CN210850992U - 烘箱装置及平衡集流导风机构 - Google Patents

烘箱装置及平衡集流导风机构 Download PDF

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汤智勇
何汉昭
梁达辉
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Abstract

本实用新型涉及一种烘箱装置及平衡集流导风机构,平衡集流导风机构包括平衡板与两个集流板。平衡板上开设有若干个导风孔。两个集流板位于平衡板的同一侧,两个集流板的一端分别与平衡板的两端对应设置,两个集流板的另一端间隔设置,集流板相对于平衡板倾斜设置,且两个集流板之间的间距在远离于平衡板的方向上逐渐减小。接触高分子薄膜后返回的热气流流经相邻两个送风管的间隔时,热气流先流经设有导风孔的平衡板,在平衡板的导向平衡作用下,能实现热气流较为稳定地回流,较好地抑制高分子薄膜区域产生的紊流现象。热气流经平衡板导向平衡后由两个集流板进一步汇聚,从而能实现热气流更好地汇聚并被抽吸机构抽走,能避免产生紊流现象。

Description

烘箱装置及平衡集流导风机构
技术领域
本实用新型涉及烘箱技术领域,特别是涉及一种烘箱装置及平衡集流导风机构。
背景技术
薄膜拉伸生产线烘箱用于为高分子薄膜提供合适的工艺条件、在高温环境下对薄膜进行拉伸及定型等处理。传统的薄膜拉伸生产线烘箱的腔室内的恒温加热气流输送到薄膜的两个表面后,再经位于腔室两侧的静压箱中部吸风口通过负压回吸,回吸的热气流被加热又通过静压箱加压并送入到腔室内的薄膜区域;另外腔室内有换气的排、送风口,设置于腔室的一侧,用于排出薄膜在加热的过程中的析出物。然而,烘箱装置的腔室内的热气流回流过程中容易出现紊流现象。
实用新型内容
基于此,有必要克服现有技术的缺陷,提供一种烘箱装置及平衡集流导风机构,它能够实现热气流回流过程中较为稳定,能避免产生紊流现象。
其技术方案如下:一种平衡集流导风机构,用于设置于相邻两个送风管的间隔内,包括平衡板与两个集流板;所述平衡板上开设有若干个导风孔,两个所述集流板位于所述平衡板的同一侧,两个所述集流板的一端分别与所述平衡板的两端对应设置,两个所述集流板的另一端间隔设置,所述集流板相对于所述平衡板倾斜设置,且两个所述集流板之间的间距在远离于所述平衡板的方向上逐渐减小。
上述的平衡集流导风机构,接触高分子薄膜后返回的热气流流经相邻两个送风管的间隔时,热气流先流经设有导风孔的平衡板,在平衡板的导向平衡作用下,能实现热气流较为稳定地回流,较好地抑制高分子薄膜区域产生的紊流现象。热气流经平衡板导向平衡后由两个集流板进一步汇聚,从而能实现热气流更好地汇聚并被抽吸机构抽走,能避免产生紊流现象。
在其中一个实施例中,所述平衡板的中部部位的透过率至所述平衡板的端部部位逐渐增大。
在其中一个实施例中,所述平衡板的导风孔的密集度从所述平衡板的中部部位至所述平衡板的端部部位逐渐增大;和/或,所述平衡板的导风孔的孔径从所述平衡板的中部部位至所述平衡板的端部部位逐渐增大。
在其中一个实施例中,所述平衡板的长度不小于待进行加热处理的高分子薄膜的宽度;所述平衡板、所述集流板的两侧边缘分别与相邻的两个所述送风管的外侧管壁抵触配合;所述集流板的其中一端通过第一折弯板与所述平衡板的端部相连,所述集流板的另一端设有第二折弯板;所述集流板与所述平衡板为一体化结构。
一种烘箱装置,包括一个以上烘箱单元;所述烘箱单元包括所述的平衡集流导风机构,还包括风管组与抽吸机构,所述风管组包括间隔设置的两个以上送风管,所述送风管的管壁上开设有若干个出风孔,相邻两个所述送风管的间隔内设有所述的平衡集流导风机构;所述抽吸机构的抽吸部位位于所述风管组的端部。
上述的烘箱装置,由于包括上述的平衡集流导风机构,其技术效果由上述的平衡集流导风机构带来,有益效果包括了上述的平衡集流导风机构的有益效果。此外,由于抽吸机构的抽吸部位设置于风管组的端部,这样有利于热气流接触高分子薄膜后,远离高分子薄膜的方向流动,并经相邻两个送风管的间隔往外流,最终经位于风管组的端部部位的抽吸机构抽走,从而能较好地避免送风管的出风孔流出的热气流与返回到抽吸机构内的热气流相互干涉,也就是能较好地抑制高分子薄膜区域产生的紊流现象,如此能够实现高分子薄膜的各个部位接触的热气流量较为均衡。
在其中一个实施例中,所述的烘箱单元还包括与所述抽吸机构的抽吸部位对应设置的吸风罩,所述抽吸机构的抽吸部位与所述吸风罩相连通。
在其中一个实施例中,所述抽吸机构包括静压箱及设置于所述静压箱上的风机,所述静压箱设有回风口与出风口,所述回风口与所述吸风罩相连通,所述出风口与所述送风管的进风端相连通。
在其中一个实施例中,所述抽吸机构为两个并分别位于所述风管组的两端,所述静压箱相应为两个并分别与所述抽吸机构的抽吸部位对应连通,其中一个所述静压箱上设有与所述送风管的一端一一对应连通的两个以上出风口,另一个所述静压箱上也设有与所述送风管的另一端一一对应连通的两个以上出风口;
或者,所述抽吸机构为两个并分别位于所述风管组的两端,所述静压箱相应为两个并分别与所述抽吸机构的抽吸部位对应连通,其中一个所述静压箱上设有与所述风管组的其中一部分的所述送风管的一端相连通,所述风管组的其中一部分的所述送风管的另一端为封闭端,另一个所述静压箱上设有与所述风管组的另一部分的所述送风管的一端相连通,所述风管组的另一部分的所述送风管的另一端为封闭端;
或者,所述抽吸机构为一个并位于所述风管组的其中一端,所述静压箱相应为一个并与所述抽吸机构的抽吸部位对应连通,所述静压箱上设有与所述送风管的一端一一对应连通的两个以上出风口,所述送风管的另一端为封闭端。
在其中一个实施例中,所述风管组为两个,且两个所述风管组呈上下间隔设置,两个所述风管组之间的间隔能用于穿过高分子薄膜。
在其中一个实施例中,所述的烘箱单元还包括顶板、底板及两个端面板,所述顶板的两端、所述底板的两端均分别与两个所述端面板相连,两个所述风管组呈上下间隔地设置于所述顶板与所述底板之间,所述抽吸机构的抽吸部位至少为两个,所述抽吸机构的其中一个抽吸部位位于其中一个所述风管组与所述顶板之间的间隔中,所述抽吸机构的另一个抽吸部位位于另一个所述风管组与所述底板之间的间隔中。
附图说明
图1为本实用新型一实施例所述的烘箱装置的结构示意图;
图2为本实用新型一实施例所述的烘箱单元的结构示意图;
图3为本实用新型一实施例所述的平衡集流导风机构的结构示意图;
图4为本实用新型一实施例所述的烘箱装置的相邻两个所述烘箱单元处的部分结构示意图;
图5为本实用新型一实施例所述的烘箱单元的俯视图;
图6为本实用新型另一实施例所述的烘箱单元的俯视图;
图7为本实用新型又一实施例所述的烘箱单元的俯视图。
附图标记:
10、平衡集流导风机构;11、平衡板;111、导风孔;12、集流板;121、第一折弯板;122、第二折弯板;20、烘箱单元;21、风管组;211、送风管;2111、出风孔;2112、导流板;22、吸风罩;23、抽吸机构;231、静压箱;232、风机;24、顶板;25、底板;26、端面板;28、加热器;30、腔梁;31、吸风口;40、薄膜输送通道;50、高分子薄膜;60、排风组件;61、排风母管;62、排风支管;70、送风组件;71、送风母管;72、送风支管;80、扰流板;81、凹部;90、挡板;100、流量调节阀。
具体实施方式
为使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂,下面结合附图对本实用新型的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本实用新型。但是本实用新型能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施,本领域技术人员可以在不违背本实用新型内涵的情况下做类似改进,因此本实用新型不受下面公开的具体实施例的限制。
在本实用新型的描述中,需要理解的是,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本实用新型的描述中,“多个”的含义是至少两个,例如两个,三个等,除非另有明确具体的限定。
在本实用新型的描述中,需要理解的是,当一个元件被认为是“连接”另一个元件,可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在中间元件。相反,当元件为称作“直接”与另一元件连接时,不存在中间元件。
在一个实施例中,请参阅图1至图3,一种平衡集流导风机232构,用于设置于相邻两个送风管211的间隔内,包括平衡板11与两个集流板12。所述平衡板11上开设有若干个导风孔111。两个所述集流板12位于所述平衡板11的同一侧,两个所述集流板12的一端分别与所述平衡板11的两端对应设置,两个所述集流板12的另一端间隔设置,所述集流板12相对于所述平衡板11倾斜设置,且两个所述集流板12之间的间距在远离于所述平衡板11的方向上逐渐减小。也就是,两个集流板12呈“八”字形布置于平衡板11的其中一侧面上。
上述的平衡集流导风机232构,接触高分子薄膜50后返回的热气流流经相邻两个送风管211的间隔时,热气流先流经设有导风孔111的平衡板11,在平衡板11的导向平衡作用下,能实现热气流较为稳定地回流,较好地抑制高分子薄膜50区域产生的紊流现象。热气流经平衡板11导向平衡后由两个集流板12进一步汇聚,从而能实现热气流更好地汇聚并被抽吸机构23抽走,能避免产生紊流现象。
在一个实施例中,请参阅图3,所述平衡板11的中部部位的透过率至所述平衡板11的端部部位逐渐增大。如此,能实现热气流较为稳定地回流到吸风罩22,较好地抑制高分子薄膜50区域产生的紊流现象。
在一个实施例中,请参阅图3,所述平衡板11的中部部位的导风孔111的密集度小于所述平衡板11的端部部位的导风孔111的密集度。可选地,所述平衡板11的导风孔111的密集度从所述平衡板11的中部部位至所述平衡板11的端部部位逐渐增大。如此,能实现热气流较为稳定地回流到吸风罩22,较好地抑制高分子薄膜50区域产生的紊流现象。
进一步地,请参阅图3,所述平衡板11的中部部位的导风孔111的孔径小于所述平衡板11的端部部位的导风孔111的孔径。可选地,所述平衡板11的导风孔111的孔径从所述平衡板11的中部部位至所述平衡板11的端部部位逐渐增大。如此,能实现热气流较为稳定地回流到吸风罩22,较好地抑制高分子薄膜50区域产生的紊流现象。
进一步地,请再参阅图2及图3,所述平衡板11的长度(图3中采用箭头示意出了平衡板11的长度方向)不小于待进行加热处理的高分子薄膜50的宽度。所述平衡板11、所述集流板12的两侧边缘分别与相邻的两个所述送风管211的外侧管壁抵触配合。所述集流板12的其中一端通过第一折弯板121与所述平衡板11的端部相连,所述集流板12的另一端设有第二折弯板122。第一折弯板121面向平衡板11的板面例如为弧形面或圆滑曲面,有利于热气流平稳地输送。此外,第二折弯板122面向平衡板11的板面例如为弧形面或圆滑曲面,也有利于热气流平稳地被抽吸到抽吸机构23。
可选地,所述集流板12与所述平衡板11为一体化结构。
在一个实施例中,请再参阅图1,图1示意出的烘箱装置仅仅有一个烘箱单元20,其余烘箱单元20省略未示意出。一种烘箱装置,包括一个以上烘箱单元20。所述烘箱单元20包括上述任一实施例所述的平衡集流导风机232构,还包括风管组21与抽吸机构23。所述风管组21包括间隔设置的两个以上送风管211。所述送风管211的管壁上开设有若干个出风孔2111,相邻两个所述送风管211的间隔内设有所述的平衡集流导风机232构。所述抽吸机构23的抽吸部位位于所述风管组21的端部。
上述的烘箱装置,由于包括上述的平衡集流导风机232构,其技术效果由上述的平衡集流导风机232构带来,有益效果包括了上述的平衡集流导风机232构的有益效果。此外,由于抽吸机构23的抽吸部位设置于风管组21的端部,这样有利于热气流接触高分子薄膜50后,远离高分子薄膜50的方向流动,并经相邻两个送风管211的间隔往外流,最终经位于风管组21的端部部位的抽吸机构23抽走,从而能较好地避免送风管211的出风孔2111流出的热气流与返回到抽吸机构23内的热气流相互干涉,也就是能较好地抑制高分子薄膜50区域产生的紊流现象,如此能够实现高分子薄膜50的各个部位接触的热气流量较为均衡。
进一步地,请参阅图1至图3,所述的烘箱单元20还包括与所述抽吸机构23的抽吸部位对应设置的吸风罩22,所述抽吸机构23的抽吸部位与所述吸风罩22相连通。如此,采用设置于风管组21的端部的吸风罩22进行抽吸操作,有利于将热气流进行回收处理。
进一步地,请再参阅图1及图2,所述抽吸机构23包括静压箱231及设置于所述静压箱231上的风机232。所述静压箱231设有回风口与出风口,所述回风口与所述吸风罩22相连通,所述出风口与所述送风管211的进风端相连通。如此,风机232工作时,在静压箱231的回风口形成负压,能实现吸风罩22将风管组21所流出的热气流进行回收处理,回收的热气流经出风口送入到风管组21的各个送风管211内,并由送风管211排出接触高分子薄膜50,起到加热高分子薄膜50的作用,即形成回风与送风的内循环热风路,对热气流的热能充分利用。
在一个实施例中,请参阅图5,对于一个烘箱单元20而言,所述抽吸机构23为两个并分别位于所述风管组21的两端,所述静压箱231相应为两个并分别与所述抽吸机构23的抽吸部位对应连通,其中一个所述静压箱231上设有与所述送风管211的一端一一对应连通的两个以上出风口,另一个所述静压箱231上也设有与所述送风管211的另一端一一对应连通的两个以上出风口。如此,两个抽吸机构23同步工作时,其中一个抽吸机构23同步利用两个风管组21的其中一端的两个吸风罩22分别回收两个风管组21所排出的热气流,另一个抽吸机构23同步利用两个风管组21的另一端的两个吸风罩22分别回收两个风管组21所排出的热气流。
在另一个实施例中,请参阅图6,对于一个烘箱单元20而言,所述抽吸机构23为两个并分别位于所述风管组21的两端,所述静压箱231相应为两个并分别与所述抽吸机构23的抽吸部位对应连通,其中一个所述静压箱231上设有与所述风管组21的其中一部分的所述送风管211的一端相连通,所述风管组21的其中一部分的所述送风管211的另一端为封闭端,另一个所述静压箱231上设有与所述风管组21的另一部分的所述送风管211的一端相连通,所述风管组21的另一部分的所述送风管211的另一端为封闭端。
在又一个实施例中,请参阅图7,对于一个烘箱单元20而言,所述抽吸机构23为一个并位于所述风管组21的其中一端,所述静压箱231相应为一个并与所述抽吸机构23的抽吸部位对应连通,所述静压箱231上设有与所述送风管211的一端一一对应连通的两个以上出风口,所述送风管211的另一端为封闭端。
更具体地,请再参阅图1及图2,在两个风管组21呈上下对称布置、其中两个吸风罩22呈对称并相对地布置于两个风管组21的上侧、以及另外两个吸风罩22呈对称并相对地布置于两个风管组21的下侧的条件下,便能形成呈对称分布的四个循环风回路,这样能较好地抑制高分子薄膜50区域产生的紊流现象,热气流的稳定性较好,如此能实现高分子薄膜50的各个部位接触的热气流量较为均衡,从而保证高分子薄膜50的加工质量。
在一个实施例中,请再参阅图1及图2,所述的烘箱单元20还包括加热器28。所述加热器28设置于所述静压箱231上或所述吸风罩22上。如此,加热器28能实现对热气流进行加热,从而对热气流在加热高分子薄膜50过程中的热量流失进行补充,保证热气流的温度为预设范围,从而保证对高分子薄膜50的加工质量。加热器28的具体结构不进行限定,例如可以是加热丝、加热棒、加热管或换热器等等。
进一步地,请再参阅图1及图2,所述的烘箱单元20还包括顶板24、底板25及两个端面板26。所述顶板24的两端、所述底板25的两端均分别与两个所述端面板26相连。两个所述风管组21呈上下间隔地设置于所述顶板24与所述底板25之间,其中两个所述吸风罩22位于其中一个所述风管组21与所述顶板24之间的间隔中,另外两个所述吸风罩22位于另一个所述风管组21与所述底板25之间的间隔中。如此,风管组21上方的两个吸风罩22将高分子薄膜50上方的热气流朝向上方抽送时,由顶板24导向热气流回收到吸风罩22内,风管组21下方的两个吸风罩22将高分子薄膜50下方的热气流朝向下方抽送时,由底板25导向热气流回收到吸风罩22内。
更进一步地,为了使烘箱单元20的结构更加紧凑,抽吸机构23的静压箱231设置于顶板24与底板25之间,静压箱231的背板可以与端面板26为一体化结构,也可以将端面板26装设于静压箱231的背板上。
进一步地,所述的烘箱单元20还包括顶板24、底板25及两个端面板26。所述顶板24的两端、所述底板25的两端均分别与两个所述端面板26相连,两个所述风管组21呈上下间隔地设置于所述顶板24与所述底板25之间,所述抽吸机构23的抽吸部位至少为两个,所述抽吸机构23的其中一个抽吸部位位于其中一个所述风管组21与所述顶板24之间的间隔中,所述抽吸机构23的另一个抽吸部位位于另一个所述风管组21与所述底板25之间的间隔中。
具体而言,请再参阅图1及图2,其中一个所述风管组21的所述送风管211与另一个所述风管组21的送风管211一一对应设置。如此,在其中一个风管组21的送风管211向外送出的热气流作用于高分子薄膜50的其中一侧面,另一个风管组21的送风管211向外送出的热气流作用于高分子薄膜50的另一侧面时,由于两个风管组21的送风管211一一相应对应设置,为对称性结构,能实现高分子薄膜50的两个侧面受到对称的热交换处理,对高分子薄膜50的加热处理质量较高。
在一个实施例中,请再参阅图1及图2,所述的烘箱装置还包括设置于相邻两个所述烘箱单元20之间的两个腔梁30。两个所述腔梁30、所述烘箱单元20的两个风管组21均呈上下间隔设置。两个所述腔梁30之间的间隔与所述烘箱单元20的两个风管组21之间的间隔对应设置,并形成用于穿过高分子薄膜50的薄膜输送通道40。也就是,每个烘箱单元20的两侧均会设有上下间隔设置的两个腔梁30,烘箱单元20的两侧的腔梁30对烘箱单元20的区域内的热气流起到阻挡作用,能一定程度地避免烘箱单元20的区域内的热气流向外流动。
进一步地,请再参阅图1,所述的烘箱装置还包括排风组件60与送风组件70。所述腔梁30设有气流室。上下间隔设置的两个所述腔梁30中,位于上方的所述腔梁30的底部梁壁上及位于下方的所述腔梁30的顶部梁壁上均设有与所述气流室相连通的若干个吸风口31。所述气流室与所述排风组件60相连通,所述排风组件60用于将所述气流室内的热气流向外界环境排放。所述送风组件70的进风端与外界环境相通,所述送风组件70的出风端与所述吸风罩22的罩口对应设置。如此,高分子薄膜50在接触热气流加热过程中容易排出高浓度析出物,含有高浓度析出物的热气流一部分经吸风口31流入到气流室内,并由排风组件60外排到外界环境中,另一部分则回流到吸风罩22内,同时送风组件70将外界环境的新鲜空气补充到吸风罩22内进行循环,如此能降低析出物的量,从而提高高分子薄膜50的处理质量。
进一步地,请再参阅图1,所述排风组件60包括排风母管61、排风支管62与负压机构(图中未示意出)。所述腔梁30通过所述排风支管62与所述排风母管61相连通,所述负压机构用于将所述排风母管61内的气体抽送到外界环境中。
进一步地,请再参阅图1,所述送风组件70包括送风母管71、送风支管72及送风机232构。所述送风母管71的端部与所述送风机232构相连,所述送风机232构用于将外界环境的空气鼓入到所述送风母管71中,所述送风支管72的一端与所述送风母管71相连,所述送风支管72的另一端设置于所述吸风罩22的罩口的旁侧。
可以理解的是,排风支管62的数量不止一个,排风支管62根据腔梁30来相应设置,例如每个腔梁30均可以对应设置一个、两个、三个或其它数量的排风支管62,以实现各个腔梁30的气流室均连通至排风母管61,统一由排风母管61将热气流的一部分向外界环境排放。同样地,送风支管72的数量不止一个,送风支管72根据吸风罩22来相应设置,例如每个吸风罩22均可以对应设置一个、两个、三个或其它数量的送风支管72,以实现各个吸风罩22将热气流进行抽吸回收的同时均能将外界环境的新鲜空气一并引入。
进一步地,请再参阅图1,排风支管62、送风支管72上均设置有流量调节阀100,通过对流量调节阀100进行调节,从而可以对各个烘箱单元20的换气量根据实际情况进行调整。
在一个实施例中,请参阅图1及图4,所述的烘箱装置还包括设置于所述风管组21与所述腔梁30之间的扰流板80。所述扰流板80的其中一侧部与所述送风管211的管壁相连,所述扰流板80的另一侧部与所述腔梁30相连。所述扰流板80设置于所述薄膜输送通道40的侧部。所述扰流板80面向所述薄膜输送通道40的侧面上设有凹部81。如此,扰流板80设置于风管组21与腔梁30之间,一方面形成密闭环境,避免薄膜输送通道40内的热气流向外流,另一方面,上下两个风管组21之间的间隔中的热气流流动经过两个扰流板80之间的间隔时,扰流板80的凹部81起到降低热气流的流速的作用,能避免相邻两个烘箱单元20之间、烘箱单元20的薄膜进出口与外界环境之间空气窜流干扰,同时对热气流进入到腔梁30的气流室不构成影响,这样相邻烘箱单元20内的热气流的温度相互影响较小,最终实现各个烘箱单元20所对应的温度场符合于工艺要求。
在一个实施例中,请参阅图1及图4,上下间隔设置的两个所述腔梁30之间设有间隔的两个挡板90。两个所述挡板90分别位于两个所述腔梁30之间的间隔的两端,两个所述挡板90之间的间隔能穿过所述高分子薄膜50。
在一个实施例中,请参阅图1及图4,所述风管组21上最靠近于所述腔梁30的出风孔2111的出风方向相对于所述薄膜输送通道40的输送方向倾斜设置,且所述风管组21上最靠近于所述腔梁30的出风孔2111的出风方向背离于所述腔梁30。如此,风管组21上最靠近于腔梁30的出风孔2111的出风能对流向腔梁30方向的窜风起到阻碍的作用。
进一步地,请参阅图1及图4,所述风管组21上最靠近于所述腔梁30的出风孔2111所对应的送风管211的内部设有导流板2112,所述导流板2112相对于所述薄膜输送通道40的输送方向倾斜设置。可选地,所述送风管211的轴向截面为八边形。
在一个实施例中,请参阅图1及图4,腔梁30的管壁上的吸风口31例如为腰型孔、长方形孔或方形孔等等,其形状不进行限制。吸风口31处产生负压,能将其附近的热气流吸到排风组件60的内部并通过排风组件60向外排放到外界环境中。此外,在扰流板80对流向腔梁30方向的窜风阻碍的同时,吸风口31能进一步地吸除烘箱单元20间的窜流风量,从而避免了烘箱单元20间的热气流相互窜流干扰。
以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合,为使描述简洁,未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述,然而,只要这些技术特征的组合不存在矛盾,都应当认为是本说明书记载的范围。
以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对实用新型专利范围的限制。应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本实用新型的保护范围。因此,本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (10)

1.一种平衡集流导风机构,用于设置于相邻两个送风管的间隔内,其特征在于,包括平衡板与两个集流板;所述平衡板上开设有若干个导风孔,两个所述集流板位于所述平衡板的同一侧,两个所述集流板的一端分别与所述平衡板的两端对应设置,两个所述集流板的另一端间隔设置,所述集流板相对于所述平衡板倾斜设置,且两个所述集流板之间的间距在远离于所述平衡板的方向上逐渐减小。
2.根据权利要求1所述的平衡集流导风机构,其特征在于,所述平衡板的中部部位的透过率至所述平衡板的端部部位逐渐增大。
3.根据权利要求2所述的平衡集流导风机构,其特征在于,所述平衡板的导风孔的密集度从所述平衡板的中部部位至所述平衡板的端部部位逐渐增大;和/或,所述平衡板的导风孔的孔径从所述平衡板的中部部位至所述集流板的端部部位逐渐增大。
4.根据权利要求1至3任意一项所述的平衡集流导风机构,其特征在于,所述平衡板的长度不小于待进行加热处理的高分子薄膜的宽度;所述平衡板、所述集流板的两侧边缘分别与相邻的两个所述送风管的外侧管壁抵触配合;所述集流板的其中一端通过第一折弯板与所述平衡板的端部相连,所述集流板的另一端设有第二折弯板;所述集流板与所述平衡板为一体化结构。
5.一种烘箱装置,其特征在于,包括一个以上烘箱单元;所述烘箱单元包括如权利要求1至4任意一项所述的平衡集流导风机构,还包括风管组与抽吸机构,所述风管组包括间隔设置的两个以上送风管,所述送风管的管壁上开设有若干个出风孔,相邻两个所述送风管的间隔内设有所述的平衡集流导风机构;所述抽吸机构的抽吸部位位于所述风管组的端部。
6.根据权利要求5所述的烘箱装置,其特征在于,所述烘箱单元还包括与所述抽吸机构的抽吸部位对应设置的吸风罩,所述抽吸机构的抽吸部位与所述吸风罩相连通。
7.根据权利要求6所述的烘箱装置,其特征在于,所述抽吸机构包括静压箱及设置于所述静压箱上的风机,所述静压箱设有回风口与出风口,所述回风口与所述吸风罩相连通,所述出风口与所述送风管的进风端相连通。
8.根据权利要求7所述的烘箱装置,其特征在于,所述抽吸机构为两个并分别位于所述风管组的两端,所述静压箱相应为两个并分别与所述抽吸机构的抽吸部位对应连通,其中一个所述静压箱上设有与所述送风管的一端一一对应连通的两个以上出风口,另一个所述静压箱上也设有与所述送风管的另一端一一对应连通的两个以上出风口;
或者,所述抽吸机构为两个并分别位于所述风管组的两端,所述静压箱相应为两个并分别与所述抽吸机构的抽吸部位对应连通,其中一个所述静压箱上设有与所述风管组的其中一部分的所述送风管的一端相连通,所述风管组的其中一部分的所述送风管的另一端为封闭端,另一个所述静压箱上设有与所述风管组的另一部分的所述送风管的一端相连通,所述风管组的另一部分的所述送风管的另一端为封闭端;
或者,所述抽吸机构为一个并位于所述风管组的其中一端,所述静压箱相应为一个并与所述抽吸机构的抽吸部位对应连通,所述静压箱上设有与所述送风管的一端一一对应连通的两个以上出风口,所述送风管的另一端为封闭端。
9.根据权利要求5所述的烘箱装置,其特征在于,所述风管组为两个,且两个所述风管组呈上下间隔设置,两个所述风管组之间的间隔能用于穿过高分子薄膜。
10.根据权利要求9所述的烘箱装置,其特征在于,所述烘箱单元还包括顶板、底板及两个端面板,所述顶板的两端、所述底板的两端均分别与两个所述端面板相连,两个所述风管组呈上下间隔地设置于所述顶板与所述底板之间,所述抽吸机构的抽吸部位至少为两个,所述抽吸机构的其中一个抽吸部位位于其中一个所述风管组与所述顶板之间的间隔中,所述抽吸机构的另一个抽吸部位位于另一个所述风管组与所述底板之间的间隔中。
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