CN110764328A - 显示基板及其维修方法、和显示装置 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种显示基板及其维修方法、和显示装置,其中,维修方法包括在数据线发生断路时,至少利用其断路位置一侧的连接线形成断路位置两端的数据线之间的导电通路。本发明提供的显示基板及其维修方法、和显示装置,能够提高显示装置的显示效果。

Description

显示基板及其维修方法、和显示装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种显示基板及其维修方法、和显示装置。
背景技术
TFT-LCD(Thin Film Transistor Liquid Crystal Display,简称薄膜晶体管液晶显示器,)以其轻薄、环保、高性能等优点,应用越来越广,已经成为LCD应用中的主流产品。
相关技术中,在TFT-LCD制备的阵列工艺和成盒工艺过程中,显示基板会因发热、刻蚀参数、玻璃基板残留物和设备误差等因素,数据线不可避免地会出现断路的问题,导致数据信号无法传输至断路位置后侧的像素区域,降低显示装置的显示效果。
发明内容
本发明实施例提供一种显示基板及其维修方法、和显示装置,以解决相关技术中数据线断路,造成画面显示效果降低的问题。
为了解决上述技术问题,本发明提供技术方案如下:
第一方面,本发明实施例提供一种显示基板,所述显示基板包括位于衬底基板上的沿行方向延伸的栅线和沿列方向延伸的数据线,所述栅线和所述数据线交叉围成多个像素区域,像素区域内设置有薄膜晶体管TFT、像素电极和公共电极,所述TFT的源极与所述数据线连接,所述TFT的漏极与所述像素电极连接;其中,所述显示基板还包括:公共电极线和公共电极线补偿结构,所述公共电极线与所述栅线平行,且同一行的公共电极均与同一公共电极线连接,同一列且相邻的公共电极通过所述公共电极线补偿结构连接,所述像素电极在所述衬底基板上的正投影与所述公共电极线在所述衬底基板上的正投影存在重叠区域,其中,所述栅线包括交替设置的实线段和镂空段,每一镂空段包括至少两根连接线,每一连接线的两端分别连接与其相邻的两个实线段,镂空段中每一连接线在所述衬底基板上的正投影均与所述数据线在所述衬底基板上的正投影重合。
第二方面,本发明实施例还提供一种显示基板的维修方法,应用于如上所述的显示基板,所述方法包括:
在数据线发生断路时,至少利用其断路位置一侧的连接线形成断路位置两端的数据线之间的导电通路。
进一步地,发生断路的数据线为第一数据线;
所述至少利用其断路位置一侧的连接线形成断路位置两端的数据线之间的导电通路的步骤,包括:
利用所述第一数据线断路位置第一端的第一连接线、所述第一数据线断路位置第二端的第一公共电极线、以及分别与所述第一连接线和所述第一公共电极线连接的第一公共线路形成所述第一数据线断路位置两端的数据线之间的导电通路,所述第一公共线路包括相互连接的第一公共电极线补偿结构和第一公共电极,其中,两个第一公共电极线补偿结构分别连接所述第一连接线和所述第一公共电极线。
进一步地,所述显示基板还包括与所述第一数据线相邻的第二数据线,所述第二数据线发生断路;
所述至少利用其断路位置一侧的连接线形成断路位置两端的数据线之间的导电通路的步骤,还包括:
利用所述第二数据线断路位置第一端的第二连接线、所述第二数据线断路位置第二端的第二公共电极线、以及分别与所述第二连接线和所述第二公共电极线连接的第二公共线路形成所述第二数据线断路位置两端的数据线之间的导电通路,所述第二公共线路包括相互连接的第二公共电极线补偿结构和第二公共电极,其中,两个第二公共电极线补偿结构分别连接所述第二连接线和所述第二公共电极线。
进一步地,发生断路的数据线为第一数据线;
所述至少利用其断路位置一侧的连接线形成断路位置两端的数据线之间的导电通路的步骤,包括:
利用所述第一数据线断路位置两侧的两根第三连接线、以及与所述两根第三连接线连接的第三公共线路形成所述第一数据线断路位置两端的数据线之间的导电通路,所述第三公共线路包括相互连接的第三公共电极线补偿结构和第三公共电极,其中,两个第三公共电极线补偿结构分别连接所述两根第三连接线。
进一步地,所述显示基板还包括与所述第一数据线相邻的第二数据线,所述第二数据线发生断路,所述第一数据线的断路位置与所述第二数据线的断路位置在列方向上的距离大于1个像素区域在列方向上的距离且小于2个像素区域在列方向上的距离,且所述第一数据线的断路位置和所述第二数据线的断路位置位于所述两根第三连接线之间,与所述第一数据线相邻的一列像素区域中具有公共电极线补偿结构;
所述至少利用其断路位置一侧的连接线形成断路位置两端的数据线之间的导电通路的步骤,包括:
利用所述第二数据线断路位置第一端的第四连接线、所述第二数据线断路位置第二端的第四公共电极线、以及分别与所述第四连接线和所述第四公共电极线连接的局部数据线形成所述第二数据线断路位置两端的数据线之间的导电通路,其中,所述局部数据线为所述第一数据线的断路位置和靠近所述第二数据线断路位置一侧的第三连接线之间的第一数据线。
进一步地,所述利用所述第一数据线断路位置第一端的第一连接线、所述第一数据线断路位置第二端的第一公共电极线、以及分别与所述第一连接线和所述第一公共电极线连接的第一公共线路形成所述第一数据线断路位置两端的数据线之间的导电通路的步骤,包括:
将所述第一数据线断路位置第一端的数据线与位于所述第一数据线断路位置第一端的第一连接线连接;
将所述第一数据线断路位置第二端的数据线与位于所述第一数据线断路位置第二端的第一公共电极线连接;
将与所述第一连接线所属的栅线交叉的第一公共电极线补偿结构与所述第一连接线连接;
切割所述第一连接线所属的栅线,得到第一局部连接线,所述第一局部连接线分别连接所述第一数据线断路位置第一端的数据线和所述第一公共电极线补偿结构;
切割所述第一公共电极线,得到第一局部公共电极线,所述第一局部公共电极线分别连接所述第一数据线断路位置第二端的数据线和第二公共电极线补偿结构,所述第二公共电极线补偿结构与所述第一公共电极线补偿结构为同一列像素区域内的两个公共电极线补偿结构,所述第二公共电极线补偿结构和所述第一公共电极线补偿结构相互连接;
切割所述第一公共电极线补偿结构和所述第二公共电极线补偿结构与其他公共电极的连接,以及切割与所述第一局部公共电极线相连的公共电极所属的像素区域内像素电极和TFT之间的连接。
进一步地,所述利用所述第二数据线断路位置第一端的第二连接线、所述第二数据线断路位置第二端的第二公共电极线、以及分别与所述第二连接线和所述第二公共电极线连接的第二公共线路形成所述第二数据线断路位置两端的数据线之间的导电通路的步骤,包括:
将所述第二数据线断路位置第一端的数据线与位于所述第二数据线断路位置第一端的第二连接线连接;
将所述第二数据线断路位置第二端的数据线与位于所述第二数据线断路位置第二端的第二公共电极线连接;
将与所述第二连接线所属的栅线交叉的第三公共电极线补偿结构与所述第二连接线连接;
切割所述第二连接线所属的栅线,得到第二局部连接线,所述第二局部连接线分别连接所述第二数据线断路位置第一端的数据线和所述第三公共电极线补偿结构;
切割所述第二公共电极线,得到第二局部公共电极线,所述第二局部公共电极线分别连接所述第二数据线断路位置第二端的数据线和第四公共电极线补偿结构,所述第四公共电极线补偿结构与所述第三公共电极线补偿结构为同一列像素区域内的两个公共电极线补偿结构,所述第四公共电极线补偿结构和所述第三公共电极线补偿结构相互连接;
切割所述第三公共电极线补偿结构和所述第四公共电极线补偿结构与其他公共电极的连接,以及切割与所述第二局部公共电极线相连的公共电极所属的像素区域内像素电极和TFT之间的连接。
进一步地,所述利用所述第一数据线断路位置两侧的两根第三连接线、以及与所述两根第三连接线连接的第三公共线路形成所述第一数据线断路位置两端的数据线之间的导电通路的步骤,包括:
将所述第一数据线断路位置两端的两根数据线分别与位于所述第一数据线断路位置两侧的两根第三连接线连接,所述两根第三连接线之间包括所述第一数据线的断路位置和所述第二数据线的断路位置;
将所述两根第三连接线分别和与其所属的栅线交叉的两个第五公共电极线补偿结构连接,所述两个第五公共电极线补偿结构属于同一列像素区域内的两个公共电极线补偿结构;
切割所述两根第三连接线所属的两根栅线,得到两根第三局部连接线,其中,一根第三局部连接线连接所述第一数据线断路位置第一端的数据线和所述第一数据线断路位置第一端的第五公共电极线补偿结构,另一根第三局部连接线连接所述第一数据线断路位置第二端的数据线和所述第一数据线断路位置第二端的第五公共电极线补偿结构;
切割所述两个第五公共电极线补偿结构与其他公共电极的连接,以及切割连接所述两个第五公共电极线补偿结构的两个公共电极所属的像素区域内像素电极和TFT之间的连接。
进一步地,所述利用所述第二数据线断路位置第一端的第四连接线、所述第二数据线断路位置第二端的第四公共电极线、以及分别与所述第四连接线和所述第四公共电极线连接的局部数据线形成所述第二数据线断路位置两端的数据线之间的导电通路的步骤,包括:
