CN110568683B - 阵列基板、显示装置及其测试方法 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种阵列基板、显示装置及其测试方法，涉及显示技术领域，阵列基板包括：衬底基板以及位于衬底基板同一侧的扇出走线和测试电极；扇出走线位于扇出走线区，沿垂直于衬底基板所在平面的方向，任意相邻的两条扇出走线之间包括第一间隔区域；测试电极位于扇出走线区，沿垂直于衬底基板所在平面的方向，测试电极与扇出走线之间由至少一层绝缘层隔离；测试电极包括主体部和分别与主体部连接的多个延伸部，主体部和扇出走线在垂直于衬底基板所在平面的方向上的投影具有交叠区域；延伸部和扇出走线在衬底基板所在平面的正投影不交叠，且至少部分延伸部在衬底基板所在平面的正投影位于第一间隔区域。如此，既方便解析测试还有利于窄边框设计。

Description

阵列基板、显示装置及其测试方法

技术领域

本发明涉及显示技术领域，更具体地，涉及一种阵列基板、显示装置及其测试方法。

背景技术

随着面板显示屏运用越来越广泛，宽屏技术成为其中的重要技术项，与此同时，显示面板窄下边框的技术也越来越重要。先进的电子产品，尤其是手携式电子产品，越来越趋向于小尺寸化。柔性电路板(Flexible Printed Circuit简称FPC)是实现电子产品窄边框化的重要技术。FPC是以聚酰亚胺或聚酯薄膜为基材制成的一种具有高度可靠性，绝佳的可挠性印刷电路板，具有配线密度高、重量轻、厚度薄、弯折性好的特点。

现有技术中，会将控制芯片设计在柔性电路板上，将柔性电路板绑定在显示面板的绑定区，再将柔性电路板反折至显示面板的背面，从而实现显示装置的窄边框化。在显示面板的绑定区周围的非显示区，通常设置有若干的扇出走线，扇出走线用于与显示面板上的电路电连接。图1所示为现有技术所提供的显示面板的一种结构示意图，在图1所示视角下，在显示面板300的下边框区域设置有扇出走线301和焊盘302，在VT测试阶段，可以通过解焊盘302为显示面板提供显示信号，但当将柔性电路板与显示面板电连接后，柔性电路板会将焊盘302覆盖防止焊盘302被腐蚀，导致当显示装置出现显示异常时，工作人员没办法利用焊盘对显示面板中存在的问题进行解析。但是，另外当需要进一步减小显示面板的边框宽度时，在显示面板上也没有空间设置焊盘，导致无法在显示面板出现显示异常时对显示面板中所存在的问题进行解析。

发明内容

有鉴于此，本发明提供了一种阵列基板、显示装置及其测试方法，将用来进行测试解析的测试电极设置于扇出走线区，复用扇出走线区的空间，既有利于实现显示装置的窄边框设计，又能够实现对扇出走线所连接的电路的解析测试，从而有利于提升显示装置的良率。

第一方面，本申请提供一种阵列基板，包括显示区和围绕所述显示区的非显示区，所述非显示区包括扇出走线区；所述阵列基板包括：衬底基板以及位于所述衬底基板同一侧的扇出走线和测试电极；

所述扇出走线位于所述扇出走线区，沿垂直于所述衬底基板所在平面的方向，任意相邻的两条所述扇出走线之间包括第一间隔区域；

所述测试电极位于所述扇出走线区，沿垂直于所述衬底基板所在平面的方向，所述测试电极与所述扇出走线之间由至少一层绝缘层隔离；

所述测试电极包括主体部和分别与所述主体部连接的多个延伸部，所述主体部和所述扇出走线在垂直于所述衬底基板所在平面的方向上的投影具有交叠区域；所述延伸部和所述扇出走线在所述衬底基板所在平面的正投影不交叠，且至少部分所述延伸部在所述衬底基板所在平面的正投影位于所述第一间隔区域。

第二方面，本申请提供一种显示装置，包括本申请所提供的阵列基板。

第三方面，本申请还体用一种显示装置的测试方法，包括：

提供本申请所提供的显示装置；

对所述交叠区域进行激光烧熔，使所述测试电极和任一所述扇出走线电连接；

向所述测试电极输入测试信号，使所述测试信号输入与所述测试电极电连接的所述扇出走线。

与现有技术相比，本发明提供的阵列基板、显示装置及其测试方法，至少实现了如下的有益效果：

本申请所提供的阵列基板、显示装置及其测试方法中，在扇出走线区引入了测试电极，测试电极的主体部沿垂直于衬底基板所在平面的正投影与扇出走线交叠，延伸部沿垂直于衬底基板所在平面的正投影位于第一间隔区域，如此，测试电极在阵列基板上的空间复用扇出走线区即可，无需占用其他非显示区的空间，有利于实现显示装置的窄边框设计。当显示面板出现显示异常，需要对扇出走线所连接的电路进行解析测试时，对主体部和待测扇出走线的交叠区域进行激光烧熔，使测试电极和待测扇出走线形成电连接，如此即可通过测试电极获取到与其电连接待测扇出走线及电路的工作状态(例如电路对应的波形等)，通过对工作状态进行分析即可判断该待测扇出走线及与其连接的电路是否出现异常。因此，本申请的上述设计既有利于实现显示装置的窄边框设计，还不会影响对扇出走线所连接的电路的测试与解析，从而有利于提升显示装置的良率。

当然，实施本发明的任一产品必不特定需要同时达到以上所述的所有技术效果。

通过以下参照附图对本发明的示例性实施例的详细描述，本发明的其它特征及其优点将会变得清楚。

附图说明

被结合在说明书中并构成说明书的一部分的附图示出了本发明的实施例，并且连同其说明一起用于解释本发明的原理。

图1所示为现有技术所提供的显示面板的一种结构示意图；

图2所示为本申请实施例所提供的阵列基板的一种俯视图；

图3所示为图2实施例所提供的阵列基板中扇出走线区的局部放大图；

图4所示为图3实施例所提供的阵列基板的一种AA’截面图；

图5所示为将主体部和待测扇出走线的交叠区域进行激光烧熔后的一种示意图；

图6所示为图3实施例所提供的阵列基板的另一种AA’截面图；

图7所示为测试电极与第一电极层通过过孔连接时的一种俯视图；

图8所示为图2实施例所提供的阵列基板的一种BB’截面图；

图9所示为本申请实施例所提供的测试电极与扇出走线的一种相对位置关系图；

图10所示为本申请实施例所提供的测试电极与扇出走线的另一种相对位置关系图；

图11所示为本申请实施例所提供的测试电极与扇出走线的再一种相对位置关系图；

图12所示为本申请实施例所提供的测试电极与扇出走线的又一种相对位置关系图；

图13所示为本申请实施例所提供的测试电极与扇出走线的又一种相对位置关系图；

图14所示为第一电极层的一种俯视图；

图15所示为本申请实施例所提供的阵列基板的另一种俯视图；

图16所示为本申请实施例所提供的显示装置的一种结构示意图；

图17所示为本申请实施例所提供的显示装置的测试方法的一种流程图。

具体实施方式

现在将参照附图来详细描述本发明的各种示例性实施例。应注意到：除非另外具体说明，否则在这些实施例中阐述的部件和步骤的相对布置、数字表达式和数值不限制本发明的范围。

以下对至少一个示例性实施例的描述实际上仅仅是说明性的，决不作为对本发明及其应用或使用的任何限制。

对于相关领域普通技术人员已知的技术、方法和设备可能不作详细讨论，但在适当情况下，所述技术、方法和设备应当被视为说明书的一部分。

在这里示出和讨论的所有例子中，任何具体值应被解释为仅仅是示例性的，而不是作为限制。因此，示例性实施例的其它例子可以具有不同的值。

应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步讨论。

现有技术所提供的显示面板300中，例如请参见图1，通常将焊盘302设定在绑定区303沿第一方向的两侧，在VT测试阶段，可以通过焊盘302为显示面板提供显示信号，但当将柔性电路板与显示面板电连接后，柔性电路板会将焊盘302覆盖防止焊盘302被腐蚀，导致当显示装置出现显示异常时，工作人员没办法利用焊盘对显示面板中存在的问题进行解析。另外，当需要进一步减小显示装置300中绑定区所在侧的非显示区的边框宽度时，边框宽度压缩，焊盘302所在的空间也被压缩，进而导致在绑定区所在侧的非显示区无空间放置焊盘，导致无法在显示面板出现显示异常时对扇出走线301及对应的电路进行解析。

有鉴于此，本发明提供了一种阵列基板、显示装置及其测试方法，将用来进行测试解析的测试电极设置于扇出走线区，复用扇出走线区的空间，既有利于实现显示装置的窄边框设计，又能够实现对扇出走线所连接的电路的测试与解析，从而有利于提升显示装置的良率。

以下将结合附图和具体实施对本发明进行详细说明。

图2所示为本申请实施例所提供的阵列基板的一种俯视图，图3所示为图2实施例所提供的阵列基板中扇出走线区的局部放大图，图4所示为图3实施例所提供的阵列基板的一种AA’截面图，请结合图2至图4，一种阵列基板100，包括显示区10和围绕显示区10的非显示区20，非显示区20包括扇出走线区21；阵列基板100包括：衬底基板50以及位于衬底基板50同一侧的扇出走线30和测试电极40；

扇出走线30位于扇出走线区21，沿垂直于衬底基板50所在平面的方向，任意相邻的两条扇出走线30之间包括第一间隔区域31；

测试电极40位于扇出走线区21，沿垂直于衬底基板50所在平面的方向，测试电极40与扇出走线30之间由至少一层绝缘层45隔离；

测试电极40包括主体部41和分别与主体部41连接的多个延伸部42，主体部41和扇出走线30在垂直于衬底基板50所在平面的方向上的投影具有交叠区域；延伸部42和扇出走线30在衬底基板50所在平面的正投影不交叠，且至少部分延伸部42在衬底基板50所在平面的正投影位于第一间隔区域31。

需要说明的是，本申请实施例所提供的附图仅为示意性说明，例如图2仅示出了显示区10和非显示区20的一种相对位置关系，并不代表显示区10和非显示区20的实际尺寸，而且扇出走线30也仅为示意性说明，也并不代表扇出走线30的实际尺寸和数量。

具体地，请结合图2至图4，本申请实施例所提供的阵列基板100中，在扇出走线区21引入了测试电极40，测试电极40的主体部41沿垂直于衬底基板50所在平面的正投影与扇出走线30交叠，延伸部42沿垂直于衬底基板50所在平面的正投影位于相邻扇出走线30所形成的第一间隔区域31，如此，本申请所提供的阵列基板100中保留了测试电极40，而且测试电极40在阵列基板100上的空间复用扇出走线区21即可，无需占用其他非显示区20的空间，有利于实现显示装置的窄边框设计。当需要对扇出走线30所连接的电路进行测试时，请参见图5，图5所示为将主体部41和待测扇出走线30的交叠区域51进行激光烧熔后的一种示意图，采用激光照射的方式对主体部41和待测扇出走线30的交叠区域进行激光烧熔，使测试电极40和待测扇出走线30形成电连接，如此即可通过测试电极40获取到与其电连接的待测扇出走线及电路的工作状态，示例性的，可以使用示波器检测扇出走线的信号是否出现异常，即通过示波器与测试电极电连接实现检测显示面板的信号是否异常(例如比对示波器所读取的波形与正常的波形是否有差异)，这种方法为产品不良解析提供了便捷可靠的方法，实现对扇出走线30以及与扇出走线30所连接的电路的解析测试。因此，本申请的上述设计即有利于实现显示装置的窄边框设计，还不会影响对扇出走线30所连接的电路的测试与解析，从而有利于提升显示装置的良率。此外，本申请将测试电极40设计为主体部41和延伸部42的结构，并将延伸部42设置于相邻两条扇出走线30之间时，使得测试电极40仅在在主体部41与扇出走线30发生交叠，使得测试电极40与扇出走线30整体的交叠面积较小，从而有利于减小测试电极40与扇出走线30之间的寄生电容，因而有利于减小阵列基板100的整体功耗。

需要说明的是，本申请的测试电极40中，与主体部41连接的延伸部42的数量可根据实际情况进行设定，本申请的各附图仅为示意性说明。

可选地，请参见图4和图5，在垂直于衬底基板50所在平面的方向，测试电极40位于扇出走线30远离衬底基板50的一侧；

请进一步参见图6，图6所示为图3实施例所提供的阵列基板100的另一种AA’截面图，阵列基板100还包括第一电极层60，在垂直于衬底基板50所在平面的方向，第一电极层60位于测试电极40远离衬底基板50的一侧；在扇出走线区21，第一电极层60通过至少一个过孔70与测试电极40电连接。

具体地，请参见图6，本申请实施例所提供的阵列基板100中，将测试电极40与位于测试电极40远离衬底基板50一侧的第一电极层60电连接，使得测试电极40与第一电极层60等电位，如此，当需要对扇出走线30以及与扇出走线30连接的电路进行测试时，测试信号可通过第一电极层60输入至测试电极40，进而再输入至扇出走线30。由于第一电极层60位于测试电极40远离衬底基板50的一侧，更靠近显示装置的出光面，因此在阵列基板100的非显示区20，可暴露出第一电极层60的部分区域作为提供测试信号的接口，工作人员可很方便地通过第一电极层60向测试电极40输入测试信号，测试可操作性更强。此外，当显示装置出现故障时，通过该第一电极层60暴露出的接口也可很方便地对显示装置进行不良解析。因此，将第一电极层60与测试电极40电连接的方式极大方便了对扇出走线30及其所连接的电路的测试与解析。另外，由于本申请中的测试电极40是设置在第一电极层60靠近衬底基板50的一侧的，不会暴露在外面，因此还避免了测试电极40被腐蚀或损坏的风险。

可选地，图7所示为测试电极40与第一电极层60通过过孔70连接时的一种俯视图，在图7所示视角下，位于顶层的是测试电极40，位于底层的是第一电极层60。需要说明的是，为了更直观地体现测试电极40与第一电极层60的位置关系，图7所示视角下将测试电极40示意在了顶层位置，事实上，在显示面板中，第一电极层60相比测试电极40更靠近显示面板的出光面，也就是说第一电极层60是设置在测试电极40远离衬底基板的一侧的。另外，图7中也是以位于扇出走线区的第一电极层60呈面状结构的情形进行说明的，除此之外，位于扇出走线区的第一电极层60还可体现为其他形状。

请参见图7，测试电极40中，各延伸部42分别通过至少一个过孔70与第一电极层60电连接。本申请将测试电极40中的每个延伸部42分别通过至少一个过孔70与电极层电连接时，有利于实现测试电极40与第一电极层60之间的可靠电连接，避免出现电连接不稳定而导致测试信号无法可靠传输的现象，并且每个延伸部42分别通过至少一个过孔70与电极层电连接，当其中一些扇出走线检测后，可采用激光切断的方法将已测试完成的扇出走线与测试电极的交叠区域进行激光切断，使已测试完成的扇出走线与测试电极绝缘，这样在每个延伸部分别有至少一个过孔与电极电连接，可以保证其他未测试的扇出走线与电极层的电连接。

可选地，图8所示为图2实施例所提供的阵列基板100的一种BB’截面图，请参见图8，本申请实施例所提供的阵列基板100中，还包括像素电极层82和公共电极层81，像素电极层82位于公共电极层81远离衬底基板50的一侧，或者，像素电极层82位于公共电极层81靠近衬底基板50的一侧；

当像素电极层82位于公共电极层81远离衬底基板50的一侧时，像素电极层82复用为第一电极层60；当像素电极位于公共电极层81靠近衬底基板50的一侧时，公共电极层81复用为第一电极层60。

对应到液晶显示装置中，液晶的偏转所需要的驱动电压通常是由相对设置的像素电极和公共电极共同形成的，在实际的膜层结构中，当将像素电极和公共电极均设置在阵列基板100上时，像素电极可位于公共电极远离衬底基板50的一侧，公共电极也可位于像素电极远离衬底基板50的一侧。本申请将电极层中最靠近彩膜基板一侧的电极层复用为本申请中的第一电极层60时，在扇出走线区21对应的位置，第一电极层60中的至少部分区域即可方便暴露出测试接口，有利于省略刻蚀流程，从而有利于提升阵列基板100的生产效率。

可选地，本申请实施例所提供的扇出走线30包括第一扇出走线34，请参见图3，第一扇出走线34用于传递栅极驱动信号，可选的第一扇出走线34与栅极驱动电路的时钟信号线电连接；主体部41与各第一扇出走线34在垂直于衬底基板50所在平面的正投影均具有交叠区域。

具体地，请继续参见图3，当第一扇出走线34用于传递栅极驱动信号时，该第一扇出走线34通常与阵列基板100上的栅极驱动单元电连接，栅极驱动单元通常与显示区10中的扫描线连接，用于控制显示区扫描线的打开和关闭。本申请将测试电极40中的主体部41分别与各第一扇出走线34在垂直于衬底基板50所在平面的正投影交叠时，通过激光烧熔的方式即可方便实现主体部41与各第一扇出走线34的分别电连接。当产品出现显示异常时，例如不能点亮或点亮后有亮点、亮线等，可通过激光烧熔的方式将第一扇出走线34与测试电极的主体部41电连接，对第一扇出走线34及所连接的电路进行测试，从而判断出产品出现显示异常的原因。

需要说明的是，本申请中的扇出走线30除包括与栅极驱动单元电连接的第一扇出走线34外，还可包括其他扇出走线，例如与数据线连接的扇出走线等，通过本申请所提供的测试电极40中的主体部41同样能够与此部分扇出走线交叠而实现对与数据线连接的扇出走线及数据线的测试，对于不同类型的扇出走线可提供不同的测试信号来进行测试。

可选地，图9所示为本申请实施例所提供的测试电极40与扇出走线30的一种相对位置关系图，图10所示为本申请实施例所提供的测试电极40与扇出走线30的另一种相对位置关系图，图11所示为本申请实施例所提供的测试电极40与扇出走线30的再一种相对位置关系图，图12所示为本申请实施例所提供的测试电极40与扇出走线30的又一种相对位置关系图。本申请中的测试电极40的形状可根据实际情况而定，例如请参见图9，同一测试电极40包括一个主体部41，各延伸部42均匀分布于主体部41的同一侧，形成类似于梳齿状的结构；或者，请参见图10，同一测试电极40包括一个主体部41，各延伸部42对称分布于主体部41的两侧；或者，请参见图11，同一测试电极40包括至少两个主体部41，各主体部41通过至少一个延伸部42电连接；再或者，请参见图12，多个延伸部42和至少两个主体部41在衬底基板50所在平面的正投影形成网格状结构。

具体地，本申请中测试电极40的结构可根据实际情况灵活设定，在主体部41与扇出走线30在衬底基板50的正投影交叠且延伸部42与扇出走线30在衬底基板50的正投影不交叠的前提下，可灵活设定测试电极40的结构，例如可设置为如图9所示的梳齿状，亦可设置为如图10所示的“王”字形，或者可设置为如图11所示的“目”字形状，再或者可设置为如图12所示的网格状，均有利于减小在引入测试电极40时，测试电极40与扇出走线30之间的寄生电容。当然，图9-图12仅对测试电极40的结构进行了举例说明，在此基础上还可对测试电极40结构进行变形形成其他可行的结构，本申请对此不进行具体限定。当测试电极40包括两个或更多个主体部41时，例如图11和图12的实施例中测试电极40均包括两个主体部41，有利于增加测试电极41中的有效测试区域，从而有利于简化测试操作难度。

可选地，请参见图9-图12，同一测试电极40中，主体部41和各延伸部42分别通过至少一个过孔70与第一电极层60电连接。需要说明的是，图9-12所示实施例中所示出的过孔70指的是测试电极40与第一电极层60所电连接的过孔70，图9-12中并未示出第一电极层60。本申请将同一测试电极40中的主体部41和各延伸部42分别通过过孔70与第一电极层60电连接，有利于提升测试电极40与第一电极层60之间电连接的可靠性，同时，测试电极40和第一电极层60电连接后，相当于将测试电极40与第一电极层60进行了并联，从而还有利于降低测试电极40的电阻。

可选地，请参见图9-12，过孔70在测试电极40上均匀分布。此处的均匀分布指的是过孔70在测试电极40上的投影是均匀的，例如在图9-12的实施例中体现为：在测试电极40中延伸部42的延伸方向上，任意相邻两个过孔70之间距离均相等。此种设计方式使得过孔70的设置位置更加规则，在各延伸部42上形成各过孔70时，采用统一的尺寸规则即可，因而有利于简化测试电极40与第一电极层60之间的电连接流程，提高阵列基板100的生产效率。

需要说明的是，在利用激光烧熔的方式使得第一电极层60与测试电极40电连接时，除采用激光照射第一电极层60与测试电极40之间的交叠区域的方式外，测试电极40上还可包括激光焊盘80，例如请参见图13，图13所示为本申请实施例所提供的测试电极40与扇出走线30的又一种相对位置关系图，该实施例中，测试电极40包括L型的激光焊盘80，该L型的激光焊盘80一端与测试电极40电连接，另一端与扇出走线30在衬底基板50所在平面的正投影交叠，在激光烧熔的过程中，采用激光照射L型焊盘与扇出走线30的交叠区域，同样可实现测试电极40与扇出走线30之间的电连接。当然，图13中的L型激光焊盘80仅为示意性说明，激光焊盘80的结构还可体现为其他形状，本申请对此不进行具体限定。

可选地，第一电极层60位于扇出走线区21中的部分包括连接电极61，连接电极61和测试电极40在衬底基板50所在平面的正投影重合。

具体地，请参见图14，图14所示为第一电极层60的一种俯视图，该实施例以第一电极层60在显示区10的部分为面状电极结构的情形进行说明，该第一电极层60位于扇出走线区21的部分为连接电极61，该连接电极61用于与测试电极40电连接，可选地，本申请将该连接电极61的形状设置为与测试电极40一样的形状，例如该实施例中设置为梳齿状，使得梳齿状结构的连接电极61的各部分与测试电极40中的各组成部分一一对应，第一电极层60暴露，通过第一电极层60即可对测试电极40中的各个部位进行精准定位，从而有利于提升阵列基板100测试的准确性。此外，本申请将位于扇出走线区的连接电极设置成与测试电极一样的形状时，相比整面状结构，还有利于减小位于扇出走线区的连接电极的面积，从而减小该连接电极与显示面板中其他金属膜层的交叠面积，因而有利于减小在显示面板上形成的寄生电容。

可选地，图15所示为本申请实施例所提供的阵列基板100中绑定区一侧边框的一种结构示意图，非显示区20还包括绑定区，绑定区位于扇出走线区21远离显示区10的一侧；

绑定区绑定有控制芯片90，控制芯片90的信号输出端与扇出走线30电连接；

所绑定区还包括沿扇出走线30的排布方向位于控制芯片90两侧的绑定焊盘91，绑定焊盘91与控制芯片90的信号输入端电连接，绑定焊盘91用于绑定柔性电路板。

具体地，请继续参见图15，本申请将用于绑定柔性电路板的绑定焊盘91沿扇出走线30的排布方向设置在控制芯片90的两侧，相比现有技术中将绑定焊盘91设置在控制芯片90下方(图15所示视角的下方)的方式，有利于减小图15所示视角下绑定区所占用的纵向空间，即数据线延伸方向上的占用空间，因而有利于进一步实现阵列基板100的窄边框设计，进而实现显示装置的窄边框设计。

可选地，请参见图8，阵列基板100包括沿垂直于衬底基板50所在平面的方向设置在衬底基板50一侧的第一金属层71、第二金属层72和第三金属层73，第二金属层72位于第一金属层71和第三金属层73之间，且第一金属层71位于第二金属层72靠近衬底基板50的一侧；

本申请实施例提供的扇出走线30(例如图2和图3中的扇出走线30)位于第一金属层71，测试电极40位于第二金属层72或第三金属层73；或者，扇出走线30位于第一金属层71和/或第二金属层72，测试电极40位于第三金属层73。

需要说明的是，本申请中的第一电极层60时位于第三金属层73远离衬底基板50的一侧的，在设置扇出走线30、测试电极40和第一电极层60时，沿垂直于衬底基板50所在平面的方向，三者只要满足测试电极40位于扇出走线30和第一电极层60之间，且扇出走线30位于测试电极40靠近衬底基板50的一侧即可，这样即可满足测试电极40分别与扇出走线30和第一电极层60的电连接。

基于同一发明构思，本申请还提供一种显示装置，请参见图16，图16所示为本申请实施例所提供的显示装置200的一种结构示意图，该显示装置200包括本申请上述任一实施例所提供的阵列基板100。本申请所提供的显示装置200可以为：手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。本申请中显示装置200的实施例可参见上述阵列基板100的实施例，重复之处此处不再赘述。

基于同一发明构思，本申请还提供一种显示装置的测试方法，请参见图17，图17所示为本申请实施例所提供的显示装置的测试方法的一种流程图，该测试方法包括：

步骤101、提供如图16所示的显示装置200，该显示装置200包括本申请上述任一实施例所提供的阵列基板100，例如图2所示的阵列基板100；

步骤102、请参考图4和图5，对交叠区域51进行激光烧熔，使测试电极40和任一扇出走线30电连接；

步骤103、向测试电极40输入测试信号，使测试信号输入与测试电极40电连接的扇出走线30。

具体地，当需要利用测试电极对某一待测扇出走线及其所连接的电路进行测试时，可以先查找到测试电极的主体部与该待测扇出走线之间的交叠区域，然后利用激光对该交叠区域进行照射，使二者之间激光烧熔而形成电连接，此时，即可通过测试电极获取到与其电连接的待测扇出走线及电路的工作状态，示例性的，可以使用示波器检测扇出走线的信号是否出现异常，即通过示波器与测试电极电连接实现检测显示面板的信号是否异常(例如比对示波器所读取的波形与正常的波形是否有差异)，这种方法为产品不良解析提供了便捷可靠的方法。

可选地，采用上述方法进行测试时，当测试完一条扇出走线的信号后，测量另一扇出走线的信号之前，还包括：采用激光切断的方法将已测试完成的扇出走线与测试电极的交叠区域进行激光切断，使已测试完成的扇出走线与测试电极绝缘。如此，在对另一待测扇出走线进行测量时，能够确保测试电极仅与一条待测扇出走线电连接，而不与其他扇出走线电连接，从而有利于保证测试信号的准确发送，有利于提升测试过程的准确性。

需要说明的是，上述测试方法中，激光烧熔或激光切断的过程中，激光照射的能量和时间可根据实际情况具体设定，本申请对此不进行具体限定。

与现有技术相比，本申请所述的阵列基板、显示装置及其测试方法，达到了如下效果：

本申请所提供的阵列基板、显示装置及其测试方法中，在扇出走线区引入了测试电极，测试电极的主体部沿垂直于衬底基板所在平面的正投影与扇出走线交叠，延伸部沿垂直于衬底基板所在平面的正投影位于第一间隔区域，如此，测试电极在阵列基板上的空间复用扇出走线区即可，无需占用其他非显示区的空间，有利于实现显示装置的窄边框设计。当显示面板出现显示异常，需要对扇出走线所连接的电路进行解析测试时，对主体部和待测扇出走线的交叠区域进行激光烧熔，使测试电极和待测扇出走线形成电连接，如此即可通过测试电极获取到与其电连接待测扇出走线及电路的工作状态(例如电路对应的波形等)，通过对工作状态进行分析即可判断该待测扇出走线及与其连接的电路是否出现异常。因此，本申请的上述设计既有利于实现显示装置的窄边框设计，还不会影响对扇出走线所连接的电路的测试与解析，从而有利于提升显示装置的良率。

虽然已经通过例子对本发明的一些特定实施例进行了详细说明，但是本领域的技术人员应该理解，以上例子仅是为了进行说明，而不是为了限制本发明的范围。本领域的技术人员应该理解，可在不脱离本发明的范围和精神的情况下，对以上实施例进行修改。本发明的范围由所附权利要求来限定。

Claims (16)

1.一种阵列基板，其特征在于，包括显示区和围绕所述显示区的非显示区，所述非显示区包括扇出走线区；所述阵列基板包括：衬底基板以及位于所述衬底基板同一侧的扇出走线和测试电极；

所述扇出走线位于所述扇出走线区，沿垂直于所述衬底基板所在平面的方向，任意相邻的两条所述扇出走线之间包括第一间隔区域；

所述测试电极位于所述扇出走线区，沿垂直于所述衬底基板所在平面的方向，所述测试电极与所述扇出走线之间由至少一层绝缘层隔离；

所述测试电极包括主体部和分别与所述主体部连接的多个延伸部，所述主体部和所述扇出走线在垂直于所述衬底基板所在平面的方向上的投影具有交叠区域；所述延伸部和所述扇出走线在所述衬底基板所在平面的正投影不交叠，且至少部分所述延伸部在所述衬底基板所在平面的正投影位于所述第一间隔区域；

当显示异常时，将用于显示的所述扇出走线与所述测试电极的所述主体部电连接进行测试。

2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，在垂直于所述衬底基板所在平面的方向，所述测试电极位于所述扇出走线远离所述衬底基板的一侧；

所述阵列基板还包括第一电极层，在垂直于所述衬底基板所在平面的方向，所述第一电极层位于所述测试电极远离所述衬底基板的一侧；在所述扇出走线区，所述第一电极层通过至少一个过孔与所述测试电极电连接。

3.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述测试电极中，各所述延伸部分别通过至少一个所述过孔与所述第一电极层电连接。

4.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板还包括像素电极层和公共电极层，所述像素电极层位于所述公共电极层远离所述衬底基板的一侧，或者，所述像素电极层位于所述公共电极层靠近所述衬底基板的一侧；

当所述像素电极层位于所述公共电极层远离所述衬底基板的一侧时，所述像素电极层复用为所述第一电极层；当所述像素电极位于所述公共电极层靠近所述衬底基板的一侧时，所述公共电极层复用为所述第一电极层。

5.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述扇出走线包括第一扇出走线，所述第一扇出走线用于传递栅极驱动信号；

所述主体部与各所述第一扇出走线在垂直于所述衬底基板所在平面的正投影均具有交叠区域。

6.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，同一所述测试电极包括一个所述主体部，各所述延伸部均匀分布于所述主体部的同一侧；或者，各所述延伸部对称分布于所述主体部的两侧。

7.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，同一所述测试电极包括至少两个所述主体部，各所述主体部通过至少一个所述延伸部电连接。

8.根据权利要求7所述的阵列基板，其特征在于，多个所述延伸部和至少两个所述主体部在所述衬底基板所在平面的正投影形成网格状结构。

9.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，同一所述测试电极中，所述主体部和各所述延伸部分别通过至少一个过孔与所述第一电极层电连接。

10.根据权利要求9所述的阵列基板，其特征在于，所述过孔在所述测试电极上均匀分布。

11.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述第一电极层位于所述扇出走线区中的部分包括连接电极，所述连接电极和所述测试电极在所述衬底基板所在平面的正投影重合。

12.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述非显示区还包括绑定区，所述绑定区位于所述扇出走线区远离所述显示区的一侧；

所述绑定区绑定有控制芯片，所述控制芯片的信号输出端与所述扇出走线电连接；

所绑定区还包括沿所述扇出走线的排布方向位于所述控制芯片两侧的绑定焊盘，所述绑定焊盘与所述控制芯片的信号输入端电连接，所述绑定焊盘用于绑定柔性电路板。

13.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板包括沿垂直于所述衬底基板所在平面的方向设置在所述衬底基板一侧的第一金属层、第二金属层和第三金属层，所述第二金属层位于所述第一金属层和所述第三金属层之间，且所述第一金属层位于所述第二金属层靠近所述衬底基板的一侧；

所述扇出走线位于所述第一金属层，所述测试电极位于所述第二金属层或所述第三金属层；或者，所述扇出走线位于所述第一金属层和/或所述第二金属层，所述测试电极位于所述第三金属层。

14.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1至13之任一所述的阵列基板。

15.一种显示装置的测试方法，其特征在于，包括：

提供显示装置，所述显示装置包括权利要求1至13之任一所述的阵列基板；

对所述交叠区域进行激光烧熔，使所述测试电极和任一所述扇出走线电连接；

向所述测试电极输入测试信号，使所述测试信号输入与所述测试电极电连接的所述扇出走线。

16.根据权利要求15所述的测试方法，其特征在于，当测试完一条所述扇出走线的信号后，测量另一所述扇出走线的信号之前，还包括：采用激光切断的方法将已测试完成的扇出走线与所述测试电极的交叠区域进行激光切断，使已测试完成的所述扇出走线与所述测试电极绝缘。

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