CN110302940B - 涂布装置及涂布方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供能抑制在涂布位置的基材从支承基材背面并旋转的辊上浮起的结构。该涂布装置在长带状的基材(9)表面形成涂膜，具有：搬送机构，沿规定的搬送路径在长度方向上搬送基材；涂布部(20)，在搬送路径的涂布位置(P1)对基材(9)表面涂布涂布液；支承辊(17)，在涂布位置(P1)支承基材(9)背面并旋转。在支承辊(17)的周围存在基材(9)与支承辊(17)的外周面接触的区域(61)、及辊的外周面露出的露出区域(62)。该装置还具有：接触区域维持部，维持接触区域(61)的圆心角(α)恒定；负压产生部(30)，使露出区域(62)中的支承辊(17)的外周面附近的圆弧状空间形成负压。由此，能够抑制基材(9)从支承辊(17)浮起。

Description

涂布装置及涂布方法
技术领域
本发明涉及一种搬送具有薄的厚度的长带状基材并对基材的表面涂布涂布液的涂布装置及涂布方法。
背景技术
以往，在制造锂离子二次电池等化学电池的工序中，使用一种在长带状的基材(例如，金属箔)的表面上形成作为电极膜的涂膜的涂布装置。涂布装置通过以所谓的辊对辊方式来搬送基材，并且在该基材的表面上涂布含有电极材料的涂布液，然后进行干燥处理，来形成涂膜。例如，在专利文献1中记载了一种在基材表面上形成涂膜的现有的涂布装置。
专利文献1的涂布装置是对基材间歇地涂布涂布液(在基材的表面上交替地设置涂布涂布液的部分和不涂布的部分)、即进行所谓的间歇涂布的装置。该涂布装置具有喷嘴、送液机构和回吸机构。喷嘴具有喷出口、以及与喷出口连通的涂布液空间(内部空间)。送液机构向涂布液用空间输送涂布液。回吸机构是用于在停止喷出涂布液时将涂布液吸回喷嘴内的装置。
专利文献1：日本特开2016-185504号公报
发明内容
在使涂布在基材表面上的涂布液干燥的工序中，由于抑制了在基材上产生皱折等的情况，因此在对基材恒定地施加较小的张力的状态下搬送基材。然而，在与喷嘴相向的涂布位置，在利用上述的回吸机构将涂布液吸回喷嘴内时，基材的一部分有可能一起被拉入喷嘴内。由此，有可能导致基材浮起数微米～数十微米左右，在基材上产生摩擦、损坏或皱折，并且使涂膜的形状混乱。此外，由于喷嘴的喷出口附近的涂布液与基材继续误接触，因此基材上有可能附着污垢。
此外，不仅是间歇涂布，即使是在对基材连续地涂布涂布液、即进行所谓的连续涂布的情况下，尤其是在以10m/分钟左右和/或比10m/分钟左右更快的高速来搬送基材的情况下，也有可能使空气等气体进入在涂布位置支承基材的辊与基材之间，导致基材浮起数微米～数十微米左右。由此，有可能在对基材涂布涂布液的位置上发生偏移，或者在基材上产生皱折。
本发明是鉴于上述问题而提出的，其目的在于提供一种能够在涂布位置抑制基材从支承基材的辊上浮起的涂布装置及涂布方法。
为了解决上述问题，本申请的第一发明方面是一种涂布装置，在长带状的基材表面形成涂膜，该涂布装置具有：搬送机构，沿着规定的搬送路径在长度方向上搬送基材；涂布部，在所述搬送路径上的涂布位置，对基材的表面涂布涂布液；以及支承辊，在所述涂布位置，支承基材的背面并旋转，在所述支承辊的周围存在基材与所述支承辊的外周面接触的接触区域、以及所述支承辊的外周面露出的露出区域，所述涂布装置还具有：接触区域维持部，将所述接触区域的圆心角维持为恒定；以及负压产生部，使所述露出区域中的所述支承辊的外周面附近的圆弧状空间形成负压。
本申请的第二发明是一种涂布方法，在长带状的基材的表面形成涂膜，所述涂布方法包括：工序a)，向具有圆筒状的外周面的支承辊导入基材；以及工序b)，对支承在所述支承辊的外周面的基材的表面涂布涂布液，在所述支承辊的周围存在基材所述支承辊的外周面接触接触区域、以及所述支承辊的外周面露出的露出区域，在使所述露出区域中的所述支承辊的外周面附近的圆弧状空间形成负压，并进行所述工序a)和所述工序b)。
根据本申请的第一发明～第二发明，能够在涂布位置抑制基材从支承基材的支承辊的外周面浮起。由此，能够抑制基材上产生摩擦、损伤、皱折、或污垢，并且能够抑制对基材涂布涂布液的位置发生偏移。
附图说明
图1是示出涂布装置的结构的概略侧视图。
图2是涂布装置中的支承辊附近的部位放大侧视图。
图3是示出涂布装置中的每个部分与控制部之间的连接结构的框图。
图4是涂布装置中的支承辊附近的部位放大立体图。
图5是变形例中的涂布装置的支承辊附近的部位放大侧视图。其中，附图标记说明如下：
1、1B 涂布装置
9、9B 基材
10 搬送机构
11 开卷辊
12 搬送辊
13 搬送辊
14、14B 辅助辊(上游侧辊)
15、15B 辅助辊(下游侧辊)
16 卷绕辊
17、17B 支承辊
20 涂布部
21 涂布喷嘴
22 供液配管
23 涂布液供应源
24 开闭阀
30 负压产生部
31 盖部
32 吸引机构
40 干燥装置
41 干燥炉
50 控制部
60 接触区域维持部
61、61B 接触区域
62 露出区域
63 圆弧状空间
211 回吸机构
311 盖板主体
312 前面盖板
313 背面盖板
314 贯通孔
321 配管
322 泵
P1 涂布位置
α 圆心角
具体实施方式
以下，将参照附图说明本发明的实施方式。
＜1.涂布装置的结构＞
图1是示出本发明一个实施方式的涂布装置1的结构的概略侧视图。该涂布装置1是在锂离子二次电池的电极的制造工序中使用的装置。该涂布装置1通过所谓的辊对辊方式在长度方向上搬送长带状的基材9，并且在基材9的表面上涂布含有作为电极材料的活性材料的涂布液，并使该涂布液干燥，来形成锂离子二次电池的电极即涂膜。作为基材9，例如使用铜箔或铝箔等金属箔。涂布液具有能够在涂布之后维持形状的程度的粘度。
需要说明的是，在本实施方式中，为了使电极形成多层结构，而在基材9的表面和背面的两面形成涂膜。具体地，从后述的搬送机构10的开卷辊11到卷绕辊16搬送一次基材9，并首先在基材9的表面上形成涂膜。然后，再次以同样的方式搬送，并在基材9的背面形成涂膜。然后，在基材9的表面上形成阳极电极和阴极电极中的任一个。在基材9的背面上形成阳极电极和阴极电极中的另一个。然而，该“表面”和“背面”的记载是为了识别基材9的两个表面而使用的，并不限定任一个指定的表面为“表面”或“背面”。此外，涂布装置1也可以具有能够同时在基材9的表、背两个面上形成涂膜的结构。
如图1所示，涂布装置1具有搬送机构10、涂布部20、支承辊17、负压产生部30、干燥装置40以及控制部50。
搬送机构10是将基材9在沿着其长度方向的搬送方向上搬送的机构。本实施方式的搬送机构10沿着规定的搬送路径以恒定的速度连续搬送基材9。搬送机构10具有开卷辊11、多个搬送辊12、13、辅助辊14、15以及卷绕辊16。基材9从开卷辊11被送出，并沿着由多个搬送辊12、13和辅助辊14、15规定的搬送路径在规定的方向上搬送。各搬送辊12、13和辅助辊14、15通过以水平轴为中心进行旋转，来将基材9向搬送路径的下游侧引导。此外，基材9与多个搬送辊12、13和辅助辊14、15接触，从而向基材9恒定地施加较小的张力。由此，抑制了基材9在搬送期间发生松弛或皱折。此外，通过使对于基材9施加的张力不会过大，由此在使涂布到基材9的表面的涂布液干燥的工序中，抑制了基材9上的皱折的产生。搬送后的基材9被回收到卷绕辊16。
需要说明的是，搬送辊12是一对压送辊。搬送辊12的各个辊以水平轴为中心彼此沿相反方向旋转。此外，搬送辊12通过一边夹持基材9一边旋转，从而将基材9以指定的速度向下游侧搬送。此外，开卷辊11、该搬送辊12以及卷绕辊16是连接有用作动力源的电动机的驱动辊。另一方面，搬送辊13和辅助辊14、15是从动辊，不与电动机连接，而是随着基材9的运动而旋转。然而，搬送辊12、13和辅助辊14、15的位置、数量并非必须如图1所示。此外，后述的支承辊17也可以是连接有用作动力源的电动机的驱动辊。
涂布部20是在基材9的搬送路径上的涂布位置P1上向基材9的表面涂布涂布液的装置。图2是涂布装置1的支承辊17附近的部位的放大侧视图。如图1和图2所示，基材9在比干燥装置40更靠搬送路径的更上游侧，由兼用作搬送辊的支承辊17支承。支承辊17具有圆筒形的外周面。支承辊17在涂布位置P1与基材9的背面接触，并以水平轴为中心旋转。涂布部20具有涂布喷嘴21。涂布喷嘴21与由支承辊17支承的基材9的表面隔着微小的间隙而相向。即，上述的涂布位置P1是基材9上的被支承在支承辊17的外周面且与涂布喷嘴21隔着微小的间隙而相向的位置。
作为涂布喷嘴21，例如使用具有沿着宽度方向延伸的狭缝状的喷出口210的即所谓的狭缝喷嘴。需要说明的是，宽度方向是与基材9的长度方向正交的水平方向。涂布喷嘴21通过供液配管22连接到涂布液供应源23。此外，供液配管22上安装有开闭阀24。因此，当打开开闭阀24时，从涂布液供应源23通过供液配管22向涂布喷嘴21供给涂布液。然后，从涂布喷嘴21的喷出口210向被支承辊17支承的基材9表面喷出涂布液。如上所述，涂布液具有规定的粘度。因此，在从涂布喷嘴21的喷出口210喷出涂布液之后，在涂布喷嘴21的前端附近形成有涂布液的小液滴。然后，该液滴通过在涂布位置P1与基材9接触，从而对基材9的表面涂布涂布液。
需要说明的是，本实施方式的涂布部20进行对基材9间歇地(间断地)涂布涂布液的所谓的间歇涂布。另外，涂布部20以预先设定的时间间隔，交替地重复从涂布喷嘴21的喷出口210喷出涂布液来向基材9的表面涂布涂布液的步骤(涂布步骤)、与停止从涂布喷嘴21的喷出口210喷出涂布液的步骤(停止步骤)。如上所述，以恒定的速度连续搬送基材9。由此，在已通过涂布部20的基材9表面上，交替地出现涂布有涂布液的部分和未涂布有涂布液的部分。
此外，涂布部20具有回吸机构211。回吸机构211例如具有使从供液配管22分支的回吸配管内221中产生负压的构造。另外，在上述的停止步骤中，使回吸配管内221产生负压，将喷出口210附近的涂布液吸回上游侧(与喷出口210相反的一侧)。由此，在涂布步骤中在涂布喷嘴21的前端附近形成的涂布液液滴与基材9分离，停止向基材9涂布涂布液。即，涂布部20反复进行从涂布喷嘴21喷出涂布液、以及由回吸机构211吸回涂布液。通过使回吸机构211具有上述的构造，从而可以在涂布步骤与停止步骤之间流畅地进行切换。此外，能够抑制在涂布步骤中形成在涂布喷嘴21的前端附近的涂布液的液滴在停止步骤中也继续与基材9接触。结果，能够抑制向基材9涂布的涂布液的形状错乱或者在基材9上附着污垢。然而，回吸机构211也可以具有与上述构造不同的构造。
另外，本实施方式的涂布部20也可以进行对基材9连续涂布涂布液的所谓的连续涂布。此外，也可以在停止连续涂布时由回吸机构211进行涂布液的吸回。此外，涂布喷嘴21并非必须向被支承辊17支承的基材9的表面喷出涂布液。例如，涂布喷嘴21也可以向架设在相邻的辊之间的基材9的表面上喷出涂布液。
如图2所示，在基材9的搬送路径中的紧邻支承辊17之前配置有辅助辊14。该辅助辊14是在比支承辊17更靠搬送路径的上游侧且在支承辊17的附近支承基材9并旋转的上游侧辊。此外，在基材9的搬送路径中的紧邻支承辊17之后配置有辅助辊15。该辅助辊15是在比支承辊17更靠搬送路径的下游侧且在支承辊17的附近支承基材9并旋转的下游侧辊。
然后，基材9通过辅助辊14、支承辊17以及辅助辊15以支承辊17为顶点而形成锐角的方式来架设。由此，在支承辊17的周围形成接触区域61和露出区域62。接触区域61是基材9与支承辊17的外周面接触的区域。露出区域62是基材9不与支承辊17的外周面接触而露出的区域。需要说明的是，如上所述，对基材9恒定地施加较小的张力。通过设置辅助辊14和辅助辊15，可以抑制基材9中的比支承辊17更靠上游侧的部位与更靠下游侧的部位在露出区域62中向后述的负压产生部30侧被拉近。即，接触区域61的圆心角α通过辅助辊14和辅助辊15而被维持为恒定。即，本实施方式的辅助辊14和辅助辊15起到将接触区域61的圆心角α维持为恒定的接触区域维持部60的作用。
需要说明的是，在本实施方式中，每个辊配置成接触区域61的圆心角α小于140°左右的方式。由此，即使在由压送辊12搬送的基材9的搬送速度与支承辊17的外周面的旋转速度之间产生误差的情况下，基材9也能够在接触区域61中在支承辊17的外周面平滑地滑动。
将在后面详细说明负压产生部30的结构。
返回图1。干燥装置40是使涂布在基材9的表面上的涂布液干燥的装置。干燥装置40配置在比涂布部20更靠搬送路径的下游侧。干燥装置40在干燥炉41内加热由搬送机构10搬送的基材9。例如，在干燥炉41内向基材9吹送热风。由此，在基材9的表面上涂布的涂布液中的溶剂气化。结果，涂布液干燥而形成涂膜。
控制部50对涂布装置1内的各部进行动作控制。如图1中示意性所示，控制部50由包括CPU等运算处理部51、RAM等存储器52、以及硬盘驱动器等存储部53的计算机构成。图3是示出涂布装置1内的各部与控制部50之间的连接结构的框图。如图3所示，控制部50分别与搬送机构10、开闭阀24、后述的吸引机构32以及干燥装置40电连接。
控制部50将存储在存储部53中的计算机程序和数据临时读取到存储器52中，运算处理部51基于该计算机程序和数据进行运算处理，从而对涂布装置1内的各部进行动作控制。由此，在涂布装置1中进行涂布、干燥处理。
＜2.负压产生部的详细结构＞
接下来，说明负压产生部30的详细结构。
图4是涂布装置1中的支承辊17附近的部位的放大立体图。如图4所示，在上述的露出区域62的支承辊17的外周面附近形成有圆弧状空间63。在图4中，圆弧状空间63表示位于基材9中的比支承辊17更靠搬送路径的紧邻的上游侧的部位的上侧、位于基材9中的比支承辊17更靠搬送路径的紧邻的下游侧的部位的下侧、且位于露出区域62的径向外侧的空间。
负压产生部30包括覆盖圆弧状空间63的盖部31以及吸引机构32。盖部31具有盖板主体311、前面盖板312和背面盖板313。盖板主体311是在露出区域62中沿着支承辊17的外周面扩展的部位。在图4中，盖板主体311在位于基材9中的比支承辊17更靠搬送路径的紧邻的上游侧的部位的上侧、且位于基材9中的比支承辊17更靠搬送路径的紧邻的下游侧的部位的下侧，覆盖圆弧状空间63。在图4中，前面盖板312是从盖板主体311的前面侧(宽度方向上的一侧)的端部向支承辊17的外周面扩展的部位。前面盖板312覆盖圆弧状空间63的前面侧的端部。在图4中，背面盖板313是从盖板主体311的背面侧(宽度方向上的另一侧)的端部向支承辊17的外周面扩展的部位。背面盖板313覆盖圆弧状空间63的背面侧的端部。由此，圆弧状空间63成为由基材9、支承辊17以及盖部31包围的大致空间。然而，盖部31只要是覆盖圆弧状空间63的构造即可，也可以具有与上述不同的形状。
吸引机构32例如具有配管321和泵322。配管321的一端侧配置在圆弧状空间63内，并通过在厚度方向上贯通盖板主体311的一部分的贯通孔314而延伸到圆弧状空间63的外部。然后，当泵322运行时，存在于圆弧状空间63中的空气等气体通过配管321被吸引，并被排出到圆弧状空间63的外部。由此，圆弧状空间63的气压降低，成为比外部气压低的负压。然而，吸引机构32只要是能够从圆弧状空间63吸引气体并排出到外部的结构即可，也可以具有与上述不同的构造。
在基材9上形成涂膜的过程中，在运行吸引机构32来使圆弧状空间63产生负压的同时，至少执行：a)工序，搬送基材9来将基材9导入支承辊17；b)工序，对在支承辊17的外周面支承的基材9的表面涂布涂布液；以及c)工序，停止向基材9涂布涂布液。由此，即使在上述的回吸机构211进行涂布液的吸回时对基材9施加向涂布喷嘴21侧拉近的力的情况下、或者在空气等气体流入支承辊17与基材9之间的情况下，也能够抑制基材9从支承辊17的外周面浮起。由此，能够抑制基材9的摩擦、损伤或者皱折的产生。此外，能够抑制由于在涂布喷嘴21的喷出口210附近形成的涂布液的液滴继续与基材9误接触导致污垢附着在基材9上的情况。此外，能够抑制对基材9涂布涂布液的位置发生偏移，并且抑制在基材9上涂布的涂布液的形状错乱。
此外，在本实施方式中，不需要额外设置与基材9的表面或背面接触并按压在支承辊17的构件，而能够以非接触的方式抑制基材9的浮起。由此，能够抑制该额外构件与基材9接触导致在基材9上产生摩擦、损伤或者皱折。此外，能够抑制由于在基材9的表面形成涂膜时在该额外构件上附着涂布液、然后在基材9的背面形成涂膜时附着在该额外构件上的涂布液误附着在基材9的背面导致在基材9上产生污垢的情况。
此外，本实施方式的支承辊17的外周面是未设置有吸附孔的圆筒面。此外，在本实施方式中，具有通过将圆弧状空间63形成负压而将基材9向与支承辊17进一步接触的方向拉近的结构，而不是通过在支承辊17的外周面本身设置吸附孔来将基材9吸附到支承辊17。因此，能够抑制由于在支承辊17的外周面本身设置吸附孔，导致异物混入该吸附孔而吸附力降低或者该吸附孔使得涂布在基材9上的涂布液的形状被错乱的情况。
此外，如上所述，作为一对压送辊的搬送辊12是连接有作为动力源的电动机的驱动辊，通过该搬送辊12控制基材9的搬送速度。因此，在基材9的搬送速度与支承辊17的外周面的旋转速度之间产生误差的情况下，为了使基材9在支承辊17的外周面上平滑地滑动，而将接触区域61的圆心角α设定为小于140°左右。然而，当接触区域61的圆心角α减小时，在搬送基材9时基材9更容易从支承辊17的外周面浮起。在本实施方式中，能够通过负压产生部30来抑制基材9的这种浮起。
＜3.变形例＞
以上，说明了本发明的一个实施方式，但本发明不限于上述的实施方式。
图5是一个变形例的涂布装置1B中的支承辊17B附近的部位的放大侧视图。本变形例的位于基材9的搬送路径中的支承辊17B的上游侧和下游侧、且最靠近支承辊17B的两个搬送辊13B相对于支承辊17B配置在与上述实施方式的搬送辊13不同的位置和角度。这些搬送辊13B均与基材9B的被涂布液涂布的表面不同的表面接触并旋转。通过这样的结构，接触区域61B的圆心角α也能够通过搬送辊13B以及辅助辊14B和辅助辊15B来维持恒定。
此外，上述实施方式和变形例的涂布装置1是用于制造锂离子二次电池的电极的装置。然而，本发明的涂布装置也可以用于除了锂离子二次电池以外的各种电池的制造工序中。例如，本发明的涂布装置也可以是在燃料电池的制造工序中以辊对辊方式搬送作为基材的电解质膜并且对电解质膜的表面涂布催化剂油墨并干燥该催化剂油墨的装置。此外，本发明的涂布装置是可以在半导体、液晶显示装置、太阳能电池板、在柔性装置等中使用的各种柔性基材的表面上形成抗蚀膜等涂膜的装置。
此外，在上述实施方式或变形例中出现的各要素可以在不产生矛盾的范围内适当地组合。

Claims (18)

1.一种涂布装置，在长带状的基材的表面形成涂膜，其特征在于，所述涂布装置具有：
搬送机构，沿着规定的搬送路径在长度方向上搬送基材；
涂布部，在所述搬送路径上的涂布位置，对基材的表面涂布涂布液；以及
支承辊，在所述涂布位置，支承基材的背面并旋转，
在所述支承辊的周围存在基材与所述支承辊的外周面接触的接触区域、以及所述支承辊的外周面露出的露出区域，
所述涂布装置还具有：
接触区域维持部，将所述接触区域的圆心角维持为恒定；以及
负压产生部，使所述露出区域中的所述支承辊的外周面附近的圆弧状空间形成负压，
所述圆弧状空间面向基材中的比所述支承辊更靠搬送路径的上游侧的部位、基材中的比所述支承辊更靠搬送路径的下游侧的部位。
2.根据权利要求1所述的涂布装置，其特征在于，
所述负压产生部具有：
盖板，在所述露出区域中沿着所述支承辊的外周面扩展并覆盖所述圆弧状空间；以及
吸引机构，从所述圆弧状空间吸引气体。
3.根据权利要求1或2所述的涂布装置，其特征在于，
所述接触区域维持部具有：
上游侧辊，在所述搬送路径上比所述支承辊更靠上游侧且在所述支承辊的附近，支承基材并旋转；以及
下游侧辊，在所述搬送路径上比所述支承辊更靠下游侧且在所述支承辊的附近，支承基材并旋转。
4.根据权利要求1或2所述的涂布装置，其特征在于，
所述涂布部具有：
喷嘴，在所述涂布位置向基材的表面喷出涂布液；以及
回吸机构，在停止从所述喷嘴喷出涂布液时，将所述喷嘴内的涂布液吸回上游侧。
5.根据权利要求4所述的涂布装置，其特征在于，
所述涂布部反复执行：从所述喷嘴喷出涂布液以及通过所述回吸机构来吸回涂布液。
6.根据权利要求1或2所述的涂布装置，其特征在于，
所述涂布装置还具有：压送辊，通过夹持基材并旋转，来将基材以指定的速度向下游侧搬送。
7.根据权利要求1或2所述的涂布装置，其特征在于，
所述接触区域的圆心角小于140°。
8.根据权利要求1或2所述的涂布装置，其特征在于，
所述支承辊的外周面是无吸附孔的圆筒面。
9.根据权利要求1或2所述的涂布装置，其特征在于，
所述涂布装置用于锂离子二次电池的电极的制造工序。
10.一种涂布方法，在长带状的基材的表面形成涂膜，其特征在于，所述涂布方法包括：
工序a)，向具有圆筒状的外周面的支承辊导入基材；以及
工序b)，对支承在所述支承辊的外周面的基材的表面涂布涂布液，
在所述支承辊的周围存在基材与所述支承辊的外周面接触的接触区域、以及所述支承辊的外周面露出的露出区域，
使所述露出区域中的所述支承辊的外周面附近的圆弧状空间形成负压，并执行所述工序a)和所述工序b)，
所述圆弧状空间面向基材中的比所述支承辊更靠搬送路径的上游侧的部位、基材中的比所述支承辊更靠搬送路径的下游侧的部位。
11.根据权利要求10所述的涂布方法，其特征在于，
通过从所述圆弧状空间吸引气体来使所述圆弧状空间形成负压，并执行所述工序a)和所述工序b)。
12.根据权利要求10或11所述的涂布方法，其特征在于，
在所述工序a)和所述工序b)中，通过在搬送路径上比所述支承辊更靠上游侧且在所述支承辊的附近，使上游侧辊支承基材并旋转，并且在所述搬送路径上比所述支承辊更靠下游侧且在所述支承辊的附近，使下游侧辊支承基材并旋转，从而维持所述接触区域。
13.根据权利要求10或11所述的涂布方法，其特征在于，
所述工序b)包括：
工序b-1)，从喷嘴向基材的表面喷出涂布液；以及
工序b-2)，在停止从所述喷嘴喷出涂布液时，将所述喷嘴内的涂布液吸回上游侧。
14.根据权利要求13所述的涂布方法，其特征在于，
所述工序b)反复执行所述工序b-1)和所述工序b-2)。
15.根据权利要求10或11所述的涂布方法，其特征在于，
在所述工序a)和所述工序b)中，通过使压送辊夹持基材并旋转，来将基材以指定的速度向下游侧搬送。
16.根据权利要求10或11所述的涂布方法，其特征在于，
所述接触区域的圆心角小于140°。
17.根据权利要求10或11所述的涂布方法，其特征在于，
所述支承辊的外周面是无吸附孔的圆筒面。
18.根据权利要求10或11所述的涂布方法，其特征在于，
所述涂布方法用于锂离子二次电池的电极的制造工序。
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