部版库设备检测到掩模版后,控制掩膜版库设备垂向运动至交接位,从而机械手可以顺利的取走掩模版。
在光刻设备中,对掩膜版库设备可能存在以下要求:由于国际半导体设备材料产业协会(SEMI)对掩膜版库的要求,六槽掩模版库需要垂向运动到交接位后取版;出于掩模版和版叉的安全及传输效率考虑,掩模版在交接之前,掩模传输系统需要知道当前掩膜版库设备具体哪个槽位里面有掩模版。因此,在外部版库设备、内部版库设备设计时,需要有掩膜版检测装置,用于检测掩膜版库设备的对应槽内是否存在掩模版。
当前使用的掩膜版检测方法通常使用对射式光纤传感检测,其检测原理是:在版槽的两端放置光纤发射器和接收器,板槽内不存在掩模版时,接收器收到发射器较强的光信号;板槽内存在掩模版时,发射器发出的光透过掩模版后,接收器接收到的信号会迅速减弱,接收器接收的光信号经过光纤放大器转化为电压信号,根据电压信号的数值大小判断掩模版是否存在。
但是,当前使用的掩膜版检测方法所需要的掩膜版检测装置较多,光纤放大器占用空间较大,对发射器和接收器的装配精度要求较高,装配工序步骤繁琐且价格昂贵。
发明内容
本发明提供一种掩膜版检测装置及方法、掩膜版库设备,以解决现有掩膜版库设备设置的掩膜版检测装置的数量较多,占用空间较大,装配精度要求较高,以及装配工序步骤繁琐的问题。
第一方面,本发明实施例提供了一种掩膜版检测装置,包括:光源模块、掩膜版检测模块和信号处理模块;
所述光源模块包括第一多路选通开关和多个第一光源;所述多个第一光源分别与所述第一多路选通开关电连接;至少一个掩膜版槽的第一端设置有一所述第一光源;所述第一多路选通开关用于根据第一选通命令选择控制至少一个第一光源发出第一检测光线;
所述掩膜版检测模块包括第二多路选通开关和多个第一传感器;设置有所述第一光源的所述掩膜版槽的第二端设置有一第一传感器;所述掩膜版槽的第一端与第二端相对;所述第一传感器用于接收所述第一检测光线并转换为第一检测电信号;所述第二多路选通开关用于根据第二选通命令选择控制所述至少一个第一传感器接收所述第一检测光线;
所述信号处理模块分别与所述第一多路选通开关和所述第二多路选通开关电连接;所述信号处理模块用于发送所述第一选通命令至所述第一多路选通开关,发送所述第二选通命令至所述第二多路选通开关;所述信号处理模块还用于通过所述第二多路选通开关获取所述至少一个第一传感器的所述第一检测电信号并判断所述第一传感器所处的掩膜版槽是否存在掩膜版。
可选的,所述信号处理模块包括:控制器和模数转换单元;所述控制器用于输出所述第一选通命令至所述第一多路选通开关,并输出所述第二选通命令至所述第二多路选通开关;所述模数转换单元将所述掩膜版检测模块输出的第一检测电信号进行模数转换后输送至所述控制器;所述控制器用于在模数转换后的所述第一检测电信号的数值大于检测阈值时,确定所述第一传感器所处掩膜版槽未放置掩膜版,否则确定所述第一传感器所处掩膜版槽放置有掩膜版。
可选的,所述信号处理模块还用于:接收检测阈值校准命令,并对所述检测阈值进行校正。
可选的,所述信号处理模块用于:在接收检测阈值校准命令时,获取多组所述掩膜板槽存在掩膜版时的第一检测电信号的平均值,并标记为第一平均值;获取多组所述掩膜版槽不存在掩膜版时的第一检测电信号的平均值,并标记为第二平均值;将所述第二平均值和第一平均值的平均值作为校正后的检测阈值。
可选的,所述信号处理模块还包括:比较器;所述比较器的第一输入端与所述掩膜版检测模块电连接,所述比较器的第二输入端与所述控制器的检测阈值输出端电连接,所述比较器的输出端与所述控制器电连接;用于对所述检测阈值进行校准;所述信号处理模块控制所述掩膜版检测模块将所述掩膜板槽存在掩膜版时的第一检测电信号输入至所述比较器的第一输入端;所述信号处理模块输出逐次增加第一增量的检测阈值至所述比较器的第二输入端;当所述比较器输出端输出的比较信号出现电平跳变时,将电平跳变时刻对应的检测阈值与第二增量的加和作为校正后的所述检测阈值;其中,所述第二增量为所述掩膜板槽不存在掩膜版时的第一检测电信号与所述掩膜版槽存在掩膜版时的第一检测电信号的差值的二分之一。
可选的,所述光源模块还包括:光源驱动电路,分别与所述第一多路选通开关和所述多个第一光源电连接,用于在所述第一多路选通开关的控制下驱动至少一个第一光源发光;所述信号处理模块还包括数模转换单元,所述数模转换单元分别与所述控制器和所述光源驱动电路电连接,用于将所述控制器输出的亮度调节信号进行数模转换并输出至所述光源驱动电路;所述光源驱动电路还用于根据所述亮度调节信号调节所述第一光源的亮度。
可选的,所述第一光源通过接插件与所述掩膜版槽的第一端的第一板卡连接;所述第一传感器通过接插件与所述掩膜版槽的第二端的第二板卡连接。
可选的,所述光源模块还包括:多个第二光源;所述多个第二光源分别与所述第一多路选通开关电连接;设置有所述第一光源的所述掩膜版槽的第一端设置有一所述第二光源;所述第一多路选择开关还用于根据所述信号处理模块发送的第三选通命令选择控制至少一个第二光源发出第二检测光线;所述掩膜版检测模块还包括多个第二传感器;设置有所述第二光源的所述掩膜版槽的第二端设置有一第二传感器;所述第二传感器用于接收所述第二检测光线并转换为第二检测电信号;所述第二多路选通开关用于根据所述信号处理模块发送的第四选通命令选择控制所述至少一个第二传感器接收所述第二检测光线;所述信号处理模块还用于通过所述第二多路选通开关获取所述至少一个第二传感器的所述第二检测电信号并判断所述第二传感器所处的掩膜版槽是否放置到规定位置。
第二方面,本发明实施例还提供了一种掩膜版检测方法,掩膜版检测装置包括光源模块、掩膜版检测模块和信号处理模块;所述光源模块包括第一多路选通开关和多个第一光源;至少一个掩膜版槽的第一端设置有一所述第一光源;所述掩膜版检测模块包括第二多路选通开关和多个第一传感器,设置有所述第一光源的所述掩膜版槽的第二端设置有一第一传感器;所述掩膜版槽的第一端与第二端相对;
所述掩膜版检测方法包括:
所述信号处理模块控制第一多路选通开关选取至少一个第一光源发出第一检测光线;
所述信号处理模块控制第二多路选通开关选取与所述至少一个第一光源对应设置的至少一个第一传感器接收所述第一检测光线并转换为第一检测电信号;
所述信号处理模块通过所述第二多路选通开关获取所述至少一个第一传感器的所述第一检测电信号;并判断所述第一传感器所处的掩膜版槽是否存在掩膜版。
可选的,所述掩膜版检测方法还包括:所述信号处理模块获取检测阈值校准命令,并对所述检测阈值进行校正。
可选的,所述信号处理模块对所述检测阈值进行校正,包括:所述信号处理模块获取多组所述掩膜板槽存在掩膜版时的第一检测电信号的平均值,并标记为第一平均值;获取多组所述掩膜版槽不存在掩膜版时的第一检测电信号的平均值,并标记为第二平均值;所述信号处理模块将所述第二平均值和第一平均值的平均值作为校正后的检测阈值。
