CN110257785B - 一种旋转金属靶材及其制备方法和装置 - Google Patents
一种旋转金属靶材及其制备方法和装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN110257785B CN110257785B CN201910688136.9A CN201910688136A CN110257785B CN 110257785 B CN110257785 B CN 110257785B CN 201910688136 A CN201910688136 A CN 201910688136A CN 110257785 B CN110257785 B CN 110257785B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- energy electron
- pipe
- rotary
- preparation
- metal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22B—PRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
- C22B9/00—General processes of refining or remelting of metals; Apparatus for electroslag or arc remelting of metals
- C22B9/16—Remelting metals
- C22B9/22—Remelting metals with heating by wave energy or particle radiation
- C22B9/228—Remelting metals with heating by wave energy or particle radiation by particle radiation, e.g. electron beams
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/3407—Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
- C23C14/3414—Metallurgical or chemical aspects of target preparation, e.g. casting, powder metallurgy
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
Abstract
本发明提供了一种旋转金属靶材及其制备方法和装置,属于靶材制备领域。本发明提供的制备方法包括以下步骤:在真空条件下,对金属管材进行高能电子束区域重熔处理后进行冷却,得到旋转金属靶材。本发明利用高能电子束对金属管材进行区域重熔,同时结合冷却处理,使旋转金属靶材具有高纯度,靶材内部无杂质,旋转金属靶材的晶粒尺寸细化。且提供的制备方法工艺简单,工艺过程易控制,加工设备便宜,成本低。
Description
技术领域
本发明涉及靶材制备领域,尤其涉及一种旋转金属靶材及其制备方法和装置。
背景技术
铝靶材适用于直流二极溅射、三极溅射、四级溅射、射频溅射、对向靶溅射、离子束溅射、磁控溅射等领域,可镀制反光膜、导电膜、半导体薄膜、电容器薄膜、装饰膜、保护膜、集成电路、显示器等。由于旋转靶材的利用率远高于平面靶材,因此,旋转铝靶材的需求量在日渐增加。对铝靶材的要求是纯度高、密度高、晶粒尺寸细小。目前,旋转铝靶材常规制备工艺是利用高纯度(纯度>99.999%)铝棒进行挤压变形加工成管材,再进行热处理。
中国专利CN109518140A提供了一种利用真空熔铸和锻轧结合,再结合热处理进行铝靶材制备的方法,这种方法存在加工设备昂贵、工艺控制难度大等问题。中国专利CN108165785A提供了一种通过添加细化剂来进行晶粒细化的方法,这种方法会引进杂质,不利于制备高纯度的铝靶材。
发明内容
鉴于此,本发明提供了一种旋转金属靶材及其制备方法和装置。本发明提供的制备方法工艺简单,成本低,制得的旋转金属靶材纯度高。
为了实现上述发明目的,本发明提供以下技术方案:
本发明提供了一种旋转金属靶材的制备方法,包括以下步骤:
在真空条件下,对金属管材进行高能电子束区域重熔处理后进行冷却,得到旋转金属靶材。
优选地,所述高能电子束的输出功率为15~85kW。
优选地,所述高能电子束的加速电压为60~85kV,扫描电流为250~1000mA,焦斑直径为4~6mm。
优选地,所述金属管材包括铝管材、铜管材或钛管材。
优选地,所述金属管材的外径为150~180mm,内径为110~120mm,长度为500~3000mm。
优选地,所述金属管材的旋转线速度为1.5~3m/min。
优选地,所述冷却为循环水冷却,所述循环水的温度为10~30℃,流速为1~4m/s。
本发明还提供了上述技术方案所述制备方法制得的旋转金属靶材,所述旋转金属靶材的纯度>99.999%,平均粒径尺寸<50μm。
