CN110682484A - 烘箱装置及窜风阻尼结构 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种烘箱装置及窜风阻尼结构，两个扰流板设置于薄膜输送通道的出入口处的两侧，一方面提高腔室环境的密闭性，避免薄膜输送通道内的热气流向外流，另一方面，薄膜输送通道内的热气流流动经过两个扰流板时，扰流板的凹部起到降低热气流的流速的作用，能避免例如相邻两个烘箱单元之间、烘箱单元的薄膜进出口与外界环境之间空气窜流干扰，这样相邻烘箱单元内的热气流的温度相互影响较小，以及减小外部环境的空气将干扰到腔室的内部环境的温度，最终实现烘箱单元所对应的温度场符合于工艺要求，使得薄膜输送通道内的温度易于精确控制，保证高分子薄膜的处理质量。

Description

烘箱装置及窜风阻尼结构

技术领域

本发明涉及烘箱技术领域，特别是涉及一种烘箱装置及窜风阻尼结构。

背景技术

薄膜拉伸生产线烘箱用于为高分子薄膜提供合适的工艺条件、在高温环境下对薄膜进行拉伸及定型等处理。传统的薄膜拉伸生产线烘箱的腔室内的恒温加热气流输送到薄膜的两个表面后，再经位于腔室两侧的静压箱中部吸风口通过负压回吸，回吸的热气流被加热又通过静压箱加压并送入到腔室内的薄膜区域；另外腔室内有换气的排、送风口，设置于腔室的一侧，用于排出薄膜在加热的过程中的析出物。薄膜拉伸生产线烘箱各区存在薄膜通道，高分子薄膜依次进入到各区的薄膜通道接触热气流进行热处理。然而，一方面，相邻区的薄膜通道存在相互窜风的不良现象，相邻区的薄膜通道内的温度将会相互干扰；另一方面，腔室的内部环境与腔室的出入口也存在相互窜风的不良现象，外部环境的空气将干扰到腔室的内部环境的温度。如此导致薄膜通道内的温度难以精确控制，最终影响到高分子薄膜的质量。

发明内容

基于此，有必要克服现有技术的缺陷，提供一种烘箱装置及窜风阻尼结构，它能够减小窜风干扰，提高高分子薄膜的处理质量。

其技术方案如下：一种窜风阻尼结构，包括：间隔设置的两个腔梁，两个所述腔梁分别设置于烘箱单元的薄膜输送通道的出入口处，并分别位于所述薄膜输送通道的两侧；以及间隔设置的两个扰流板，两个所述扰流板分别设置于所述薄膜输送通道的出入口处的两侧，所述扰流板面向所述薄膜输送通道的侧面上设有凹部，两个所述扰流板的凹部的底壁之间的间距大于所述薄膜输送通道的厚度，所述扰流板的其中一侧部用于与所述烘箱单元的送风管的管壁相连，所述扰流板的另一侧部与所述腔梁的侧壁相连。

上述的窜风阻尼结构，两个扰流板设置于薄膜输送通道的出入口处的两侧，一方面提高腔室环境的密闭性，避免薄膜输送通道内的热气流向外流，另一方面，薄膜输送通道内的热气流流动经过两个扰流板时，扰流板的凹部起到降低热气流的流速的作用，能避免例如相邻两个烘箱单元之间、烘箱单元的薄膜进出口与外界环境之间空气窜流干扰，这样相邻烘箱单元内的热气流的温度相互影响较小，以及减小外部环境的空气将干扰到腔室的内部环境的温度，最终实现烘箱单元所对应的温度场符合于工艺要求，使得薄膜输送通道内的温度易于精确控制，保证高分子薄膜的处理质量。

在其中一个实施例中，窜风阻尼结构还包括排风组件；所述腔梁设有气流室，所述腔梁面向所述薄膜输送通道的梁壁上设有与所述气流室相连通的吸风口，所述气流室与所述排风组件相连通，所述排风组件用于将所述气流室内的热气流向外界环境排放。

一种烘箱装置，包括所述的窜风阻尼结构。

上述的烘箱装置，由于包括所述的窜风阻尼结构，其技术效果由窜风阻尼结构带来，有益效果与窜风阻尼结构的有益效果相同，在此不进行赘述。

在其中一个实施例中，所述烘箱装置还包括依次设置的两个以上烘箱单元，相邻两个所述烘箱单元之间设有所述的窜风阻尼结构，所述烘箱单元设有用于高分子薄膜穿过的薄膜输送通道，两个所述腔梁、两个所述扰流板均分别设置于所述薄膜输送通道的两侧。

在其中一个实施例中，所述烘箱单元还包括风管组与抽吸机构；所述风管组为两个且间隔设置，两个所述风管组之间的间隔为薄膜输送通道，所述风管组面向所述薄膜输送通道的管壁上开设有若干个出风孔，所述抽吸机构用于对所述风管组排出的热气流回吸处理。

在其中一个实施例中，所述风管组上最靠近于所述腔梁的出风孔的出风方向相对于所述薄膜输送通道的输送方向倾斜设置，且所述风管组上最靠近于所述腔梁的出风孔的出风方向背离于所述腔梁。

在其中一个实施例中，所述风管组包括间隔设置的两个以上送风管，所述出风孔设置于所述送风管面向所述薄膜输送通道的管壁上。

在其中一个实施例中，所述抽吸机构的抽吸端连接有吸风罩；所述吸风罩为四个，其中两个所述吸风罩分别设置于其中一个所述风管组背向另一个所述风管组的侧面的两端，其中两个所述吸风罩的罩口相对设置，另外两个所述吸风罩分别设置于另一个所述风管组背向其中一个所述风管组的侧面的两端，另外两个所述吸风罩的罩口相对设置。

在其中一个实施例中，所述抽吸机构包括静压箱及设置于所述静压箱上的风机，所述静压箱设有回风口与出风口，所述回风口与所述吸风罩相连通，所述出风口与所述送风管的进风端相连通；所述抽吸机构为两个，两个所述抽吸机构分别设置于所述风管组的两端，两个所述风管组的其中一端均与其中一个所述抽吸机构的静压箱相连通，两个所述风管组的另一端均与另一个所述抽吸机构的静压箱相连通；所述烘箱单元还包括加热器，所述加热器设置于所述静压箱上或所述吸风罩上。

在其中一个实施例中，所述的烘箱装置还包括顶板、底板及两个端面板，所述顶板的两端、所述底板的两端均分别与两个所述端面板相连，两个所述风管组呈上下间隔地设置于所述顶板与所述底板之间，其中两个所述吸风罩位于其中一个所述风管组与所述顶板之间的间隔中，另外两个所述吸风罩位于另一个所述风管组与所述底板之间的间隔中。

附图说明

图1为本发明一实施例所述的窜风阻尼结构的示意图；

图2为本发明一实施例所述的烘箱装置的结构示意图；

图3为本发明一实施例所述的烘箱单元的结构示意图；

图4为本发明一实施例所述的导风机构的结构示意图；

图5为本发明另一实施例所述的窜风阻尼结构的示意图；

图6为本发明一实施例所述的烘箱单元的俯视图；

图7为本发明另一实施例所述的烘箱单元的俯视图；

图8为本发明又一实施例所述的烘箱单元的俯视图。

附图标记：

10、烘箱单元；11、风管组；111、送风管；1111、出风孔；1112、导流板；12、吸风罩；13、抽吸机构；131、静压箱；132、风机；14、顶板；15、底板；16、端面板；17、导风机构；171、平衡板；1711、导风孔；172、集流板；1721、第一折弯板；1722、第二折弯板；18、加热器；20、腔梁；21、吸风口；30、薄膜输送通道；40、高分子薄膜；50、排风组件；51、排风母管；52、排风支管；60、送风组件；61、送风母管；62、送风支管；70、扰流板；71、凹部；80、挡板；90、流量调节阀。

具体实施方式

为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本发明的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发明。但是本发明能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本发明内涵的情况下做类似改进，因此本发明不受下面公开的具体实施例的限制。

在本发明的描述中，需要理解的是，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本发明的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。

在本发明的描述中，需要理解的是，当一个元件被认为是“连接”另一个元件，可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在中间元件。相反，当元件为称作“直接”与另一元件连接时，不存在中间元件。

在一个实施例中，请参阅图1至图4，一种窜风阻尼结构，包括间隔设置的两个腔梁20，以及间隔设置的两个扰流板70。两个所述腔梁20分别设置于烘箱单元10的薄膜输送通道30的出入口处，并分别位于所述薄膜输送通道30的两侧。两个所述扰流板70分别设置于所述薄膜输送通道30的出入口处的两侧，所述扰流板70面向所述薄膜输送通道30的侧面上设有凹部71，两个所述扰流板70的凹部71的底壁之间的间距S大于所述薄膜输送通道30的厚度D，所述扰流板70的其中一侧部用于与所述烘箱单元10的送风管111的管壁相连，所述扰流板70的另一侧部与所述腔梁20的侧壁相连。

上述的窜风阻尼结构，两个扰流板70设置于薄膜输送通道30的出入口处的两侧，一方面提高腔室环境的密闭性，避免薄膜输送通道30内的热气流向外流，另一方面，薄膜输送通道30内的热气流流动经过两个扰流板70时，扰流板70的凹部71起到降低热气流的流速的作用，能避免例如相邻两个烘箱单元10之间、烘箱单元10的薄膜进出口与外界环境之间空气窜流干扰，这样相邻烘箱单元10内的热气流的温度相互影响较小，以及减小外部环境的空气将干扰到腔室的内部环境的温度，最终实现烘箱单元10所对应的温度场符合于工艺要求，使得薄膜输送通道30内的温度易于精确控制，保证高分子薄膜40的处理质量。

需要说明的是，薄膜输送通道30的厚度D如图1所示，具体是两个风管组11之间的间隔距离。

进一步地，请参阅图2及图5，所述的窜风阻尼结构还包括排风组件50。所述腔梁20设有气流室，所述腔梁20面向所述薄膜输送通道30的梁壁上设有与所述气流室相连通的吸风口21。所述气流室与所述排风组件50相连通。所述排风组件50用于将所述气流室内的热气流向外界环境排放。如此，高分子薄膜40在接触热气流加热过程中容易排出高浓度析出物，含有高浓度析出物的热气流的一部分经吸风口21流入到气流室内，并由排风组件50外排到外界环境中。

在一个实施例中，请参阅图1至图4，一种烘箱装置，包括上述任一实施例所述的热风阻尼结构。

上述的烘箱装置，由于包括所述的窜风阻尼结构，其技术效果由窜风阻尼结构带来，有益效果与窜风阻尼结构的有益效果相同，在此不进行赘述。

在一个实施例中，请再参阅图2，图2示意出的烘箱装置仅仅有一个烘箱单元10，其余烘箱单元10省略未示意出。烘箱装置还包括依次设置的两个以上烘箱单元10，相邻两个所述烘箱单元10之间设有所述的窜风阻尼结构，所述烘箱单元10设有用于高分子薄膜40穿过的薄膜输送通道30，两个所述腔梁20、两个所述扰流板70均分别设置于所述薄膜输送通道30的两侧。

请再参阅图5，需要说明的是，对于相邻的两个烘箱单元10，每个烘箱单元10的薄膜输送通道30出入口与腔梁20之间均设有间隔设置的两个扰流板70。

如此，能较好地避免相邻两个烘箱单元10之间空气窜流干扰，这样相邻烘箱单元10内的热气流的温度相互影响较小，最终实现烘箱单元10所对应的温度场符合于工艺要求，使得薄膜输送通道30内的温度易于精确控制，保证高分子薄膜40的处理质量。

在一个具体的实施例中，每个烘箱单元10的两侧均会设有上下间隔设置的两个腔梁20，烘箱单元10的两侧的腔梁20对烘箱单元10的区域内的热气流起到阻挡作用，能一定程度地避免烘箱单元10的区域内的热气流向外流动。

在一个实施例中，所述烘箱单元10还包括风管组11与抽吸机构13。所述风管组11为两个且间隔设置，两个所述风管组11之间的间隔为薄膜输送通道30，所述风管组11包括间隔设置的两个以上送风管111，所述送风管111的管壁上开设有面向所述薄膜输送通道30的若干个出风孔1111。所述抽吸机构13用于对所述送风管111排出的热气流回吸处理。

进一步地，所述抽吸机构13的抽吸端连接有吸风罩12。所述吸风罩12为四个，其中两个所述吸风罩12分别设置于其中一个所述风管组11背向另一个所述风管组11的侧面的两端，其中两个所述吸风罩12的罩口相对设置，另外两个所述吸风罩12分别设置于另一个所述风管组11背向其中一个所述风管组11的侧面的两端，另外两个所述吸风罩12的罩口相对设置。如此，在使用时，高分子薄膜40从两个风管组11之间的间隔经过，风管组11内的热气流经过出风孔1111流向接触高分子薄膜40，便可以对高分子薄膜40的两个侧面均进行热处理。热气流接触高分子薄膜40后，在抽吸机构13的抽吸作用下，进入到送风管111的两端的两个吸风罩12内。由于两个吸风罩12分别设置于风管组11的两端，这样有利于热气流接触高分子薄膜40后，远离高分子薄膜40的方向流动，并经相邻两个送风管111的间隔往外流，最终进入到吸风罩12内，从而能较好地避免送风管111的出风孔1111流出的热气流与返回到吸风罩12内的热气流相互干涉，也就是能较好地抑制高分子薄膜40区域产生的紊流现象，如此能够实现高分子薄膜40的各个部位接触的热气流量较为均衡。

具体而言，请再参阅图2及图3，其中一个所述风管组11的所述送风管111与另一个所述风管组11的送风管111一一对应设置。如此，在其中一个风管组11的送风管111向外送出的热气流作用于高分子薄膜40的其中一侧面，另一个风管组11的送风管111向外送出的热气流作用于高分子薄膜40的另一侧面时，由于两个风管组11的送风管111一一相应对应设置，为对称性结构，能实现高分子薄膜40的两个侧面受到对称的热交换处理，对高分子薄膜40的加热处理质量较高。

在一个实施例中，请再参阅图2及图3，所述抽吸机构13包括静压箱131及设置于所述静压箱131上的风机132。所述静压箱131设有回风口与出风口，所述回风口与所述吸风罩12相连通，所述出风口与所述送风管111的进风端相连通。如此，风机132工作时，在静压箱131的回风口形成负压，能实现吸风罩12将风管组11所流出的热气流进行回收处理，回收的热气流经出风口送入到风管组11的各个送风管111内，并由送风管111排出接触高分子薄膜40，起到加热高分子薄膜40的作用，即形成回风与送风的内循环热风路，对热气流的热能充分利用。

在一个实施例中，请再参阅图2及图3，所述抽吸机构13为两个，两个所述抽吸机构13分别设置于所述风管组11的两端。两个所述风管组11的其中一端均与其中一个所述抽吸机构13的静压箱131相连通，两个所述风管组11的另一端均与另一个所述抽吸机构13的静压箱131相连通。如此，两个抽吸机构13同步工作时，其中一个抽吸机构13同步利用两个风管组11的其中一端的两个吸风罩12分别回收两个风管组11所排出的热气流，另一个抽吸机构13同步利用两个风管组11的另一端的两个吸风罩12分别回收两个风管组11所排出的热气流。

更具体地，请再参阅图2及图3，在两个风管组11呈上下对称布置、其中两个吸风罩12呈对称并相对地布置于两个风管组11的上侧、以及另外两个吸风罩12呈对称并相对地布置于两个风管组11的下侧的条件下，便能形成呈对称分布的四个循环风回路，这样能较好地抑制高分子薄膜40区域产生的紊流现象，热气流的稳定性较好，如此能实现高分子薄膜40的各个部位接触的热气流量较为均衡，从而保证高分子薄膜40的加工质量。

在一个实施例中，请再参阅图2及图3，所述的烘箱单元10还包括加热器18。所述加热器18设置于所述静压箱131上或所述吸风罩12上。如此，加热器18能实现对热气流进行加热，从而对热气流在加热高分子薄膜40过程中的热量流失进行补充，保证热气流的温度为预设范围，从而保证对高分子薄膜40的加工质量。加热器18的具体结构不进行限定，例如可以是加热丝、加热棒、加热管或换热器等等。

进一步地，请再参阅图2及图3，所述的烘箱单元10还包括顶板14、底板15及两个端面板16。所述顶板14的两端、所述底板15的两端均分别与两个所述端面板16相连。两个所述风管组11呈上下间隔地设置于所述顶板14与所述底板15之间，其中两个所述吸风罩12位于其中一个所述风管组11与所述顶板14之间的间隔中，另外两个所述吸风罩12位于另一个所述风管组11与所述底板15之间的间隔中。如此，风管组11上方的两个吸风罩12将高分子薄膜40上方的热气流朝向上方抽送时，由顶板14导向热气流回收到吸风罩12内，风管组11下方的两个吸风罩12将高分子薄膜40下方的热气流朝向下方抽送时，由底板15导向热气流回收到吸风罩12内。

更进一步地，为了使烘箱单元10的结构更加紧凑，抽吸机构13的静压箱131设置于顶板14与底板15之间，静压箱131的背板可以与端面板16为一体化结构，也可以将端面板16装设于静压箱131的背板上。

在一个实施例中，请参阅图3及图4，所述的烘箱单元10还包括设置于相邻两个所述送风管111的间隔内的导风机132构。所述导风机132构包括平衡板171与两个集流板172，所述平衡板171上开设有若干个导风孔1711。两个所述集流板172位于所述平衡板171的同一侧，两个所述集流板172的一端分别与所述平衡板171的两端对应相连，两个所述集流板172的另一端间隔设置，所述集流板172相对于所述平衡板171倾斜设置，且两个所述集流板172之间的间距在远离于所述平衡板171的方向上逐渐减小。也就是，两个集流板172呈“八”字形布置于平衡板171的其中一侧面上。如此，回流的热气流流经相邻两个送风管111的间隔时，热气流先流经平衡板171，在平衡板171的导向平衡作用下，能实现热气流较为稳定地回流到，较好地抑制高分子薄膜40区域产生的紊流现象。经过平衡板171导向平衡后由两个集流板172进一步汇聚，从而能实现热气流更好地汇聚并回流到吸风罩12内。

进一步地，请再参阅图3及图4，平衡板171的中部部位的透过率至所述平衡板171的端部部位逐渐增大。如此，能实现热气流较为稳定地回流，较好地抑制高分子薄膜40区域产生的紊流现象。

进一步地，请再参阅图3及图4，所述平衡板171的中部部位的导风孔1711的密集度小于所述平衡板171的端部部位的导风孔1711的密集度。可选地，所述平衡板171的导风孔1711的密集度从所述平衡板171的中部部位至所述平衡板171的端部部位逐渐增大。如此，能实现热气流较为稳定地回流，较好地抑制高分子薄膜40区域产生的紊流现象。

进一步地，请再参阅图3及图4，所述平衡板171的中部部位的导风孔1711的孔径小于所述平衡板171的端部部位的导风孔1711的孔径。可选地，所述平衡板171的导风孔1711的孔径从所述平衡板171的中部部位至所述平衡板171的端部部位逐渐增大。如此，能实现热气流较为稳定地回流到，较好地抑制高分子薄膜40区域产生的紊流现象。

进一步地，请再参阅图3及图4，所述平衡板171的长度(图3中采用箭头示意出了平衡板171的长度方向)不小于待进行加热处理的高分子薄膜40的宽度。所述平衡板171、所述集流板172的两侧边缘分别与相邻的两个所述送风管111的外侧管壁抵触配合。所述集流板172的其中一端通过第一折弯板1721与所述平衡板171的端部相连，所述集流板172的另一端设有第二折弯板1722。第一折弯板1721面向平衡板171的板面例如为弧形面或圆滑曲面，有利于热气流平稳地输送；第二折弯板1722面向平衡板171的板面例如为弧形面或圆滑曲面，有利于热气流平稳地输送到吸风罩12。

进一步地，请再参阅图2，所述的烘箱装置还包括送风组件60。所述送风组件60的进风端与外界环境相通，所述送风组件60的出风端与所述吸风罩12的罩口对应设置。如此，高分子薄膜40在接触热气流加热过程中容易排出高浓度析出物，含有高浓度析出物的热气流一部分经吸风口21流入到气流室内，并由排风组件50外排到外界环境中，另一部分则回流到吸风罩12内，同时送风组件60将外界环境的新鲜空气补充到吸风罩12内进行循环，如此能降低析出物的量，从而提高高分子薄膜40的处理质量。

进一步地，请再参阅图2，所述排风组件50包括排风母管51、排风支管52与负压机构(图中未示意出)。所述腔梁20通过所述排风支管52与所述排风母管51相连通，所述负压机构用于将所述排风母管51内的气体抽送到外界环境中。

进一步地，请再参阅图2，所述送风组件60包括送风母管61、送风支管62及送风机132构。所述送风母管61的端部与所述送风机132构相连，所述送风机132构用于将外界环境的空气鼓入到所述送风母管61中，所述送风支管62的一端与所述送风母管61相连，所述送风支管62的另一端设置于所述吸风罩12的罩口的旁侧。

可以理解的是，排风支管52的数量不止一个，排风支管52根据腔梁20来相应设置，例如每个腔梁20均可以对应设置一个、两个、三个或其它数量的排风支管52，以实现各个腔梁20的气流室均连通至排风母管51，统一由排风母管51将热气流的一部分向外界环境排放。同样地，送风支管62的数量不止一个，送风支管62根据吸风罩12来相应设置，例如每个吸风罩12均可以对应设置一个、两个、三个或其它数量的送风支管62，以实现各个吸风罩12将热气流进行抽吸回收的同时均能将外界环境的新鲜空气一并引入。

进一步地，请再参阅图2，排风支管52、送风支管62上均设置有流量调节阀90，通过对流量调节阀90进行调节，从而可以对各个烘箱单元10的换气量根据实际情况进行调整。

在一个实施例中，请参阅图2及图5，上下间隔设置的两个所述腔梁20之间设有间隔的两个挡板80。两个所述挡板80分别位于两个所述腔梁20之间的间隔的两端，两个所述挡板80之间的间隔能穿过所述高分子薄膜40。

在一个实施例中，请参阅图2及图5，所述风管组11上最靠近于所述腔梁20的出风孔1111的出风方向相对于所述薄膜输送通道30的输送方向倾斜设置，且所述风管组11上最靠近于所述腔梁20的出风孔1111的出风方向背离于所述腔梁20。如此，风管组11上最靠近于腔梁20的出风孔1111的出风能对流向腔梁20方向的窜风起到阻碍的作用。

进一步地，请参阅图2及图5，所述风管组11上最靠近于所述腔梁20的出风孔1111所对应的送风管111的内部设有导流板1112，所述导流板1112相对于所述薄膜输送通道30的输送方向倾斜设置。可选地，所述送风管111的轴向截面为八边形。

在一个实施例中，请参阅图2及图5，腔梁20的管壁上的吸风口21例如为腰型孔、长方形孔或方形孔等等，其形状不进行限制。吸风口21处产生负压，能将其附近的热气流吸到排风组件50的内部并通过排风组件50向外排放到外界环境中。此外，在扰流板70对流向腔梁20方向的窜风阻碍的同时，吸风口21能进一步地吸除烘箱单元10间的窜流风量，从而避免了烘箱单元10间的热气流相互窜流干扰。

在一个实施例中，请参阅图6，对于一个烘箱单元10而言，所述抽吸机构13为两个并分别位于所述风管组11的两端，所述静压箱131相应为两个并分别与所述抽吸机构13的抽吸端对应连通，其中一个所述静压箱131上设有与所述送风管111的一端一一对应连通的两个以上出风口，另一个所述静压箱131上也设有与所述送风管111的另一端一一对应连通的两个以上出风口。如此，两个抽吸机构13同步工作时，其中一个抽吸机构13同步利用两个风管组11的其中一端的两个吸风罩12分别回收两个风管组11所排出的热气流，另一个抽吸机构13同步利用两个风管组11的另一端的两个吸风罩12分别回收两个风管组11所排出的热气流。

在另一个实施例中，请参阅图7，对于一个烘箱单元10而言，所述抽吸机构13为两个并分别位于所述风管组11的两端，所述静压箱131相应为两个并分别与所述抽吸机构13的抽吸部位对应连通，其中一个所述静压箱131上设有与所述风管组11的其中一部分的所述送风管111的一端相连通，所述风管组11的其中一部分的所述送风管111的另一端为封闭端，另一个所述静压箱131上设有与所述风管组11的另一部分的所述送风管111的一端相连通，所述风管组11的另一部分的所述送风管111的另一端为封闭端。

在又一个实施例中，请参阅图8，对于一个烘箱单元10而言，所述抽吸机构13为一个并位于所述风管组11的其中一端，所述静压箱131相应为一个并与所述抽吸机构13的抽吸部位对应连通，所述静压箱131上设有与所述送风管111的一端一一对应连通的两个以上出风口，所述送风管111的另一端为封闭端。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (10)

1.一种窜风阻尼结构，其特征在于，包括：

间隔设置的两个腔梁，两个所述腔梁分别设置于烘箱单元的薄膜输送通道的出入口处，并分别位于所述薄膜输送通道的两侧；

以及间隔设置的两个扰流板，两个所述扰流板分别设置于所述薄膜输送通道的出入口处的两侧，所述扰流板面向所述薄膜输送通道的侧面上设有凹部，两个所述扰流板的凹部的底壁之间的间距大于所述薄膜输送通道的厚度，所述扰流板的其中一侧部用于与所述烘箱单元的送风管的管壁相连，所述扰流板的另一侧部与所述腔梁的侧壁相连。

2.根据权利要求1所述的窜风阻尼结构，其特征在于，还包括排风组件；所述腔梁设有气流室，所述腔梁面向所述薄膜输送通道的梁壁上设有与所述气流室相连通的吸风口，所述气流室与所述排风组件相连通，所述排风组件用于将所述气流室内的热气流向外界环境排放。

3.一种烘箱装置，其特征在于如权利要求1或2所述的窜风阻尼结构。

4.根据权利要求3所述的烘箱装置，其特征在于，还包括依次设置的两个以上烘箱单元，相邻两个所述烘箱单元之间设有所述的窜风阻尼结构，所述烘箱单元设有用于高分子薄膜穿过的薄膜输送通道，两个所述腔梁、两个所述扰流板均分别设置于所述薄膜输送通道的两侧。

5.根据权利要求4所述的烘箱装置，其特征在于，所述烘箱单元还包括风管组与抽吸机构；所述风管组为两个且间隔设置，两个所述风管组之间的间隔为薄膜输送通道，所述风管组面向所述薄膜输送通道的管壁上开设有若干个出风孔，所述抽吸机构用于对所述风管组排出的热气流回吸处理。

6.根据权利要求5所述的烘箱装置，其特征在于，所述风管组上最靠近于所述腔梁的出风孔的出风方向相对于所述薄膜输送通道的输送方向倾斜设置，且所述风管组上最靠近于所述腔梁的出风孔的出风方向背离于所述腔梁。

7.根据权利要求5所述的烘箱装置，其特征在于，所述风管组包括间隔设置的两个以上送风管，所述出风孔设置于所述送风管面向所述薄膜输送通道的管壁上。

8.根据权利要求7所述的烘箱装置，其特征在于，所述抽吸机构的抽吸端连接有吸风罩；所述吸风罩为四个，其中两个所述吸风罩分别设置于其中一个所述风管组背向另一个所述风管组的侧面的两端，其中两个所述吸风罩的罩口相对设置，另外两个所述吸风罩分别设置于另一个所述风管组背向其中一个所述风管组的侧面的两端，另外两个所述吸风罩的罩口相对设置。

9.根据权利要求8所述的烘箱装置，其特征在于，所述抽吸机构包括静压箱及设置于所述静压箱上的风机，所述静压箱设有回风口与出风口，所述回风口与所述吸风罩相连通，所述出风口与所述送风管的进风端相连通；所述抽吸机构为两个，两个所述抽吸机构分别设置于所述风管组的两端，两个所述风管组的其中一端均与其中一个所述抽吸机构的静压箱相连通，两个所述风管组的另一端均与另一个所述抽吸机构的静压箱相连通；所述烘箱单元还包括加热器，所述加热器设置于所述静压箱上或所述吸风罩上。

10.根据权利要求8所述的烘箱装置，其特征在于，还包括顶板、底板及两个端面板，所述顶板的两端、所述底板的两端均分别与两个所述端面板相连，两个所述风管组呈上下间隔地设置于所述顶板与所述底板之间，其中两个所述吸风罩位于其中一个所述风管组与所述顶板之间的间隔中，另外两个所述吸风罩位于另一个所述风管组与所述底板之间的间隔中。

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