可选的,所述信号处理模块还包括比较器;所述信号处理模块对所述检测阈值进行校正,包括:所述信号处理模块控制所述掩膜版检测模块将所述掩膜板槽存在掩膜版时的第一检测电信号输入至所述比较器的第一输入端;所述信号处理模块输出逐次增加第一增量的检测阈值至所述比较器的第二输入端;当所述比较器输出端输出的比较信号出现电平跳变时,将电平跳变时刻对应的检测阈值与第二增量的加和作为校正后的所述检测阈值;其中,所述第二增量为所述掩膜板槽不存在掩膜版时的第一检测电信号与所述掩膜版槽存在掩膜版时的第一检测电信号的差值的二分之一。
可选的,所述光源模块还包括光源驱动电路,分别与所述第一多路选通开关和所述多个第一光源电连接,用于在所述第一多路选通开关的控制下驱动至少一个第一光源发光;所述掩膜版检测方法还包括:所述信号处理模块发送亮度调节信号至所述光源驱动电路,以使所述光源驱动电路根据所述亮度调节信号调节所述第一光源的亮度。
可选的,所述光源模块还包括:多个第二光源;设置有所述第一光源的所述掩膜版槽的第一端设置有一所述第二光源;所述掩膜版检测模块还包括多个第二传感器;设置有所述第二光源的所述掩膜版槽的第二端设置有一第二传感器;在所述信号处理模块判断所述第一传感器所处的掩膜版槽存在掩膜版后,所述掩膜版检测方法还包括:所述信号处理模块控制第一多路选通开关选取至少一个第二光源发出第二检测光线;所述信号处理模块控制第二多路选通开关选取与所述至少一个第二光源对应设置的至少一个第二传感器接收所述第二检测光线并转换为第二检测电信号;所述信号处理模块通过所述第二多路选通开关获取所述至少一个第二传感器的所述第二检测电信号;并判断所述第二传感器所处的掩膜版槽中的掩膜板槽是否放置到规定位置。
第三方面,本发明实施例还提供了一种掩膜版库设备,包括本发明任意实施例提供的掩膜版检测装置;
所述掩膜版库设备还包括:掩膜版库,所述掩膜版库包括多个掩膜版槽;所述至少一个掩膜版槽的第一端设置有一所述第一光源,设置有所述第一光源的所述掩膜版槽的第二端设置有一第一传感器;所述掩膜版槽的第一端与第二端相对;用于检测所述掩膜版槽上是否存在掩膜版。
可选的,所述掩膜版库设备还包括:框架组件,用于容纳和安装所述掩膜版库。
可选的,所述掩膜版库设备还包括:解锁版盒组件和垂向运动组件;所述解锁版盒组件用于打开所述掩膜版库和所述框架组件的机械连接,并与所述掩膜版库建立机械连接;所述垂向运动组件用于带动所述解锁版盒组件和所述掩膜版库垂向运动至交接位,使得所述掩膜版槽内的掩膜版被交接取出;所述垂向运动组件还用于带动被取出所述掩膜版的所述掩膜版库垂向运动至初始位置。
本发明实施例提供的掩膜版检测装置及方法、掩膜版库设备,通过设置光源模块、掩膜版检测模块和信号处理模块对掩膜版库设备中是否存在掩膜版进行判断。光源模块包括第一多路选通开关和多个第一光源,所述掩膜版检测模块包括第二多路选通开关和多个第一传感器,至少一个掩膜版槽的第一端设置有一第一光源,与第一端相对的第二端设置有第一传感器,信号处理模块控制第一多路选通开关选择至少一个第一光源发出第一检测光线,控制第二多路选通开关选择与第一光源对应设置的第一传感器接收第一检测光线,并将第一检测光线转换为第一检测电信号,信号处理模块根据第一检测电信号的大小判断第一传感器所处掩膜版槽是否存在掩膜版,以便于对掩膜版进行存放和传输。本发明实施例通过第一多路选通开关和第二多路选通开关可选择特定的掩膜板槽两端设置的第一光源和第一传感器工作,不必控制所有的掩膜版槽的端部的第一光源和第一传感器均工作,能够有效节省能量消耗,并且第一多路选通开关和第二多路选通开关的应用能够减小掩膜版检测装置的数量,节约设备成本,不需要设置光纤放大器,使得掩膜版检测装置占用空间减小,从而可降低掩膜版检测装置的装配精度要求,节省装配成本。
附图说明
图1是现有技术提供的一种掩膜版检测装置的结构示意图;
图2是本发明实施例提供的一种掩膜版检测装置的电路结构示意图;
图3是本发明实施例提供的一种掩膜版检测装置的安装位置结构示意图;
图4是本发明实施例提供的一种信号处理模块的结构示意图;
图5是本发明实施例提供的一种检测阈值的选取示意图;
图6是本发明实施例提供的另一种信号处理模块的结构示意图;
图7是本发明实施例提供的一种光源模块的结构示意图;
图8是本发明实施例提供的一种掩膜版检测模块的结构示意图;
图9是本发明实施例提供的另一种光源模块的结构示意图;
图10是本发明实施例提供的另一种掩膜版检测模块的结构示意图;
图11是本发明实施例提供的另一种掩膜版检测装置的电路结构示意图;
图12是本发明实施例提供的另一种掩膜版检测装置的安装位置结构示意图;
图13是本发明实施例提供的一种掩膜版检测方法的流程示意图;
图14是本发明实施例提供的另一种掩膜版检测方法的流程示意图;
图15是本发明实施例提供的一种掩膜版库设备的结构示意图;
图16是本发明实施例提供的一种掩膜版库设备的轴测图;
图17是本发明实施例提供的一种解锁版盒组件的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。可以理解的是,此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本发明,而非对本发明的限定。另外还需要说明的是,为了便于描述,附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部结构。
参考图1,图1是现有技术提供的一种掩膜版检测装置的结构示意图。目前的掩膜版检测方法为采用对射式光纤传感器进行检测,在掩膜版槽2的相对两端放置光纤传感器式的发射器5和接收器6,当掩膜版槽2上未放置掩膜版时,接收器6可接收发射器5发射的较强的光信号,当掩膜版槽2上放置掩膜版时,发射器5发出的光线透过掩膜版会迅速减弱,接收器6接收的光信号经过光纤放大器7转换成电信号,用户可根据电信号的大小判断掩膜版槽2上是否放置有掩膜版。但是当前的检测方法中,每对发射器5和接收器6均需要设置一个光纤放大器7,使得检测装置较多,并且光纤放大器7占用面积较大,对发射器5和接收器6的装配精度要求较高,装配工序步骤繁琐,另外,光纤传感器的价格昂贵,成本较高。同时,光纤放大器7设置的检测阈值无法随时调整,导致对不同类型掩膜版进行检测时容易出现误判的情况,从而导致掩膜存取时碰撞损坏。例如,若因为检测阈值的不准确,在掩膜版槽2上放置有掩膜版时,掩膜版检测装置的检测结果为该掩膜版槽2上不存在掩膜版,则掩膜版库设备很有可能将版叉运输过来的其他掩膜版放置到该掩膜版槽2上,导致该掩膜版槽2内的两个掩膜版相互挤压,造成损坏。
为了尽量减少检测装置数量和占用空间,提高装配效率和质量,降低成本,同时提高不同掩膜版检测的准确性,本发明实施例提供一种掩膜版检测装置,参考图2和图3,图2是本发明实施例提供的一种掩膜版检测装置的电路结构示意图,图3是本发明实施例提供的一种掩膜版检测装置的安装位置结构示意图,该掩膜版检测装置包括:
光源模块11、掩膜版检测模块12和信号处理模块13;
光源模块11包括第一多路选通开关111和多个第一光源112;多个第一光源112分别与第一多路选通开关111电连接;至少一个掩膜版槽2的第一端设置有一第一光源112;第一多路选通开关111用于根据第一选通命令选择控制至少一个第一光源112发出第一检测光线;