本发明还提供了上述技术方案所述制备方法进行旋转金属靶材制备的装置,包括:
中控台、CNC工作平台、高能电子枪、旋转机构、真空室、水管和冷水机组;
所述中控台分别与CNC工作平台、高能电子枪和冷水机组连接;
所述高能电子枪产生高能电子束后聚焦在金属管上,形成高能电子焦斑;
所述旋转机设置于CNC工作台上;
所述冷水机组与旋转机构通过水管连接;
所述CNC工作平台和高能电子枪置于真空室内。
优选地,所述CNC工作台的水平移动速度为20~30mm/min。
本发明提供了一种旋转金属靶材的制备方法,包括以下步骤:在真空条件下,对金属管材进行高能电子束区域重熔处理后进行冷却,得到旋转金属靶材。本发明利用高能电子束对金属管材进行区域重熔,同时结合冷却处理,使旋转金属靶材具有高纯度,靶材内部无杂质,旋转金属靶材的晶粒尺寸细化。且提供的制备方法工艺简单,工艺过程易控制,加工设备便宜,成本低,在制备过程中无杂质引入。实施例结果表明,本发明提供的制备方法制得的旋转金属靶材的纯度>99.999%,平均晶粒尺寸<50μm。
附图说明
下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细的说明。
图1为本发明提供的制备旋转金属靶材的装置图,其中,1为中控台,2为高能电子枪,3为旋转机构,4为CNC工作台,5为水管,6为冷水机组,7为真空室;
图2为实施例1制得的旋转铝靶材的金相组织图;
图3为实施例2制得的旋转铝靶材的金相组织图;
图4为实施例3制得的旋转铜靶材的金相组织图;
图5为实施例4制得的旋转钛靶材的金相组织图。
具体实施方式
本发明提供了一种旋转金属靶材的制备方法,包括以下步骤:
在真空条件下,对金属管材进行高能电子束区域重熔处理后进行冷却,得到旋转金属靶材。
在本发明中,所述金属管材优选包括铝管材、铜管材或钛管材,纯度优选>99.999%,外径优选为150~180mm,进一步优选为150~165mm,内径优选为110~120mm,进一步优选为120mm,长度优选为500~3000mm,进一步优选为850~2940mm。在本发明中,所述金属管材优选采用真空电弧熔炼工艺浇注而成。本发明对所述真空电弧熔炼工艺的具体操作没有特殊的限定,采用本领域技术人员熟知的真空电弧熔炼工艺即可。本发明采用由真空电弧熔炼工艺浇注而成的金属管材,可避免引入杂质。
在本发明中,所述金属管材的旋转线速度优选为1.5~3m/min,进一步优选为2~2.5m/min。在本发明中,所述金属管材的旋转线速度优选由旋转机构控制。
在本发明中,所述真空条件的真空度优选<10-2Pa,进一步优选为10-3Pa~10-2Pa。
在本发明中,所述高能电子束的输出功率优选为15~85kW,进一步优选为15~45kW,加速电压优选为60~85kV,进一步优选为60~70kV,扫描电流优选为250~1000mA,进一步优选为250~600mA,焦斑直径为4~6mm,进一步优选为5mm。在本发明中,所述高能电子束区域重熔处理在金属表面产生的熔池的深度优选为12~27mm,进一步优选为12~18mm。本发明采用的熔池的深度几乎贯穿金属管材的厚度,可改变金属管材的整体组织性能。
在本发明中,所述冷却的方式优选为循环水冷却,温度优选为10~30℃,进一步优选为15~25℃,流速优选为1~4m/min,进一步优选为2~4m/s。
所述冷却完成后,本发明优选将冷却后得到的试样进行车削加工,得到所述旋转金属靶材。本发明对所述车削加工的尺寸没有特殊的限定,可根据实际产品的需求进行调整。本发明对所述车削加工的具体操作没有特殊的限定,采用本领域技术人员熟知的操作即可。
本发明还提供了上述技术方案所述制备方法制得的旋转金属靶材,所述旋转金属靶材的纯度>99.999%,平均粒径尺寸<50μm。
本发明还提供了上述技术方案所述制备方法进行旋转金属靶材制备的装置,包括:
中控台、CNC工作平台、高能电子枪、旋转机构、真空室、水管和冷水机组;
所述中控台分别与CNC工作平台、高能电子枪和冷水机组连接;
所述高能电子枪产生高能电子束后聚焦在金属管上,形成高能电子焦斑;
所述旋转机构设置于CNC工作台上;
所述冷水机组与旋转机构通过水管连接;
所述CNC工作平台和高能电子枪置于真空室内。
图1为本发明提供的制备旋转金属靶材的装置图,其中,1为中控台,2为高能电子枪,3为旋转机构,4为CNC工作台,5为水管,6为冷水机组,7为真空室。
如图1所示,在本发明中,所述中控台1分别与CNC工作平台4、高能电子枪2和冷水机组6连接;本发明对连接的方式没有特殊要求,采用本领域技术人员所熟知的电连接即可。
在本发明中,所述金属管材优选平行安装于工作台上,所述金属管材优选与高能电子枪相互垂直,确保作业时高能电子枪产生的电子束垂直入射到金属管材最高点。
如图1所示,本发明提供的旋转金属靶材制备的装置包括真空室7;所述CNC工作平台4和高能电子枪2置于真空室7内;所述旋转机构3设置于CNC工作台4上,所述旋转机构3优选通过螺丝固定于CNC工作台4。在本发明中,所述旋转机构3与冷水机组6通过水管5连接;所述水管5与旋转机构3通过旋转接头连接;所述水管5与冷水机组6通过螺纹连接。
当采用所述装置制备旋转金属靶材时,所述金属管材优选固定于旋转机构上,所述金属管材优选与水管连通,形成冷却水循环回路。本发明对所述固定的方式没有特殊的限定,能够保证金属管材与旋转机构连接后不漏水即可。
本发明优选将所述高能电子枪产生的电子束直射至金属管材的表面,所述旋转机构和工作台同时运动,实现金属管材的区域重熔。
在本发明中,所述旋转机构的旋转线速度为1.5~3m/min,进一步优选为1.5~2.5m/min。在本发明,所述CNC工作台的水平移动速度为20~30mm/min,进一步优选为20~25mm/min。在本发明中,所述旋转机构的旋转线速度和CNC工作台的水平移动速度可根据金属管材的厚度进行调整,所述金属管材的厚度为金属管材的外径和内径之差的1/2。在本发明中,当旋转机构和工作台同时运动时,优选高能电子束在金属管材表面上呈螺旋式扫描,当高能电子束离开金属管材表面的瞬间,熔池内的金属熔液在冷却水的作用下,迅速凝固,金属管材局部产生极大过冷度,大大增加形核率,在快冷条件下,晶粒的生长受限,得到细小晶粒组织。
在本发明中,所述CNC工作台优选在水平方向上呈“一”字型往复运动。
在本发明中,所述高能电子枪、CNC工作台和冷水机组的工艺参数的设定、开启和关闭优选由中控台控制。本发明对所述中控台的控制方式没有特殊的限定,采用本领域技术人员熟知的控制方式即可。
本发明对所述装置的各部件的连接方式没有特殊的限定,采用本领域技术人员熟知的连接方式即可。
本发明提供的旋转金属靶材的制备方法可以使用上述装置,但不局限于该装置。
下面结合实施例对本发明提供的旋转金属靶材及其制备方法和装置进行详细的说明,但是不能把它们理解为对本发明保护范围的限定。
本发明的实施例中均使用图1所示的装置。
实施例1
将高纯铝锭(>99.999%)利用真空电弧熔炼浇铸成铝管,铝管规格为外径OD=150mm、内径ID=120mm、长度L=860mm;
将制备的铝管安装于可移动旋转工作台上,并连接上冷却水管,铝管内部通恒温冷却水,设定冷却水温度15℃,流速为2m/s;
在真空度为10-2Pa的真空室内,利用高能电子束进行管材区域重熔。调整电子束输出功率15kW,加速电压为60kV,扫描电流为250mA。使铝管表面形成一个直径4mm,深度约为12mm的小熔池;
根据金属管材的厚度T=15mm(T=(OD-ID)/2),设定铝管旋转线速度为1.5m/min和工作台水平移动速度为20mm/min;
根据产品尺寸进行车削加工,得到OD145-ID125*L850的旋转铝靶材。实测纯度大于99.999%,平均晶粒尺寸为38.1695μm。
图2为实施例1制得的旋转铝靶材的金相组织图,从图中可以看出,制得的旋转铝靶材的晶粒细化,粒径尺寸小,晶粒分布均匀。
实施例2
将高纯铝锭(>99.999%)利用真空电弧熔炼浇铸成铝管,铝管规格为外径OD=175mm、内径ID=120mm、长度L=2950mm;
将制备的铝管安装于可移动旋转工作台上,并连接上冷却水管,铝管内部通恒温冷却水,设定冷却水温度15℃,流速为2m/s;
在真空度为10-2Pa的真空室内,利用高能电子束进行管材区域重熔。调整电子束输出功率25kW,加速电压为71.4kV,扫描电流为350mA。使铝管表面形成一个直径5mm,深度约为24mm的小熔池;
根据金属管材的厚度T=27.5mm(T=(OD-ID)/2),设定铝管旋转线速度为2.5m/min和工作台水平移动速度为30mm/min;
根据产品尺寸进行车削加工,得到OD167-ID125*L2940的旋转铝靶材。实测纯度>99.999%,晶粒尺寸为46.0175μm。
图3为实施例2制得的旋转铝靶材的金相组织图,从图中可以看出,制得的旋转铝靶材的晶粒细化,粒径尺寸小,晶粒分布均匀。
实施例3
将高纯铜锭(>99.999%)利用真空电弧熔炼浇铸成铜管,铜管规格为外径OD=165mm、内径ID=120mm、长度L=1500mm;
将制备的铜管安装于可移动旋转工作台上,并连接上冷却水管,铜管内部通恒温冷却水,设定冷却水温度20℃,流速为2.5m/s;
在真空度为10-3Pa的真空室内,利用高能电子束进行管材区域重熔。调整电子束输出功率30kW,加速电压为60kV,扫描电流为500mA。使铜管表面形成一个直径5mm,深度约为20mm的小熔池;
根据金属管材的厚度T=22.5mm(T=(OD-ID)/2),设定铜管旋转线速度为2m/min和工作台水平移动速度为25mm/min;
根据产品尺寸进行车削加工,得到OD161-ID125*L1476的旋转铜靶材。实测纯度大于99.999%,平均晶粒尺寸为44.3592μm。
图4为实施例3制得的旋转铜靶材的金相组织图,该金相组织图的放大倍数为100倍,标尺为100μm,从图中可以看出,制得的旋转铜靶材的晶粒细化,粒径尺寸小,晶粒分布均匀。
实施例4
将高纯钛锭(>99.999%)利用真空电弧熔炼浇铸成钛管,钛管规格为外径OD=150mm、内径ID=120mm、长度L=860mm;
将制备的钛管安装于可移动旋转工作台上,并连接上冷却水管,钛管内部通恒温冷却水,设定冷却水温度25℃,流速为3m/s;
在真空度为10-3Pa的真空室内,利用高能电子束进行管材区域重熔。调整电子束输出功率45kW,加速电压为85kV,扫描电流为530mA。使钛管表面形成一个直径6mm,深度约为12mm的小熔池;
根据金属管材的厚度T=15mm(T=(OD-ID)/2),设定钛管旋转线速度为1.5m/min和工作台水平移动速度为20mm/min;
根据产品尺寸进行车削加工,得到OD145-ID125*L850的旋转钛靶材。实测纯度大于99.999%,平均晶粒尺寸为47.6271μm。
图5为实施例4制得的旋转钛靶材的金相组织图,该金相组织图的放大倍数为100倍,标尺为100μm,从图中可以看出,制得的旋转铝靶材的晶粒细化,粒径尺寸小,晶粒分布均匀。
以上所述仅是本发明的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。
Claims (7)
1.一种旋转金属靶材的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
在真空条件下,对金属管材进行高能电子束区域重熔处理后进行冷却,得到旋转金属靶材;
所述金属管材的旋转线速度为1.5~3m/min;
所述高能电子束的加速电压为60~85kV,扫描电流为250~1000mA,焦斑直径为4~6mm;
所述金属管材为铝管材、铜管材或钛管材。
2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述高能电子束的输出功率为15~85kW。
3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述金属管材的外径为150~180mm,内径为110~120mm,长度为500~3000mm。
4.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述冷却为循环水冷却,所述循环水的温度为10~30℃,流速为1~4m/s。
5.权利要求1~4任一项所述制备方法制得的旋转金属靶材,其特征在于,所述旋转金属靶材的纯度>99.999%,平均粒径尺寸<50μm。
6.一种利用权利要求1~4任一项所述制备方法进行旋转金属靶材制备的装置,其特征在于,包括:
中控台、CNC工作平台、高能电子枪、旋转机构、真空室、水管和冷水机组;
所述中控台分别与CNC工作平台、高能电子枪和冷水机组连接;
所述高能电子枪产生高能电子束后聚焦在金属管上,形成高能电子焦斑;
所述旋转机构设置于CNC工作台上;
所述冷水机组与旋转机构通过水管连接;
所述CNC工作平台和高能电子枪置于真空室内。
7.根据权利要求6所述的装置,其特征在于,所述CNC工作台的水平移动速度为20~30mm/min。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201910688136.9A CN110257785B (zh) | 2019-07-29 | 2019-07-29 | 一种旋转金属靶材及其制备方法和装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201910688136.9A CN110257785B (zh) | 2019-07-29 | 2019-07-29 | 一种旋转金属靶材及其制备方法和装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN110257785A CN110257785A (zh) | 2019-09-20 |
CN110257785B true CN110257785B (zh) | 2020-07-28 |
Family
ID=67912241
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201910688136.9A Active CN110257785B (zh) | 2019-07-29 | 2019-07-29 | 一种旋转金属靶材及其制备方法和装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN110257785B (zh) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN112981335B (zh) * | 2021-02-09 | 2022-10-04 | 丰联科光电(洛阳)股份有限公司 | 一种高纯铜管靶的制备方法 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TW201207139A (en) * | 2010-06-23 | 2012-02-16 | Tosoh Smd Inc | Bimetallic rotary target |
CN103436837A (zh) * | 2013-08-28 | 2013-12-11 | 庄志杰 | 改进旋转靶材喷涂系统 |
CN104532235A (zh) * | 2014-11-03 | 2015-04-22 | 兰州空间技术物理研究所 | 金属基料浆涂覆涂层真空电子束表面改性方法 |
CN106521384A (zh) * | 2016-11-03 | 2017-03-22 | 北京航空航天大学 | 一种利用电子束重熔技术提高Nb‑Si基合金抗氧化性的方法 |
CN108796456A (zh) * | 2018-08-30 | 2018-11-13 | 青岛蓝光晶科新材料有限公司 | 难熔稀有金属环形靶材的制备方法与装置 |
-
2019
- 2019-07-29 CN CN201910688136.9A patent/CN110257785B/zh active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TW201207139A (en) * | 2010-06-23 | 2012-02-16 | Tosoh Smd Inc | Bimetallic rotary target |
CN103436837A (zh) * | 2013-08-28 | 2013-12-11 | 庄志杰 | 改进旋转靶材喷涂系统 |
CN104532235A (zh) * | 2014-11-03 | 2015-04-22 | 兰州空间技术物理研究所 | 金属基料浆涂覆涂层真空电子束表面改性方法 |
CN106521384A (zh) * | 2016-11-03 | 2017-03-22 | 北京航空航天大学 | 一种利用电子束重熔技术提高Nb‑Si基合金抗氧化性的方法 |
CN108796456A (zh) * | 2018-08-30 | 2018-11-13 | 青岛蓝光晶科新材料有限公司 | 难熔稀有金属环形靶材的制备方法与装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN110257785A (zh) | 2019-09-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5160388A (en) | Process for producing cathodes for cathodic sputtering based on aluminium-silicon alloys | |
KR101467152B1 (ko) | 은계 원통 타깃 및 그 제조 방법 | |
CN109182843B (zh) | 一种镍钨中间合金及一种电子束熔炼制备镍钨中间合金的方法 | |
WO1998020183A1 (en) | Method for fabricating sputtering targets | |
CN112593169B (zh) | 一种电弧增材制造铝锂合金缺陷和组织控制的方法 | |
CN112139648B (zh) | 钛铝金属间化合物原位增材定向凝固方法 | |
JP2015203125A (ja) | 円筒型スパッタリングターゲット用素材の製造方法 | |
CN110257785B (zh) | 一种旋转金属靶材及其制备方法和装置 | |
CN102912152A (zh) | 抑制高Nb含量的高温合金宏观偏析的真空电弧重熔方法 | |
CN110904364B (zh) | 一种铝合金靶材的制备方法 | |
CN112695219A (zh) | 一种提高熔炼铸造Cu-Cr-Nb合金强度和导电率的方法 | |
CN116121551A (zh) | 一种电子束熔炼生产的钽锭及生产方法 | |
CN114774865A (zh) | 一种铝钪合金靶材及其制备方法 | |
JPH06264232A (ja) | Ta製スパッタリングタ−ゲットとその製造方法 | |
CN113416906B (zh) | 一种采用挤压开坯与脉冲电流热处理相结合制备钛合金棒坯的工艺 | |
CN110284111B (zh) | 一种金属靶材的制备系统 | |
CN103820666A (zh) | 一种细晶铜铬合金的制备方法 | |
CN111440964B (zh) | 一种高强高导Cu-Fe合金短流程制备方法 | |
CN113493886B (zh) | 一种采用自由锻和脉冲电流辅助挤压相结合提高钛合金棒材组织均匀性的成形方法 | |
CN113293311B (zh) | 真空感应冷坩埚熔炼制备高纯镍锭的方法 | |
CN114000073A (zh) | 一种改善高纯镍靶材内部组织的工艺方法 | |
TWI627299B (zh) | 鉭濺鍍靶材及其製法 | |
CN115287500B (zh) | 一种镍钒合金锭的熔炼方法 | |
CN112210707B (zh) | 一种电子束熔炼制备高性能高速钢的方法 | |
CN115896501B (zh) | 一种钛铝合金的制备方法及钛铝合金和应用 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |