CN110720057A - 起偏振器保护膜及其制造方法 - Google Patents

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Abstract

提供了起偏振器保护膜及其制造方法，并且更特别地，提供了制造能够表现出优异的物理和光学特性并且能够防止下偏光板受损的起偏振器保护膜的方法。

Description

起偏振器保护膜及其制造方法
技术领域
相关申请的交叉引用
本申请要求于2017年6月27日提交的韩国专利申请第10-2017-0082806号的优先权权益，其全部内容通过引用完全并入本文。
本发明涉及起偏振器保护膜及其制造方法。更特别地，本发明涉及能够表现出优异的物理和光学特性并且能够防止下偏光板受损的起偏振器保护膜及其制造方法。
背景技术
液晶显示(LCD)装置是目前最广泛使用的平板显示器之一。通常，液晶显示装置具有其中在TFT(薄膜晶体管)阵列基底与滤色器基底之间封装有液晶层的结构。在向阵列基底和滤色器基底上存在的电极施加电场时，其间封装的液晶层中的液晶分子的排列改变，这使得显示图像。
在液晶显示装置中，从光源发射的光在通过导光板和漫射片时，其亮度降低。因此，包括棱镜片用于再次收集光以提高亮度。这样的棱镜片通常设置在下偏光板下方。随着显示器变得更大，发生下偏光板的下垂现象，从而由于棱镜片的不平坦结构接触下偏光板而导致下偏光板的受损如磨损。为了解决这个问题，已经提出了在下偏光板的保护膜上涂覆硬涂层的方法，但是存在工艺成本增加的问题。
根据这些需要，仍然需要开发在大规模生产中确保生产率以具有价格竞争力的同时能够防止由于下方的结构造成的下偏光板受损和雾度增加的方法。
发明内容
技术问题
为了解决以上问题，本发明提供了能够表现出优异的耐刮擦性的起偏振器保护膜及其制造方法。
技术方案
为了解决以上问题，本发明的一个方面提供了起偏振器保护膜，其包括：聚合物膜；和形成在聚合物膜的至少一个表面上的涂层，其中所述涂层具有复数个凹形压花图案(concave embossed pattern)并且具有2.0nm至20.0nm的表面粗糙度(Ra)。
本发明的另一个方面提供了制造起偏振器保护膜的方法，所述方法包括以下步骤：
将包含可光固化粘合剂、基于硅的化合物或基于氟的化合物和聚合引发剂的可光固化涂覆组合物涂覆在聚合物膜的至少一个表面上；
对其上涂覆有涂覆组合物的聚合物膜进行热处理；以及
使涂覆组合物光固化，以形成具有复数个凹形压花图案并且具有2.0nm至20.0nm的表面粗糙度(Ra)的涂层。
有益效果
根据本发明的起偏振器保护膜及其制造方法，可以以高生产率提供具有足够耐刮擦性的薄的起偏振器保护膜、和包括其的偏光板。
此外，通过防止由于设置在偏光板下方的其他结构的不平坦性而可能使偏光板的下保护膜受损而引起雾度增加、以及一些受损的膜可能作为异物出现而引起缺陷的问题，可以表现出优异的光学特性。
此外，由于这些效果可以在不改变LCD的层合结构的情况下通过将本发明应用于LCD的下偏光板来获得，因此不需要过多的工艺改变或成本增加，从而降低了生产成本。
附图说明
图1是示出根据本发明的一个实施方案的起偏振器保护膜的平面图；
图2是示出根据本发明的一个实施方案的起偏振器保护膜的截面图；
图3示出了根据本发明的一个实施方案的液晶显示器；以及
图4是根据本发明的一个实施方案的起偏振器保护膜的涂层的AFM(原子力显微镜)图像。
具体实施方式
在本发明中，术语“上表面”意指偏光板在被安装在装置例如液晶显示器上时面向观察者布置的表面。术语“上”意指偏光板在被安装在装置上时指向观察者的方向。相反，术语“下表面”或“下”意指偏光板在被安装在装置上时面向与观察者相反的一侧布置的表面或方向。
由于本发明可以做出各种修改并且本发明可以存在各种形式，因此其具体实例将在下面举例说明和详细地描述。然而，应当理解，这并不旨在使本发明限于本文公开的特定形式，并且本发明包括落入本发明的精神和技术范围内的所有修改、等同方案或替代方案。
在下文中，将更详细地描述本发明的起偏振器保护膜及其制造方法。
I.起偏振器保护膜
根据本发明的一个实施方案的起偏振器保护膜的特征在于，包括聚合物膜、和形成在聚合物膜的至少一个表面上的涂层，其中所述涂层具有复数个凹形压花图案并且具有2.0nm至20.0nm的表面粗糙度(Ra)。
起偏振器表现出能够从在沿各个方向振动的同时进行入射的光中仅提取沿一个方向振动的光的特性。本发明的起偏振器保护膜用于保护起偏振器免受外部影响，并且用在起偏振器的至少一个表面上，优选地用作起偏振器的下保护膜。
由于显示器变得更大且更薄，在运输期间发生LCD面板的下垂现象，这导致下偏光板的保护膜被设置在下偏光板下方的棱镜片或漫射膜损坏，导致雾度增加。
本发明旨在完善这些问题，其中在不改变背光、滤色器或LCD的结构的情况下，在LCD中包括的组件中，偏光板，尤其是下偏光板可以进行改进，以在下偏光板的起偏振器保护膜上包括具有复数个凹形压花图案并且具有耐刮擦性的涂层，从而防止由于棱镜片或漫射膜造成的雾度增加的问题。
因此，本发明的起偏振器保护膜由于涂层具有复数个凹形压花图案和预定的表面粗糙度而可以表现出优异的耐刮擦性，从而有效地保护下偏光板并且有用地适用于变得更薄且更大的显示器的偏光板。
即，在本发明的起偏振器保护膜中，涂层的特征在于具有复数个凹形压花图案，并且具有2.0nm至20.0nm的表面粗糙度(Ra)。作为结果，可以减轻由与起偏振器保护膜接触的其他结构(特别地，具有凸起图案的片或膜例如棱镜片或漫射片)的摩擦引起的表面磨损现象，并且与不具有凹形压花图案但具有凸起压花图案或者不具有压花图案的保护膜相比，可以提供优异的耐刮擦性。
更特别地，涂层可以具有约2.0nm或更大、或者约3.0nm或更大、或者约4.0nm或更大并且约20.0nm或更小、或者约15.0nm或更小、或者约10.0nm或更小的表面粗糙度。当涂层的表面粗糙度小于2.0nm或大于20.0nm时，可能无法表现出足够的耐刮擦性。
根据本发明的一个实施方案，压花图案在涂层的最外表面处具有圆形或椭圆形的形状，并且在涂层的厚度方向上具有下凹形状，使得涂层具有凹形下凹形状。
根据本发明的一个实施方案，压花图案在涂层最外表面处的直径可以在约0.1μm或更大、或者约0.5μm或更大、或者约1μm或更大并且约20μm或更小、或者约10μm或更小、或者约5μm或更小的范围内。
此外，压花图案在涂层的方向上的深度可以在约1nm或更大、或者约5nm或更大、或者约10nm或更大并且约1μm或更小、或者约500nm或更小、或者约100nm或更小的范围内。
此外，计算为压花图案的最外表面面积与涂层的总面积之比的压花图案在涂层中占据的面积可以在约20％或更大、或者约30％或更大并且约80％或更小、或者约70％或更小的范围内。
涂层的厚度没有特别限制，但是可以为约50nm或更大，例如，约100nm或更大、或者约200nm或更大、或者约500nm或更大、或者约1μm或更大并且约20μm或更小、或者约10μm或更小、或者约7μm或更小、或者约5μm或更小、或者约3μm或更小，以提供满足机械特性的薄的起偏振器保护膜。
由于在涂层中形成了具有在上述范围内的形状和分布的复数个压花图案，并且涂层具有预定范围的表面粗糙度，因此涂层可以在不降低粘合性和强度的情况下表现出优异的对于下方的结构的耐刮擦性。
图1是示出根据本发明的一个实施方案的起偏振器保护膜的平面图，以及图2是示出根据本发明的一个实施方案的起偏振器保护膜的截面图。
参照图1和2，根据本发明的一个实施方案的起偏振器保护膜可以包括聚合物膜30b和形成在聚合物膜30b的一个表面上的涂层30a，其中涂层30a具有复数个凹形压花图案11。
凹形压花图案11在从涂层30a的表面观察时显示出具有直径r的圆形或椭圆形形状，并且在涂层30a的厚度方向上显示出具有深度d的下凹形状。直径r和深度d的范围如上所述。
同时，聚合物膜没有特别限制，只要其通常可用作起偏振器保护膜的基础膜并且是可拉伸膜即可。例如，可以使用包含如下的膜：聚酯、聚乙烯、环状烯烃聚合物(COP)、环状烯烃共聚物(COC)、聚丙烯酸酯(PAC)、聚碳酸酯(PC)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚酰亚胺(PI)、三乙酰纤维素(TAC)或纤维素。
聚合物膜的厚度没有特别限制，但是可以具有约20μm至约200μm、或约30μm至约100μm的厚度。
此外，使聚合物膜成形的方法没有特别限制，并且聚合物膜可以通过合适的膜成形方法例如溶液流延法、熔融挤出法、压延法和压缩成形法等来制备。
根据本发明的一个实施方案，可以根据下面描述的本发明的制造起偏振器保护膜的方法，使用包含可光固化粘合剂、基于硅的化合物或基于氟的化合物和聚合引发剂的涂覆组合物来制造聚合物膜。下面将描述涂覆组合物及其制备方法。
在拉伸的膜的情况下，当在拉伸过程中聚合物重新排列并在拉伸的膜上另外地形成功能性涂层等时，存在粘合性降低的问题。因此，已经提出了添加单独步骤(例如形成用于确保粘合性的底漆层)的方法、或者在涂层中包含能够促进粘合性的功能性化合物的方法。在这种情况下，由于在制造过程中添加了单独的步骤，因此存在生产率降低的问题，并且由于每种膜具有不同的物理和化学特性，因此难以开发通用的底漆。另外，为了促进粘合性向涂层中添加功能性化合物可能引起例如成本增加和其他特性劣化的问题。
然而，根据本发明的一个实施方案，即使在没有单独的底漆层的情况下也可以提供具有对作为基底的聚合物膜的高粘合性、具有足够的耐刮擦性并且较薄的起偏振器保护膜。
根据本发明的一个实施方案的起偏振器保护膜可以表现出这样的程度的耐刮擦性：在将本发明的起偏振器保护膜的涂层和具有凸起图案的其他片(例如，漫射片)堆叠在与振动器连接的样品架(50mm×50mm)中时，即使在300g的负荷下施加振动(施加的振动强度为2.8Grms，频率为20Hz至60Hz)持续240秒之后，本发明的起偏振器保护膜的涂层和其他片的表面上也几乎不出现划痕和磨损。
II.制造起偏振器保护膜的方法
根据本发明的另一个实施方案，提供了制造起偏振器保护膜的方法，该方法包括以下步骤：将包含可光固化粘合剂、基于硅的化合物或基于氟的化合物和聚合引发剂的可光固化涂覆组合物涂覆在聚合物膜的至少一个表面上；对其上涂覆有涂覆组合物的聚合物膜进行热处理；以及使涂覆组合物光固化以形成具有复数个凹形压花图案并且具有2.0nm至20.0nm的表面粗糙度(Ra)的涂层。
当使用起偏振器保护膜作为下偏光板的保护膜时，经常发生损坏，例如由与下偏光板接触的其他结构(特别是具有凸起图案的片或膜，例如棱镜片或漫射片)的摩擦引起的下偏光板的磨损。为了解决这个问题，下偏光板的保护膜需要具有耐刮擦性。为了确保耐刮擦性，已经提出了在其上涂覆硬涂层的方法，但是存在工艺成本增加的问题。
然而，根据本发明的制造方法，将满足预定条件的涂覆组合物施加在聚合物膜上，然后对其进行热处理，并使涂覆组合物固化以形成具有复数个凹形压花图案并且具有在2.0nm至20.0nm的范围内的表面粗糙度(Ra)的涂层，从而在没有单独的底漆层的情况下提供具有对聚合物膜的高粘合性和高表面耐刮擦性的起偏振器保护膜。
同时，取决于涂覆组合物，涂层可能不具有足够的强度和耐刮擦性。因此，根据本发明的制造方法，将包含基于硅的化合物或基于氟的化合物的涂覆组合物施加在聚合物膜上，并在固化之前进行热处理以使基于硅的化合物或基于氟的化合物微相分离。作为结果，可以在涂层的表面上形成复数个凹形压花图案，并且可以表现出预定的表面粗糙度，从而提供满足上述那些的起偏振器保护膜。
根据本发明的一个实施方案，热处理过程和拉伸过程可以同时进行。
为了提供具有优异的机械特性的起偏振器保护膜，可以使用拉伸的膜作为基础膜。然而，在拉伸的膜的情况下，当在拉伸过程中聚合物重新排列并在拉伸的膜上另外地形成功能性涂层等时，存在粘合性降低的问题。因此，已经提出了添加单独步骤(例如形成用于确保粘合性的底漆层)的方法、或者在涂层中包含能够促进粘合性的功能性化合物的方法。在这种情况下，由于在制造过程中添加了单独的步骤，因此存在生产率降低的问题，并且由于每种膜具有不同的物理和化学特性，因此难以开发通用的底漆。另外，为了促进粘合性向涂层中添加功能性化合物可能引起例如成本增加和其他特性劣化的问题。
因此，根据本发明的一个实施方案的制造方法，可以以高生产率制造这样的起偏振器保护膜：即使在没有单独的底漆层的情况下，也对作为基底的聚合物膜具有高粘合性，并且具有足够的耐刮擦性。
聚合物膜没有特别限制，只要其通常可用作起偏振器保护膜的基础膜并且是可拉伸膜即可。例如，可以使用包含如下的膜：聚酯、聚乙烯、环状烯烃聚合物(COP)、环状烯烃共聚物(COC)、聚丙烯酸酯(PAC)、聚碳酸酯(PC)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚酰亚胺(PI)、三乙酰纤维素(TAC)或纤维素。
根据本发明的一个实施方案，可以在处于其未拉伸状态的聚合物膜的一个表面上施加涂覆组合物。
或者，根据本发明的另一个实施方案，可以在向聚合物膜上施加涂覆组合物之前，对聚合物膜进行单向拉伸。
在这种情况下，拉伸方向没有特别限制，并且可以进行拉伸使得基于拉伸方向上的长度，拉伸比为1.1倍或更大、1.2倍或更大、或者1.5倍或更大并且5倍或更小、或者3倍或更小。
将涂覆组合物施加在未拉伸或单向拉伸的聚合物膜的至少一个表面上。
施加涂覆组合物的方法没有特别限制，只要其可以用于本技术所属领域中即可。例如，可以使用棒涂法、刮涂法、辊涂法、刮刀涂覆法、模涂法、微凹版涂覆法、逗点涂覆(comma coating)法、狭缝模涂覆法、唇涂法(lip coating method)或溶液流延法等。
用于形成起偏振器保护膜的涂层的涂覆组合物可以包含基于硅的化合物或基于氟的化合物。
基于硅的化合物可以例示为包含硅基团(例如二甲基硅氧烷或甲基硅氧烷)和烷基或聚醚基团的非反应性基于硅的化合物；或者包含硅基团和乙烯基、(甲基)丙烯酸酯基或(甲基)丙烯酰氧基的反应性基于硅的化合物；具有硅基团的树脂、油或表面活性剂等。优选地，可以使用包含硅基团和乙烯基、(甲基)丙烯酸酯基或(甲基)丙烯酰氧基的反应性基于硅的化合物。
基于氟的化合物可以例示为包含氟基团例如氟烷基的非反应性基于氟的化合物；或者包含氟基团和乙烯基、(甲基)丙烯酸酯基或(甲基)丙烯酰氧基的反应性基于氟的化合物；具有氟基团的树脂、油或表面活性剂等，但本发明不限于此。
根据本发明的一个实施方案，在涂覆组合物中，相对于100重量份的可光固化粘合剂，基于硅的化合物或基于氟的化合物可以以约0.2重量份或更大、或者约0.3重量份或更大、或者约0.5重量份、或者约1重量份或更大并且约10重量份或更小、或者约8重量份或更小、或者约6重量份或更小的量包含在内。当基于硅的化合物或基于氟的化合物的含量太小时，可能无法较好地形成凹形压花图案，并且耐刮擦效果可能较低。当基于硅的化合物或基于氟的化合物的含量太大时，可能过度形成凹形压花图案，并因此起偏振器保护膜的强度可能劣化。
涂覆组合物可以包含可光固化粘合剂。
根据本发明的一个实施方案，可光固化粘合剂可以是可自由基固化粘合剂。
可自由基固化粘合剂没有特别限制，只要其是包含能够通过自由基引起光固化反应的不饱和官能团的化合物即可。可自由基固化粘合剂可以是包含(甲基)丙烯酸酯基、烯丙基、丙烯酰基或乙烯基作为不饱和官能团的化合物。
当包含可自由基固化粘合剂作为可光固化粘合剂时，自由基聚合引发剂与其一起包含在内。自由基聚合引发剂促进自由基聚合以提高固化速率。
作为自由基聚合引发剂，可以使用本领域中通常使用的自由基聚合引发剂而没有限制，并且例如，自由基聚合引发剂可以是选自以下的一者或更多者：1-羟基-环己基-苯基-酮、2-羟基-2-甲基-1-苯基-1-丙酮、2-羟基-1-[4-(2-羟基乙氧基)苯基]-2-甲基-1-丙酮、苯甲酰甲酸甲酯、氧基-苯基-乙酸-2-[2-氧代-2-苯基-乙酰氧基-乙氧基]-乙基酯、氧基-苯基-乙酸-2-[2-羟基-乙氧基]-乙基酯、α-二甲氧基-α-苯基苯乙酮、2-苄基-2-(二甲基氨基)-1-[4-(4-吗啉基)苯基]-1-丁酮、2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-(4-吗啉基)-1-丙酮、二苯基(2,4,6-三甲基苯甲酰基)-氧化膦、苯基双(2,4,6-三甲基苯甲酰基)氧化膦。在本发明中，优选苯基双(2,4,6-三甲基苯甲酰基)氧化膦)。
相对于100重量份的总的可自由基固化粘合剂，自由基聚合引发剂的含量可以为约0.1重量份至约10重量份、优选为约0.1重量份至约5重量份。
根据本发明的另一个实施方案，可以使用可阳离子固化粘合剂作为可光固化粘合剂。此外，可阳离子固化粘合剂可以为环氧类化合物。
根据本发明的一个实施方案，环氧类化合物的重均分子量没有特别限制，但是例如，在约100g/mol至约5,000g/mol、或者约200g/mol至约5,000g/mol的范围内。当环氧类化合物的重均分子量太高时，由于高粘度而可能使可涂覆性变差。当重均分子量太低时，硬度可能降低。从该角度来看，可阳离子固化粘合剂的重均分子量优选在以上范围内。
环氧类化合物是包含至少一个环氧基团、并且通过在UV照射时由阳离子聚合引发剂产生的阳离子引发固化的粘合剂。其实例可以包括芳族环氧类化合物、氢化的环氧类化合物、脂环族环氧类化合物、脂族环氧类化合物等。可以优选使用脂环族环氧类化合物。
芳族环氧类化合物意指在其分子中包含至少一个芳族烃环的环氧类化合物，并且可以包括但不限于，例如：双酚型环氧树脂，例如双酚A的二缩水甘油醚、双酚F的二缩水甘油醚、双酚S的二缩水甘油醚；酚醛清漆型环氧树脂，例如苯酚酚醛清漆环氧树脂、甲酚酚醛清漆环氧树脂、羟基苯甲醛苯酚酚醛清漆环氧树脂；多官能环氧树脂，例如四羟基苯基甲烷的缩水甘油醚、四羟基苯甲酮的缩水甘油醚、环氧化聚乙烯基苯酚；等等。
此外，氢化的环氧类化合物意指通过在催化剂的存在下在压力下使芳族环氧类化合物选择性氢化而获得的环氧类化合物。其中，优选使用氢化的双酚A的二缩水甘油醚，但不限于此。
此外，脂环族环氧类化合物意指其中在构成脂族烃环的两个相邻的碳原子之间形成环氧基的环氧类化合物，并且可以包括但不限于，例如2-(3,4-环氧)环己基-5,5-螺-(3,4-环氧)环己烷-间二烷、3,4-环氧环己基甲基-3,4-环氧环己烷羧酸酯、3,4-环氧-6-甲基环己基甲基-3,4-环氧-6-甲基环己烷羧酸酯、乙烯基环己烷二氧化物、双(3,4-环氧环己基甲基)己二酸酯、双(3,4-环氧-6-甲基环己基甲基)己二酸酯、外-外双(2,3-环氧环戊基)醚、内-外双(2,3-环氧环戊基)醚、2,2-双[4-(2,3-环氧丙氧基)环己基]丙烷、2,6-双(2,3-环氧丙氧基环己基-对二
Figure BDA0002304129440000092
烷)、2,6-双(2,3-环氧丙氧基)降冰片烯、二氧化苧烯、2,2-双(3,4-环氧环己基)丙烷、二环戊二烯二氧化物、1,2-环氧-6-(2,3-环氧丙氧基)六氢-4,7-亚甲基二氢化茚、对-(2,3-环氧)环戊基苯基-2,3-环氧丙基醚、1-(2,3-环氧丙氧基)苯基-5,6-环氧六氢-4,7-亚甲基二氢化茚、邻-(2,3-环氧)环戊基苯基-2,3-环氧丙基醚)、1,2-双[5-(1,2-环氧)-4,7-六氢亚甲基茚满氧基]亚乙基环戊烯基苯基缩水甘油醚、亚甲基双(3,4-环氧环己烷)乙二醇二(3,4-环氧环己基甲基)醚、亚乙基双(3,4-环氧环己烷羧酸酯)、具有3,4-环氧环己烷甲醇和多元(值为3至20)醇(GR、TMP、PE、DPE、六季戊四醇)的酯化化合物的ε-己内酯(1mol至10mol)加合物，等等。其中，从反应性的角度来看，优选使用3,4-环氧环己基甲基-3,4-环氧环己烷羧酸酯。
根据本发明的一个实施方案，还可以包含基于氧杂环丁烷的化合物作为可阳离子固化粘合剂。
基于氧杂环丁烷的化合物是包含至少一个氧杂环丁烷基团、并且通过在UV照射时由阳离子聚合引发剂产生的阳离子引发固化的粘合剂。其可以在没有特别限制其类型的情况下使用。
基于氧杂环丁烷的化合物可以使涂覆组合物的粘度降低并且可以进一步提高固化速率。
更具体地，基于氧杂环丁烷的化合物可以包括，例如，3-乙基-3-[(3-乙基氧杂环丁烷-3-基)甲氧基甲基]氧杂环丁烷、1,4-双[(3-乙基氧杂环丁烷-3-基)甲氧基甲基]苯、1,4-双[(3-乙基氧杂环丁烷-3-基)甲氧基]苯、1,3-双[(3-乙基氧杂环丁烷-3-基)甲氧基]苯、1,2-双[(3-乙基氧杂环丁烷-3-基)甲氧基]苯、4,4’-双[(3-乙基氧杂环丁烷-3-基)甲氧基]联苯、2,2’-双[(3-乙基氧杂环丁烷-3-基)甲氧基]联苯、3,3’,5,5’-四甲基-4,4’-双[3-乙基氧杂环丁烷-3-基)甲氧基]联苯、2,7-双[(3-乙基氧杂环丁烷-3-基)甲氧基]萘、双{4-[(3-乙基氧杂环丁烷-3-基)甲氧基]苯基}甲烷、双{2-[3-乙基氧杂环丁烷-3-基)甲氧基]苯基}甲烷、2,2-双{4-[(3-乙基氧杂环丁烷-3-基)甲氧基]苯基}丙烷、经3-氯甲基-3-乙基氧杂环丁烷醚化改性的酚醛清漆型酚醛树脂、3(4),8(9)-双[(3-乙基氧杂环丁烷-3-基)甲氧基甲基]-三环[5.2.1.0 2,6]癸烷、2,3-双[(3-乙基氧杂环丁烷-3-基)甲氧基甲基]降冰片烷、1,1,1-三[(3-乙基氧杂环丁烷-3-基)甲氧基甲基]丙烷、1-丁氧基-2,2-双[(3-乙基氧杂环丁烷-3-基)甲氧基甲基]丁烷、1,2-双{[2-(3-乙基氧杂环丁烷-3-基)甲氧基]乙硫基}乙烷、双{[4-(3-乙基氧杂环丁烷-3-基)甲硫基]苯基}硫醚、1,6-双[(3-乙基氧杂环丁烷-3-基)甲氧基]-2,2,3,3,4,4,5,5-八氟己烷等。
根据本发明的一个实施方案，可以使用通过3-乙基-3-(羟甲基)氧杂环丁烷与选自间四甲基-二甲苯二异氰酸酯壬二酰氯、对苯二甲酰氯和1,3,5-苯三羰基三氯化物中的一种或更多种化合物的反应而获得的化合物。
当还包含基于氧杂环丁烷的化合物时，相对于100重量份的环氧类化合物，其含量可以为约5重量份至约80重量份、优选约10重量份至约60重量份。当基于氧杂环丁烷的化合物的含量太高时，固化后涂层的硬度可能降低。当基于氧杂环丁烷的化合物的含量太低时，由于添加基于氧杂环丁烷的化合物而显示出的效果不显著。从该角度来看，以上范围的重量份是优选的。
当包含可阳离子固化粘合剂作为可光固化粘合剂时，阳离子聚合引发剂与其一起包含在内。阳离子聚合引发剂意指通过用活性能量射线如UV照射产生阳离子物类或路易斯酸并作用于可阳离子聚合基团如环氧基团以引发阳离子聚合反应的化合物。
在这方面，作为阳离子聚合引发剂，可以使用本领域常用的任何阳离子聚合引发剂而没有限制。例如，作为阳离子聚合引发剂，可以优选地使用包括锍盐或碘
Figure BDA0002304129440000111
盐的那些。
包括锍盐或碘
Figure BDA0002304129440000112
盐的阳离子聚合引发剂的具体实例可以包括但不限于选自以下的一者或更多者：二苯基(4-苯硫基)苯基锍六氟锑酸盐、二苯基(4-苯硫基)苯基锍六氟磷酸盐、(苯基)[4-(2-甲基丙基)苯基]-碘
Figure BDA0002304129440000113
六氟磷酸盐、(硫代二-4,1-亚苯基)双(二苯基锍)二六氟锑酸盐和(硫代二-4,1-亚苯基)双(二苯基锍)二六氟磷酸盐。
相对于100重量份的总的可阳离子固化粘合剂，阳离子聚合引发剂的含量可以为约0.1重量份至约10重量份、优选约0.1重量份至约5重量份。
根据本发明的一个实施方案，涂覆组合物还可以包含可热固化粘合剂和热聚合引发剂。当涂覆组合物包含可热固化粘合剂时，可以在涂覆组合物的固化期间添加热固化过程。
本发明的涂覆组合物可以在没有任何溶剂的情况下以无溶剂类型使用，或者如有必要，可以少量地使用本领域常用的有机溶剂，例如，相对于100重量份的总的涂覆组合物，约100重量份或更少。
可用的有机溶剂的实例可以包括：基于醇的溶剂，例如甲醇、乙醇、异丙醇和丁醇；基于烷氧基醇的溶剂，例如2-甲氧基乙醇、2-乙氧基乙醇和1-甲氧基-2-丙醇；基于酮的溶剂，例如丙酮、甲基乙基酮、甲基异丁基酮、甲基丙基酮和环己酮；基于醚的溶剂，例如丙二醇单丙醚、丙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、乙二醇单丙醚、乙二醇单丁醚、二乙二醇单甲醚、二乙二醇单乙醚、二乙二醇单丙醚、二乙二醇单丁醚、和二乙二醇-2-乙基己醚；芳族溶剂，例如苯、甲苯和二甲苯；等等，并且这些溶剂可以单独使用或者以其混合物使用。
同时，除了上述组分之外，本发明的涂覆组合物还可以包含本发明所属领域中常用的添加剂，例如抗氧化剂、UV稳定剂、防污剂、防结块剂、抗静电剂、UV吸收剂、消泡剂和防腐剂。此外，其含量可以在不使本发明的涂覆组合物的特性劣化的范围内进行各种调节。因此，对其没有特别限制。例如，相对于100重量份的总的涂覆组合物，其可以以约0.1重量份至约20重量份的量包含在内。
接下来，对其上涂覆有涂覆组合物的聚合物膜进行热处理。
将包含基于硅的化合物或基于氟的化合物的涂覆组合物施加在聚合物膜上，然后对其上施加有涂覆组合物的聚合物膜进行热处理，然后进行光固化。作为结果，在对基于硅的化合物或基于氟的化合物进行热处理的过程中，发生微相分离而在涂层上形成复数个凹形压花图案，所述涂层的表面粗糙度可以在2.0nm至20.0nm的范围内。
由于形成在涂层的表面上的复数个凹形压花图案以及涂层的表面粗糙度，因此涂层可以对于由于与棱镜片或漫射片接触而产生的划痕具有高的耐久性，从而防止由下偏光板的保护膜的受损而引起的雾度增加。
热处理温度可以为约80℃或更高、或者约100℃或更高、或者约120℃或更高、并且约200℃或更低、或者约180℃或更低、或者约160℃或更低。当热处理温度太低时，可能无法形成凹形压花图案。当热处理温度太高时，可能发生基础膜的热变形，并且从该角度来看，以上温度范围是优选的。
根据本发明的一个实施方案，热处理过程和对其上施加有涂覆组合物的聚合物膜进行拉伸的步骤可以同时进行。
拉伸方向没有特别限制，并且可以进行拉伸，使得基于拉伸方向上的长度，拉伸比为1.05倍或更大、1.2倍或更大、或者1.5倍或更大、并且10倍或更小、5倍或更小、或者3倍或更小。当拉伸比小于1.05倍时，可能无法充分实现拉伸的效果。如果拉伸比大于10倍，则涂层可能破裂。从该角度来看，优选在上述拉伸比内进行拉伸。
如果聚合物膜在施加涂覆组合物之前处于单向拉伸状态，则优选进行拉伸，使得涂覆之后的拉伸方向垂直于施加涂覆组合物之前的拉伸方向。例如，如果在施加涂覆组合物之前在长度(MD)方向上拉伸聚合物膜，则在施加涂覆组合物之后可以在宽度(TD)方向上拉伸聚合物膜。
另外，如果分别在施加涂覆组合物之前和之后拉伸聚合物膜，则可以进行拉伸，使得基于聚合物膜的总的拉伸面积，总拉伸比为1.1倍或更大、或者1.2倍或更大、或者1.5倍或更大、并且25倍或更小、或者10倍或更小、或者7倍或更小。当拉伸比小于1.1倍时，可能无法充分地实现拉伸的效果。如果拉伸比大于25倍，则涂层可能破裂。从该角度来看，优选在上述拉伸比内进行拉伸。
接下来，可以通过用UV照射施加的涂覆组合物来进行光固化反应，从而形成涂层。紫外线的剂量可以为例如约20mJ/cm2至约800mJ/cm2。用于UV照射的光源没有特别限制，只要其可以用于本技术所属领域中即可。例如，可以使用高压汞灯、金属卤化物灯、黑光荧光灯等。
根据本发明的一个实施方案，当其上施加有涂覆组合物的聚合物膜的热处理过程和拉伸同时进行时，涂层已经与拉伸的聚合物膜一体化地拉伸，因此，即使没有单独的底漆层的情况下，也有利于提供具有与作为基底的聚合物膜的高粘合性的薄的起偏振器保护膜。
将包含基于硅的化合物或基于氟的化合物的涂覆组合物施加在聚合物膜上，然后对其上施加有涂覆组合物的聚合物膜进行拉伸，然后进行光固化。作为结果，在对基于硅的化合物或基于氟的化合物进行热处理的过程中、或者在热处理下对基于硅的化合物或基于氟的化合物进行拉伸的过程中，发生微相分离而在涂层上形成复数个凹形压花图案。由于凹形压花图案，因此可以减轻由与起偏振器保护膜接触的其他层或膜的摩擦引起的磨损，从而提供优异的耐刮擦性。
根据本发明的一个实施方案，压花图案在涂层的最外表面处具有圆形或椭圆形形状，并且在涂层的厚度方向上具有下凹形状，使得涂层具有凹形下凹形状。
根据本发明的一个实施方案，压花图案在涂层最外表面处的直径可以在约0.1μm或更大、或者约0.5μm或更大、或者约1μm或更大并且约20μm或更小、或者约10μm或更小、或者约5μm或更小的范围内。
此外，压花图案在涂层方向上的深度可以在约1nm或更大、或者约5nm或更大、或者约10nm或更大并且约1μm或更小、或者约500nm或更小、或者约100nm或更小的范围内。
此外，计算为压花图案的最外表面面积与涂层的总面积之比的压花图案在涂层中占据的面积可以在约20％或更大、或者约30％或更大并且约80％或更小、或者约70％或更小的范围内。
由于复数个压花图案，涂层可以具有约2.0nm或更大、或者约3.0nm或更大、或者约4.0nm或更大并且约20.0nm或更小、或者约15.0nm或更小、或者约10.0nm或更小的表面粗糙度(Ra)。
根据本发明的一个实施方案，干燥、拉伸和固化之后涂层的最终厚度可以为约50nm或更大，例如，约100nm或更大、或者约200nm或更大、或者约500nm或更大、或者约1μm或更大并且约20μm或更小、或者约10μm或更小、或者约7μm或更小、或者约5μm或更小、或者约3μm或更小。这样，可以使本发明的涂层制成薄的并且表现出足够的强度。此外，即使利用单一的涂层也可以表现出足够的硬度和耐刮擦性，同时即使在没有底漆层的情况下也表现出对基底的高粘合性，从而在制造过程中实现高可加工性和高生产率。
涂层可以形成在聚合物膜的仅一个表面上，或者可以形成在聚合物膜的两个表面上。
当涂层形成在聚合物膜的仅一个表面上时，另一个表面还可以包括一个或更多个另外的可光固化涂层和/或可热固化涂层、或者其他层、薄膜(membrane)或膜(film)等。还可以在涂层上另外地形成另一个功能层。
这样，当本发明的起偏振器保护膜在聚合物膜的另一个表面上包括另一个层、薄膜或膜等时，形成其的方法和步骤没有限制。
通过本发明的制造方法获得的起偏振器保护膜可以表现出这样的程度的耐刮擦性：在将本发明的起偏振器保护膜的涂层和具有凸起图案的其他片(例如，漫射片)堆叠在与振动器连接的样品架(50mm×50mm)中时，即使在300g的负荷下施加振动(施加的振动强度为2.8Grms，频率为20Hz至60Hz)持续240秒之后，本发明的起偏振器保护膜的涂层和其他片的表面上也几乎不出现划痕和磨损。
此外，通过本发明的制造方法获得的起偏振器保护膜在500g的负荷下可以具有H或更高的铅笔硬度。
通过上述本发明的制造方法获得的起偏振器保护膜可以层合在起偏振器的至少一个表面上，从而提供包括起偏振器保护膜的偏光板。
起偏振器表现出能够从在沿各个方向振动的同时进行入射的光中仅提取沿一个方向振动的光的特性。该特性可以通过用强的拉伸力拉伸吸附有碘的PVA(聚乙烯醇)来实现。例如，更具体地，起偏振器可以通过如下来形成：通过将PVA膜浸入水溶液中来使其溶胀的步骤，用赋予偏振特性的二色性材料对经溶胀的PVA膜进行染色的步骤，对经染色的PVA膜进行拉伸以使二色性染料材料在拉伸方向上彼此平行排列的步骤，以及对经历拉伸步骤的PVA膜的颜色进行校正的步骤。然而，本发明的偏光板不限于此。
根据本发明的一个实施方案，起偏振器保护膜可以粘附至起偏振器的两个表面上。
根据本发明的另一个实施方案，起偏振器保护膜可以设置在起偏振器的仅一个表面上，并且在起偏振器的另一个表面上可以设置通常用于保护起偏振器的通用保护膜。
在这方面，偏光板可以用作LCD的下偏光板，并且本发明的起偏振器保护膜可以配置成位于LCD内的层合结构中的下部。
如上所述，当偏光板以这样的方式层合在LCD上以使起偏振器保护膜位于下部时，可以防止由于设置在偏光板下方的棱镜片或漫射片的不平坦性，使得偏光板的下保护膜受损而引起雾度增加的问题。作为结果，可以表现出优异的光学特性。
可以使用粘合剂等通过层合将起偏振器和起偏振器保护膜彼此粘附。可用的粘合剂没有特别限制，只要其是本领域中已知的即可。例如，可以使用基于水的粘合剂、单组分型或双组分型基于聚乙烯醇(PVA)的粘合剂、基于聚氨酯的粘合剂、基于环氧化合物的粘合剂、基于苯乙烯丁二烯橡胶的(基于SBR的)粘合剂、或热熔型粘合剂等。本发明不限于此。
当将本发明的起偏振器保护膜层合并粘附至起偏振器时，所述膜优选以这样的方式层合，使得其没有形成涂层的表面粘附至起偏振器，并且涂层设置成朝向偏光板的外侧。
尽管例如对于应用于LCD的情况描述了具有本发明的保护膜的偏光板，但不限于此，并且可以用于各种领域。例如，本保护膜可以用于例如移动通信终端、智能电话、其他移动设备、显示装置、电子黑板、户外电子广告牌和各种显示器的应用。根据本发明的一个实施方案，偏光板可以是TN(扭曲向列)或STN(超扭曲向列)液晶偏光板，并且可以是水平取向模式(例如IPS(面内切换)、超IPS、FFS(边缘场切换)等)的偏光板和垂直取向模式的偏光板。
图3是示出包括通过本发明的制造方法获得的起偏振器保护膜的液晶显示器的图。
参照图3，液晶显示装置1包括背光单元10；设置在背光单元10上的棱镜片20；和设置在棱镜片20上并且层合成使得起偏振器保护膜40面向棱镜片20的偏光板100。
背光单元10包括从液晶面板的后表面发射光的光源。光源的类型没有特别限制，并且可以使用用于LCD的常见光源，例如CCFL、HCFL或LED。
棱镜片20设置在背光单元10上。因为从背光单元10发射的光随着其通过导光板和漫射片(在图中未示出)而显示出降低的亮度，因此设置棱镜片20以再次提高光的亮度。棱镜片20设置在下偏光板下方。然而，由于棱镜片20包括不平坦的结构，因此存在下偏光板的与棱镜片20接触的下保护膜受损而引起雾度增加的问题。
然而，如上所述的液晶显示器能够通过使偏光板100层合成使得起偏振器保护膜40的涂层30a面向棱镜片20而改善该问题。
换言之，参照图3，偏光板100设置在棱镜片20上，其中偏光板100包括起偏振器50(具有设置在其一个表面上的通用保护膜60并且具有粘附在另一个表面上的本发明的起偏振器保护膜40)、包括基底30b和涂层30a的起偏振器保护膜40。在这种情况下，偏光板100具有其中本发明的起偏振器保护膜40层合成面向LCD的下部(即，棱镜片20)的结构。由于这样的层合结构，因此可以防止偏光板100被棱镜片20的不平坦性损坏而引起增加的雾度的问题，从而表现出优异的光学特性。
另外，根据本发明的一个实施方案，在棱镜片20与偏光板100之间、或者在背光单元10与棱镜片20之间还可以包括漫射片或DBEF(双亮度增强膜)(在图中未示出)。当在棱镜片20与偏光板100之间设置漫射片或DBEF膜时，偏光板100的起偏振器保护膜40与漫射片或DBEF膜接触。即使在这种情况下，也可以同样地防止由漫射片或DBEF膜等引起的下偏光板受损和雾度增加的问题。
设置在偏光板100的上部的层遵循常见液晶显示装置的结构。图3示出了下玻璃基底70、薄膜晶体管75、液晶层80、滤色器85、上玻璃基底90和上偏光板95以该顺序层合。然而，本发明的LCD不限于此，并且可以包括其中如有必要图3中所示的一些层可能被改变或排除或者添加其他层、基底、膜、片等的所有结构。
在下文中，将通过具体实施例更详细地描述本发明的作用和效果。然而，给出这些实施例仅用于说明本发明并不旨在将本发明的范围限制于此。
<实施例>
涂覆组合物的制备
实施例1
将90g的作为可阳离子固化粘合剂的脂环族环氧类化合物Celloxide2021P(DAICEL Corp.)、2g的阳离子光引发剂Irgacure 250(BASF Corp.)、1g的作为光敏剂的异丙基噻吨酮和1g的基于硅的化合物BYK-UV3500(BYK Inc.)混合以制备涂覆组合物。
使聚甲基丙烯酸甲酯树脂在250℃的条件下经受T-模头成膜装置，以制造宽度为800mm并且厚度为200μm的未拉伸的膜。将未拉伸的膜在135℃的温度下在长度(MD)方向上拉伸1.8倍以制造单向拉伸的膜。
通过棒涂法将涂覆组合物涂覆在单向拉伸的膜上，然后在135℃的温度下在宽度(TD)方向上拉伸2.2倍。
用UV照射涂覆组合物以制造其上形成有厚度为2μm的涂层的起偏振器保护膜。
实施例2
以与实施例1中相同的方式制备涂覆组合物并制造偏光板保护膜，不同之处在于，在实施例1中使用1g的RAD2200N(Tego Inc.)代替1g的BYK-UV3500作为基于硅的化合物。
实施例3
以与实施例1中相同的方式制造偏光板保护膜，不同之处在于，在实施例1中使用1g的RAD2250(Tego Inc.)代替1g的BYK-UV3500作为基于硅的化合物，并且在宽度(TD)方向上的拉伸比为2.5倍。
实施例4
以与实施例1中相同的方式制备涂覆组合物并制造偏光板保护膜，不同之处在于，在实施例1中使用1g的RAD2250(Tego Inc.)代替1g的BYK-UV3500作为基于硅的化合物。
实施例5
以与实施例1中相同的方式制备涂覆组合物并制造偏光板保护膜，不同之处在于，在实施例1中使用0.3g的RAD2010(Tego Inc.)代替1g的BYK-UV3500作为基于硅的化合物。
实施例6
以与实施例1中相同的方式制备涂覆组合物并制造偏光板保护膜，不同之处在于，在实施例1中使用1g的RAD2300(Tego Inc.)代替1g的BYK-UV3500作为基于硅的化合物。
实施例7
以与实施例1中相同的方式制备涂覆组合物，不同之处在于，在实施例1中使用3g的BYK-UV3500代替1g的BYK-UV3500作为基于硅的化合物。
使聚甲基丙烯酸甲酯树脂在250℃的条件下经受T-模头成膜装置，以制造宽度为800mm并且厚度为200μm的未拉伸的膜。将未拉伸的膜在135℃的温度下依次在长度(MD)方向上拉伸1.8倍并且在宽度(TD)方向上拉伸2.2倍，以制造双向拉伸的聚甲基丙烯酸甲酯膜。
通过棒涂法将制备的涂覆组合物涂覆在双向拉伸的聚甲基丙烯酸甲酯膜上，然后在80℃的温度下进行热处理60秒，并用UV照射以制造其上形成有厚度为2μm的涂层的起偏振器保护膜。
实施例8
以与实施例7中相同的方式制备涂覆组合物并制造偏光板保护膜，不同之处在于，在实施例7中使用5g的BYK-UV3500代替3g的BYK-UV3500作为基于硅的化合物，并且在施加涂覆组合物之后，在100℃的温度下进行热处理60秒。
比较例1
以与实施例7中相同的方式制造偏光板保护膜，不同之处在于，在实施例7中通过棒涂法施加涂覆组合物，并且在没有单独的热处理过程的情况下直接用UV照射。
比较例2
以与实施例1中相同的方式制备涂覆组合物并制造偏光板保护膜，不同之处在于，在实施例1中不添加基于硅的化合物(BYK-UV3500)。
比较例3
以与实施例1中相同的方式制备涂覆组合物并制造偏光板保护膜，不同之处在于，在实施例1中使用0.1g的BYK-UV3500代替1g的BYK-UV3500作为基于硅的化合物。
比较例4
试图以与实施例1中相同的方式制备涂覆组合物并制造偏光板保护膜，不同之处在于，在实施例1中使用10g的BYK-UV3500代替1g的BYK-UV3500作为基于硅的化合物。然而，在涂覆之后，经涂覆的膜的表面是模糊的，并且即使在UV照射之后，也从其表面掉落未固化的产物，并且作为结果，无法制造透明的偏光板保护膜。
<实验例>
<测量方法>
通过以下方法测量实施例和比较例的起偏振器保护膜的物理特性。
1)耐刮擦性
将实施例和比较例的起偏振器保护膜的各自的涂层与漫射片(LG ElectronicsInc.，ND146)彼此接触地堆叠在与振动器连接的样品架(50mm×50mm)中，并且在300g的负荷下施加振动(施加的振动强度为2.8Grms，频率为20Hz至60Hz)240秒。此后，针对耐刮擦性评估起偏振器保护膜的涂层和漫射片的表面上划痕和磨损的出现。当没有观察到划痕和磨损时，将其表示为O。当观察到较小划痕和磨损时，将其表示为△。当清楚地观察到划痕和磨损时，将其表示为X。
2)铅笔硬度
使用铅笔硬度测试仪(硬度测试仪，制造商：Chunghuk Tech)在500g的负荷下测量铅笔硬度。根据ASTM 3363-74，通过使保持在45度的标准铅笔(Mitsubishi)移动，同时将其从6B改变为9H来刮擦涂层的表面，并观察表面的变化。将每个实验值描述为5次测量之后的平均值。
3)表面观察
将实施例1的起偏振器保护膜切成约1cm×1cm以制备样品。将碳带附接至AFM(原子力显微镜)的样品盘上，并在其上附接样品。在使用光学显微镜观察平坦部分的同时观察涂层的表面。如此观察的每个样品的AFM 2D和3D图像在图4中示出。
在图4中，(a)为实施例1的起偏振器保护膜的涂层表面的AFM 2D图像，以及(b)为实施例1的起偏振器保护膜的涂层的AFM 3D图像。
4)表面粗糙度
在以下设备和条件下测量起偏振器保护膜的涂层的表面粗糙度(Ra)。
*所使用的设备：X10(Park systems)
*测量条件
-参数
模式：非接触，样品/线：256x 256，扫描速率：0.6Hz
-AFM探针
PPP-NCHR(纳米传感器)
材料：悬臂的检测器侧上的Al涂层
共振频率：204kHz至497kHz，力常数：10N/m至130N/m
厚度：3.0μm至5.0μm，长度：115μm至135μm，宽度：22.5μm至37.5μm，尖端高度：5μm
-软件：XEI
Ra由
Figure BDA0002304129440000201
限定。
-Rz：十个点(五个最高峰和五个最低谷)的平均粗糙度。
测量物理特性的结果示于下表1中。
[表1]
Figure BDA0002304129440000211
参照表1，具有其上形成有复数个凹形压花图案的并且其表面粗糙度满足预定范围的涂层的起偏振器保护膜显示出优异的耐刮擦性。
<附图标记>
1：液晶显示装置
10：背光单元
11：凹形压花图案
20：棱镜片
30a：涂层
30b：基底
40：起偏振器保护膜
50：起偏振器
60：保护膜
70：下玻璃基底
75：薄膜晶体管
80：液晶层
85：滤色器
90：上玻璃基底
95：上偏光板
100：偏光板

Claims (15)

1.一种起偏振器保护膜，包括：聚合物膜；和形成在所述聚合物膜的至少一个表面上的涂层，其中所述涂层具有复数个凹形压花图案并且具有2.0nm至20.0nm的表面粗糙度(Ra)。
2.根据权利要求1所述的起偏振器保护膜，其中所述压花图案的直径为0.1μm至20μm。
3.根据权利要求1所述的起偏振器保护膜，其中所述压花图案的深度为1nm至1μm。
4.根据权利要求1所述的起偏振器保护膜，其中所述涂层包含可光固化粘合剂、基于硅的化合物或基于氟的化合物和聚合引发剂。
5.根据权利要求4所述的起偏振器保护膜，其中相对于100重量份的所述可光固化粘合剂，所述基于硅的化合物或所述基于氟的化合物以0.2重量份至10重量份的量包含在内。
6.根据权利要求1所述的起偏振器保护膜，其中所述聚合物膜包含选自以下的一者或更多者：聚酯、聚乙烯、环状烯烃聚合物(COP)、环状烯烃共聚物(COC)、聚丙烯酸酯(PAC)、聚碳酸酯(PC)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚酰亚胺(PI)、三乙酰纤维素(TAC)和纤维素。
7.一种制造起偏振器保护膜的方法，所述方法包括以下步骤：
将包含可光固化粘合剂、基于硅的化合物或基于氟的化合物和聚合引发剂的可光固化涂覆组合物涂覆在聚合物膜的至少一个表面上；
对其上涂覆有所述涂覆组合物的所述聚合物膜进行热处理；以及
使所述涂覆组合物光固化以形成具有复数个凹形压花图案并且具有2.0nm至20.0nm的表面粗糙度(Ra)的涂层。
8.根据权利要求7所述的方法，其中所述热处理在80℃至200℃的温度下进行。
9.根据权利要求7所述的方法，其中所述基于硅的化合物包括选自以下的一者或更多者：各自具有硅基团的非反应性化合物、反应性化合物、树脂、油和表面活性剂。
10.根据权利要求7所述的方法，其中所述基于氟的化合物包括选自以下的一者或更多者：各自具有氟基团的非反应性化合物、反应性化合物、树脂、油和表面活性剂。
11.根据权利要求7所述的方法，其中相对于100重量份的所述可光固化粘合剂，所述基于硅的化合物或所述基于氟的化合物以0.2重量份至10重量份的量包含在内。
12.根据权利要求7所述的方法，其中所述可光固化粘合剂为包含环氧类化合物的可阳离子固化粘合剂，并且所述聚合引发剂为阳离子聚合引发剂。
13.根据权利要求12所述的方法，其中所述环氧类化合物为脂环族环氧类化合物。
14.根据权利要求7所述的方法，其中所述可光固化粘合剂为可自由基固化粘合剂，并且所述聚合引发剂为自由基聚合引发剂。
15.根据权利要求7所述的方法，其中所述热处理步骤和对其上施加有所述涂覆组合物的所述聚合物膜进行拉伸的步骤同时进行。
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