掩膜版检测模块12包括第二多路选通开关121和多个第一传感器122;设置有第一光源112的掩膜版槽2的第二端设置有一第一传感器12;掩膜版槽2的第一端与第二端相对;第一传感器122用于接收第一检测光线并转换为第一检测电信号;第二多路选通开关121用于根据第二选通命令选择控制至少一个第一传感器122接收第一检测光线;
信号处理模块13分别与第一多路选通开关111和第二多路选通开关121电连接;信号处理模块13用于发送第一选通命令至第一多路选通开关111,发送第二选通命令至第二多路选通开关121;信号处理模块13还用于通过第二多路选通开关121获取至少一个第一传感器122的第一检测电信号并判断第一传感器122所处的掩膜版槽2是否存在掩膜版21。
光源模块11中的第一光源112设置于掩膜版槽2的第一端,掩膜版检测模块12的第一传感器122设置于掩膜版槽2的第二端。参考图3,当控制某一掩膜版槽2第一端的第一光源112发出第一检测光线时,第一检测光线能够越过掩膜版槽2出射至该膜版槽2第二端的第一传感器122的位置,第一传感器122接收第一检测光线,并将第一检测光线转换为第一检测电信号,即将第一检测光线的强弱反映到第一检测电信号的强弱,示例性的,若第一检测光线的强度越高,第一检测电信号的强度越强。第一传感器122将第一检测电信号输出至第二多路选通开关121,信号处理模块13通过第二多路选通开关121获取第一检测电信号,并对第一传感器122输出的第一检测电信号的强弱进行判断,从而对掩膜版槽2是否存在掩膜版进行确定。示例性的,如图3所示,若掩膜版库设备包括6个掩膜版槽2,则可在每个掩膜版槽2的第一端均设置一个第一光源112,在每个掩膜版槽2的第二端均设置一个第一传感器122,用于对每个掩膜版槽2内是否存在掩膜版进行检测;也可根据实际需求进行配置,仅在其中的至少一个掩膜版槽2的第一端设置第一光源112,第二端设置第一传感器122,具体的,若用户仅需要使用6个掩膜版槽2中的3个,则仅在其中三个掩膜版槽2的第一端设置第一光源112,第二端设置第一传感器122即可,从而减小掩膜版检测装置的设置数量,节约成本。
可选的,第一光源112与掩膜版槽2的第一端的第一板卡5连接;第一传感器122与掩膜版槽2的第二端的第二板卡6连接,便于第一光源112通过第一板卡5与光源模块11建立电连接,便于第二光源122通过第二板卡6与掩膜版检测模块12建立电连接。
第一多路选通开关111和第二多路选通开关121均受信号处理模块13的控制,有针对性的选择具体需要工作的第一光源112和对应的第一传感器122,即选择性的检测具体的掩膜版槽2是否存在掩膜版,从而仅针对选定的几个第一传感器122和第一光源112进行控制,节省控制电路的设置,并控制能耗。
可选的,第一光源112可以采用单色光源,例如发光二极管等发光器件,驱动控制简单,测量精度较高,相对于光纤传感器,第一光源112不需要光纤放大器,控制电路较为简单,节省掩膜版检测装置的制作成本。
本发明实施例提供的掩膜版检测装置,通过设置光源模块、掩膜版检测模块和信号处理模块对掩膜版库设备中是否存在掩膜版进行判断。光源模块包括第一多路选通开关和多个第一光源,所述掩膜版检测模块包括第二多路选通开关和多个第一传感器,至少一个掩膜版槽的第一端设置有一第一光源,与第一端相对的第二端设置有第一传感器,信号处理模块控制第一多路选通开关选择至少一个第一光源发出第一检测光线,控制第二多路选通开关选择与第一光源对应设置的第一传感器接收第一检测光线,并将第一检测光线转换为第一检测电信号,信号处理模块根据第一检测电信号的大小判断第一传感器所处掩膜版槽是否存在掩膜版,以便于对掩膜版进行存放和传输。本发明实施例通过第一多路选通开关和第二多路选通开关可选择特定的掩膜板槽两端设置的第一光源和第一传感器工作,不必控制所有的掩膜版槽的端部的第一光源和第一传感器均工作,能够有效节省能量消耗,并且第一多路选通开关和第二多路选通开关的应用能够减小掩膜版检测装置的设置数量,节约设备成本,不需要设置光纤放大器,使得掩膜版检测装置占用空间减小,从而可降低掩膜版检测装置的装配精度要求,节省装配成本。
可选的,参考图4,图4是本发明实施例提供的一种信号处理模块的结构示意图,信号处理模块13可以包括:控制器131和模数转换单元133;控制器131用于输出第一选通命令A1至第一多路选通开关111,并输出第二选通命令A2至第二多路选通开关121;模数转换单元133将掩膜版检测模块12输出的第一检测电信号B2进行模数转换后输送至控制器131;控制器131用于在模数转换后的第一检测电信号的数值大于检测阈值时,确定第一传感器122所处掩膜版槽2未放置掩膜版,否则确定第一传感器122所处掩膜版槽2放置有掩膜版。
控制器131作为信号处理模块13的核心部分,由可编程逻辑器件组成(如FPGA芯片),负责与上层控制系统HOST进行实时通讯及逻辑计算、选通控制等。模数转换单元133将第一传感器122输出的第一检测电信号进行模数转换后输送到控制器131,由控制器131根据控制器131内部存储的检测阈值进行逻辑比较并记录比较结果,并由控制器131通过通讯接口134实时上传到上层控制系统HOST。
可选的,信号处理模块13还可以用于:接收检测阈值校准命令,并对检测阈值进行校正。具体的,信号处理模块13还包括校准按钮135,用于接收检测阈值校准命令,并对检测阈值进行校正。例如,用户可在需要更换待检测的掩膜版时,通过校准按钮135启动对检测阈值的校正。另外,信号处理模块13也可以自动实时进行检测阈值的校正,保证检测阈值的准确性。
可选的,信号处理模块13可用于:在接收检测阈值校准命令时,获取多组掩膜板槽2存在掩膜版21时的第一检测电信号的平均值,并标记为第一平均值T1;获取多组掩膜版槽2不存在掩膜版21时的第一检测电信号的平均值,并标记为第二平均值T2;将第二平均值T2和第一平均值T1的平均值作为校正后的检测阈值。
参考图5,图5是本发明实施例提供的一种检测阈值的选取示意图。将多组掩膜板槽2存在掩膜版21时的第一检测电信号求平均值,得到掩膜板槽2存在掩膜版21时较为准确的第一检测电信号,将多组掩膜板槽2不存在掩膜版21时的第一检测电信号求平均值,得到掩膜板槽2不存在掩膜版21时较为准确的第一检测电信号。可以选取第一平均值T1和第二平均值T2的中间值T作为校正后的检测阈值,即将第二平均值T2和第一平均值T1的平均值作为校正后的检测阈值,从而提高不同类型掩模检测结果的准确性及工艺适应性,不至于对掩膜版槽是否存在掩膜版进行误判,进而提高掩模版交接安全性。
可选的,参考图6,图6是本发明实施例提供的另一种信号处理模块的结构示意图,信号处理模块13还可以包括:比较器136;比较器136的第一输入端与掩膜版检测模块12电连接,比较器136的第二输入端与控制器131的检测阈值输出端电连接,比较器136的输出端与控制器131电连接;用于对检测阈值进行校准;信号处理模块13控制掩膜版检测模块12将掩膜板槽2存在掩膜版21时的第一检测电信号输入至比较器136的第一输入端;信号处理模块13输出逐次增加第一增量ΔT1的检测阈值至比较器136的第二输入端;当比较器136输出端输出的比较信号出现电平跳变时,将电平跳变时刻对应的检测阈值与第二增量ΔT2的加和作为校正后的检测阈值;其中,第二增量ΔT2为掩膜板槽2不存在掩膜版时的第一检测电信号与掩膜版槽2存在掩膜版时的第一检测电信号的差值的二分之一。
