CN104777637A - 阵列基板、触控显示装置及其测试方法 - Google Patents

阵列基板、触控显示装置及其测试方法 Download PDF

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Abstract

一种阵列基板、触控显示装置及其测试方法，所述阵列基板包括：基底；设置在所述基底同一侧的公共电极结构和测试导电结构，所述公共电极结构和测试导电结构之间相互绝缘；所述测试导电结构与所述公共电极结构在垂直所述基底方向上的投影具有交叠区域，所述交叠区域可进行激光烧熔，使所述测试导电结构和所述公共电极结构电连接。当需要所述公共电极的电位进行测试时，可以对所述交叠区域可进行激光烧熔，所述测试导电结构和所述公共电极结构电连接，将探针扎到所述测试导电结构上，从而减小了测试公共电极电位的难度，并且不容易使探针接触到所述公共电极结构周围的其他器件，提高了测量结果的精度。

Description

阵列基板、触控显示装置及其测试方法
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种阵列基板、触控显示装置及其测试方法。
背景技术
触摸屏作为一种输入媒介，是目前最为简单、方便、自然的一种人机交互方式。在液晶显示器(liquid crystal display，LCD)或有机发光二极管(OrganicLight-Emitting Diode,OLED)显示器上集成触控功能，已经成为越来越多平板显示器厂商的研发热点。
为了进一步减小触摸屏的体积，以减小设置有触摸屏的移动终端的尺寸，近年来显示领域发展了盒内触摸显示面板(in cell TP)，盒内触摸显示面板将触控电极集成在液晶显示面板之内，因此，采用盒内触摸显示技术的触摸屏可以比采用全贴合技术(One glass solution，OGS)尺寸更小。
在现有技术in cell TP中，将像素区中公共电极复用为触控电极，能够减小in cell TP的体积。由于膜层结构所限，复用为触控电极的公共电极在绝缘层下方，这就使解析过程中的探测公共电极电位变得相当困难。示波器探针或是平板显示器手动探测设备(FDP manual prober)的探针都不容易扎穿绝缘层，尤其是在像素电极位于公共电极上方的情况下，在扎探针时很容易使探针接触到像素电极，如果使用暴力扎穿，就容易使像素电极和公共电极相互短路，影响测量结果。
为此，提供一种阵列基板、触控显示装置及其测试方法，减小测试公共电极电位的难度，提高测量结果的精度成为本领域技术人员亟待解决的问题。
发明内容
本发明解决的问题是提供一种阵列基板、触控显示装置及其测试方法，减小测试公共电极电位的难度，提高测量结果的精度。
为解决上述问题，本发明提供一种阵列基板，包括：
基底；
设置在所述基底同一侧的公共电极结构和测试导电结构，所述公共电极结构和测试导电结构之间相互绝缘；
所述测试导电结构与所述公共电极结构在垂直所述基底方向上的投影具有交叠区域，所述交叠区域可进行激光烧熔，使所述测试导电结构和所述公共电极结构电连接。
与现有技术相比，本发明的技术方案具有至少以下优点之一：所述阵列基板可以应用于显示装置中，当需要对所述公共电极的电位进行测试时，可以对所述交叠区域可进行激光烧熔，使所述测试导电结构和所述公共电极结构电连接，将探针扎到所述测试导电结构上，从而减小了测试公共电极电位的难度，并且不容易使探针接触到所述公共电极结构周围的其他器件，提高了测量结果的准确性；在显示装置正常工作时，所述公共电极结构和测试导电结构之间相互绝缘，所述公共电极结构上的电位不会受到所述测试导电结构的影响。
本发明还提供一种触控显示装置，包括:
本发明提供的阵列基板；
与所述阵列基板相对设置的彩色滤光片；
位于阵列基板和彩色滤光片之间的液晶层。
当需要所述公共电极的电位进行测试时，可以对所述交叠区域可进行激光烧熔，使所述测试导电结构和所述公共电极结构电连接，将探针扎到所述测试导电结构上，从而减小了测试公共电极电位的难度，并且不容易使探针接触到所述公共电极结构周围的其他器件，提高了测量结果的精度；在触控显示装置正常工作时，所述公共电极结构和测试导电结构之间相互绝缘，所述公共电极结构上的电位不容易受到所述测试导电结构的影响。
本发明还提供一种触控显示装置的测试方法，包括：提供触控显示装置，所述触控显示装置包括本发明提供的阵列基板；
对所述交叠区域进行激光烧熔，使所述测试导电结构和所述公共电极结构电连接；
对所述测试导电结构的电位进行测试，以得到所述公共电极结构的电位。
采用本发明触控显示装置的测试方法对所述公共电极的电位进行测试时，可以将探针扎到所述测试导电结构上，从而减小了测试公共电极电位的难度，并且不容易使探针接触到所述公共电极结构周围的其他器件，提高了测量结果的精度。
附图说明
图1是本发明一种阵列基板的示意图；
图2是图1所示阵列基板中交叠区域周边的放大图；
图3是图1所示阵列基板中部分区域的剖视图；
图4是图1所示阵列基板中交叠区域的分布图；
图5是本发明另一种阵列基板中部分区域周边的剖视图；
图6是本发明再一种阵列基板中部分区域周边的剖视图；
图7是本发明又一种阵列基板中交叠区域的分布图；
图8是本发明又一种阵列基板中交叠区域的分布图；
图9是本发明一种触控显示装置的结构示意图；
图10是本发明一种触控显示装置测试方法的示意图。
具体实施方式
如背景技术所述，在现有技术触控显示装置中，将像素区中公共电极复用为触控电极，能够减小触控显示装置的体积。由于膜层结构所限，复用为触控电极的公共电极在绝缘层下方，这就使解析过程中的探测公共电极电位变得相当困难。示波器探针以及平板显示器手动探测设备探针都不容易扎穿绝缘层，尤其是在像素电极位于公共电极上方的情况下，在扎探针时很容易使探针接触到像素电极，如果使用暴力扎穿，就容易使像素电极和公共电极相互短路，影响测量结果。
此外，如果将公共电极直接与设置在触控显示装置表面的测试端相连，则在触控显示装置工作时，测试端可能给公共电极带来较大的噪声，影响触控显示装置的触控感应精度。
为解决上述技术问题，本发明提供一种阵列基板，包括：
基底；
设置在所述基底同一侧的公共电极结构和测试导电结构，所述公共电极结构和测试导电结构之间相互绝缘；
所述测试导电结构与所述公共电极结构在垂直所述基底方向上的投影具有交叠区域，所述交叠区域可进行激光烧熔，使所述测试导电结构和所述公共电极结构电连接。
所述阵列基板可以应用于显示装置中，当需要对所述公共电极的电位进行测试时，可以对所述交叠区域可进行激光烧熔，使所述测试导电结构和所述公共电极结构电连接，将探针扎到所述测试导电结构上，从而减小了测试公共电极电位的难度，并且不容易使探针接触到所述公共电极结构周围的其他器件，提高了测量结果的准确性；在显示装置正常工作时，所述公共电极结构和测试导电结构之间相互绝缘，所述公共电极结构上的电位不容易受到所述测试导电结构的影响。
为使本发明的上述目的、特征和优点能够更为明显易懂，下面结合附图对本发明的具体实施例做详细的说明。
参考图1，示出了本发明阵列基板第一实施例的示意图。本实施例阵列基板包括：
基底100。在本实施例中，所述基底100为玻璃基板，但是本发明对所述基底100的材料不做限制。
设置在所述基底100同一侧的公共电极结构和测试导电结构，所述公共电极结构和测试导电结构均为导电材料制成，所述公共电极结构和测试导电结构之间相互绝缘。具体地，在本实施例中，所述公共电极结构包括公共电极103以及与所述公共电极103相连的公共电极引线102，所述测试导电结构包括测试焊盘104以及与所述测试焊盘104相连的测试引线105，所述测试焊盘104用于在测试公共电极结构电位时放置测试探针，所述测试引线105和公共电极引线102相互绝缘，且在垂直所述基底100方向上的投影具有交叠区域106。
如图1所示，在本实施例中，所述阵列基板应用于触控显示装置中，所述公共电极103在触控显示装置的显示阶段用于输入公共信号，在所述触控显示装置的触控阶段用于输入或输出触控信号。
当需要采用探针测试所述公共电极103的电位时，所述交叠区域106可进行激光烧熔，使所述测试引线105和公共电极引线102连接，从而使所述测试导电结构和所述公共电极结构电连接。将探针扎到所述测试焊盘104上，从而减小了测试公共电极103电位的难度，并且不容易使探针接触到所述公共电极结构周围的其他器件，提高了测量结果的准确性；在触控显示装置正常工作时，所述公共电极结构和测试导电结构之间相互绝缘，所述公共电极结构上的电位不会受到所述测试导电结构的影响。尤其当所述测试焊盘104位于触控显示装置表面时，即使手指触摸到所述测试焊盘104也不会影响公共电极103上的电位。
具体地，请结合参考图2，示出了图1所示阵列基板中一个交叠区域106周边的放大图。在本实施例中，所述测试引线105具有第一延展部105A，所述公共电极引线102具有第二延展部102A，所述第一延展部105A和第二延展部102A相对设置，所述测试引线105的第一延展部105A与所述公共电极引线102的第二延展部102A在垂直基底100方向上的投影具有一所述交叠区域106。
继续参考图1，并结合参考图2，在本实施例中，所述公共电极结构包括多个公共电极103和多条公共电极引线102，每个所述公共电极103分别与不同的公共电极引线102电连接，所述公共电极103用于在所述触控显示装置的显示阶段输入公共信号，在所述触控显示装置的触控阶段输入或输出触控信号。
所述测试导电结构包括多条测试引线105和多个测试焊盘104，每条所述测试引线105的第一延展部105A与一条所述公共电极引线102的第二延展部102A在垂直基底100方向上的投影具有一所述交叠区域106。
需要说明的是，图2仅示意了所述第一延展部105A和第二延展部102A在平行基板100方向上的位置关系，对所述第一延展部105A和第二延展部102A在垂直基板100方向上的上下关系不做限定。激光烧熔所述交叠区域106时，所述第一延展部105A和第二延展部102A被激光烧熔所熔化，所述第一延展部105A和第二延展部102A之间的第二绝缘层112和第三绝缘层113被烧穿，所述第一延展部105A和第二延展部102A之间形成贯穿第二绝缘层112和第三绝缘层113的连接结构，使得所述第一延展部105A和第二延展部102A之间电连接。需要说明的是，本实施例中所述测试引线105和公共电极引线102的材料为金属，即所述第一延展部105A和第二延展部102A的材料也为金属，这样的好处在于，在激光烧熔所述交叠区域106时，所述第一延展部105A和第二延展部102A之间更容易形成连接结构以电连接，但是本发明对所述测试引线105和公共电极引线102的材料不做限制，在其他实施例中，所述测试引线105和公共电极引线102的材料还可以为金属氧化物等其他导电材料。
设置第一延展部105A和第二延展部102A，使第一延展部105A和第二延展部102A形成所述交叠区域106的好处在于，通常所述测试引线105和公共电极引线102的宽度较小，如果使宽度较小的所述测试引线105和公共电极引线102在垂直所述基底100方向上的投影直接形成一交叠区域，这样的交叠区域面积较小，当激光烧熔所述面积较小的交叠区域时，激光可能照射到所述测试引线105和公共电极引线102周围的其他器件，从而影响阵列基板的质量。本实施例专门设置第一延展部105A和第二延展部102A以形成所述交叠区域106，第一延展部105A和第二延展部102A的宽度大于与所述测试引线105和公共电极引线102的宽度，能够有效避免激光可能照射到第一延展部105A和第二延展部102A周围的其他器件的影响，保证阵列基板的质量，从而保证触控板显示装置的性能。此外，与直接对较细的所述测试引线105和公共电极引线102进行激光烧熔相比，在对所述第一延展部105A和第二延展部102A进行激光烧熔时，第一延展部105A和第二延展部102A中的导电材料含量较多，在激光烧熔后，第一延展部105A和第二延展部102A之间形成的连接结构的质量更好，使所述测试焊盘104与公共电极103之间的电连接性能更好。
在本实施例中，所述第一延展部105A位于测试引线105的一端，所述第二延展部102A位于所述公共电极引线102的一端。但是本发明对此不做限制。在其他实施例中，所述第一延展部105A可以位于测试引线105的中部，所述第二延展部102A可以位于所述公共电极引线102的中部。
所述第一延展部105A和第二延展部102A的形状相同，所述第一延展部105A和第二延展部102A的形状可以为矩形、多边形或圆形。
具体地，在本实施例中，所述第一延展部105A和第二延展部102A的形状为矩形，以便于进行设计。所述第一延展部105A和第二延展部102A的宽度均在10微米以上，以便于在进行激光烧熔时，激光不容易照射到所述第一延展部105A和第二延展部102A周围的其它器件，并且进一步提高所述测试焊盘104与公共电极103之间的电连接性能。需要说明的是，在图2中示意出的所述第一延展部105A比第二延展部102A尺寸略大，但是本发明对所述第一延展部105A和第二延展部102A的尺寸比例不做限定。此外，在其他实施例中，所述第一延展部105A和第二延展部102A在在垂直基底100方向上的投影还可为部分重叠，部分重叠的区域为所述交叠区域。
需要说明的是，所述阵列基板包括显示区(未标出)，所述公共电极位于所述显示区中，所述交叠区域106位于所述显示区外围。这样的好处在于，对所述交叠区域106进行激光烧熔时，不容易损伤到显示区，从而保证了所述触控显示装置显示图像的质量。
具体地，继续参考图1，在本实施例中，所述阵列基板上显示区的一侧设有触控显示芯片101，所述多条公共电极引线102均与所述触控显示芯片101相连，所述触控显示芯片101对所述公共电极103输入公共信号或触控信号。所述交叠区域106位于所述阵列基板上远离所述触控显示芯片101的一侧。但是本发明对所述交叠区域106在所述显示区外围的具体位置不做限制。
还需要说明的是，在本实施例中，所述测试导电结构包括多个所述测试焊盘104，每条所述测试引线105分别与一个所述测试焊盘104电连接。
参考图3，示出了图1所示阵列基板中部分区域的剖视图。其中，虚线左侧为所述交叠区域106周围的剖视图，虚线右侧为显示区中公共电极103周围的剖视图。
如图3所示，本实施例阵列基板还包括：
位于所述基底100上的栅极114；
覆盖于所述栅极114上的第一绝缘层111；
位于所述第一绝缘层111远离所述基底100一侧的源极115和漏极116；
覆盖于所述源极115和漏极116上的第二绝缘层112，所述公共电极103位于所述第二绝缘层112远离所述基底100一侧。
覆盖于所述公共电极103上的第三绝缘层113。
位于第三绝缘层113远离所述基底100一侧的像素电极110；
位于所述第二绝缘层112和第三绝缘层113中的第一过孔117，所述像素电极110通过所述第一过孔117与所述漏极116电连接。
所述栅极114、源极115和漏极116组成晶体管，所述晶体管用作控制像素电极110上加载电位的开关。
在本实施例中，所述公共电极引线102与所述像素电极110位于同层，所述阵列基板还包括位于所述第三绝缘层113中的第二过孔118，所述公共电极103通过所述第二过孔118与所述公共电极引线102电连接。
所述测试引线105与所述源极115、漏极116位于同层，所述测试焊盘104位于所述第三绝缘层113远离所述基底100一侧，所述阵列基板还包括位于所述第二绝缘层112和第三绝缘层113中的第四过孔119，所述测试焊盘104通过所述第四过孔119与所述测试引线105电连接。所述测试引线105的第一延展部105A与所述公共电极引线102的第二延展部102A在垂直基底100方向上的投影具有所述交叠区域106。需要说明的是，在本实施例中，所述第一延展部105A和所述测试引线105位于同层，所述第二延展部102A和所述公共电极引线102位于同层，但是本发明对此不作限制，在其他实施例中，所述第一延展部105A还可以和所述测试引线105位于不同层，所述第二延展部102A和所述公共电极引线102位于不同层，仅需要保证所述第一延展部105A和所述第二延展部102A位于不同层，且在垂直基底100方向上的投影具有交叠区域即可。
在本实施例中，所述测试焊盘104表面露出于阵列基板的表面，这样的好处在于，在对所述公共电极103的电位进行探测的过程中，可以将探针直接扎在所述测试焊盘104表面，与现有技术直接扎取设置在绝缘层内部的公共电极相比，有效避免了对像素电极和绝缘层的破坏，降低了使像素电极和公共电极之间短路的概率。
在本实施例中，所述测试焊盘104为矩形，所述测试焊盘104的长度和宽度均在20微米以上，使在所述测试焊盘104上扎探针时，探针与所述测试焊盘104的接触性更好，并且不容易碰到其他测试焊盘104。
在本实施例中，所述测试焊盘104的材料为金属，但是本发明对所述测试焊盘104的材料不做限制，在其他实施例中，所述测试焊盘104的材料还可为氧化铟锡等金属氧化物。
需要说明的是，在其他实施例中，所述测试引线105还可以设置于其它膜层，例如所述测试引线105与所述栅极114位于同层。
实际上，如图3所示，本实施例阵列基板为一种mid-com结构的FFS显示模式阵列基板，但是本发明对此不作限制，在其他实施例中，所述阵列基板还可以为top-com结构的FFS显示模式阵列基板(即公共电极位于像素电极上方)，或者是IPS显示模式、TN显示模式的阵列基板，仅需要保证所述所述测试导电结构和公共电极结构相互绝缘，所述测试导电结构的某一部分(例如第一延展部105A)和所述公共电极结构的某一部分(例如第一延展部105A)在垂直基底100方向上的投影具有交叠区域即可，在测试公共电极103电位时，采用激光烧熔使所述测试引线105和公共电极引线102电连接。
请参考图4，为图1所示阵列基板中交叠区域106的分布图。在本实施例中，所述多个测试焊盘104沿第一方向(沿图4中AA`方向)排成第一行和第二行，所述测试引线沿第二方向(沿图4中BB`方向)延伸，所述第一行的测试焊盘与第二行的测试焊盘104在第一方向上交替相邻，并在第二方向上相互错开。这样的好处在于，在占用第一方向上同样的长度下，所述测试焊盘104的排布数量更多，并且这种排布方式使得在对某一测试焊盘104扎探针时，探针不容易误触到其他测试焊盘104。
图5是本发明另一种阵列基板中部分区域周边的剖视图，图5与图3,类似，虚线左侧为所述交叠区域106周围的剖视图，虚线右侧为显示区中公共电极103周围的剖视图。本实施例阵列基板与图3所示阵列基板大致相同，与图3所示阵列基板相同之处不再赘述，与图3所示阵列基板不同之处在于，在所述像素电极110上还设置有第四绝缘层120，所述测试焊盘104位于上述第四绝缘层120远离所述基板100的一侧，所述第四过孔119贯穿所述第二绝缘层112、第三绝缘层113和第四绝缘层120，所述测试焊盘104和测试引线105通过所述第四过孔119电连接。在本实施例中，所述测试焊盘104的材料为氧化铟锡，或是其他透明金属氧化物。
图6是本发明再一种阵列基板中部分区域周边的剖视图，图6与图3相似，虚线左侧为所述交叠区域106周围的剖视图，虚线右侧为显示区中公共电极103周围的剖视图。本实施例阵列基板与图3所示阵列基板大致相同，与图3所示阵列基板相同之处不再赘述，与图3所示阵列基板不同之处在于：
所述公共电极引线102与所述源极115、漏极116位于同层。所述测试引线105与所述栅极114位于同层，所述测试焊盘104位于所述第三绝缘层113远离所述基底100一侧，所述阵列基板还包括位于所述第一至第三绝缘层中的第三过孔121，所述测试焊盘104通过所述第三过孔121与所述测试引线105电连接。
在其他实施例中，当所述公共电极引线102与所述源极115、漏极116位于同层时，所述测试引线105还可以与所述像素电极110位于同层，或者与所述公共电极103位于同层。
综上，所述测试引线105和所述公共电极引线102之间可以具有一层到多层绝缘层，采用现有的激光修复设备中的激光器，均能比较容易地将一层到多层绝缘层烧穿，使所述测试引线105和所述公共电极引线102相连。
图7本发明又一种阵列基板中交叠区域的分布图，本实施例阵列基板与图4所示阵列基板大致相同，与图4所示阵列基板相同之处不再赘述，与图3所示阵列基板不同之处在于：所述多个测试焊盘104沿第一方向(图7中AA`线所示方向)排成一行，所述测试引线105沿第二方向(图7中BB`线所示方向)延伸。这样的好处在于，版图设计较为便捷，并且与图4所述的排布方式相比，所述多个测试焊盘104和测试引线105在第二方向上占用的空间较小，当所述阵列基板应用于触控显示装置时，有利于减小所述触控显示装置的边框尺寸。
图8是又一种阵列基板中交叠区域的分布图本实施例阵列基板与图4所示阵列基板大致相同，在基板上具有多个第一延展部105A和第二延展部105B形成的交叠区域106，每个交叠区域106与不同的公共电极103相对应。与图4所示阵列基板相同之处不再赘述，与图3所示阵列基板不同之处在于：多条所述测试引线105与同一所述测试焊盘104电连接。在需要对所述公共电极电位进行测试时，根据需要选择性地对所述交叠区域106进行激光烧熔，使需要进行测试的公共电极与所述测试焊盘104电连接，这样的好处在于，所述测试焊盘104的尺寸更大，更有利于扎针操作。
需要说明的是，结合参考图1和图8，在本实施例中，多条所述测试引线105与同一所述测试焊盘104电连接，也就是说，多个公共电极103共用一测试焊盘104进行扎针以测量电位。在对某一公共电极103的电位进行测量时，将与此公共电极103相对应的交叠区域106进行激光烧熔，使此公共电极103与所述测试焊盘104电连接。当需要测量另一公共电极103电位时，对上次激光烧熔后熔化的测试引线105进行激光切断，使该测试引线105和相对应的公共引线102之间的电连接切断。这样在测量另一公共电极103电位时，仅有待测量的公共电极103与所述测试焊盘104电连接，通过所述测试焊盘104测量得到的公共电极103电位不会受到之前测量过的其他公共电极103的影响。所述激光切断所采用的设备可以为LCD激光修复设备。
本发明还提供一种触控显示装置，请参考图9，示出了本发明一种触控显示装置的结构示意图，本实施例触控显示装置包括:
本发明提供的阵列基板，可选的，本实施例中阵列基板200为图1至4所示的阵列基板，所述阵列基板200上设置有触控显示芯片101。
与所述阵列基板200相对设置的彩色滤光片300。
位于阵列基板200和彩色滤光片300之间的液晶层400。
所述公共电极结构在显示阶段输入公共信号，在触控阶段输入或输出触控信号。
由于本实施例中阵列基板200为图1至4所示的阵列基板，因此可以继续参考图1至图4，当需要采用探针测试所述公共电极103的电位时，所述交叠区域106可进行激光烧熔，使所述测试引线105和公共电极引线102，从而使所述测试导电结构和所述公共电极结构电连接。将探针扎到所述测试焊盘104上，从而减小了测试公共电极103电位的难度，并且不容易使探针接触到所述公共电极结构周围的其他器件，提高了测量结果的精度；在触控显示装置正常工作时，所述公共电极结构和测试导电结构之间相互绝缘，所述公共电极结构上的电位不容易受到所述测试导电结构的影响。尤其当所述测试焊盘104位于触控显示装置表面时，即使手指触摸到所述测试焊盘104也不容易影响公共电极103上的电位。
相应地，本发明还提供一种触控显示装置的测试方法，包括：
提供触控显示装置，所述触控显示装置包括本发明所提供的阵列基板。可选的，本实施例中阵列基板为图1至4所示的阵列基板。因此，可以继续参考图1至图4，本实施例触控显示装置的测试方法还包括：
对所述交叠区域106进行激光烧熔，使所述测试导电结构和所述公共电极结构电连接。
对所述测试导电结构的电位进行测试，以得到所述公共电极结构的电位。
图10是本实施例触控显示装置测试方法的示意图，图10为对图3所示阵列基板进行激光熔断步骤的示意图，因此图10中各个部件的名称请参考图3，本发明在此不再赘述。参考图10，具体地，对所述交叠区域106进行激光烧熔的步骤包括：采用激光器500对所述交叠区域106发射激光，激光烧熔所述交叠区域106时，所述测试引线105的第一延展部105A和所述公共电极引线102的第二延展部102A熔化，所述第一延展部和第二延展部之间的第二绝缘层112和第三绝缘层113被烧穿所述第一延展部105A和第二延展部102A之间形成贯穿第二绝缘层112和第三绝缘层113的连接结构150，使得所述第一延展部105A和第二延展部102A之间电连接。
对所述测试导电结构的电位进行测试的步骤包括：将探针放置于所述测试焊盘104上，测量所述测试焊盘104上的电位，即得到所述公共电极103上的电位。所述探针可以为示波器探针或平板显示器手动探测设备探针，本发明对此不作限制。
将探针扎到所述测试焊盘104上，从而减小了测试公共电极103电位的难度，并且不容易使探针接触到所述公共电极结构周围的其他器件，提高了测量结果的准确性；在触控显示装置正常工作时，所述公共电极结构和测试导电结构之间相互绝缘，所述公共电极结构上的电位不容易受到所述测试导电结构的影响。尤其当所述测试焊盘104位于触控显示装置表面时，即使手指触摸到所述测试焊盘104也不容易影响公共电极103上的电位。
需要说明的是，在本实施例中，所述激光器500的脉冲能量在100Uj/pulse到1000Uj/pulse的范围内，这样能够方便地烧穿多层绝缘层。但是本发明对所述激光器500的脉冲能量不做限制。
还需要说明的是，在本实施例中，所述激光器500位于LCD激光修复设备(未示出)中，对所述交叠区域106进行激光烧熔的步骤包括：将所述触控显示装置放置于所述LCD激光修复设备中。这样的好处在于，采用现有用于修复点缺陷和线缺陷的LCD激光修复设备，即可完成本发明的激光烧熔动作，不另外增加设备成本。
虽然本发明披露如上，但本发明并非限定于此。任何本领域技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，均可作各种更动与修改，因此本发明的保护范围应当以权利要求所限定的范围为准。

Claims (26)

1.一种阵列基板，其特征在于，包括：
基底；
设置在所述基底同一侧的公共电极结构和测试导电结构，所述公共电极结构和测试导电结构之间相互绝缘；
所述测试导电结构与所述公共电极结构在垂直所述基底方向上的投影具有交叠区域，所述交叠区域可进行激光烧熔，使所述测试导电结构和所述公共电极结构电连接。
2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述公共电极结构包括公共电极以及与所述公共电极相连的公共电极引线，所述测试导电结构包括测试焊盘以及与所述测试焊盘相连的测试引线，所述测试焊盘用于在测试公共电极结构电位时放置测试探针，所述测试引线和公共电极引线在垂直所述基底方向上的投影具有所述交叠区域。
3.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板还包括:
位于所述基底上的栅极；
覆盖于所述栅极上的第一绝缘层；
位于所述第一绝缘层远离所述基底一侧的源极和漏极；
覆盖于所述源极和漏极上的第二绝缘层，所述公共电极位于所述第二绝缘层远离所述基底一侧；
覆盖于所述公共电极上的第三绝缘层
位于第三绝缘层远离所述基底一侧的像素电极；
位于所述第二绝缘层和第三绝缘层中的第一过孔，所述像素电极通过所述第一过孔与所述漏极电连接。
4.根据权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，所述公共电极引线与所述像素电极位于同层，所述阵列基板还包括位于所述第三绝缘层中的第二过孔，所述公共电极通过所述第二过孔与所述公共电极引线电连接。
5.根据权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，所述公共电极引线与所述源极、漏极位于同层。
6.根据权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，所述测试引线与所述栅极位于同层，所述测试焊盘位于所述第三绝缘层远离所述基底一侧，所述阵列基板还包括位于所述第一至第三绝缘层中的第三过孔，所述测试焊盘通过所述第三过孔与所述测试引线电连接。
7.根据权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，所述测试引线与所述源极、漏极位于同层，所述测试焊盘位于所述第三绝缘层远离所述基底一侧，所述阵列基板还包括位于所述第二和第三绝缘层中的第四过孔，所述测试焊盘通过所述第四过孔与所述测试引线电连接。
8.根据权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，所述测试引线与所述像素电极或公共电极位于同层。
9.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述测试焊盘表面露出，所述测试焊盘的材料为金属或透明金属氧化物。
10.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述测试焊盘为矩形，所述测试焊盘的长度和宽度均在20微米以上。
11.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板用于触控显示装置中，所述公共电极结构包括多个公共电极和多条公共电极引线，每个所述公共电极分别与不同的公共电极引线电连接，所述公共电极用于在所述触控显示装置的显示阶段输入公共信号，在所述触控显示装置的触控阶段输入或输出触控信号。
12.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板包括显示区，所述公共电极位于所述显示区中，所述交叠区域位于所述显示区外围。
13.根据权利要求12所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板上显示区的一侧设有触控显示芯片，所述交叠区域位于所述阵列基板上远离所述触控显示芯片的一侧。
14.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述测试导电结构包括多条测试引线，所述测试引线具有第一延展部，所述公共电极引线具有第二延展部，所述第一延展部和第二延展部相对设置，每条所述测试引线的第一延展部与一条所述公共电极引线的第二延展部在垂直基底方向上的投影具有一所述交叠区域，所述第一延展部位于测试引线的一端，所述第二延展部位于所述公共电极引线的一端。
15.根据权利要求14所述的阵列基板，其特征在于，所述第一延展部和第二延展部的形状相同，所述第一延展部和第二延展部的形状为矩形、多边形或圆形。
16.根据权利要求15所述的阵列基板，其特征在于，所述第一延展部和第二延展部的形状为矩形，所述第一延展部和第二延展部的宽度均在10微米以上。
17.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述测试导电结构包括多个所述测试焊盘，每条所述测试引线分别与一个所述测试焊盘电连接。
18.根据权利要求17所述的阵列基板，其特征在于，所述多个测试焊盘沿第一方向排成一行，所述测试引线沿第二方向延伸。
19.根据权利要求17所述的阵列基板，其特征在于，所述多个测试焊盘沿第一方向排成第一行和第二行，所述测试引线沿第二方向延伸，所述第一行的测试焊盘与第二行的测试焊盘在第一方向上交替相邻，并在第二方向上相互错开。
20.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，多条所述测试引线与同一所述测试焊盘电连接。
21.一种触控显示装置，其特征在于，包括:
如权利要求1至20中任一项权利要求所述的阵列基板；
与所述阵列基板相对设置的彩色滤光片；
位于阵列基板和彩色滤光片之间的液晶层。
22.根据权利要求21所述的触控显示装置，其特征在于，所述公共电极结构在显示阶段输入公共信号，在触控阶段输入或输出触控信号。
23.一种触控显示装置的测试方法，其特征在于，包括：
提供触控显示装置，所述触控显示装置包括如权利要求1至19中任一项权利要求所述的阵列基板；
对所述交叠区域进行激光烧熔，使所述测试导电结构和所述公共电极结构电连接；
对所述测试导电结构的电位进行测试，以得到所述公共电极结构的电位。
24.根据权利要求23所述的测试方法，其特征在于，
对所述交叠区域进行激光烧熔的步骤包括：采用激光器对所述交叠区域发射激光；
对所述测试导电结构的电位进行测试的步骤包括：将探针放置于所述测试焊盘上。
25.根据权利要求24所述的测试方法，其特征在于，所述激光器的脉冲能量在100Uj/pulse到1000Uj/pulse的范围内。
26.根据权利要求24所述的测试方法，其特征在于，所述激光器位于LCD激光修复设备中，对所述交叠区域进行激光烧熔的步骤包括：将所述触控显示装置放置于所述LCD激光修复设备中。
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