将所述第二数据线断路位置第一端的数据线与位于所述第一数据线断路位置第一端的第四连接线连接;
将所述第二数据线断路位置第二端的数据线与位于所述第二数据线断路位置第二端的第四公共电极线连接;
将与所述第四连接线所属的栅线交叉的第一数据线与所述第四连接线连接,并将与所述第四公共电极线交叉的第一数据线与所述第四公共电极线连接;
切割所述第四连接线所属的栅线,得到第四局部连接线,所述第四局部连接线分别连接所述第二数据线断路位置第一端的数据线和所述第一数据线;
切割所述第四公共电极线,得到第四局部公共电极线,所述第四局部公共电极线分别连接所述第二数据线断路位置第二端的数据线和所述第一数据线;
切割所述第一数据线,得到局部数据线,所述局部数据线分别连接所述第四局部连接线和所述第四局部公共电极线;
切割与所述第四公共电极线相连的公共电极所属的像素区域内像素电极与TFT之间的连接。
第三方面,本发明实施例还提供一种显示基板,所述显示基板包括位于衬底基板上的沿行方向延伸的栅线和沿列方向延伸的数据线,所述栅线和所述数据线交叉围成多个像素区域,像素区域内设置有薄膜晶体管TFT、像素电极和公共电极,所述TFT的源极与所述数据线连接,所述TFT的漏极与所述像素电极连接;其中,所述显示基板还包括:公共电极线和公共电极线补偿结构,所述公共电极线与所述栅线平行,且同一行的公共电极均与同一公共电极线连接,同一列且相邻的公共电极通过所述公共电极线补偿结构连接,所述像素电极在所述衬底基板上的正投影与所述公共电极线在所述衬底基板上的正投影存在重叠区域,其中,所述栅线包括交替设置的实线段和镂空段,所述镂空段在所述衬底基板上的正投影与所述数据线重合,每一镂空段包括至少两根连接线,每一连接线的两端分别连接与其相邻的两个实线段;
至少一根数据线包括分离的第一部分和第二部分,所述第一部分和所述第二部分之间包括由一根连接线构成的导电通路。
第四方面,本发明实施例还提供一种显示装置,包括如上所述的显示基板。
本发明提供的技术方案中,利用显示基板中栅线中镂空段的至少两根连接线中任一条连接线,来组成数据线断路位置两端数据线之间的导电通路。这样,既在不会影响栅线正常工作的情况下,还能够减少对其他走线的切割,从而达到降低修复数据线时损失像素区域的数量的目的,提高显示装置的显示效果。因此,本发明提供的技术方案能够降低修复数据线时损失像素区域的数量,提高显示装置的显示效果。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案,下面将对本发明实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为显示基板中栅线的结构示意图;
图2为显示基板采用1/1Matrix设计的结构示意图;
图3为显示基板采用1/3Matrix设计的结构示意图;
图4为本发明一实施例提供的显示基板的维修方法对应的结构示意图之一;
图5为本发明一实施例提供的显示基板的维修方法对应的结构示意图之二;
图6为本发明一实施例提供的显示基板的维修方法对应的结构示意图之三;
图7为本发明一实施例提供的显示基板的维修方法对应的结构示意图之四;
图8a为本发明一实施例提供的显示基板的维修方法对应的结构示意图之五;
图8b为本发明一实施例提供的显示基板的维修方法对应的结构示意图之六;
图9为本发明一实施例提供的显示基板的维修方法对应的结构示意图之七;
图10为本发明一实施例提供的显示基板的维修方法对应的结构示意图之八;
图11为本发明一实施例提供的显示基板的维修方法对应的结构示意图之九;
图12为本发明一实施例提供的显示基板的维修方法对应的结构示意图之十。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
本发明实施例提供了一种显示基板,所述显示基板包括位于衬底基板上的沿行方向延伸的栅线和沿列方向延伸的数据线,所述栅线和所述数据线交叉围成多个像素区域,像素区域内设置有薄膜晶体管TFT、像素电极和公共电极,所述TFT的源极与所述数据线连接,所述TFT的漏极与所述像素电极连接;其中,所述显示基板还包括:公共电极线和公共电极线补偿结构,所述公共电极线与所述栅线平行,且同一行的公共电极均与同一公共电极线连接,同一列且相邻的公共电极通过所述公共电极线补偿结构连接,所述像素电极在所述衬底基板上的正投影与所述公共电极线在所述衬底基板上的正投影存在重叠区域,其中,如图1所示,所述栅线包括交替设置的实线段和镂空段,每一镂空段包括至少两根连接线,每一连接线的两端分别连接与其相邻的两个实线段,镂空段中每一连接线在所述衬底基板上的正投影均与所述数据线在所述衬底基板上的正投影重合。
本发明实施例中,由于栅线的镂空区的至少两根连接线在衬底基板上的正投影均与数据线在衬底基板上的正投影重合,这样在一根连接线与数据线发生短路(Data GateShort,简称DGS)时,可以切断与数据线发生短路的连接线,保证其余连接线顺利传输栅极扫描信号,提高显示装置的良率。
本发明实施例中的显示基板可以是1/1Matrix设计(显示基板中的每列像素区域内均设有相互连接的公共电极线补偿结构),如图2所示,也可以是1/3Matrix设计(显示基板中仅红色像素列设有相互连接的公共电极线补偿结构),如图3所示,其中,1/3Matrix设计具有低成本和低功耗的特点,同时便于显示面板窄边框化的设计。
另外,显示基板还可以采用Z Inventor设计(显示基板中的每条数据线间隔控制两列像素),Z Inventor设计同样能够减少显示基板的功耗量。
本发明实施例还提供一种显示基板的维修方法,应用于上述的显示基板,所述方法包括:
在数据线发生断路时,至少利用其断路位置一侧的连接线形成断路位置两端的数据线之间的导电通路。
本发明实施例中,利用显示基板中栅线中镂空段的至少两根连接线中任一条连接线,来组成数据线断路位置两端数据线之间的导电通路。这样,既在不会影响栅线正常工作的情况下,还能够减少对其他走线的切割,从而达到降低修复数据线时损失像素区域的数量的目的,提高显示装置的显示效果。因此,本发明提供的技术方案能够降低修复数据线时损失像素区域的数量,提高显示装置的显示效果。
相关技术中,数据线发生断路后,通常利用断路位置两端的公共电极线组成断路位置两端数据线之间的导电通路,然而,这会导致修复数据线所损失的像素区域的数量较多,修复后的显示装置的显示效果不佳。
本实施例中,利用至少一根连接线替代上述断路位置一端的公共电极线,从而相较于相关技术而言修复数据线所损失的像素区域的数量至少减少一个,提高显示装置的显示效果。
在实施例一中,发生断路的数据线为第一数据线;
所述至少利用其断路位置一侧的连接线形成断路位置两端的数据线之间的导电通路的步骤,包括:
利用所述第一数据线断路位置第一端的第一连接线、所述第一数据线断路位置第二端的第一公共电极线、以及分别与所述第一连接线和所述第一公共电极线连接的第一公共线路形成所述第一数据线断路位置两端的数据线之间的导电通路,所述第一公共线路包括相互连接的第一公共电极线补偿结构和第一公共电极,其中,两个第一公共电极线补偿结构分别连接所述第一连接线和所述第一公共电极线。
本实施例中,两个第一公共电极线补偿结构为位于同一列像素区域内的两个相邻的公共电极线补偿结构,由于同一列像素区域内所有公共电极线补偿结构均通过公共电极相互连接,因此,第一公共电极即为位于两个相邻的公共电极线补偿结构之间的公共电极。
其中,在显示基板为1/1Matrix设计,或者显示基板为1/3Matrix设计且第一数据线相邻的像素区域内具有公共电极线补偿结构的情况下,如图4和图5所示,仅损失一个像素区域即可完成对数据线的修复。
以显示基板为1/1Matrix设计为例,如图4所示,第一数据线的断路位置位于像素区域A和像素区域B之间,则将第一数据线断路位置上方(第一端)的数据线与像素区域B上方的栅线镂空段中的一根连接线(第一连接线)连接(即在图4中位置1处将第一连接线与第一数据线断路位置第一端的数据线连接),且将第一连接线与第一公共电极线补偿结构(第一公共电极线补偿结构的两端分别连接像素区域B的公共电极和像素区域C的公共电极,第一公共电极线补偿结构与第一连接线所属的栅线交叉)连接(即在图4中位置2处将第一公共电极线补偿结构与第一连接线连接);将第一数据线断路位置下方(第二端)的数据线与第一公共电极线(第一公共电极线与像素区域B中的公共电极连接,且与第一数据线断路位置第二端的数据线交叉)连接(即在图4中位置3处将第一数据线断路位置第二端的数据线与第一公共电极线连接),从而实现了第一数据线断路位置第一端的数据线→第一连接线→第一公共电极线补偿结构→第一公共电极→第一公共电极线→第一数据线断路位置第二端的数据线的信号流向。
然后,在图4中的位置4和5处切割第一连接线所属的栅线,得到第一局部连接线,确保第一数据线的数据信号只在第一局部连接线传输,而不会从栅线泄露。在图4中的位置6和7切断第一公共电极线,得到第一局部公共电极线,确保第一数据线的数据信号只在第一局部公共电极线传输,而不会从第一公共电极线泄露,其中,位置6和位置7均处于像素区域之间。
最后,在图4中的位置8切割第一公共电极线补偿结构,防止第一数据线的数据信号传输至像素区域C的公共电极;在图4中的位置9切割第二公共电极线补偿结构,防止第一数据线的数据信号传输至像素区域D的公共电极;在图4中的位置10切断像素区域B中像素电极与TFT之间的连接,防止第一数据线的数据信号通过TFT传输至其他数据线。
这样,即完成了对第一数据线断路位置的修复,其中,为了修复而损失的像素区域图4中未填充图案的像素区域,即为像素区域B,仅损失一个像素区域。
在显示基板为1/3Matrix设计且第一数据线相邻的像素区域内不具有公共电极线补偿结构的情况下,如图6所示,需要损失两个像素区域才可完成对数据线的修复。
在一可选的实施方式中,所述利用所述第一数据线断路位置第一端的第一连接线、所述第一数据线断路位置第二端的第一公共电极线、以及分别与所述第一连接线和所述第一公共电极线连接的第一公共线路形成所述第一数据线断路位置两端的数据线之间的导电通路的步骤,包括:
将所述第一数据线断路位置第一端的数据线与位于所述第一数据线断路位置第一端的第一连接线连接;
将所述第一数据线断路位置第二端的数据线与位于所述第一数据线断路位置第二端的第一公共电极线连接;
将与所述第一连接线所属的栅线交叉的第一公共电极线补偿结构与所述第一连接线连接;
切割所述第一连接线所属的栅线,得到第一局部连接线,所述第一局部连接线分别连接所述第一数据线断路位置第一端的数据线和所述第一公共电极线补偿结构;
切割所述第一公共电极线,得到第一局部公共电极线,所述第一局部公共电极线分别连接所述第一数据线断路位置第二端的数据线和第二公共电极线补偿结构,所述第二公共电极线补偿结构与所述第一公共电极线补偿结构为同一列像素区域内的两个公共电极线补偿结构,所述第二公共电极线补偿结构和所述第一公共电极线补偿结构相互连接;
切割所述第一公共电极线补偿结构和所述第二公共电极线补偿结构与其他公共电极的连接,以及切割与所述第一局部公共电极线相连的公共电极所属的像素区域内像素电极和TFT之间的连接。
本实施方式,以显示基板采用1/3Matrix设计为例进行说明。
第一数据线相邻的像素区域内具有公共电极线补偿结构的情况下,如图5所示,第一数据线的断路位置位于像素区域A和像素区域B之间,其中,像素区域B所在列的像素区域包括公共电极线补偿结构,则将第一数据线断路位置上方(第一端)的数据线与像素区域B上方的栅线镂空段中的一根连接线(第一连接线)连接(即在图5中位置1处将第一连接线与第一数据线断路位置第一端的数据线连接),且将第一连接线与第一公共电极线补偿结构(第一公共电极线补偿结构的两端分别连接像素区域B的公共电极和像素区域C的公共电极,第一公共电极线补偿结构与第一连接线所属的栅线交叉)连接(即在图5中位置2处将第一公共电极线补偿结构与第一连接线连接);将第一数据线断路位置下方(第二端)的数据线与第一公共电极线(第一公共电极线与像素区域B中的公共电极连接,且与第一数据线断路位置第二端的数据线交叉)连接(即在图5中位置3处将第一数据线断路位置第二端的数据线与第一公共电极线连接),从而实现了第一数据线断路位置第一端的数据线→第一连接线→第一公共电极线补偿结构→第一公共电极→第一数据线断路位置第二端的数据线的信号流向。
然后,在图5中的位置4和5处切割第一连接线所属的栅线,得到第一局部连接线,确保第一数据线的数据信号只在第一局部连接线传输,而不会从栅线泄露。在图5中的位置6和7切断第一公共电极线,得到第一局部公共电极线,确保第一数据线的数据信号只在第一局部公共电极线传输,而不会从第一公共电极线泄露,其中,位置6和位置7均处于像素区域之间。
最后,在图5中的位置8切割第一公共电极线补偿结构,防止第一数据线的数据信号传输至像素区域C的公共电极;在图5中的位置9切割第二公共电极线补偿结构,防止第一数据线的数据信号传输至像素区域D的公共电极;在图5中的位置10切断像素区域B中像素电极与TFT之间的连接,防止第一数据线的数据信号通过TFT传输至其他数据线。
这样,即完成了对第一数据线断路位置的修复,其中,为了修复而损失的像素区域为图5中未填充图案的像素区域,即像素区域B,仅损失一个像素区域。
第一数据线相邻的像素区域内不具有公共电极线补偿结构的情况下,如图6所示,第一数据线的断路位置位于像素区域E和像素区域F之间,其中,像素区域E和像素区域F所在列的像素区域均不包括公共电极线补偿结构,则将第一数据线断路位置上方(第一端)的数据线与像素区域F上方的栅线镂空段中的一根连接线(第一连接线)连接(即在图6中位置1处将第一连接线与第一数据线断路位置第一端的数据线连接),且将第一连接线与第一公共电极线补偿结构(第一公共电极线补偿结构的两端分别连接像素区域G的公共电极和像素区域H的公共电极,第一公共电极线补偿结构与第一连接线所属的栅线交叉)连接(即在图6中位置2处将第一公共电极线补偿结构与第一连接线连接);将第一数据线断路位置下方(第二端)的数据线与第一公共电极线(第一公共电极线分别与像素区域F中的公共电极和像素区域G中的公共电极连接,且与第一数据线断路位置第二端的数据线交叉)连接(即在图6中位置3处将第一公共电极线与第一数据线断路位置第二端的数据线连接),从而实现了第一数据线断路位置第一端的数据线→第一连接线→第一公共电极线补偿结构→第一公共电极→第一公共电极线→第一数据线断路位置第二端的数据线的信号流向。
然后,在图6中的位置4、5和6(图6中位置4和位置5分别位于两个相邻的镂空段,位置6位于实线段)处切割第一连接线所属的栅线,得到第一局部连接线(包括两根分别属于相邻两个镂空段的连接线、以及连接这两根连接线的部分实线段),确保第一数据线的数据信号只在第一局部连接线传输,而不会从栅线泄露。在图5中的位置7和8切断第一公共电极线,得到第一局部公共电极线(第一局部公共电极线分别与像素区域E中的公共电极和像素区域F中的公共电极连接),确保第一数据线的数据信号只在第一局部公共电极线传输,而不会从第一公共电极线泄露,其中,位置7和位置8均处于像素区域之间。
最后,在图6中的位置9切割第一公共电极线补偿结构,防止第一数据线的数据信号传输至像素区域H公共电极;在图6中的位置10切割第二公共电极线补偿结构,防止第一数据线的数据信号传输至像素区域I的公共电极;在图6中的位置11切断像素区域F中像素电极与TFT之间的连接、以及在图6中的位置12切断像素区域G中像素电极与TFT之间的连接,防止第一数据线的数据信号通过像素区域F和像素区域G中的TFT传输至其他数据线。
这样,即完成了对第一数据线断路位置的修复,其中,为了修复而损失的像素区域为图6中未填充图案的像素区域,即像素区域F和像素区域G,损失了两个像素区域。
在实施例二中,在实施例一的基础上所述显示基板还包括与所述第一数据线相邻的第二数据线,所述第二数据线发生断路;
所述至少利用其断路位置一侧的连接线形成断路位置两端的数据线之间的导电通路的步骤,还包括:
利用所述第二数据线断路位置第一端的第二连接线、所述第二数据线断路位置第二端的第二公共电极线、以及分别与所述第二连接线和所述第二公共电极线连接的第二公共线路形成所述第二数据线断路位置两端的数据线之间的导电通路,所述第二公共线路包括相互连接的第二公共电极线补偿结构和第二公共电极,其中,两个第二公共电极线补偿结构分别连接所述第二连接线和所述第二公共电极线。
本实施例中,显示基板中相邻两根数据线同时发生断路。两个第二公共电极线补偿结构为位于同一列像素区域内的两个相邻的公共电极线补偿结构,由于同一列像素区域内所有公共电极线补偿结构均通过公共电极相互连接,因此,第二公共电极即为位于两个相邻的公共电极线补偿结构之间的公共电极。
在一可选的实施方式中,所述利用所述第二数据线断路位置第一端的第二连接线、所述第二数据线断路位置第二端的第二公共电极线、以及分别与所述第二连接线和所述第二公共电极线连接的第二公共线路形成所述第二数据线断路位置两端的数据线之间的导电通路的步骤,包括:
将所述第二数据线断路位置第一端的数据线与位于所述第二数据线断路位置第一端的第二连接线连接;
将所述第二数据线断路位置第二端的数据线与位于所述第二数据线断路位置第二端的第二公共电极线连接;
将与所述第二连接线所属的栅线交叉的第三公共电极线补偿结构与所述第二连接线连接;
切割所述第二连接线所属的栅线,得到第二局部连接线,所述第二局部连接线分别连接所述第二数据线断路位置第一端的数据线和所述第三公共电极线补偿结构;
切割所述第二公共电极线,得到第二局部公共电极线,所述第二局部公共电极线分别连接所述第二数据线断路位置第二端的数据线和第四公共电极线补偿结构,所述第四公共电极线补偿结构与所述第三公共电极线补偿结构为同一列像素区域内的两个公共电极线补偿结构,所述第四公共电极线补偿结构和所述第三公共电极线补偿结构相互连接;
切割所述第三公共电极线补偿结构和所述第四公共电极线补偿结构与其他公共电极的连接,以及切割与所述第二局部公共电极线相连的公共电极所属的像素区域内像素电极和TFT之间的连接。
在显示基板采用1/1Matrix设计时,两根数据线均可以采用如图4所示的维修方式来维修数据线,具体参阅针对图4的说明,此处不再赘述,从而可以推断出维修两根数据线仅损失2个像素区域,如图7所示。
在显示基板采用1/3Matrix设计时,相邻两个发生断路的数据线中,一根数据线相邻的像素区域内具有公共电极线补偿结构,另一根数据线相邻的像素区域内不具有公共电极线补偿结构。
这样,两根数据线中一根数据线可采用如图5所示的维修方式来维修数据线,另一根数据线可采用如图6所示的维修方式来维修数据线,具体参阅针对图5和图6的说明,此处不再赘述,这样维修两根数据线仅损失3个像素区域,维修得到如图8a或8b所示的像素结构。
在实施例三中,发生断路的数据线为第一数据线;
所述至少利用其断路位置一侧的连接线形成断路位置两端的数据线之间的导电通路的步骤,包括:
利用所述第一数据线断路位置两侧的两根第三连接线、以及与所述两根第三连接线连接的第三公共线路形成所述第一数据线断路位置两端的数据线之间的导电通路,所述第三公共线路包括相互连接的第三公共电极线补偿结构和第三公共电极,其中,两个第三公共电极线补偿结构分别连接所述两根第三连接线。
本实施例中,第三公共线路中的第三公共电极线补偿结构为位于同一列像素区域内的公共电极线补偿结构,由于同一列像素区域内所有公共电极线补偿结构均通过公共电极相互连接,因此,第三公共电极即为位于两个相邻的第三公共电极线补偿结构之间的公共电极。本实施例中,第三公共线路中第三公共电极线补偿结构的数量可以为2个,也可以为3个,根据实际情况而定。
其中,在显示基板为1/1Matrix设计,或者显示基板为1/3Matrix设计且第一数据线相邻的像素区域内具有公共电极线补偿结构的情况下,如图9和图10所示,仅损失一个像素区域即可完成对数据线的修复。
以显示基板为1/1Matrix设计为例,如图9所示,第一数据线的断路位置位于像素区域J和像素区域K之间,则将第一数据线断路位置上方(第一端)的数据线与像素区域K上方的栅线镂空段中的一根连接线(第三连接线1)连接(即在图9中位置1处将位于第一数据线断路位置第一端的第三连接线1与第一数据线断路位置第一端的数据线连接),且将第三连接线1与第三公共电极线补偿结构1(第三公共电极线补偿结构1的两端分别连接像素区域K的公共电极和像素区域L的公共电极,第三公共电极线补偿结构1与第三连接线1所属的栅线交叉)连接(即在图9中位置2处将第三公共电极线补偿结构1与第三连接线1连接);将第一数据线断路位置下方(第二端)的数据线与像素区域K下方(第二端)的栅线镂空段中的一根连接线(第三连接线2)连接(即在图9中位置3处将位于第一数据线断路位置第二端的第三连接线2与第一数据线断路位置第二端的数据线连接),且将第三连接线2与第三公共电极线补偿结构2(第三公共电极线补偿结构2的两端分别连接像素区域K的公共电极和像素区域M的公共电极,第三公共电极线补偿结构2与第三连接线2所属的栅线交叉)连接(即在图9中位置4处将第三公共电极线补偿结构2与第三连接线2连接);从而实现了第一数据线断路位置第一端的数据线→第三连接线1→第三公共电极线补偿结构1→第三公共电极→第三公共电极线补偿结构2→第三连接线2→第一数据线断路位置第二端的数据线的信号流向。
然后,在图9中的位置5和位置6处切割第三连接线1所属的栅线,得到第三局部连接线1,确保第一数据线的数据信号只在第三局部连接线1传输,而不会从其所属栅线泄露。在图9中的位置7和8切断第三连接线2所属的栅线,得到第三局部连接线2,确保第一数据线的数据信号只在第三局部信号线2传输,而不会从其所属的栅线泄露。
最后,在图9中的位置9切割第三公共电极线补偿结构1,防止第一数据线的数据信号传输至像素区域L的公共电极;在图9中的位置10切割第三公共电极线补偿结构2,防止第一数据线的数据信号传输至像素区域M的公共电极;在图9中的位置11切断像素区域K中像素电极与TFT之间的连接,防止第一数据线的数据信号通过TFT传输至其他数据线。
这样,即完成了对第一数据线断路位置的修复,其中,为了修复而损失的像素区域图9中未填充图案的像素区域,即为像素区域K,仅损失一个像素区域。
在显示基板为1/3Matrix设计且第一数据线相邻的像素区域内不具有公共电极线补偿结构的情况下,如图11所示,需要损失两个像素区域才可完成对数据线的修复。
在一可选的实施方式中,所述利用所述第一数据线断路位置两侧的两根第三连接线、以及与所述两根第三连接线连接的第三公共线路形成所述第一数据线断路位置两端的数据线之间的导电通路的步骤,包括:
将所述第一数据线断路位置两端的两根数据线分别与位于所述第一数据线断路位置两侧的两根第三连接线连接,所述两根第三连接线之间包括所述第一数据线的断路位置和所述第二数据线的断路位置;
将所述两根第三连接线分别和与其所属的栅线交叉的两个第五公共电极线补偿结构连接,所述两个第五公共电极线补偿结构属于同一列像素区域内的两个公共电极线补偿结构;
切割所述两根第三连接线所属的两根栅线,得到两根第三局部连接线,其中,一根第三局部连接线连接所述第一数据线断路位置第一端的数据线和所述第一数据线断路位置第一端的第五公共电极线补偿结构,另一根第三局部连接线连接所述第一数据线断路位置第二端的数据线和所述第一数据线断路位置第二端的第五公共电极线补偿结构;
切割所述两个第五公共电极线补偿结构与其他公共电极的连接,以及切割连接所述两个第五公共电极线补偿结构的两个公共电极所属的像素区域内像素电极和TFT之间的连接。
本实施方式,以显示基板采用1/3Matrix设计为例进行说明。
第一数据线相邻的像素区域内具有公共电极线补偿结构的情况下,如图10所示,第一数据线的断路位置位于像素区域N和像素区域O之间,其中,像素区域O所在列的像素区域包括公共电极线补偿结构,则将第一数据线断路位置上方(第一端)的数据线与像素区域O上方的栅线镂空段中的一根连接线(第一连接线)连接(即在图10中位置1处将第三连接线1与第一数据线断路位置第一端的数据线连接),且将第三连接线1与第三公共电极线补偿结构1(第三公共电极线补偿结构1的两端分别连接像素区域O的公共电极和像素区域P的公共电极,第三公共电极线补偿结构与第三连接线1所属的栅线交叉)连接(即在图11中位置2处将第三公共电极线补偿结构1与第三连接线1连接);将第一数据线断路位置下方(第二端)的数据线与像素区域O下方(第二端)的栅线镂空段中的一根连接线(第三连接线2)连接(即在图10中位置3处将位于第一数据线断路位置第二端的第三连接线2与第一数据线断路位置第二端的数据线连接),且将第三连接线2与第三公共电极线补偿结构2(第三公共电极线补偿结构2的两端分别连接像素区域O的公共电极和像素区域Q的公共电极,第三公共电极线补偿结构2与第三连接线2所属的栅线交叉)连接(即在图10中位置4处将第三公共电极线补偿结构2与第三连接线2连接);从而实现了第一数据线断路位置第一端的数据线→第三连接线1→第三公共电极线补偿结构1→第三公共电极→第三公共电极线补偿结构2→第三连接线2→第一数据线断路位置第二端的数据线的信号流向。
然后,在图10中的位置5和位置6处切割第三连接线1所属的栅线,得到第三局部连接线1,确保第一数据线的数据信号只在第三局部连接线1传输,而不会从其所属栅线泄露。在图10中的位置7和8切断第三连接线2所属的栅线,得到第三局部连接线2,确保第一数据线的数据信号只在第三局部信号线2传输,而不会从其所属的栅线泄露。
最后,在图10中的位置9切割第三公共电极线补偿结构1,防止第一数据线的数据信号传输至像素区域P的公共电极;在图10中的位置10切割第三公共电极线补偿结构2,防止第一数据线的数据信号传输至像素区域Q的公共电极;在图10中的位置11切断像素区域O中像素电极与TFT之间的连接,防止第一数据线的数据信号通过TFT传输至其他数据线。
这样,即完成了对第一数据线断路位置的修复,其中,为了修复而损失的像素区域为图10中未填充图案的像素区域,即像素区域O,仅损失一个像素区域。
第一数据线相邻的像素区域内不具有公共电极线补偿结构的情况下,如图11所示,第一数据线的断路位置位于像素区域R和像素区域S之间,其中,像素区域R和像素区域S所在列的像素区域均不包括公共电极线补偿结构,则将第一数据线断路位置上方(第一端)的数据线与像素区域T上方的栅线镂空段中的一根连接线(第三连接线1)连接(即在图11中位置1处将第三连接线1与第一数据线断路位置第一端的数据线连接),且将第三连接线1与第三公共电极线补偿结构1(第三公共电极线补偿结构1的两端分别连接像素区域T的公共电极和像素区域U的公共电极,第三公共电极线补偿结构1与第三连接线1所属的栅线交叉)连接(即在图11中位置2处将第三公共电极线补偿结构1与第三连接线1连接);将第一数据线断路位置下方(第二端)的数据线与像素区域T下方(第二端)的栅线镂空段中的一根连接线(第三连接线2)连接(即在图11中位置3处将第三连接线2与第一数据线断路位置第二端的数据线连接),且将第三连接线2与第三公共电极线补偿结构2(第三公共电极线补偿结构2的两端分别连接像素区域T的公共电极和像素区域V的公共电极,第三公共电极线补偿结构2与第三连接线2所属的栅线交叉)连接(即在图11中位置4处将第三公共电极线补偿结构2与第三连接线2连接);从而实现了第一数据线断路位置第一端的数据线→第三连接线1→第三公共电极线补偿结构1→第三公共电极→第三公共电极线补偿结构2→第三连接线2→第一数据线断路位置第二端的数据线的信号流向。
然后,在图11中的位置5、6和7(图11中位置5和位置6分别位于两个相邻的镂空段,位置7位于实线段)处切割第三连接线1所属的栅线,得到第三局部连接线1(包括两根分别属于相邻两个镂空段的连接线、以及连接这两根连接线的部分实线段),确保第一数据线的数据信号只在第三局部连接线1传输,而不会从其所属栅线泄露。在图11中的位置8、9和10(图11中位置8和位置9分别位于两个相邻的镂空段,位置10位于实线段)处切割第三连接线2所属的栅线,得到第三局部连接线2(包括两根分别属于相邻两个镂空段的连接线、以及连接这两根连接线的部分实线段),确保第一数据线的数据信号只在第三局部连接线2传输,而不会从其所属栅线泄露。
最后,在图11中的位置11切割第三公共电极线补偿结构1,防止第一数据线的数据信号传输至像素区域U的公共电极;在图11中的位置12切割第三公共电极线补偿结构2,防止第一数据线的数据信号传输至像素区域V的公共电极;在图11中的位置13切断像素区域T中像素电极与TFT之间的连接,防止第一数据线的数据信号通过TFT传输至其他数据线。
这样,即完成了对第一数据线断路位置的修复,其中,为了修复而损失的像素区域为图11中未填充图案的像素区域,即像素区域T,仅损失一个像素区域。
在实施例三中,仅有一根数据线发生断路的情况下,第三公共线路中第三公共电极线补偿结构的数量为2个,第三公共电极的数量为1个。
在实施例四中,在实施例三的基础上所述显示基板还包括与所述第一数据线相邻的第二数据线,所述第二数据线发生断路,所述第一数据线的断路位置与所述第二数据线的断路位置在列方向上的距离大于1个像素区域在列方向上的距离且小于2个像素区域在列方向上的距离,且所述第一数据线的断路位置和所述第二数据线的断路位置位于所述两根第三连接线之间,与所述第一数据线相邻的一列像素区域中具有公共电极线补偿结构;
所述至少利用其断路位置一侧的连接线形成断路位置两端的数据线之间的导电通路的步骤,包括:
利用所述第二数据线断路位置第一端的第四连接线、所述第二数据线断路位置第二端的第四公共电极线、以及分别与所述第四连接线和所述第四公共电极线连接的局部数据线形成所述第二数据线断路位置两端的数据线之间的导电通路,其中,所述局部数据线为所述第一数据线的断路位置和靠近所述第二数据线断路位置一侧的第三连接线之间的第一数据线。
本实施例中,两根第三连接线之间具有两行像素区域,即第三公共线路中第三公共电极线补偿结构的数量为3个,第三公共电极的数量为2个。
本实施例中第一数据线的维修方式即如图10所示的方法,但是与图10略有区别,区别在于,图10中的像素区域Q为像素区域O同列且下一行的像素区域,而本实施例中,像素区域Q为像素区域O同列且下两行的像素区域,如图12所示。另外,额外在图12的位置12切割像素区域W中像素电极与TFT之间的连接,防止第一数据线的数据信号通过TFT传输至其他数据线;在图12的位置13和位置14切割与像素区域W内的公共电极连接的公共电极线,得到仅与第三公共电极线补偿结构和第三公共电极连接的局部公共电极线。
在一可选的实施方式中,所述利用所述第二数据线断路位置第一端的第四连接线、所述第二数据线断路位置第二端的第四公共电极线、以及分别与所述第四连接线和所述第四公共电极线连接的局部数据线形成所述第二数据线断路位置两端的数据线之间的导电通路的步骤,包括:
将所述第二数据线断路位置第一端的数据线与位于所述第一数据线断路位置第一端的第四连接线连接;
将所述第二数据线断路位置第二端的数据线与位于所述第二数据线断路位置第二端的第四公共电极线连接;
将与所述第四连接线所属的栅线交叉的第一数据线与所述第四连接线连接,并将与所述第四公共电极线交叉的第一数据线与所述第四公共电极线连接;
切割所述第四连接线所属的栅线,得到第四局部连接线,所述第四局部连接线分别连接所述第二数据线断路位置第一端的数据线和所述第一数据线;
切割所述第四公共电极线,得到第四局部公共电极线,所述第四局部公共电极线分别连接所述第二数据线断路位置第二端的数据线和所述第一数据线;
切割所述第一数据线,得到局部数据线,所述局部数据线分别连接所述第四局部连接线和所述第四局部公共电极线;
切割与所述第四公共电极线相连的公共电极所属的像素区域内像素电极与TFT之间的连接。
本实施方式进一步在图12的基础上说明,如图12所示,第二数据线的断路位置位于像素区域X和像素区域Y之间,将第二数据线断路位置上方(第一端)的数据线与像素区域X上方的栅线镂空段中的一根连接线(第四连接线)连接(即在图12中位置15处将第四连接线与第二数据线断路位置第一端的数据线连接),且将第四连接线与第一数据线(第一数据线与第四连接线所属的栅线交叉)连接(即在图12中位置16处将第一数据线与第四连接线连接);将第二数据线断路位置下方(第二端)的数据线与第四公共电极线(第四公共电极线与第二数据线断路位置第二端的数据线交叉,且与第一数据线交叉)连接(即在图12中位置17处将第二数据线断路位置第二端的数据线与第四公共电极线连接),且将第四公共电极线与第一数据线连接(即在图12中位置18处将第一数据线与第四公共电极线连接);从而实现了第一数据线断路位置第一端的数据线→第四连接线→第一数据线→第四公共电极线→第一数据线断路位置第二端的数据线的信号流向。
然后,在图12中的位置19、20和21(图12中位置19和位置20分别位于两个相邻的镂空段,位置21位于实线段)处切割第四连接线所属的栅线,得到第四局部连接线(包括两根分别属于相邻两个镂空段的连接线、以及连接这两根连接线的部分实线段),确保第二数据线的数据信号只在第四局部连接线传输,而不会从其所属栅线泄露。在图12中的位置22处切割第四公共电极线,得到位置22和位置13之间的第四局部公共电极线,确保第二数据线的数据信号只在第四局部公共电极线传输,而不会从第四公共电极线泄露;在图12中的位置23切割第一数据线,得到位置23与第一数据线断路位置之间的第一局部数据线,防止第二数据线的数据信号从第一数据线泄露。
最后,在图12中的位置24切割像素区域X中像素电极与TFT之间的连接,防止第二数据线的数据信号通过TFT传输至其他数据线。
这样,即完成了对第一数据线和第二数据线的修复,其中,为了修复两根相邻的数据线而损失的像素区域为图12中未填充图案的像素区域,即像素区域X、像素区域W和像素区域O,共3个像素区域。
另外,在本发明的其他实施例中,在栅线的镂空段具有三根及以上的连接线时,在第一数据线的断路位置和第二数据线的断路位置在列方向上的距离小于1个像素区域在列方向上的长度时,第一数据线可以采用图10中的修复方式进行修复,第二数据线可以采用图12中第二数据线的修复方式进行修复,这样,修复两根相邻数据线的所损失的像素区域仅为两个像素区域,原理与实施例二中的原理相同。
本发明实施例还提供一种显示基板,所述显示基板包括位于衬底基板上的沿行方向延伸的栅线和沿列方向延伸的数据线,所述栅线和所述数据线交叉围成多个像素区域,像素区域内设置有薄膜晶体管TFT、像素电极和公共电极,所述TFT的源极与所述数据线连接,所述TFT的漏极与所述像素电极连接;所述显示基板还包括:公共电极线和公共电极线补偿结构,所述公共电极线与所述栅线平行,且同一行的公共电极均与同一公共电极线连接,同一列且相邻的公共电极通过所述公共电极线补偿结构连接,所述像素电极在所述衬底基板上的正投影与所述公共电极线在所述衬底基板上的正投影存在重叠区域,其中,所述栅线包括交替设置的实线段和镂空段,所述镂空段在所述衬底基板上的正投影与所述数据线重合,每一镂空段包括至少两根连接线,每一连接线的两端分别连接与其相邻的两个实线段;
至少一根数据线包括分离的第一部分和第二部分,所述第一部分和所述第二部分之间包括由一根连接线构成的导电通路。
本实施例中的显示基板是通过上述显示基板的维修方法,维修后得到的显示基板。由上述多个显示基板的维修方法可知,数据线断路位置两端的数据线(第一部分和第二部分)之间的导电通路必然存在栅线中的一根连接线。
本发明实施例还提供了一种显示装置,包括如上所述的显示基板。
显示装置可以是显示器、手机、平板电脑、电视机、可穿戴电子设备、导航显示设备等。
需要说明的是,在本文中,术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含,从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者装置不仅包括那些要素,而且还包括没有明确列出的其他要素,或者是还包括为这种过程、方法、物品或者装置所固有的要素。在没有更多限制的情况下,由语句“包括一个……”限定的要素,并不排除在包括该要素的过程、方法、物品或者装置中还存在另外的相同要素。
通过以上的实施方式的描述,本领域的技术人员可以清楚地了解到上述实施例方法可借助软件加必需的通用硬件平台的方式来实现,当然也可以通过硬件,但很多情况下前者是更佳的实施方式。基于这样的理解,本发明的技术方案本质上或者说对现有技术做出贡献的部分可以以软件产品的形式体现出来,该计算机软件产品存储在一个存储介质(如ROM/RAM、磁碟、光盘)中,包括若干指令用以使得一台终端(可以是手机,计算机,服务器,空调器,或者网络设备等)执行本发明各个实施例所述的方法。
上面结合附图对本发明的实施例进行了描述,但是本发明并不局限于上述的具体实施方式,上述的具体实施方式仅仅是示意性的,而不是限制性的,本领域的普通技术人员在本发明的启示下,在不脱离本发明宗旨和权利要求所保护的范围情况下,还可做出很多形式,均属于本发明的保护之内。

Claims (12)

1.一种显示基板,所述显示基板包括位于衬底基板上的沿行方向延伸的栅线和沿列方向延伸的数据线,所述栅线和所述数据线交叉围成多个像素区域,像素区域内设置有薄膜晶体管TFT、像素电极和公共电极,所述TFT的源极与所述数据线连接,所述TFT的漏极与所述像素电极连接;其特征在于,所述显示基板还包括:公共电极线和公共电极线补偿结构,所述公共电极线与所述栅线平行,且同一行的公共电极均与同一公共电极线连接,同一列且相邻的公共电极通过所述公共电极线补偿结构连接,所述像素电极在所述衬底基板上的正投影与所述公共电极线在所述衬底基板上的正投影存在重叠区域,其中,所述栅线包括交替设置的实线段和镂空段,每一镂空段包括至少两根连接线,每一连接线的两端分别连接与其相邻的两个实线段,镂空段中每一连接线在所述衬底基板上的正投影均与所述数据线在所述衬底基板上的正投影重合。
2.一种显示基板的维修方法,其特征在于,应用于如权利要求1所述的显示基板,所述方法包括:
在数据线发生断路时,至少利用其断路位置一侧的连接线形成断路位置两端的数据线之间的导电通路。
3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,发生断路的数据线为第一数据线;
所述至少利用其断路位置一侧的连接线形成断路位置两端的数据线之间的导电通路的步骤,包括:
利用所述第一数据线断路位置第一端的第一连接线、所述第一数据线断路位置第二端的第一公共电极线、以及分别与所述第一连接线和所述第一公共电极线连接的第一公共线路形成所述第一数据线断路位置两端的数据线之间的导电通路,所述第一公共线路包括相互连接的第一公共电极线补偿结构和第一公共电极,其中,两个第一公共电极线补偿结构分别连接所述第一连接线和所述第一公共电极线。
4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,所述显示基板还包括与所述第一数据线相邻的第二数据线,所述第二数据线发生断路;
所述至少利用其断路位置一侧的连接线形成断路位置两端的数据线之间的导电通路的步骤,还包括:
利用所述第二数据线断路位置第一端的第二连接线、所述第二数据线断路位置第二端的第二公共电极线、以及分别与所述第二连接线和所述第二公共电极线连接的第二公共线路形成所述第二数据线断路位置两端的数据线之间的导电通路,所述第二公共线路包括相互连接的第二公共电极线补偿结构和第二公共电极,其中,两个第二公共电极线补偿结构分别连接所述第二连接线和所述第二公共电极线。
5.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,发生断路的数据线为第一数据线;
所述至少利用其断路位置一侧的连接线形成断路位置两端的数据线之间的导电通路的步骤,包括:
利用所述第一数据线断路位置两侧的两根第三连接线、以及与所述两根第三连接线连接的第三公共线路形成所述第一数据线断路位置两端的数据线之间的导电通路,所述第三公共线路包括相互连接的第三公共电极线补偿结构和第三公共电极,其中,两个第三公共电极线补偿结构分别连接所述两根第三连接线。
6.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,所述显示基板还包括与所述第一数据线相邻的第二数据线,所述第二数据线发生断路,所述第一数据线的断路位置与所述第二数据线的断路位置在列方向上的距离大于1个像素区域在列方向上的距离且小于2个像素区域在列方向上的距离,且所述第一数据线的断路位置和所述第二数据线的断路位置位于所述两根第三连接线之间,与所述第一数据线相邻的一列像素区域中具有公共电极线补偿结构;
所述至少利用其断路位置一侧的连接线形成断路位置两端的数据线之间的导电通路的步骤,包括:
利用所述第二数据线断路位置第一端的第四连接线、所述第二数据线断路位置第二端的第四公共电极线、以及分别与所述第四连接线和所述第四公共电极线连接的局部数据线形成所述第二数据线断路位置两端的数据线之间的导电通路,其中,所述局部数据线为所述第一数据线的断路位置和靠近所述第二数据线断路位置一侧的第三连接线之间的第一数据线。
7.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,所述利用所述第一数据线断路位置第一端的第一连接线、所述第一数据线断路位置第二端的第一公共电极线、以及分别与所述第一连接线和所述第一公共电极线连接的第一公共线路形成所述第一数据线断路位置两端的数据线之间的导电通路的步骤,包括:
将所述第一数据线断路位置第一端的数据线与位于所述第一数据线断路位置第一端的第一连接线连接;
将所述第一数据线断路位置第二端的数据线与位于所述第一数据线断路位置第二端的第一公共电极线连接;
将与所述第一连接线所属的栅线交叉的第一公共电极线补偿结构与所述第一连接线连接;
切割所述第一连接线所属的栅线,得到第一局部连接线,所述第一局部连接线分别连接所述第一数据线断路位置第一端的数据线和所述第一公共电极线补偿结构;
切割所述第一公共电极线,得到第一局部公共电极线,所述第一局部公共电极线分别连接所述第一数据线断路位置第二端的数据线和第二公共电极线补偿结构,所述第二公共电极线补偿结构与所述第一公共电极线补偿结构为同一列像素区域内的两个公共电极线补偿结构,所述第二公共电极线补偿结构和所述第一公共电极线补偿结构相互连接;
切割所述第一公共电极线补偿结构和所述第二公共电极线补偿结构与其他公共电极的连接,以及切割与所述第一局部公共电极线相连的公共电极所属的像素区域内像素电极和TFT之间的连接。
8.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,所述利用所述第二数据线断路位置第一端的第二连接线、所述第二数据线断路位置第二端的第二公共电极线、以及分别与所述第二连接线和所述第二公共电极线连接的第二公共线路形成所述第二数据线断路位置两端的数据线之间的导电通路的步骤,包括:
将所述第二数据线断路位置第一端的数据线与位于所述第二数据线断路位置第一端的第二连接线连接;
将所述第二数据线断路位置第二端的数据线与位于所述第二数据线断路位置第二端的第二公共电极线连接;
将与所述第二连接线所属的栅线交叉的第三公共电极线补偿结构与所述第二连接线连接;
切割所述第二连接线所属的栅线,得到第二局部连接线,所述第二局部连接线分别连接所述第二数据线断路位置第一端的数据线和所述第三公共电极线补偿结构;
切割所述第二公共电极线,得到第二局部公共电极线,所述第二局部公共电极线分别连接所述第二数据线断路位置第二端的数据线和第四公共电极线补偿结构,所述第四公共电极线补偿结构与所述第三公共电极线补偿结构为同一列像素区域内的两个公共电极线补偿结构,所述第四公共电极线补偿结构和所述第三公共电极线补偿结构相互连接;
切割所述第三公共电极线补偿结构和所述第四公共电极线补偿结构与其他公共电极的连接,以及切割与所述第二局部公共电极线相连的公共电极所属的像素区域内像素电极和TFT之间的连接。
9.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,所述利用所述第一数据线断路位置两侧的两根第三连接线、以及与所述两根第三连接线连接的第三公共线路形成所述第一数据线断路位置两端的数据线之间的导电通路的步骤,包括:
将所述第一数据线断路位置两端的两根数据线分别与位于所述第一数据线断路位置两侧的两根第三连接线连接,所述两根第三连接线之间包括第一数据线的断路位置和第二数据线的断路位置;
将所述两根第三连接线分别和与其所属的栅线交叉的两个第五公共电极线补偿结构连接,所述两个第五公共电极线补偿结构属于同一列像素区域内的两个公共电极线补偿结构;
切割所述两根第三连接线所属的两根栅线,得到两根第三局部连接线,其中,一根第三局部连接线连接所述第一数据线断路位置第一端的数据线和所述第一数据线断路位置第一端的第五公共电极线补偿结构,另一根第三局部连接线连接所述第一数据线断路位置第二端的数据线和所述第一数据线断路位置第二端的第五公共电极线补偿结构;
切割所述两个第五公共电极线补偿结构与其他公共电极的连接,以及切割连接所述两个第五公共电极线补偿结构的两个公共电极所属的像素区域内像素电极和TFT之间的连接。
10.根据权利要求6所述的方法,其特征在于,所述利用所述第二数据线断路位置第一端的第四连接线、所述第二数据线断路位置第二端的第四公共电极线、以及分别与所述第四连接线和所述第四公共电极线连接的局部数据线形成所述第二数据线断路位置两端的数据线之间的导电通路的步骤,包括:
将所述第二数据线断路位置第一端的数据线与位于所述第一数据线断路位置第一端的第四连接线连接;
将所述第二数据线断路位置第二端的数据线与位于所述第二数据线断路位置第二端的第四公共电极线连接;
将与所述第四连接线所属的栅线交叉的第一数据线与所述第四连接线连接,并将与所述第四公共电极线交叉的第一数据线与所述第四公共电极线连接;
切割所述第四连接线所属的栅线,得到第四局部连接线,所述第四局部连接线分别连接所述第二数据线断路位置第一端的数据线和所述第一数据线;
切割所述第四公共电极线,得到第四局部公共电极线,所述第四局部公共电极线分别连接所述第二数据线断路位置第二端的数据线和所述第一数据线;
切割所述第一数据线,得到局部数据线,所述局部数据线分别连接所述第四局部连接线和所述第四局部公共电极线;
切割与所述第四公共电极线相连的公共电极所属的像素区域内像素电极与TFT之间的连接。
11.一种显示基板,所述显示基板包括位于衬底基板上的沿行方向延伸的栅线和沿列方向延伸的数据线,所述栅线和所述数据线交叉围成多个像素区域,像素区域内设置有薄膜晶体管TFT、像素电极和公共电极,所述TFT的源极与所述数据线连接,所述TFT的漏极与所述像素电极连接;其特征在于,所述显示基板还包括:公共电极线和公共电极线补偿结构,所述公共电极线与所述栅线平行,且同一行的公共电极均与同一公共电极线连接,同一列且相邻的公共电极通过所述公共电极线补偿结构连接,所述像素电极在所述衬底基板上的正投影与所述公共电极线在所述衬底基板上的正投影存在重叠区域,其中,所述栅线包括交替设置的实线段和镂空段,所述镂空段在所述衬底基板上的正投影与所述数据线重合,每一镂空段包括至少两根连接线,每一连接线的两端分别连接与其相邻的两个实线段;
至少一根数据线包括分离的第一部分和第二部分,所述第一部分和所述第二部分之间包括由一根连接线构成的导电通路。
12.一种显示装置,其特征在于,包括如权利要求11所述的显示基板。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112071282A (zh) * 2020-09-27 2020-12-11 南京中电熊猫液晶显示科技有限公司 一种液晶显示模组及其外围修复线补偿的方法

Citations (32)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09288282A (ja) * 1996-04-19 1997-11-04 Fujitsu Ltd 液晶表示装置とバスライン断線の処理方法
JP2002182241A (ja) * 2000-12-13 2002-06-26 Toshiba Corp アレイ基板及びその製造方法
KR20020058281A (ko) * 2000-12-29 2002-07-12 구본준, 론 위라하디락사 액정표시장치용 어레이 기판
US20020118316A1 (en) * 2001-02-23 2002-08-29 Jenn-Fang Yang Liquid crystal display capable of being repaired for defects in data lines and method for repairing the same
US20040188681A1 (en) * 2003-03-31 2004-09-30 Han-Chung Lai [pixel structure]
TW200535530A (en) * 2004-04-29 2005-11-01 Chi Mei Optoelectronics Corp Displaying device with special pattern for repairing the defects and the repairing method thereof
US20060012728A1 (en) * 2002-07-23 2006-01-19 Advanced Display Inc. Display device and method for repairing line disconnection thereof
US7414697B1 (en) * 1999-10-04 2008-08-19 Lg Display Co., Ltd. Liquid crystal display with particular gate dummy patterns to facilitate repair
US20090102998A1 (en) * 2007-10-18 2009-04-23 Hannstar Display Corporation Display apparatus and repair method thereof
CN101452164A (zh) * 2007-12-07 2009-06-10 北京京东方光电科技有限公司 Tft-lcd阵列基板
CN101533188A (zh) * 2008-03-12 2009-09-16 上海广电Nec液晶显示器有限公司 液晶显示装置的阵列基板及其断线修复方法
CN101576690A (zh) * 2008-05-06 2009-11-11 上海广电Nec液晶显示器有限公司 液晶显示装置及其修复方法
US20100265424A1 (en) * 2009-04-17 2010-10-21 Chuei-Lin Chiu Display panel having repair structure and method of repairing display panel
CN102074503A (zh) * 2010-10-19 2011-05-25 友达光电股份有限公司 显示面板的阵列基板及其修补方法
CN102169267A (zh) * 2011-05-23 2011-08-31 深圳市华星光电技术有限公司 平面显示面板及其修复方法
CN201984264U (zh) * 2010-10-29 2011-09-21 北京京东方光电科技有限公司 薄膜晶体管阵列基板、液晶显示装置及已修复的阵列基板
US20120081274A1 (en) * 2010-09-30 2012-04-05 Samsung Electronics Co., Ltd. Thin film transistor array panel, liquid crystal display, and method to repair the same
CN102736341A (zh) * 2012-07-10 2012-10-17 深圳市华星光电技术有限公司 一种液晶显示面板及其修复方法
CN102798999A (zh) * 2012-08-08 2012-11-28 京东方科技集团股份有限公司 一种阵列基板十字线修复方法、阵列基板和液晶显示器
CN103698951A (zh) * 2013-12-18 2014-04-02 合肥京东方光电科技有限公司 一种阵列基板、显示装置及其修复方法
CN104965325A (zh) * 2015-08-03 2015-10-07 合肥鑫晟光电科技有限公司 一种阵列基板、其修复方法、显示面板及显示装置
CN105629612A (zh) * 2016-03-14 2016-06-01 昆山龙腾光电有限公司 薄膜晶体管阵列基板及其制作方法
CN205787502U (zh) * 2016-04-29 2016-12-07 合肥京东方光电科技有限公司 一种阵列基板、显示面板及显示装置
CN106707645A (zh) * 2017-01-18 2017-05-24 京东方科技集团股份有限公司 显示基板、显示基板的修复方法、显示面板及显示装置
CN107065343A (zh) * 2017-01-04 2017-08-18 京东方科技集团股份有限公司 一种阵列基板及其断线修复方法、显示装置
KR20170121773A (ko) * 2016-04-25 2017-11-03 삼성디스플레이 주식회사 액정 표시장치
CN107479290A (zh) * 2017-09-21 2017-12-15 京东方科技集团股份有限公司 一种阵列基板及其断线修复方法、显示装置
CN107608149A (zh) * 2017-08-25 2018-01-19 惠科股份有限公司 一种有源矩阵衬底及显示装置
CN108957804A (zh) * 2018-07-27 2018-12-07 京东方科技集团股份有限公司 一种阵列基板及其维修方法、显示面板和显示装置
US20190088683A1 (en) * 2017-09-20 2019-03-21 Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. Array substrate, display panel and pixel patching method
CN109683413A (zh) * 2019-02-13 2019-04-26 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 一种阵列基板及其断线修复方法
CN110376809A (zh) * 2019-06-11 2019-10-25 惠科股份有限公司 断线修复结构、显示面板及断线修复方法

Patent Citations (32)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09288282A (ja) * 1996-04-19 1997-11-04 Fujitsu Ltd 液晶表示装置とバスライン断線の処理方法
US7414697B1 (en) * 1999-10-04 2008-08-19 Lg Display Co., Ltd. Liquid crystal display with particular gate dummy patterns to facilitate repair
JP2002182241A (ja) * 2000-12-13 2002-06-26 Toshiba Corp アレイ基板及びその製造方法
KR20020058281A (ko) * 2000-12-29 2002-07-12 구본준, 론 위라하디락사 액정표시장치용 어레이 기판
US20020118316A1 (en) * 2001-02-23 2002-08-29 Jenn-Fang Yang Liquid crystal display capable of being repaired for defects in data lines and method for repairing the same
US20060012728A1 (en) * 2002-07-23 2006-01-19 Advanced Display Inc. Display device and method for repairing line disconnection thereof
US20040188681A1 (en) * 2003-03-31 2004-09-30 Han-Chung Lai [pixel structure]
TW200535530A (en) * 2004-04-29 2005-11-01 Chi Mei Optoelectronics Corp Displaying device with special pattern for repairing the defects and the repairing method thereof
US20090102998A1 (en) * 2007-10-18 2009-04-23 Hannstar Display Corporation Display apparatus and repair method thereof
CN101452164A (zh) * 2007-12-07 2009-06-10 北京京东方光电科技有限公司 Tft-lcd阵列基板
CN101533188A (zh) * 2008-03-12 2009-09-16 上海广电Nec液晶显示器有限公司 液晶显示装置的阵列基板及其断线修复方法
CN101576690A (zh) * 2008-05-06 2009-11-11 上海广电Nec液晶显示器有限公司 液晶显示装置及其修复方法
US20100265424A1 (en) * 2009-04-17 2010-10-21 Chuei-Lin Chiu Display panel having repair structure and method of repairing display panel
US20120081274A1 (en) * 2010-09-30 2012-04-05 Samsung Electronics Co., Ltd. Thin film transistor array panel, liquid crystal display, and method to repair the same
CN102074503A (zh) * 2010-10-19 2011-05-25 友达光电股份有限公司 显示面板的阵列基板及其修补方法
CN201984264U (zh) * 2010-10-29 2011-09-21 北京京东方光电科技有限公司 薄膜晶体管阵列基板、液晶显示装置及已修复的阵列基板
CN102169267A (zh) * 2011-05-23 2011-08-31 深圳市华星光电技术有限公司 平面显示面板及其修复方法
CN102736341A (zh) * 2012-07-10 2012-10-17 深圳市华星光电技术有限公司 一种液晶显示面板及其修复方法
CN102798999A (zh) * 2012-08-08 2012-11-28 京东方科技集团股份有限公司 一种阵列基板十字线修复方法、阵列基板和液晶显示器
CN103698951A (zh) * 2013-12-18 2014-04-02 合肥京东方光电科技有限公司 一种阵列基板、显示装置及其修复方法
CN104965325A (zh) * 2015-08-03 2015-10-07 合肥鑫晟光电科技有限公司 一种阵列基板、其修复方法、显示面板及显示装置
CN105629612A (zh) * 2016-03-14 2016-06-01 昆山龙腾光电有限公司 薄膜晶体管阵列基板及其制作方法
KR20170121773A (ko) * 2016-04-25 2017-11-03 삼성디스플레이 주식회사 액정 표시장치
CN205787502U (zh) * 2016-04-29 2016-12-07 合肥京东方光电科技有限公司 一种阵列基板、显示面板及显示装置
CN107065343A (zh) * 2017-01-04 2017-08-18 京东方科技集团股份有限公司 一种阵列基板及其断线修复方法、显示装置
CN106707645A (zh) * 2017-01-18 2017-05-24 京东方科技集团股份有限公司 显示基板、显示基板的修复方法、显示面板及显示装置
CN107608149A (zh) * 2017-08-25 2018-01-19 惠科股份有限公司 一种有源矩阵衬底及显示装置
US20190088683A1 (en) * 2017-09-20 2019-03-21 Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. Array substrate, display panel and pixel patching method
CN107479290A (zh) * 2017-09-21 2017-12-15 京东方科技集团股份有限公司 一种阵列基板及其断线修复方法、显示装置
CN108957804A (zh) * 2018-07-27 2018-12-07 京东方科技集团股份有限公司 一种阵列基板及其维修方法、显示面板和显示装置
CN109683413A (zh) * 2019-02-13 2019-04-26 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 一种阵列基板及其断线修复方法
CN110376809A (zh) * 2019-06-11 2019-10-25 惠科股份有限公司 断线修复结构、显示面板及断线修复方法

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
SHABESTARI BN等: "display panel electrode defect classification-system", 《PROCEEDINGS OF THE SOCIETY OF PHOTO-OPTICAL INSTRUMENTATION ENGINEERS》 *
王谦: "机载显示组件的常见故障与修理", 《中小企业管理与科技中旬刊》 *

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112071282A (zh) * 2020-09-27 2020-12-11 南京中电熊猫液晶显示科技有限公司 一种液晶显示模组及其外围修复线补偿的方法

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Publication number Publication date
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