可选的,为了获取更加准确的第二增量ΔT2,需要选取掩膜板槽2存在掩膜版21时的准确的第一检测电信号和掩膜板槽2不存在掩膜版21时的准确的第一检测电信号,可选取第二平均值T2与第一平均值T1差值的二分之一作为第二增量ΔT2。
将输出至比较器136的第二输入端的检测阈值由零开始逐次增加第一增量ΔT1,直至比较器136出现电平跳变,将出现电平跳变时的检测阈值作为初始阈值,并将初始阈值与第二增量ΔT2的加和作为校正后的检测阈值,进行存储。示例性的,若输出至比较器136的第二输入端的检测阈值在增加n个第一增量ΔT1后,比较器136出现电平跳变,则初始阈值为n*ΔT1,则可选取T’=n*ΔT1+ΔT2作为校正后的检测阈值,从而对检测阈值进行实时监测和更新,提高不同类型掩模检测结果的准确性及工艺适应性。
可选的,参考图7,图7是本发明实施例提供的一种光源模块的结构示意图,光源模块11还可以包括:光源驱动电路113,分别与第一多路选通开关111和多个第一光源112电连接,用于在第一多路选通开关111的控制下驱动至少一个第一光源112发光;信号处理模块13还包括数模转换单元132,数模转换单元132分别与控制器131和光源驱动电路113电连接,用于将控制器131输出的亮度调节信号进行数模转换并输出至光源驱动电路113;光源驱动电路113还用于根据亮度调节信号调节第一光源112的亮度。
因为不同掩膜版的透光率不同,为了适应多种不同类型和不同材料的掩膜版,可通过信号处理模块13对光源驱动电路113进行控制,控制器131发送亮度调节信号至光源驱动电路113,从而光源驱动电路113根据亮度调节信号调整输出至第一光源112的供电电压,以调整第一光源112发出的第一检测光线的亮度。示例性的,参考图7,若第一光源112为发光二极管,光源驱动电路113与第一光源112的正极电连接,用于调整输入第一光源112的正极电压,从而对第一光源112的导通电流进行控制,以控制第一光源112的发光亮度。
光源驱动电路113还用于在第一多路选通开关111的控制下选择至少一个第一光源112进行驱动,具体的,若第一光源112为发光二极管,参考图4,光源驱动电路113还包括第一运算放大器OP1和开关管M1,第一运算放大器OP1的第一输入端通过限流电阻R1与第一多路选通开关111电连接,用于在第一多路选通开关111的控制选择下,选择相应的第一光源112进行驱动,第一运算放大器OP1的第二输入端通过分压电阻R2与开关管M1的第二端电连接,并通过并联连接的分压电阻R5和R6接地。第一运算放大器OP1的输出端通过限流电阻R3与开关管M1的控制端电连接,用于将第一多路选通开关111输入的驱动信号进行放大,并驱动开关管M1。开关管M1的第一端通过下拉电阻R4与第一电平VCC电连接,并与第一光源112电连接,具体的,开关管M1的第一端与第一光源112的负极电连接,当开关管M1导通后,因为下拉电阻R4的作用,开关管M1的第一端输出低电平,使得第一光源112导通。
此外,第一光源112的使用寿命有限,在第一光源112使用一段时间后,亮度会衰减,造成第一检测电信号的检测结果不准确,并且信噪比降低。此时,通过亮度调节信号调高第一光源112发出的第一检测光线的亮度,能够有效升高信噪比,提高第一检测电信号的检测结果的准确性。
可选的,参考图8,图8是本发明实施例提供的一种掩膜版检测模块的结构示意图,掩膜版检测模块12还可以包括信号调理电路123,信号调理电路123分别与第二多路选通开关121和第一传感器122电连接,用于对第一传感器122输出的第一检测电信号进行放大和滤波处理,而后通过第二多路选通开关121输出至信号处理模块13。具体的,第一传感器122可以为光电二极管,光电二极管用于将第一检测光线并转换为第一检测电信号,此刻,第一检测电信号为电流信号。光电二极管是在反向电压作用下工作的,没有第一光源112照射时,光电二极管的反向电流极其微弱,称为暗电流;有光照时,光电二极管的反向电流迅速增大到几十微安,称为光电流。
若第一传感器122为光电二极管,光电二极管的正极接地。信号调理电路123包括第二运算放大器OP2,第二运算放大器OP2的第一输入端与第一传感器122的负极电连接,第二输入端通过分压电阻R8接地,输出端与第二多路选通开关121电连接,第二运算放大器OP2的第一输入端通过分压电阻R7与第二运算放大器OP2的输出端电连接,第二运算放大器OP2用于将第一传感器122输出的第一检测电信号由电流信号转换为电压信号,并进行放大和滤波处理。
可选的,参考图9,图9是本发明实施例提供的另一种光源模块的结构示意图,图10是本发明实施例提供的另一种掩膜版检测模块的结构示意图。参考图3、图9和图10,第一光源112可通过接插件114与掩膜版槽2的第一端的第一板卡5连接;第一传感器122通过接插件114与掩膜版槽2的第二端的第二板卡6连接。
可根据用户需要灵活配置第一光源112和第一传感器122的数量,若用户仅需要对两个掩膜版槽2进行是否存在掩膜版的检测,则仅对该两个掩膜版槽2对应的第一板卡5的特定位置插接第一光源112,对该两个掩膜版槽2对应的第二版卡6的特定位置插接第一传感器122,而不在其他掩膜版槽2的板卡对应位置插接第一光源112和第一传感器122,减少第一光源112和第一传感器122设置数量。并且,采用插接件114对第一光源112和第一传感器122进行安装和设置,提高了第一板卡5和第二板卡6的安装的便利性和灵活性。
可选的,参考图11和图12,图11是本发明实施例提供的另一种掩膜版检测装置的电路结构示意图,图12是本发明实施例提供的另一种掩膜版检测装置的安装位置结构示意图,光源模块11还可以包括:多个第二光源115;多个第二光源115分别与第一多路选通开关111电连接;设置有第一光源112的掩膜版槽2的第一端设置有一第二光源115;第一多路选择开关111还用于根据信号处理模块13发送的第三选通命令选择控制至少一个第二光源115发出第二检测光线;掩膜版检测模块12还包括多个第二传感器124;设置有第二光源115的掩膜版槽2的第二端设置有一第二传感器124;第二传感器115用于接收第二检测光线并转换为第二检测电信号;第二多路选通开关121用于根据信号处理模块13发送的第四选通命令选择控制至少一个第二传感器124接收第二检测光线;信号处理模块13还用于通过第二多路选通开关121获取至少一个第二传感器124的第二检测电信号并判断第二传感器124所处的掩膜版槽2是否放置到规定位置。
当掩膜版槽2上放置掩膜版21时,若掩膜版21未完全放置到位,则在进行掩膜版交接时,容易对掩膜版产生损害。图12为掩膜版检测装置的安装位置的剖视图,参考图12,因为掩膜版槽2在垂直方向上重叠进行设置,版叉通过伸入相邻两个掩膜版槽2之间的位置对掩膜版21进行交接。若掩膜版21放置不到位,则版叉有可能对掩膜版21造成损害。示例性的,每个掩膜版槽2之间的距离大约为19.05mm,每个掩膜版21的厚度大约为6.35mm,则如果测量到掩膜版21的上表面距离掩膜版槽2的距离大于6.35mm,则说明掩膜版21未完全贴服在掩膜版槽2上。
可选的,可将第二光源115在垂直于掩膜版槽2的方向上,在第一版卡5上设置的位置距离第一光源112的位置约为掩膜版21的厚度值,第二传感器124与第二光源115对应设置,在第二板卡6上距离第一传感器122的距离稍大于掩膜版21的厚度值。并且在掩膜版检测装置检测到掩膜版槽2上存在掩膜版21后,由第一多路选通开关111控制对应第二光源115开启,发出第二检测光线,由第二多路选通开关121控制对应第二传感器124接收第二检测光线,并将第二检测光线转换为第二检测电信号,信号处理模块13根据第二检测电信号的数值大小判断掩膜版槽2上的掩膜版21是否放置到位。具体的,若第二检测电信号大于设定阈值,则说明掩膜版21完全贴附在掩膜版槽2内,掩膜版21放置到位,若第二检测电信号小于设定阈值,则说明掩膜版21的放置位置过高,可能存在掩膜版21翘起的情况,则判断掩膜版21未放置在规定位置,需要进行查看和调整。
另外,第二光源115还可以与光源驱动电路113电连接,信号处理模块13能够通过对光源驱动电路113的控制调整第二光源115的亮度,以适应不同类型或不同材料的掩膜版。信号处理模块13还用于对上述设定阈值进行校正。
本发明还提供了一种掩膜版检测方法,适用于本发明任意实施例提供的掩膜版检测装置,掩膜版检测装置包括光源模块、掩膜版检测模块和信号处理模块;光源模块包括第一多路选通开关和多个第一光源;至少一个掩膜版槽的第一端设置有一第一光源;掩膜版检测模块包括第二多路选通开关和多个第一传感器,设置有第一光源的掩膜版槽的第二端设置有一第一传感器;掩膜版槽的第一端与第二端相对。参考图13,图13是本发明实施例提供的一种掩膜版检测方法的流程示意图,掩膜版检测方法包括:
S131、信号处理模块控制第一多路选通开关选取至少一个第一光源发出第一检测光线。
S132、信号处理模块控制第二多路选通开关选取与至少一个第一光源对应设置的至少一个第一传感器接收第一检测光线并转换为第一检测电信号。
S133、信号处理模块通过第二多路选通开关获取至少一个第一传感器的第一检测电信号;并判断第一传感器所处的掩膜版槽是否存在掩膜版。
本发明实施例提供的掩膜版检测方法,通过设置光源模块、掩膜版检测模块和信号处理模块对掩膜版库设备中是否存在掩膜版进行判断。光源模块包括第一多路选通开关和多个第一光源,所述掩膜版检测模块包括第二多路选通开关和多个第一传感器,至少一个掩膜版槽的第一端设置有一第一光源,与第一端相对的第二端设置有第一传感器,信号处理模块控制第一多路选通开关选择至少一个第一光源发出第一检测光线,控制第二多路选通开关选择与第一光源对应设置的第一传感器接收第一检测光线,并将第一检测光线转换为第一检测电信号,信号处理模块根据第一检测电信号的大小判断第一传感器所处掩膜版槽是否存在掩膜版,以便于对掩膜版进行存放和传输。本发明实施例通过第一多路选通开关和第二多路选通开关可选择特定的掩膜板槽两端设置的第一光源和第一传感器工作,不必控制所有的掩膜版槽的端部的第一光源和第一传感器均工作,能够有效节省能量消耗,并且第一多路选通开关和第二多路选通开关的应用能够减小掩膜版检测装置的数量,节约设备成本,不需要设置光纤放大器,使得掩膜版检测装置占用空间减小,从而可降低掩膜版检测装置的装配精度要求,节省装配成本。
可选的,掩膜版检测方法还可以包括:信号处理模块获取检测阈值校准命令,并对检测阈值进行校正。
可选的,信号处理模块对检测阈值进行校正,可以包括:信号处理模块获取多组掩膜板槽存在掩膜版时的第一检测电信号的平均值,并标记为第一平均值;获取多组掩膜版槽不存在掩膜版时的第一检测电信号的平均值,并标记为第二平均值;信号处理模块将第二平均值和第一平均值的平均值作为校正后的检测阈值。
可选的,信号处理模块还可以包括比较器;
信号处理模块对检测阈值进行校正,可以包括:信号处理模块控制掩膜版检测模块将掩膜板槽存在掩膜版时的第一检测电信号输入至比较器的第一输入端;信号处理模块输出逐次增加第一增量的检测阈值至比较器的第二输入端;当比较器输出端输出的比较信号出现电平跳变时,将电平跳变时刻对应的检测阈值与第二增量的加和作为校正后的检测阈值;其中,第二增量为掩膜板槽不存在掩膜版时的第一检测电信号与掩膜版槽存在掩膜版时的第一检测电信号的差值的二分之一。
可选的,光源模块还可以包括光源驱动电路,分别与第一多路选通开关和多个第一光源电连接,用于在第一多路选通开关的控制下驱动至少一个第一光源发光;信号处理模块与光源驱动电路电连接;掩膜版检测方法还包括:信号处理模块发送亮度调节信号至光源驱动电路,以使光源驱动电路根据亮度调节信号调节第一光源的亮度。
可选的,光源模块还包括:多个第二光源;设置有第一光源的掩膜版槽的第一端设置有一第二光源;掩膜版检测模块还包括多个第二传感器;设置有第二光源的掩膜版槽的第二端设置有一第二传感器;参考图14,图14是本发明实施例提供的另一种掩膜版检测方法的流程示意图,掩膜版检测方法包括:
S141、信号处理模块控制第一多路选通开关选取至少一个第一光源发出第一检测光线。
S142、信号处理模块控制第二多路选通开关选取与至少一个第一光源对应设置的至少一个第一传感器接收第一检测光线并转换为第一检测电信号。
S143、信号处理模块通过第二多路选通开关获取至少一个第一传感器的第一检测电信号。
S144、判断第一传感器所处的掩膜版槽是否存在掩膜版,若是,则执行S145。
S145、信号处理模块控制第一多路选通开关选取至少一个第二光源发出第二检测光线。
S146、信号处理模块控制第二多路选通开关选取与至少一个第二光源对应设置的至少一个第二传感器接收第二检测光线并转换为第二检测电信号。
S147、信号处理模块通过第二多路选通开关获取至少一个第二传感器的第二检测电信号;并判断第二传感器所处的掩膜版槽中的掩膜板槽是否放置到规定位置。
通过第二光源和第二传感器检测掩膜版槽中的掩膜版是否放置在规定位置,有利于对掩膜版进行保护,完善掩膜版检测装置的安全防护。
本发明实施例还提供了一种掩膜版库设备,包括本发明任意实施例提供的掩膜版检测装置1,参考图15,图15是本发明实施例提供的一种掩膜版库设备的结构示意图,该掩膜版库设备还包括:
掩膜版库,掩膜版库8包括多个掩膜版槽;至少一个掩膜版槽的第一端设置有一第一光源,设置有第一光源的掩膜版槽的第二端设置有一第一传感器;掩膜版槽的第一端与第二端相对;用于检测掩膜版槽上是否存在掩膜版。
本发明实施例提供的掩膜版库设备,通过设置光源模块、掩膜版检测模块和信号处理模块对掩膜版库设备中是否存在掩膜版进行判断。光源模块包括第一多路选通开关和多个第一光源,所述掩膜版检测模块包括第二多路选通开关和多个第一传感器,至少一个掩膜版槽的第一端设置有一第一光源,与第一端相对的第二端设置有第一传感器,信号处理模块控制第一多路选通开关选择至少一个第一光源发出第一检测光线,控制第二多路选通开关选择与第一光源对应设置的第一传感器接收第一检测光线,并将第一检测光线转换为第一检测电信号,信号处理模块根据第一检测电信号的大小判断第一传感器所处掩膜版槽是否存在掩膜版,以便于对掩膜版进行存放和传输。本发明实施例通过第一多路选通开关和第二多路选通开关可选择特定的掩膜板槽两端设置的第一光源和第一传感器工作,不必控制所有的掩膜版槽的端部的第一光源和第一传感器均工作,能够有效节省能量消耗,并且第一多路选通开关和第二多路选通开关的应用能够减小掩膜版检测装置的数量,节约设备成本,不需要设置光纤放大器,使得掩膜版检测装置占用空间减小,从而可降低掩膜版检测装置的装配精度要求,节省装配成本。
可选的,参考图15和图16,图16是本发明实施例提供的一种掩膜版库设备的轴测图。掩膜版库设备还可以包括:框架组件9,用于容纳和安装掩膜版库8。
可选的,参考图15和图16,掩膜版库设备还包括:解锁版盒组件10和垂向运动组件21;解锁版盒组件10用于打开掩膜版库8和框架组件9的机械连接,并与掩膜版库8建立机械连接;垂向运动组件21用于带动解锁版盒组件10和掩膜版库8垂向运动至交接位,使得掩膜版槽2内的掩膜版被交接取出;垂向运动组件21还用于带动被取出掩膜版的掩膜版库垂向运动至初始位置。
可选的,掩膜版库8内可包括6个垂直方向排布的掩膜版槽,掩膜版库8在初始位置时,掩膜版库8内置于框架组件9中,并与框架组件9固定连接,即处于被锁定状态,以对掩膜版槽2内的掩膜版进行保护。在需要进行掩膜版的交接时,解锁版盒组件10将掩膜版库8和框架组件9之间的固定连接打开,并与掩膜版库8建立机械连接,使得垂向运动组件21带动掩膜版库8垂直移动至交接位,进行掩膜版的放置或取出。在掩膜版交接完毕后,垂向运动组件21垂直运动将掩膜版库8带动至初始位置,并解锁掩膜版库8与解锁版盒组件10的连接,重新建立框架组件9和掩膜版库8的固定连接。
具体的,参考图17,图17是本发明实施例提供的一种解锁版盒组件的结构示意图,解锁版盒组件10由解锁销105、解锁连杆102、偏心轮103、凸轮组件106、工位检测传感器104、和直流电机101组成。解锁版盒组件10采用直流电机101驱动偏心轮103运动,偏心轮103带动连杆102来回解锁运动,其运动形式为开环控制,工位检测传感器104用于检测解锁版盒组件10的具体运动位置。如图17所示。为了实现解锁销钉105的同步解锁,该解锁版盒组件10采用平行连杆结构。另外,为了使解锁版盒组件10到达解锁和关锁的工位后能进行机械自锁,该组件采用凸轮组件106来实现。
垂向运动组件21采用伺服电机驱动,继续参考图3,垂向运动组件21在垂直运动方向上可以配置高精度导轨、运动正负限位传感器及机械弹性缓冲限位,以保证掩膜版的运输安全。
注意,上述仅为本发明的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解,本发明不限于这里所述的特定实施例,对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整、相互结合和替代而不会脱离本发明的保护范围。因此,虽然通过以上实施例对本发明进行了较为详细的说明,但是本发明不仅仅限于以上实施例,在不脱离本发明构思的情况下,还可以包括更多其他等效实施例,而本发明的范围由所附的权利要求范围决定。

Claims (17)

1.一种掩膜版检测装置,其特征在于,包括:光源模块、掩膜版检测模块和信号处理模块;
所述光源模块包括第一多路选通开关和多个第一光源;所述多个第一光源分别与所述第一多路选通开关电连接;至少一个掩膜版槽的第一端设置有一所述第一光源;所述第一多路选通开关用于根据第一选通命令选择控制至少一个第一光源发出第一检测光线;
所述掩膜版检测模块包括第二多路选通开关和多个第一传感器;设置有所述第一光源的所述掩膜版槽的第二端设置有一第一传感器;所述掩膜版槽的第一端与第二端相对;所述第一传感器用于接收所述第一检测光线并转换为第一检测电信号;所述第二多路选通开关用于根据第二选通命令选择控制所述至少一个第一传感器接收所述第一检测光线;
所述信号处理模块分别与所述第一多路选通开关和所述第二多路选通开关电连接;所述信号处理模块用于发送所述第一选通命令至所述第一多路选通开关,发送所述第二选通命令至所述第二多路选通开关;所述信号处理模块还用于通过所述第二多路选通开关获取所述至少一个第一传感器的所述第一检测电信号并判断所述第一传感器所处的掩膜版槽是否存在掩膜版。
2.根据权利要求1所述的掩膜版检测装置,其特征在于,所述信号处理模块包括:控制器和模数转换单元;
所述控制器用于输出所述第一选通命令至所述第一多路选通开关,并输出所述第二选通命令至所述第二多路选通开关;所述模数转换单元将所述掩膜版检测模块输出的第一检测电信号进行模数转换后输送至所述控制器;
所述控制器用于在模数转换后的所述第一检测电信号的数值大于检测阈值时,确定所述第一传感器所处掩膜版槽未放置掩膜版,否则确定所述第一传感器所处掩膜版槽放置有掩膜版。
3.根据权利要求2所述的掩膜版检测装置,其特征在于,所述信号处理模块还用于:接收检测阈值校准命令,并对所述检测阈值进行校正。
4.根据权利要求3所述的掩膜版检测装置,其特征在于,
所述信号处理模块用于:
在接收检测阈值校准命令时,获取多组所述掩膜板槽存在掩膜版时的第一检测电信号的平均值,并标记为第一平均值;获取多组所述掩膜版槽不存在掩膜版时的第一检测电信号的平均值,并标记为第二平均值;
将所述第二平均值和第一平均值的平均值作为校正后的检测阈值。
5.根据权利要求3所述的掩膜版检测装置,其特征在于,所述信号处理模块还包括:比较器;
所述比较器的第一输入端与所述掩膜版检测模块电连接,所述比较器的第二输入端与所述控制器的检测阈值输出端电连接,所述比较器的输出端与所述控制器电连接;用于对所述检测阈值进行校准;
所述信号处理模块控制所述掩膜版检测模块将所述掩膜板槽存在掩膜版时的第一检测电信号输入至所述比较器的第一输入端;
所述信号处理模块输出逐次增加第一增量的检测阈值至所述比较器的第二输入端;
当所述比较器输出端输出的比较信号出现电平跳变时,将电平跳变时刻对应的检测阈值与第二增量的加和作为校正后的所述检测阈值;其中,所述第二增量为所述掩膜板槽不存在掩膜版时的第一检测电信号与所述掩膜版槽存在掩膜版时的第一检测电信号的差值的二分之一。
6.根据权利要求2所述的掩膜版检测装置,其特征在于,所述光源模块还包括:光源驱动电路,分别与所述第一多路选通开关和所述多个第一光源电连接,用于在所述第一多路选通开关的控制下驱动至少一个第一光源发光;
所述信号处理模块还包括数模转换单元,所述数模转换单元分别与所述控制器和所述光源驱动电路电连接,用于将所述控制器输出的亮度调节信号进行数模转换并输出至所述光源驱动电路;所述光源驱动电路还用于根据所述亮度调节信号调节所述第一光源的亮度。
7.根据权利要求1所述的掩膜版检测装置,其特征在于:
所述第一光源通过接插件与所述掩膜版槽的第一端的第一板卡连接;所述第一传感器通过接插件与所述掩膜版槽的第二端的第二板卡连接。
