CN110540248A - 一种小粒径氧化钴的制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种小粒径氧化钴的制备方法,具体按照以下步骤实施:步骤1,配置钴溶液和碳酸氢铵溶液;步骤2,将钴溶液和碳酸氢铵溶液加入底液中进行合成反应和浓缩,并控制反应过程的pH值为7.0±0.3,制得碳酸钴粗品;步骤3,对碳酸钴粗品进行循环除铁、洗涤、干燥,制得碳酸钴干料;步骤4,将碳酸钴干料进行煅烧,制得氧化钴;本发明首先通过控制过程pH值,维持了碳酸钴颗粒粒子之间的成核及生长条件的均匀性,使得沉淀及溶液各向同性,这样可以在已经成核的基础上向外均匀、且成球形的生长,形成球形碳酸钴,进而使氧化钴的外形也为球形;其次,对反应过程中产生的溢流液进行回收再利用以及浓缩,不浪费原料,且制备的氧化钴纯度更高。
Description
技术领域
本发明属于金属粉末材料制备工艺技术领域,具体涉及一种小粒径氧化钴的制备方法
背景技术
氧化钴作为一种重要的化工原料及材料前驱体,广泛应用于陶瓷工业的着色剂、采矿工业的选矿剂、有机工业的催化剂、硬质合金及电池材料前驱体等。
常见的氧化钴粒径较大,该规格的氧化钴虽然极容易合成,但其抗过充电性能较差,且循环性能也较低,而小粒径的氧化钴可以显著提高钴酸锂的压实密度,并对电池性能有较大的改善。
发明内容
本发明的目的是提供一种小粒径氧化钴的制备方法,该方法制备的氧化钴粒径小,且氧化钴形态良好。
本发明所采用的技术方案是,一种小粒径氧化钴的制备方法,具体按照以下步骤实施:
步骤1,配置钴溶液和碳酸氢铵溶液;
步骤2,将所述步骤1的钴溶液和碳酸氢铵溶液加入底液中进行合成反应和浓缩,并控制反应过程的pH值为7.0±0.3,制得碳酸钴粗品;
步骤3,对所述步骤2的碳酸钴粗品进行循环除铁、洗涤、干燥,制得碳酸钴干料;
步骤4,将所述步骤3的碳酸钴干料进行煅烧,制得氧化钴。
本发明的特点还在于,
所述步骤1中配置钴溶液的具体方法为:向配制槽中加入浓度为145-150g/L的钴溶液,再加入纯水以700-900r/min的速度进行搅拌,搅拌时间为25-35min,之后静置8-12min得钴溶液。
所述步骤1中配置碳酸氢铵溶液的具体方法为:将纯水置于配置槽中,同时通过所述配置槽内部的蒸汽盘管对纯水进行加热;当温度升至45-60℃时,按照1∶4.25-4.65的体积比向纯水中加入碳酸氢铵固体,同时搅拌至碳酸氢铵全部溶于纯水,静置后得碳酸氢铵溶液。
所述步骤2中底液的具体配制方法为:给反应釜中加入水,升温至30-60℃后,加入浓度为210-250g/l的碳酸氢铵溶液,即得底液。
所述步骤2的具体实施步骤为:
步骤2.1,对底液进行加热至30-50℃;
步骤2.2,向所述步骤2.1的底液中同时加入钴溶液和碳酸氢铵溶液进行合成反应;
步骤2.3,当所述步骤2.2的合成反应进行4-6h后,反应釜内溶液开始溢流至溢流静置槽中,通过溢流槽底部的循环泵将沉淀的物料打回至反应釜中继续反应;
步骤2.4,随着反应继续进行1.5-2.5h后,溢流静置槽的溶液开始溢流至浓缩过滤器中,抽出上层清液,将剩余物料返回反应釜中继续进行沉淀反应,得碳酸钴粗品。
所述步骤3中循环除铁2-3h。
所述步骤3中洗涤在离心机中进行,离心机的转速为300-350r/min。
所述步骤3中干燥的具体方法为:通过行吊将碳酸钴粗品投至闪蒸机中,干燥水分至0.5%以下。
所述步骤4的煅烧在回转窑中进行。
所述回转窑设置有5个温区,温度分别为:480-600℃、600-660℃、660-700℃、700-720℃、720-750℃。
本发明的有益效果是,本发明首先通过控制过程pH值,维持了碳酸钴颗粒粒子之间的成核及生长条件的均匀性,使得沉淀及溶液各向同性,这样可以在已经成核的基础上向外均匀、且成球形的生长,形成球形碳酸钴,进而使氧化钴的外形也为球形;其次,对反应过程中产生的溢流液进行回收再利用以及浓缩,不浪费原料,且制备的氧化钴纯度更高;最后,通过煅烧碳酸钴制得氧化钴,可提高生产效率,降低生产电耗成本,适合批量生产。
附图说明
图1是本发明提供实施例1中制备的氧化钴放大10000倍的电镜图;
图2是本发明提供实施例1中制备的氧化钴放大5000倍的电镜图;
图3是本发明提供实施例1中制备的氧化钴放大3000倍的电镜图;
图4是本发明提供实施例2中制备的氧化钴放大10000倍的电镜图;
图5是本发明提供实施例2中制备的氧化钴放大5000倍的电镜图;
图6是本发明提供实施例2中制备的氧化钴放大3000倍的电镜图;
图7是本发明提供实施例3中制备的氧化钴放大10000倍的电镜图;
图8是本发明提供实施例3中制备的氧化钴放大5000倍的电镜图;
图9是本发明提供实施例3中制备的氧化钴放大3000倍的电镜图;
图10是本发明提供实施例4中制备的氧化钴放大10000倍的电镜图;
图11是本发明提供实施例4中制备的氧化钴放大5000倍的电镜图;
图12是本发明提供实施例4中制备的氧化钴放大3000倍的电镜图。
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合实施例,对本发明进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明,并不用于限定本发明。
本发明实施例提供一种小粒径氧化钴的制备方法,具体按照以下步骤实施:
步骤1,配置钴溶液和碳酸氢铵溶液;
配置钴溶液的具体方法为:向配制槽中加入浓度为145-150g/L的钴溶液,再加入纯水以700-900r/min的速度进行搅拌,搅拌时间为25-35min,之后静置8-12min得钴溶液;
配置碳酸氢铵溶液的具体方法为:将纯水置于配置槽中,同时通过所述配置槽内部的蒸汽盘管对纯水进行加热;当温度升至45-60℃时,按照1∶4.25-4.65的体积比向纯水中加入碳酸氢铵固体,同时搅拌至碳酸氢铵全部溶于纯水,静置后得碳酸氢铵溶液;
步骤2,将所述步骤1的钴溶液和碳酸氢铵溶液加入底液中进行合成反应和浓缩,并控制反应过程的pH值为7.0±0.3,制得碳酸钴粗品;
底液的具体配制方法为:给反应釜中加入水,升温至30-60℃后,加入浓度为210-250g/l的碳酸氢铵溶液,即得底液;
步骤2的具体实施过程为:
步骤2.1,对底液进行加热至30-50℃;
步骤2.2,向所述步骤2.1的底液中同时加入钴溶液和碳酸氢铵溶液进行合成反应;
步骤2.3,当所述步骤2.2的合成反应进行4-6h后,反应釜内溶液开始溢流至溢流静置槽中,通过溢流槽底部的循环泵将沉淀的物料打回至反应釜中继续反应;
步骤2.4,随着反应继续进行1.5-2.5h后,溢流静置槽的溶液开始溢流至浓缩过滤器中,抽出上层清液,将剩余物料返回反应釜中继续进行沉淀反应,得碳酸钴粗品;
步骤3,对所述步骤2的碳酸钴粗品进行循环除铁2-3h、在离心机中进行洗涤、通过行吊将碳酸钴粗品投至闪蒸机中,干燥水分至0.5%以下,制得碳酸钴干料;
步骤4,将所述步骤3的碳酸钴干料在回转窑中进行煅烧,制得氧化钴,回转窑设置有5个温区,温度分别为:480-600℃、600-660℃、660-700℃、700-720℃、720-750℃。
同现有制备方法相比,本发明主要有以下技术优势:本发明通过控制过程pH值,维持了碳酸钴颗粒粒子之间的成核及生长条件的均匀性,使得沉淀及溶液各向同性,这样可以在已经成核的基础上向外均匀、且成球形的生长,形成球形碳酸钴,进而使氧化钴的外形也为球形;其次,对反应过程中产生的溢流液进行回收再利用以及浓缩,不浪费原料,且制备的氧化钴纯度更高;最后,通过煅烧碳酸钴制得氧化钴,可提高生产效率,降低生产电耗成本,适合批量生产。
实施例1
向钴配制槽中通过质量流量计准确加入10m3浓度为145g/L的钴溶液,再通过质量流量计加入1.5m3纯水,打开钴配制槽的搅拌,控制电机转速在800r/min,搅拌时间控制在30min,关闭搅拌静置10min,取样检测钴的浓度在125g/L,配制好后通过离心泵打到高位桶,准备进料反应;
向碳酸氢铵配制槽中加入10m3的纯水,通过蒸汽盘管加热槽内纯水,温度控制在45℃℃,打开搅拌,电极转速控制在600r/min,开始向配制槽中加入一定量的碳酸氢铵固体,搅拌1小时,全部溶解,关闭搅拌静置10min,取样分析得到的碳铵浓度为215g/L,配置好后通过离心泵打至高位桶中待反应;
将4m3纯水加入8m3反应釜中做底水,开始升温至40℃,向其中加入30min的碳酸氢铵溶液(碳酸氢铵溶液的浓度为230g/L)作为底液,并打开反应釜电机搅拌,转速控制在1200r/min,该减速机速比为3,同时将钴溶液高位桶原料和碳铵高位桶辅料打入至8m3反应釜,分别以300L/h的钴流量和900L/h的碳铵流量加入至反应釜中进行中和沉淀反应,所述的钴浓度为130g/L,反应过程中温度保持不变,PH控制在7.0左右;当反应釜内不断进料5小时后开始溢流至3方左右的溢流槽中,同时开启溢流槽循环泵频率为20Hz,不断将溢流至溢流槽的物料打回至反应釜,大约2小时后溢流槽开始溢流,不断溢流至浓缩机中,浓缩机将清液抽走,物料通过循环泵频率为20Hz返回至反应釜中继续反应,,直到碳酸钴的粒径D50为4.5μm时,停止加料,结束该中和反应;
将该反应釜中的物料抽至20m3品槽中循环除铁2小时,进入过滤洗涤于一体的离心机中脱水、热纯水洗涤,5次5min,得到半干碳酸钴料;通过行吊将半干碳酸钴投至闪蒸机中,干燥水分至0.5%以下,得到粉红色粉末碳酸钴干料;通过螺栓送料装置将碳酸钴输送至回转窑中,回转窑转速为10Hz,倾角为2°设置有5个温区,温度分别为490℃、600℃、660℃、700℃、720℃,进料频率为1.4Hz,风机控制在4Hz,使物料在回转窑内的停留时间在3小时,保证空气充足,煅烧充分进行,出料为黑色粉末,即为氧化钴。
本实施例制备的氧化钴,如图1-3所示,振实密度为2.50g/cm3,D10=3.2,D50=4.65,D90=8.9,粒度呈正态分布。
实施例2
向钴配制槽中通过质量流量计准确加入10m3浓度为150g/L的钴溶液,再通过质量流量计加入1.5m3纯水,打开钴配制槽的搅拌,控制电机转速在700r/min,搅拌时间控制在25min,关闭搅拌静置8min,取样检测钴的浓度在135g/L,配制好后通过离心泵打到高位桶,准备进料反应;
向碳酸氢铵配制槽中加入10m3的纯水,通过蒸汽盘管加热槽内纯水,温度控制在60℃,打开搅拌,电极转速控制在600r/min,开始向配制槽中加入一定量的碳酸氢铵固体,搅拌1小时,全部溶解,关闭搅拌静置10min,取样分析得到的碳铵浓度为230g/L,配置好后通过离心泵打至高位桶待反应;
将4m3纯水加入8m3反应釜中做底水,开始升温至40℃,向其中加入30min的碳酸氢铵溶液(碳酸氢铵溶液的浓度为230g/L)作为底液,并打开反应釜电机搅拌,转速控制在1200r/min,该减速机速比为3,同时将钴溶液高位桶原料和碳铵高位桶辅料打入至8m3反应釜,分别以300L/h的钴流量和900L/h的碳铵流量加入至反应釜中进行中和沉淀反应,所述的钴浓度为130g/L,反应过程中温度保持不变,PH控制在7.1;当反应釜内不断进料5小时后开始溢流至3方左右的溢流槽中,同时开启溢流槽循环泵频率为20Hz,不断将溢流至溢流槽的物料打回至反应釜,大约2小时后溢流槽开始溢流,不断溢流至浓缩机中,浓缩机将清液抽走,物料通过循环泵频率为20Hz返回至反应釜中继续反应,直到碳酸钴的粒径D50为5.5μm时,停止加料,结束该中和反应;
将该反应釜中的物料抽至20m3品槽中循环除铁3小时,进入过滤洗涤于一体的离心机中脱水、热纯水洗涤,5次5min,得到半干碳酸钴料;通过行吊将半干碳酸钴投至闪蒸机中,干燥水分至0.5%以下,得到粉红色粉末碳酸钴干料;通过螺栓送料装置将碳酸钴输送至回转窑中,回转窑转速为10Hz,倾角为2°设置有5个温区,温度分别为550℃、620℃、680℃、710℃、735℃,进料频率为1.4Hz,风机控制在4Hz,使物料在回转窑内的停留时间在3-4小时,保证空气充足,煅烧充分进行,出料为黑色粉末,即为氧化钴。
本实施例制备的氧化钴,如图4-6所示,振实密度为2.69g/cm3,D10=3.72,D50=5.4,D90=8.19,粒度呈正态分布。
实施例3
向钴配制槽中通过质量流量计准确加入10m3浓度为148g/L的钴溶液,再通过质量流量计加入1.5m3纯水,打开钴配制槽的搅拌,控制电机转速在900r/min,搅拌时间控制在35min,关闭搅拌静置12min,取样检测钴的浓度在125-135g/L,配制好后通过离心泵打到高位桶,准备进料反应;
向碳酸氢铵配制槽中加入10m3的纯水,通过蒸汽盘管加热槽内纯水,温度控制在52℃,打开搅拌,电极转速控制在600r/min,开始向配制槽中加入一定量的碳酸氢铵固体,搅拌1小时,全部溶解,关闭搅拌静置10min,取样分析得到的碳铵浓度为223g/L,配置好后通过离心泵打至高位桶待反应;
将4m3纯水加入8m3反应釜中做底水,开始升温至40℃,向其中加入30min的碳酸氢铵溶液(碳酸氢铵溶液的浓度为230g/L)作为底液,并打开反应釜电机搅拌,转速控制在1200r/min,该减速机速比为3,同时将钴溶液高位桶原料和碳铵高位桶辅料打入至8m3反应釜,分别以280L/h的钴流量和880L/h的碳铵流量加入至反应釜中进行中和沉淀反应,所述的钴浓度为130g/L,反应过程中温度保持不变,PH控制在6.9;当反应釜内不断进料5小时后开始溢流至3方左右的溢流槽中,同时开启溢流槽循环泵频率为20Hz,不断将溢流至溢流槽的物料打回至反应釜,大约2小时后溢流槽开始溢流,不断溢流至浓缩机中,浓缩机将清液抽走,物料通过循环泵频率为20Hz返回至反应釜中继续反应,这样连续反应进行,直到碳酸钴的粒径D50为4.5~5.5μm时,停止加料,结束该中和反应;
将该反应釜中的物料抽至20m3品槽中循环除铁2.6小时,进入过滤洗涤于一体的离心机中脱水、热纯水洗涤,5次5min,得到半干碳酸钴料;通过行吊将半干碳酸钴投至闪蒸机中,干燥水分至0.5%以下,得到粉红色粉末碳酸钴干料;通过螺栓送料装置将碳酸钴输送至回转窑中,回转窑转速为10Hz,倾角为2°设置有5个温区,温度分别为600℃、660℃、700℃、720℃、750℃,进料频率为1.4Hz,风机控制在4Hz,使物料在回转窑内的停留时间在4小时,保证空气充足,煅烧充分进行,出料为黑色粉末,即为氧化钴。
本实施例制备的氧化钴,如图7-9所示,振实密度为2.30g/cm3,D10=3.6,D50=4.9,D90=8.2,粒度呈正态分布。
实施例4
向钴配制槽中通过质量流量计准确加入10m3浓度为149g/L的钴溶液,再通过质量流量计加入1.5m3纯水,打开钴配制槽的搅拌,控制电机转速在860r/min,搅拌时间控制在30min,关闭搅拌静置10min,取样检测钴的浓度在126g/L,配制好后通过离心泵打到高位桶,准备进料反应;
向碳酸氢铵配制槽中加入10m3的纯水,通过蒸汽盘管加热槽内纯水,温度控制在48℃,打开搅拌,电极转速控制在610r/min,开始向配制槽中加入一定量的碳酸氢铵固体,搅拌1小时,全部溶解,关闭搅拌静置9min,取样分析得到的碳铵浓度为216g/L,配置好后通过离心泵打至高位桶待反应;
将4m3纯水加入8m3反应釜中做底水,开始升温至40℃,向其中加入30min的碳酸氢铵溶液(碳酸氢铵溶液的浓度为230g/L)作为底液,并打开反应釜电机搅拌,转速控制在1100r/min,该减速机速比为3,同时将钴溶液高位桶原料和碳铵高位桶辅料打入至8m3反应釜,分别以300L/h的钴流量和900L/h的碳铵流量加入至反应釜中进行中和沉淀反应,所述的钴浓度为130g/L,反应过程中温度保持不变,PH控制在7.3;当反应釜内不断进料5小时后开始溢流至3方左右的溢流槽中,同时开启溢流槽循环泵频率为20Hz,不断将溢流至溢流槽的物料打回至反应釜,大约2小时后溢流槽开始溢流,不断溢流至浓缩机中,浓缩机将清液抽走,物料通过循环泵频率为20Hz返回至反应釜中继续反应,这样连续反应进行,直到碳酸钴的粒径D50为4.5~5.5μm时,停止加料,结束该中和反应;
将该反应釜中的物料抽至20m3品槽中循环除铁2.1小时,进入过滤洗涤于一体的离心机中脱水、热纯水洗涤,5次5min,得到半干碳酸钴料;通过行吊将半干碳酸钴投至闪蒸机中,干燥水分至0.5%以下,得到粉红色粉末碳酸钴干料;通过螺栓送料装置将碳酸钴输送至回转窑中,回转窑转速为10Hz,倾角为2°设置有5个温区,温度分别为490℃、610℃、670℃、710℃、730℃,进料频率为1.4Hz,风机控制在4Hz,使物料在回转窑内的停留时间在3-4小时,保证空气充足,煅烧充分进行,出料为黑色粉末,即为氧化钴。
本实施例制备的氧化钴,如图10-12所示,振实密度为2.20g/cm3,D10=3.1,D50=5.0,D90=9.0,粒度呈正态分布。
以上所述,仅为本发明的较佳实施例而已,并非用于限定本发明的保护范围。
Claims (10)
1.一种小粒径氧化钴的制备方法,其特征在于,具体按照以下步骤实施:
步骤1,配置钴溶液和碳酸氢铵溶液;
步骤2,将所述步骤1的钴溶液和碳酸氢铵溶液加入底液中进行合成反应和浓缩,并控制反应过程的pH值为7.0±0.3,制得碳酸钴粗品;
步骤3,对所述步骤2的碳酸钴粗品进行循环除铁、洗涤、干燥,制得碳酸钴干料;
步骤4,将所述步骤3的碳酸钴干料进行煅烧,制得氧化钴。
2.根据权利要求1所述的一种小粒径氧化钴的制备方法,其特征在于,所述步骤1中配置钴溶液的具体方法为:向配制槽中加入浓度为145-150g/L的钴溶液,再加入纯水以700-900r/min的速度进行搅拌25-35min,之后静置8-12min得钴溶液。
3.根据权利要求2所述的一种小粒径氧化钴的制备方法,其特征在于,所述步骤1中配置碳酸氢铵溶液的具体方法为:将纯水置于配置槽中,同时通过所述配置槽内部的蒸汽盘管对纯水进行加热;当温度升至45-60℃时,按照1∶4.25-4.65的体积比向纯水中加入碳酸氢铵固体,同时搅拌至碳酸氢铵全部溶于纯水,静置后得碳酸氢铵溶液。
4.根据权利要求3所述的一种小粒径氧化钴的制备方法,其特征在于,所述步骤2中底液的具体配制方法为:给反应釜中加入水,升温至30-60℃后,加入浓度为210-250g/l的碳酸氢铵溶液,即得底液。
5.根据权利要求1-4任一项所述的一种小粒径氧化钴的制备方法,其特征在于,所述步骤2的具体实施步骤为:
步骤2.1,对底液进行加热至30-50℃;
步骤2.2,向所述步骤2.1的底液中同时加入钴溶液和碳酸氢铵溶液进行合成反应;
步骤2.3,当所述步骤2.2的合成反应进行4-6h后,反应釜内溶液开始溢流至溢流静置槽中,通过溢流槽底部的循环泵将沉淀的物料打回至反应釜中继续反应;
步骤2.4,随着反应继续进行1.5-2.5h后,溢流静置槽的溶液开始溢流至浓缩过滤器中,抽出上层清液,将剩余物料返回反应釜中继续进行沉淀反应,得碳酸钴粗品。
6.根据权利要求5所述的一种小粒径氧化钴的制备方法,其特征在于,所述步骤3中循环除铁2-3h。
7.根据权利要求6所述的一种小粒径氧化钴的制备方法,其特征在于,所述步骤3中洗涤在离心机中进行,所述离心机的转速为300-350r/min。
8.根据权利要求7所述的一种小粒径氧化钴的制备方法,其特征在于,所述步骤3中干燥的具体方法为:通过行吊将碳酸钴粗品投至闪蒸机中,干燥水分至0.5%以下。
9.根据权利要求8所述的一种小粒径氧化钴的制备方法,其特征在于,所述步骤4的煅烧在回转窑中进行。
10.根据权利要求9所述的一种小粒径氧化钴的制备方法,其特征在于,所述回转窑设置有5个温区,温度分别为:480-600℃、600-660℃、660-700℃、700-720℃、720-750℃。
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