CN110573956B - 电致变色膜 - Google Patents

Abstract

本申请涉及电致变色膜。所述电致变色膜为反射式电致变色膜，其包括电极层、光吸收层和电致变色层。本申请能够改善电致变色速率并且实现各种不同的颜色或美感。

Description

电致变色膜

技术领域

相关申请的交叉引用

本申请要求基于2017年4月27日提交的韩国专利申请第10-2017-0054317号和于2018年4月19日提交的韩国专利申请第10-2018-0045420号的优先权的权益，其公开内容通过引用整体并入本文。

技术领域

本申请涉及电致变色膜。

背景技术

电致变色是指其中电致变色材料的光学特性通过电化学氧化或还原反应而改变的现象，其中利用该现象的装置称为电致变色装置。电致变色装置通常包括工作电极、对电极和电解质，其中每个电极的光学特性可以通过电化学反应可逆地改变。例如，工作电极或对电极可以分别包含呈膜形式的透明导电材料和电致变色材料，并且在向装置施加电势的情况下，当电解质离子插入含电致变色材料的膜中或从含电致变色材料的膜中除去，并且同时电子通过外电路移动时，出现电致变色材料的光学特性改变。

这样的电致变色装置的优点在于其能够以低成本制造大面积的装置并且具有低功耗。然而，由于其具有慢的颜色转换速度，因此需要改善。另一方面，常规的电致变色装置无法部分地满足对各种颜色或优越美感的市场需求，原因是通过装置实现的颜色只取决于电致变色材料。

发明内容

技术问题

本申请的一个目的是提供具有改善的颜色转换速度(或电致变色转换速度)的电致变色膜。

本申请的另一个目的是提供能够实现各种色感或立体颜色图案的电致变色膜。

本申请的上述目的和其他目的可以通过下面详细描述的本申请来全部解决。

技术方案

在本申请的一个实例中，本申请涉及电致变色膜。电致变色膜包括反射基材和电致变色层。本申请的电致变色膜是所谓的“反射式”电致变色膜，其构成与在该膜的两个侧表面上包括透光电极材料和透光基材的一般透射式电致变色膜的构成不同。具体地，根据本申请的一个实施方案，可以在该膜的至少一侧上使用具有低的透光特性和显著占主导的反射特性的金属材料。

本申请的同时包括反射基材和电致变色层的反射式电致变色膜具有优异的美感和颜色实现特性。例如，在仅包括对应于电致变色层的配置的常规电致变色元件的情况下，该元件的光学特性的改变通常取决于由电致变色材料表达的自身的固有颜色。然而，如下所述，由于本申请的电致变色膜包括具有其中层合有具有占主导的光反射功能的金属电极层(光反射层)和具有占主导的光吸收功能的光吸收层的结构的反射基材，因此可以提供各种美感。

在本申请中，光反射层(金属电极层)可以意指相对多地反射特定波长的光的层，光吸收层可以意指相对较少地反射具体波长的光的层。例如，如图1所示，假设L_i-1层、L_i层和L_i+1层基于其中光进入的方向以此顺序层合，则界面I_i位于L_i-1层与L_i层之间，界面I_i+1位于L_i层与L_i+1层之间，如下将对光反射层和光吸收层进行描述。

当在与每个层垂直的方向上用具有特定波长的光照射该层使得不发生薄膜干涉时，界面I_i处的反射率可以由以下式1表达。

[式1]

在上述式1中，n_i(λ)表示第i层的根据波长(λ)的折射率，k_i(λ)表示第i层的根据波长(λ)的消光系数。消光系数是可以定义目标材料吸收特定波长光多强的量度，如下所述。

当例如在预定波长范围如380nm至780nm内的每个波长下计算的界面I_i处的对于每个波长的反射率之和通过应用上述式1为R_i时，R_i如由以下式2表达的。

[式2]

总之，当层合体的界面中的I_i的R_i最大时，与界面I_i接触并且对于界面I_i与光进入的方向相反定位的层可以定义为光反射层，以及剩余的层可以定义为光吸收层。例如，在图1所示的层合体中，当界面I_i+1的对于每个波长的反射率之和最大时，与界面I_i+1接触并且对于界面I_i+1与光进入的方向相反定位的层L_i+1可以被认为是光反射层，剩余的层L_i-1层和/或L_i层可以被认为是光吸收层。

在本申请中，光反射功能由金属电极层获得。

反射基材可以包括金属电极层和光吸收层。在这方面，图2示出了根据本申请的一个实例的反射基材。如所示的，在光吸收层中，在入射路径和反射路径二者中均发生光吸收，并且在每个层的全部表面和界面处都发生光反射。在被反射的光之间发生的相长干涉和相消干涉向电致变色层的固有颜色增添了另外的颜色变化或美感。因此，本申请的电致变色膜可以允许使用者观察到与电致变色层中表达的颜色不同的颜色、色感或颜色图案。

在一个实例中，反射基材中包括的金属电极层可以包含铝(Al)、金(Au)、银(Ag)、铂(Pt)、钯(Pd)、钛(Ti)、镍(Ni)、钨(W)、铜(Cu)或其合金。金属的反射有助于由光吸收层引起的光干涉，并且允许本申请的特殊的颜色或色感在使用者侧上清晰可见。

在一个实例中，金属电极层可以不包含上述列出的金属组分的氧化物、氮化物或氮氧化物。即，电极层可以为仅包含金属组分的层。由于这样的氧化物、氮化物或氮氧化物可以具有高的透光特性或高的光吸收特性，因此可能无法充分实现本申请的反射式电致变色膜中所需的由电极层引起的反射效果。

另一方面，在根据现有技术的电致变色膜中，通常使用透光材料作为位于膜的两侧上的电极材料。特别地，以ITO为代表的透明导电氧化物已广泛用作透光材料。然而，由于这样的透明导电氧化物具有高的薄层电阻，因此其无助于颜色转换速度的改善。然而，由于与ITO相比，上述列出的金属材料具有低的薄层电阻，因此可以缩短膜的电致变色时间。

在没有特别限制的情况下，金属电极层的厚度可以在5nm至500nm的范围内。金属电极层的厚度可以在10nm至500nm的范围内。在本申请中，“厚度”可以意指当从地面朝向膜绘制虚拟法线时的“层上的与法线相交的任意点与相关层的相对表面的点之间的法向距离”或“测量的目标层的一侧与面向其的另一侧之间的平均法向距离”。

反射基材中包括的光吸收层可以为通过与金属电极层相互作用来变换、调整或改变由着色或脱色的电致变色层显示的颜色或色感的层。这种变换、调整或改变通过由电极层和光吸收层引起的光学干涉来提供。

光吸收层可以包含金属氧化物、金属氮化物、或金属氮氧化物。

在一个实例中，光吸收层可以包含含有来自以下的一种或更多种金属的氧化物、氮化物或氮氧化物：镍(Ni)、铬(Cr)、铁(Fe)、钴(Co)、钛(Ti)、钒(V)、铝(Al)、金(Au)、铜(Cu)、银(Ag)、钼(Mo)及其合金。更具体地，光吸收层可以包含含有选自钼(Mo)、钛(Ti)、铝(Al)和铜(Cu)中的一者或更多者的氧化物、氮化物或氮氧化物。

在一个实例中，光吸收层可以包含CuO_xN_y(0≤x≤1，0≤y≤1，x+y＞0)。此时，x和y可以分别意指氧(O)和氮(N)的原子数与一个铜(Cu)原子的比率。

在另一个实例中，光吸收层可以包含含有钼和钛二者的氮化物或氮氧化物。更具体地，光吸收层可以包含MoTi_aO_xN_y(0＜a≤2，0≤x≤3，0≤y≤2，x+y＞0)。此时，a、x和y分别意指钛(Ti)、氧(O)和氮(N)的原子数与一个钼(Mo)原子的比率。

在另一个实例中，光吸收层可以包含铝(Al)的氮化物或氮氧化物。更具体地，光吸收层可以包含满足以下关系式的AlO_xN_y(0≤x≤1.5，0≤y≤1，x+y＞0)。

[关系式]

然而，在AlO_xN_y中，x和y分别意指O和N的原子数与一个Al原子的比率，以及在上述关系式中，基于100％的包含在AlO_xN_y中的全部元素含量，(铝元素含量)表示Al的元素含量(原子％)，(氧元素含量)表示O的元素含量(原子％)，以及(氮元素含量)表示N的元素含量(原子％)。

上述关系式是考虑到通过XPS(X射线光电子能谱)测量的元素含量(原子％)和化合价的式。Al的化合价为3，O的化合价为2，N的化合价为3。当上述关系式的值大于1时，这意指在Al、O和N中富含Al；当该值为1或更小时，这意指在Al、O和N中缺乏Al。例如，Al₂O₃或AlN化学计量地表现出相对透明的相，并且该关系式的值为1。在这样的情况下，难以执行上述光吸收层的功能。另一方面，如果上述关系式获得的值大于2，则Al的含量变得较高并且金属特性变强，使得反射变高并且难以执行上述光吸收层的功能。

光吸收层的厚度可以在5nm至500nm的范围内。光吸收层的形状没有特别限制，只要其厚度在上述范围内即可。

在一个实例中，光吸收层可以具有如图3中的厚度梯度。在这种情况下，光吸收层可以为其截面具有梯度的梯度层，其中截面可以具有三角形或四边形(例如梯形)的形状。通过截面可以确定的梯度可以为两个或更多个。

在另一个实例中，光吸收层可以具有如图4中的弯曲部或不平坦部。弯曲部或不平坦部的截面形状没有特别限制，其可以为例如圆形的一部分、或者三角形或四边形的一部分。当弯曲部或不平坦部重复时，可以发生各种路径的干涉，使得反射基材可以赋予电致变色膜各种颜色图案。

在另一个实例中，光吸收层的一侧可以具有规则或不规则的图案。图案的形式没有特别限制。通过规则或不规则的图案，可以在反射基材中发生各种路径的干涉，并因此，反射基材可以赋予电致变色膜各种颜色图案。

在一个实例中，光吸收层的折射率可以在0至3的范围内。

在一个实例中，光吸收层的消光系数值k可以在0.2至2.5的范围内。更具体地，光吸收层的消光系数可以在0.2至1.5或0.2至0.8的范围内。消光系数k也称为吸收系数，其是用于确定结构可以吸收多少特定波长的光或射线的量度。例如，当k小于0.2时，其是透明的，使得光吸收度不显著。相比之下，当光吸收层的金属组分含量增加时，反射特性变得占主导，并且k值变得大于2.5。在具有上述范围内的消光系数的情况下，光吸收层可以有效地执行本申请中的预期干涉效果。

提供光吸收层的方法没有特别限制。例如，可以使用已知的湿法或干法形成光吸收层。更具体地，可以使用溅射、CVD(化学气相沉积)或电子束(e-beam，电子束)形成光吸收层。

在一个实例中，反射基材的薄层电阻可以为100Ω/□或更小。更具体地，下限可以为1Ω/□或更大或者3Ω/□，上限可以为70Ω/□或50Ω/□。上述范围内的薄层电阻是比以ITO为代表的透明导电氧化物通常具有的薄层电阻(例如150Ω/□的水平)更低的值。当其薄层电阻在上述范围内时，可以改善膜的电致变色速率。薄层电阻可以通过已知的薄层电阻计来测量。

电致变色层可以包含光学特性即颜色通过可逆的氧化还原反应而改变的电致变色材料。电致变色材料的种类没有特别限制。

在一个实例中，电致变色层可以包含在发生还原反应时着色的还原性电致变色材料。还原性电致变色材料的类型没有特别限制，但是例如，还原性电致变色材料可以为Ti、Nb、Mo、Ta或W的氧化物，例如WO₃、MoO₃、Nb₂O₅、Ta₂O₅或TiO₂。

在另一个实例中，电致变色层可以包含具有与还原性电致变色材料不同颜色特性的材料，即，氧化性电致变色材料。氧化性电致变色材料的类型也没有特别限制，但是例如，氧化性电致变色材料可以为选自以下的材料：Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Rh或Ir的氧化物，例如LiNiOx、IrO₂，NiO、V₂O₅、LixCoO₂、Rh₂O₃或CrO₃；Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Rh或Ir的氢氧化物；和普鲁士蓝。

电致变色层可以使用已知的方法例如各种类型的湿式涂覆法或干式涂覆法来提供。

在没有特别限制的情况下，电致变色层的厚度可以在30nm至500nm的范围内。

在一个实例中，电致变色膜可以依次包括金属电极层、光吸收层和电致变色层。这样的配置可以改善光吸收层对电致变色层的固有颜色的变换、调整或改变的可见性。层结构还可以在彼此直接接触或者还可以在各个层之间存在单独的配置的同时构成电致变色膜。

在一个实例中，电致变色膜可以包括两个或更多个光吸收层。例如，当电致变色膜包括两个光吸收层时，电致变色膜可以依次包括第二光吸收层、金属电极层、第一光吸收层和电致变色层。层结构还可以在彼此直接接触或者还可以在各个层之间包括单独的配置的同时构成电致变色膜。

在一个实例中，本申请的电致变色膜还可以包括钝化层。如上所述，为了实现反射式电致变色膜并改善电致变色膜的颜色转换速度，本申请在电极层中包含金属。另外，为了赋予膜改善的美感或色感，包括含有金属的光吸收层。然而，所述层中包含的金属组分与电致变色层的参与电致变色的电解质离子之间可能发生副反应，并因此，可使各自的层劣化。例如，当金属电极层劣化时，不能实现上述本申请的目的，并且装置的耐久性降低。因此，本申请可以包括防止金属层劣化的钝化层。钝化层执行一种用于防止光吸收层和包含金属组分的电极层被电解质离子劣化的阻挡功能。

在一个实例中，钝化层可以包含透明导电氧化物。更具体地，透明导电氧化物例如ITO(氧化铟锡)、In₂O₃(氧化铟)、IGO(氧化铟镓)、FTO(氟掺杂的氧化锡)、AZO(铝掺杂的氧化锌)、GZO(镓掺杂的氧化锌)、ATO(锑掺杂的氧化锡)、IZO(铟掺杂的氧化锌)、NTO(铌掺杂的氧化钛)或ZnO(氧化锌)可以用于钝化层。

在一个实例中，电致变色膜可以在电致变色层与光吸收层之间包括钝化层。此外，当包括两个或更多个光吸收层时，其可以在电致变色层与第一光吸收层之间或者在电致变色层与第二光吸收层之间包括钝化层。

本申请的电致变色膜还可以包括电解质层和对电极层。电解质层和对电极层可以依次定位在电致变色层的面向光吸收层的一侧的相对表面上。例如，本申请的电致变色膜可以依次包括金属电极层、光吸收层、电致变色层、电解质层和对电极层。

电解质层是用于向电致变色层提供参与电致变色反应的电解质离子的结构。电解质的类型没有特别限制。例如，可以没有限制地使用液体电解质、凝胶聚合物电解质或无机固体电解质。

用于电解质层的电解质的具体组成没有特别限制，只要其可以提供电致变色层或待下面描述的离子存储层的参与电致变色的电解质离子即可。在一个实例中，电解质层可以包含能够提供电解质离子如H⁺、Li⁺、Na⁺、K⁺、Rb⁺或Cs⁺的金属盐。更具体地，电解质层可以包含锂盐化合物例如LiClO₄、LiBF₄、LiAsF₆或LiPF₆，或者钠盐化合物例如NaClO₄。

在一个实例中，电解质层还可以包含碳酸酯化合物作为溶剂。由于基于碳酸酯的化合物具有高的介电常数，因此离子电导率可以提高。作为一个非限制性实例，可以使用诸如PC(碳酸亚丙酯)、EC(碳酸亚乙酯)、DMC(碳酸二甲酯)、DEC(碳酸二乙酯)或EMC(碳酸乙基甲酯)的溶剂作为基于碳酸酯的化合物。

与上述金属电极层不同，对电极层可以为具有优异的透光率的透光电极层。在本申请中，“透光特性”可以意指例如对可见光的透射率为60％或更大，具体地60％至95％的情况。此时，可见光可以意指在380nm至780nm的波长范围内的光，具体地，波长为约550nm的光。透射率可以使用已知的方法或设备例如雾度计等来测量。透射率可以同样地适用于电解质层。

可用于对电极的材料的种类没有特别限制，只要其具有透光特性即可。例如，可以使用具有透光特性的透明导电氧化物或金属网或OMO(氧化物/金属/氧化物)作为对电极。此时，由于OMO可以提供比以ITO为代表的透明导电氧化物更低的薄层电阻，因此其可以有助于改善元件的电致变色速度。

作为可用于对电极层的透明导电氧化物，可以使用与上述作为钝化层材料的透明导电氧化物相同的氧化物。

可用于对电极层的金属网可以具有包含Ag、Cu、Al、Mg、Au、Pt、W、Mo、Ti、Ni或其合金的格子形式。然而，可用于金属网的材料不限于上述列出的金属材料。

可用于对电极层的OMO可以包括上层、下层和介于其间的金属层。在一个实例中，上层和下层可以包含选自Sb、Ba、Ga、Ge、Hf、In、La、Se、Si、Ta、Se、Ti、V、Y、Zn和Zr中的一种或更多种金属的氧化物。此外，OMO的金属层可以包含金属例如Ag、Cu、Zn、Au或Pd。

在没有特别限制的情况下，对电极层的厚度可以为50nm至400nm或更小。

在一个实例中，本申请的电致变色膜还可以包括在电解质层与对电极层之间的离子存储层。离子存储层可以意指形成以在用于电致变色的氧化和还原反应时与电致变色层匹配电荷平衡的层。

离子存储层可以包含具有与电致变色层中使用的电致变色材料的着色特性不同的着色特性的电致变色材料。例如，当电致变色层包含还原性电致变色材料时，离子存储层可以包含氧化性电致变色材料。同样地，可能是相反的。

在一个实例中，电致变色膜还可以包括膜的侧表面上的透光基材。例如，透光基材可以位于金属电极层和/或对电极层的侧表面上。

在一个实例中，透光基材的类型没有特别限制，但是例如，可以使用玻璃或聚合物树脂。更具体地，可以使用聚酯膜例如PC(聚碳酸酯)、PEN(聚(萘二甲酸乙二醇酯))或PET(聚(对苯二甲酸乙二醇酯))，丙烯酸类膜例如PMMA(聚(甲基丙烯酸甲酯))，或者聚烯烃膜例如PE(聚乙烯)或PP(聚丙烯)等作为透光基材。透光基材可以具有与如上所述的对电极层的透射率相同的透射率。

在另一个实例中，电致变色膜还可以包括电源。将电源电连接至装置的方式没有特别限制，这可以由本领域技术人员适当地进行。

在本申请的一个实例中，本申请涉及包括该膜的元件、装置或仪器。装置的类型没有特别限制，但是可以为例如计算机或移动电话的壳体、可穿戴装备如智能手表或智能服装、或者建筑材料如窗户。在一个实例中，该膜可以用作这些元件、装置或仪器中的装饰膜。

有益效果

根据本申请的一个实例，可以提供可以改善电致变色速度并且实现各种美感、色感或立体颜色图案的电致变色膜以及包括其的元件、装置或仪器。

附图说明

图1是用于说明反射层和吸收层的概念的图。

图2是用于说明由根据本申请的反射基材引起的颜色改变原理的概念图。

图3示出了根据本申请的一个实例的反射基材的截面。

图4示出了根据本申请的另一个实例的反射基材的截面。

图5示出了根据本申请的一个实例在光吸收层的厚度改变时出现的对每个波长的总反射率。

图6是示出实施例和比较例的元件特性的比较的图。

具体实施方式

在下文中，将通过实施例详细地描述本申请。然而，本申请的保护范围不受下面描述的实施例的限制。

实验例1：由反射基材引起的颜色改变的确定

制造例1

使用溅射沉积生产反射基材，其中依次层合满足上述关系式和式且厚度为10nm的AlO_xN_y层、厚度为100nm的Al层和透明的PET。基材对每个波长的反射率与图5中相同，以及观察到的基材的颜色如表1所示。

制造例2至6

以相同的方式生产反射基材，不同之处在于如下表1中改变AlO_xN_y层的厚度。基材对每个波长的反射率与图5中相同，以及观察到的基材的颜色如表1所示。

[表1]

实验例2：电致变色速度改善的确定

使用以下方法或设备测量与实验相关的值。

*电阻：根据四点探针法使用已知的薄层电阻计测量实施例的反射基材和与上述实施例的反射基材对应的比较例的ITO的薄层电阻。

*吸光度：使用以下式测量并记录(参见图6)。

吸光度(A)＝lg(I₀/I)＝lg 1/T＝lg 100/％T＝2-lg％T

(其中，吸光度＝-Lg透射率，透射率T＝I/I₀，％T＝100×T，I₀＝进入样品的光的强度，I＝离开样品的光的强度)

*颜色改变时间：测量在经过施加用于着色的电势的时间(50秒)之后观察的达到最终着色状态透射率的80％水平所花费的时间。此外，测量在经过施加用于脱色的电势的时间(50秒)之后观察的达到最终脱色状态透射率的80％水平所花费的时间。

实施例1

将制造例3的反射基材、厚度为80nm的ITO层和厚度为250nm的WO₃层依次层合。准备电解液(LiClO₄(1M)+碳酸亚丙酯(PC))和恒电位仪装置，并施加-1V的电压50秒以使WO₃着色。

经由凝胶聚合物电解质(GPE)将该膜与普鲁士蓝(PB)/ITO层合体结合在一起以生产具有Al/AlO_xN_y/ITO/WO₃/GPE/PB/ITO的层合结构的膜。

在以恒定周期向生产的膜重复施加脱色电压和着色电压的同时测量电致变色速度。分别以(±)1.2V的大小施加每一个周期脱色电压和着色电压50秒。在驱动预定周期稳定之后，测量结果如表2和图6所示。

实施例2

以与实施例1中相同的方式生产电致变色膜，不同之处在于将Al层的厚度改变为50nm。相关的物理特性的测量要点与实施例1的那些相同。

比较例1

在不使用实施例1的反射基材的情况下，在PET基材上依次层合厚度为210nm的ITO层和厚度为250nm的WO₃层。此后，通过相同的过程生产透射式电致变色膜(ITO/WO₃/GPE/PB/ITO)。相关物理特性的测量要点与实施例1的那些相同。

[表2]

	电阻(Ω/□)	着色时间	脱色时间
				实施例1	4	7	6
实施例2	8	7	7
				比较例1	150	30	32

根据表2和图6，可以确定，由于本申请的实施例的反射基材具有非常低的电阻水平，因此他们有助于改善着色时间和脱色时间。

Claims (17)

1.一种电致变色膜，包括反射基材；和电致变色层，

其中所述反射基材包括金属电极层和光吸收层，

其中所述电致变色膜依次包括所述金属电极层、所述光吸收层和所述电致变色层，

其中所述光吸收层包含含有选自钼(Mo)、钛(Ti)、铝(Al)和铜(Cu)的一种或更多种金属的氮化物或氮氧化物。

2.根据权利要求1所述的电致变色膜，其中所述金属电极层包含铝(Al)、金(Au)、银(Ag)、铂(Pt)、钯(Pd)、钛(Ti)、镍(Ni)、钨(W)、铜(Cu)及其合金中的一者或更多者。

3.根据权利要求1所述的电致变色膜，其中所述金属电极层的厚度在10nm至500nm的范围内。

4.根据权利要求1所述的电致变色膜，其中所述光吸收层包含CuO_xN_y，其中0≤x≤1，0≤y≤1，x+y＞0；MoTi_aO_xN_y，其中0<a≤2，0≤x≤3，0≤y≤2，x+y>0；或满足以下关系式的AlO_xN_y，其中0≤x≤1.5，0≤y≤1，x+y>0：

[关系式]

其中，在AlO_xN_y中，x和y分别意指O和N的原子数相对于一个Al原子的比率，以及在上述关系式中，基于100％的包含在AlO_xN_y中的全部元素含量，所述铝元素含量表示Al的元素含量，以原子％计，所述氧元素含量表示O的元素含量，以原子％计，以及所述氮元素含量表示N的元素含量，以原子％计。

5.根据权利要求1所述的电致变色膜，其中所述光吸收层的厚度在5nm至500nm的范围内。

6.根据权利要求5所述的电致变色膜，其中所述光吸收层具有厚度梯度。

7.根据权利要求5所述的电致变色膜，其中所述光吸收层具有不平坦部。

8.根据权利要求5所述的电致变色膜，其中所述光吸收层具有图案。

9.根据权利要求1所述的电致变色膜，其中所述光吸收层的消光系数为0.2至2.5。

10.根据权利要求1所述的电致变色膜，其中所述反射基材的薄层电阻为100Ω/□或更小。

11.根据权利要求1所述的电致变色膜，其中所述电致变色层的厚度在30nm至500nm的范围内。

12.根据权利要求11所述的电致变色膜，其中所述电致变色层包含还原性电致变色材料或氧化性电致变色材料。

13.根据权利要求12所述的电致变色膜，其中所述还原性电致变色材料包括Ti、Nb、Mo、Ta或W的氧化物，以及

所述氧化性电致变色材料包括选自以下的一者或更多者：Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Rh或Ir的氧化物；Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Rh或Ir的氢氧化物；和普鲁士蓝。

14.根据权利要求1所述的电致变色膜，还包括在所述电致变色层与所述光吸收层之间的钝化层，其中所述钝化层包含透明导电氧化物。

15.根据权利要求1所述的电致变色膜，依次包括第二光吸收层、所述金属电极层、第一光吸收层和所述电致变色层。

16.根据权利要求15所述的电致变色膜，还包括在所述电致变色层与所述第一光吸收层之间或者在所述电致变色层与所述第二光吸收层之间的钝化层，其中所述钝化层包含透明导电氧化物。

17.一种包括根据权利要求1至16中任一项所述的电致变色膜的装置。

Images