8.根据权利要求1-7任一项所述的掩膜版检测装置,其特征在于,所述光源模块还包括:多个第二光源;
所述多个第二光源分别与所述第一多路选通开关电连接;设置有所述第一光源的所述掩膜版槽的第一端设置有一所述第二光源;所述第一多路选择开关还用于根据所述信号处理模块发送的第三选通命令选择控制至少一个第二光源发出第二检测光线;
所述掩膜版检测模块还包括多个第二传感器;设置有所述第二光源的所述掩膜版槽的第二端设置有一第二传感器;所述第二传感器用于接收所述第二检测光线并转换为第二检测电信号;所述第二多路选通开关用于根据所述信号处理模块发送的第四选通命令选择控制所述至少一个第二传感器接收所述第二检测光线;
所述信号处理模块还用于通过所述第二多路选通开关获取所述至少一个第二传感器的所述第二检测电信号并判断所述第二传感器所处的掩膜版槽是否放置到规定位置。
9.一种掩膜版检测方法,其特征在于,掩膜版检测装置包括光源模块、掩膜版检测模块和信号处理模块;所述光源模块包括第一多路选通开关和多个第一光源;至少一个掩膜版槽的第一端设置有一所述第一光源;所述掩膜版检测模块包括第二多路选通开关和多个第一传感器,设置有所述第一光源的所述掩膜版槽的第二端设置有一第一传感器;所述掩膜版槽的第一端与第二端相对;
所述掩膜版检测方法包括:
所述信号处理模块控制第一多路选通开关选取至少一个第一光源发出第一检测光线;
所述信号处理模块控制第二多路选通开关选取与所述至少一个第一光源对应设置的至少一个第一传感器接收所述第一检测光线并转换为第一检测电信号;
所述信号处理模块通过所述第二多路选通开关获取所述至少一个第一传感器的所述第一检测电信号;并判断所述第一传感器所处的掩膜版槽是否存在掩膜版。
10.根据权利要求9所述的掩膜版检测方法,其特征在于,还包括:
所述信号处理模块获取检测阈值校准命令,并对所述检测阈值进行校正。
11.根据权利要求10所述的掩膜版检测方法,其特征在于,所述信号处理模块对所述检测阈值进行校正,包括:
所述信号处理模块获取多组所述掩膜板槽存在掩膜版时的第一检测电信号的平均值,并标记为第一平均值;获取多组所述掩膜版槽不存在掩膜版时的第一检测电信号的平均值,并标记为第二平均值;
所述信号处理模块将所述第二平均值和第一平均值的平均值作为校正后的检测阈值。
12.根据权利要求10所述的掩膜版检测方法,其特征在于,所述信号处理模块还包括比较器;
所述信号处理模块对所述检测阈值进行校正,包括:
所述信号处理模块控制所述掩膜版检测模块将所述掩膜板槽存在掩膜版时的第一检测电信号输入至所述比较器的第一输入端;
所述信号处理模块输出逐次增加第一增量的检测阈值至所述比较器的第二输入端;
当所述比较器输出端输出的比较信号出现电平跳变时,将电平跳变时刻对应的检测阈值与第二增量的加和作为校正后的所述检测阈值;其中,所述第二增量为所述掩膜板槽不存在掩膜版时的第一检测电信号与所述掩膜版槽存在掩膜版时的第一检测电信号的差值的二分之一。
13.根据权利要求9所述的掩膜版检测方法,其特征在于,所述光源模块还包括光源驱动电路,分别与所述第一多路选通开关和所述多个第一光源电连接,用于在所述第一多路选通开关的控制下驱动至少一个第一光源发光;
所述掩膜版检测方法还包括:
所述信号处理模块发送亮度调节信号至所述光源驱动电路,以使所述光源驱动电路根据所述亮度调节信号调节所述第一光源的亮度。
14.根据权利要求9所述掩膜版检测方法,其特征在于,所述光源模块还包括:多个第二光源;设置有所述第一光源的所述掩膜版槽的第一端设置有一所述第二光源;所述掩膜版检测模块还包括多个第二传感器;设置有所述第二光源的所述掩膜版槽的第二端设置有一第二传感器;
在所述信号处理模块判断所述第一传感器所处的掩膜版槽存在掩膜版后,所述掩膜版检测方法还包括:
所述信号处理模块控制第一多路选通开关选取至少一个第二光源发出第二检测光线;
所述信号处理模块控制第二多路选通开关选取与所述至少一个第二光源对应设置的至少一个第二传感器接收所述第二检测光线并转换为第二检测电信号;
所述信号处理模块通过所述第二多路选通开关获取所述至少一个第二传感器的所述第二检测电信号;并判断所述第二传感器所处的掩膜版槽中的掩膜板槽是否放置到规定位置。
15.一种掩膜版库设备,其特征在于,包括上述权利要求1-8任一项所述的掩膜版检测装置;
所述掩膜版库设备还包括:掩膜版库,所述掩膜版库包括多个掩膜版槽;所述至少一个掩膜版槽的第一端设置有一所述第一光源,设置有所述第一光源的所述掩膜版槽的第二端设置有一第一传感器;所述掩膜版槽的第一端与第二端相对;用于检测所述掩膜版槽上是否存在掩膜版。
16.根据权利要求15所述的掩膜版库设备,其特征在于,还包括:框架组件,用于容纳和安装所述掩膜版库。
17.根据权利要求16所述的掩膜版库设备,其特征在于,还包括:解锁版盒组件和垂向运动组件;
所述解锁版盒组件用于打开所述掩膜版库和所述框架组件的机械连接,并与所述掩膜版库建立机械连接;
所述垂向运动组件用于带动所述解锁版盒组件和所述掩膜版库垂向运动至交接位,使得所述掩膜版槽内的掩膜版被交接取出;所述垂向运动组件还用于带动被取出所述掩膜版的所述掩膜版库垂向运动至初始位置。
CN201811106744.6A 2018-09-21 2018-09-21 一种掩膜版检测装置及方法、掩膜版库设备 Active CN110941145B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201811106744.6A CN110941145B (zh) 2018-09-21 2018-09-21 一种掩膜版检测装置及方法、掩膜版库设备

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201811106744.6A CN110941145B (zh) 2018-09-21 2018-09-21 一种掩膜版检测装置及方法、掩膜版库设备

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN110941145A true CN110941145A (zh) 2020-03-31
CN110941145B CN110941145B (zh) 2021-07-30

Family

ID=69904472

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201811106744.6A Active CN110941145B (zh) 2018-09-21 2018-09-21 一种掩膜版检测装置及方法、掩膜版库设备

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN110941145B (zh)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2021227903A1 (zh) * 2020-05-15 2021-11-18 长鑫存储技术有限公司 光罩检测装置、方法、曝光机和光刻设备
WO2022028123A1 (zh) * 2020-08-05 2022-02-10 长鑫存储技术有限公司 掩膜版的存储系统、查询系统、存储方法及计算机设备

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1130260A (zh) * 1994-08-25 1996-09-04 三星航空产业株式会社 标线片的装入和取出装置
KR20060015037A (ko) * 2004-08-13 2006-02-16 동부아남반도체 주식회사 레티클 라이브러리
CN202632470U (zh) * 2012-07-02 2012-12-26 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 取放报警装置及运输盒的开关装置
CN103713245A (zh) * 2014-01-02 2014-04-09 国家电网公司 一种xlpe电缆局部放电在线监测系统
CN105807574A (zh) * 2014-12-30 2016-07-27 上海微电子装备有限公司 掩模传输装置、曝光装置及掩模传输方法

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1130260A (zh) * 1994-08-25 1996-09-04 三星航空产业株式会社 标线片的装入和取出装置
KR20060015037A (ko) * 2004-08-13 2006-02-16 동부아남반도체 주식회사 레티클 라이브러리
CN202632470U (zh) * 2012-07-02 2012-12-26 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 取放报警装置及运输盒的开关装置
CN103713245A (zh) * 2014-01-02 2014-04-09 国家电网公司 一种xlpe电缆局部放电在线监测系统
CN105807574A (zh) * 2014-12-30 2016-07-27 上海微电子装备有限公司 掩模传输装置、曝光装置及掩模传输方法

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2021227903A1 (zh) * 2020-05-15 2021-11-18 长鑫存储技术有限公司 光罩检测装置、方法、曝光机和光刻设备
CN113671799A (zh) * 2020-05-15 2021-11-19 长鑫存储技术有限公司 光罩检测装置、方法、曝光机和光刻设备
US20220308461A1 (en) * 2020-05-15 2022-09-29 Changxin Memory Technologies, Inc. Reticle detection apparatus, reticle detection method, exposure machine and photolithography device
WO2022028123A1 (zh) * 2020-08-05 2022-02-10 长鑫存储技术有限公司 掩膜版的存储系统、查询系统、存储方法及计算机设备

Also Published As

Publication number Publication date
CN110941145B (zh) 2021-07-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN110941145B (zh) 一种掩膜版检测装置及方法、掩膜版库设备
US6915565B2 (en) Method of detecting position of rotation axis of suction nozzle
KR100311749B1 (ko) 표면실장장치의 모듈 헤드 원점조정장치 및 방법
WO2004053451A1 (ja) 固体撮像素子の試験装置
CN116202428A (zh) 一种激光测量纠偏传感器及其应用
CN101821581A (zh) 用于检查物体表面的方法和装置
CN206818145U (zh) Ccd光电检测装置
BE1011535A3 (nl) Werkwijze en inrichting voor het opmeten van de positie van een reeks contactpennen en voor het aanbrengen van deze reeks in een plaat met gedrukte schakelingen.
US8125653B2 (en) Apparatus and method for the determination of the position of a disk-shaped object
CN109483549B (zh) 一种原点标定系统及方法
US5880849A (en) Component placement machine and method of placing a component on a carrier by means of said component placement machine
CN113671207A (zh) 一种高压开关刚分速度、刚合速度测试的激光增程方法及系统
KR20100106010A (ko) 변위센서를 이용한 휴대폰 카메라의 틸트 및 성능 측정시스템
WO2019064609A1 (ja) 部品装着機
US10765049B2 (en) Measurement device
JP2006210705A (ja) 電子部品実装装置
US20080204764A1 (en) Lead terminal inspection method and lead terminal inspection apparatus
KR20100106015A (ko) 휴대폰 카메라의 액츄에이터 측정시스템
CN213936147U (zh) 机械手臂
KR20160027327A (ko) 카메라모듈의 렌즈 위치 측정장치
TWI545329B (zh) An electronic component operating device, a working method, and a working device for its application
CN106980226B (zh) 光罩检测装置及其方法
CN111382586B (zh) 一种掩模版条码扫描装置及版库及传输系统及扫描方法
KR20160002151A (ko) 압흔 검사 장치 및 방법
KR100482586B1 (ko) 차량 투영면적 측정 시스템

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant