CN110174803A - 阵列基板及其制作方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种阵列基板及其制作方法。本发明的阵列基板具有显示区及位于显示区外侧的外围区，阵列基板包括设于外围区内的边缘色阻图案及位于边缘色阻图案上方的边缘隔垫物，边缘色阻图案包括块状部及位于块状部外侧的挡墙，从而在显示区色阻图案及边缘色阻图案上方形成用于制作主隔垫物及边缘隔垫物的隔垫物材料层时，隔垫物材料层在边缘色阻图案上方的部分的流平性大大降低，使得最终形成的位于显示区色阻图案上方的主隔垫物与位于边缘色阻图案上方的边缘隔垫物的高度差降低，能够提升液晶显示面板的显示品质。

Description

阵列基板及其制作方法
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种阵列基板及其制作方法。
背景技术
液晶显示装置(Liquid Crystal Display，LCD)具有机身薄、省电、无辐射等众多优点，得到了广泛的应用，如：移动电话、个人数字助理(PDA)、数字相机、计算机屏幕和笔记本电脑屏幕等。
现有市场上的液晶显示装置大部分为背光型液晶显示装置，其包括壳体、设于壳体内的液晶显示面板及设于壳体内的背光模组(Backlight module)。传统的液晶显示面板的结构是由一彩色滤光片基板(Color Filter)、一薄膜晶体管阵列基板(Thin FilmTransistor Array Substrate，TFT Array Substrate)以及一配置于两基板间的液晶层(Liquid Crystal Layer)所构成，其工作原理是通过在两片玻璃基板上施加驱动电压来控制液晶层的液晶分子的旋转，将背光模组的光线折射出来产生画面。
COA(Color Filter on Array)技术是将彩色滤光层制备在阵列基板上的技术，现有的COA技术的液晶显示面板通过将制备有彩色滤光层的阵列基板与具有公共电极及隔垫物(PS)的对置基板进行对组而得到，具有开口率较高且耦合电容较小的优点。在COA技术基础上，现有一种POA技术，是指将对置基板的隔垫物制作在制备有彩色滤光层的阵列基板上，可以改善曲面面板的隔垫物位移(shift)造成的显示不均(mura)。
请参阅图1，为现有的一种采用POA技术的液晶显示面板的结构示意图。该液晶显示面板具有显示区901及位于显示区901外侧的外围区902，包括相对设置的阵列基板800及对置基板700，所述阵列基板800包括第一衬底810、设于第一衬底810上的薄膜晶体管阵列层820、设于薄膜晶体管阵列层820上的第一钝化层830、设于第一钝化层830上且位于显示区901内的显示区色阻图案841、设于第一钝化层830上且位于外围区902内的边缘色阻块(又称为冗余色阻块)842、覆盖显示区色阻图案841及边缘色阻块842的第二钝化层850、设于第二钝化层850上且位于显示区色阻图案841上方的像素电极860、主隔垫物(Main PS)871及辅助隔垫物(Sub PS)872以及设于第二钝化层850上且位于边缘色阻块842上方的边缘隔垫物(又称为冗余隔垫物，dummy PS)873。薄膜晶体管阵列层820包括间隔设于第一衬底810上栅极821、电容极板822及外围走线823、设于第一衬底810、栅极821、电容极板822及外围走线823上的栅极绝缘层824、设于栅极绝缘层824上且位于栅极821上方的有源层825、设于栅极绝缘层824上且分别与有源层825两端连接的源极826及漏极827，栅极821、电容极板822、有源层824、源极825及漏极826均位于显示区901内，外围走线823位于外围区902内。所述对置基板700包括第二衬底710及设于第二衬底710上的公共电极层720，对置基板700设有公共电极720的一侧与阵列基板800设有像素电极860的一侧相对。所述液晶显示面板还包括位于阵列基板700及对置基板800之间且位于外围区902的框胶(未图示)，边缘色阻块842及边缘隔垫物873均位于框胶内侧。请参阅图2，所述边缘色阻块842的横截面形状为正方形，其长宽均为100μm左右，用于垫高边缘隔垫物873使其能够对外围区902的面板盒厚进行支撑，主隔垫物871、辅助隔垫物872及边缘隔垫物873在制作时，通常是在第二钝化层850上形成隔垫物材料膜，而后利用一道半色调光罩(half-tone mask)对隔垫物材料膜进行图案化，从而得到主隔垫物871、辅助隔垫物872及边缘隔垫物873。标准设计中，一般是设置主隔垫物871与边缘隔垫物873的高度相同，但由于隔垫物材料膜一般为光阻材料，具有流平性，因此隔垫物材料膜在边缘色阻块842上方的部分较显示区色阻图案841上方的部分薄，使得请参阅图1，边缘隔垫物873的高度会小于主隔垫物871的高度，使得边缘隔垫物873无法对外围区902的面板盒厚进行有效支撑，使得该液晶显示面板存在周边显示不均，影响显示品质。
发明内容
本发明的目的在于提供一种阵列基板，能够降低主隔垫物与边缘隔垫物的高度差，应用于液晶显示面板中能够提升液晶显示面板的显示品质。
本发明的另一目的在于提供一种阵列基板的制作方法，能够降低主隔垫物与边缘隔垫物的高度差，制得的阵列基板应用于液晶显示面板中能够提升液晶显示面板的显示品质。
为实现上述目的，本发明首先提供一种阵列基板，所述阵列基板具有显示区及位于显示区外侧的外围区；所述阵列基板包括设于外围区内的边缘色阻图案及位于边缘色阻图案上方的边缘隔垫物；所述边缘色阻图案包括块状部及位于块状部外侧的挡墙。
所述阵列基板还包括衬底基板、设于衬底基板上的薄膜晶体管阵列层、设于薄膜晶体管阵列层上的第一钝化层、设于第一钝化层上且位于显示区内的显示区色阻图案、覆盖显示区色阻图案的第二钝化层，所述边缘色阻图案设于第一钝化层上，所述第二钝化层覆盖边缘色阻图案，所述边缘隔垫物设于第二钝化层上。
所述阵列基板还包括间隔设于第二钝化层上且位于显示区内的主隔垫物及辅助隔垫物；所述主隔垫物及辅助隔垫物均位于显示区色阻图案上方；所述辅助隔垫物的高度小于主隔垫物及边缘隔垫物的高度。
所述块状部及挡墙的材料相同或不同。
所述外围区包括位于显示区外侧且与显示区间隔的胶框涂布区及位于胶框涂布区与显示区之间的过渡区，所述边缘色阻图案及边缘隔垫物均位于过渡区内。
所述挡墙为环状。
所述块状部的横截面形状为正方形，所述挡墙的横截面形状为矩形框。
所述块状部的长宽均为105μm-110μm；所述挡墙的内侧边缘与外侧边缘之间的距离为20μm-50μm；所述挡墙的内侧边缘与块状部的边缘之间的距离为10μm-20μm。
所述阵列基板还包括设于第二钝化层上且位于显示区内的像素电极；所述第一钝化层、显示区色阻图案及第二钝化层设有过孔，所述像素电极经过孔与薄膜晶体管阵列层接触。
本发明还提供一种阵列基板的制作方法，包括如下步骤：
步骤S1、提供衬底基板，在衬底基板上制作薄膜晶体管阵列层；
步骤S2、在薄膜晶体管阵列层上形成第一钝化层，在第一钝化层上制作显示区色阻图案及位于显示区色阻图案外侧的边缘色阻图案，在第一钝化层、显示区色阻图案及边缘色阻图案上形成第二钝化层；
所述边缘色阻图案包括块状部及位于块状部外侧的挡墙；
步骤S3、在第二钝化层上形成隔垫物材料层；对隔垫物材料层进行图案化，形成位于显示区色阻图案上方的主隔垫物以及位于边缘色阻图案上方的边缘隔垫物。
本发明的有益效果：本发明的阵列基板具有显示区及位于显示区外侧的外围区，阵列基板包括设于外围区内的边缘色阻图案及位于边缘色阻图案上方的边缘隔垫物，边缘色阻图案包括块状部及位于块状部外侧的挡墙，从而在显示区色阻图案及边缘色阻图案上方形成用于制作主隔垫物及边缘隔垫物的隔垫物材料层时，隔垫物材料层在边缘色阻图案上方的部分的流平性大大降低，使得最终形成的位于显示区色阻图案上方的主隔垫物与位于边缘色阻图案上方的边缘隔垫物的高度差降低，能够提升液晶显示面板的显示品质。本发明液晶显示面板能够降低主隔垫物与边缘隔垫物的高度差，显示品质好。
附图说明
为了能更进一步了解本发明的特征以及技术内容，请参阅以下有关本发明的详细说明与附图，然而附图仅提供参考与说明用，并非用来对本发明加以限制。
附图中，
图1为现有的一种采用POA技术的液晶显示面板的剖视示意图；
图2为图1所示的液晶显示面板的边缘色阻块的俯视示意图；
图3为本发明的阵列基板的俯视示意图；
图4为本发明的阵列基板的剖视示意图；
图5为本发明的阵列基板的边缘色阻图案的俯视示意图；
图6为本发明的阵列基板的制作方法的流程图；
图7为本发明的阵列基板的制作方法的步骤S1的示意图；
图8为本发明的阵列基板的制作方法的步骤S2的示意图；
图9为本发明的阵列基板的制作方法的步骤S3的示意图；
图10为本发明的阵列基板与对置基板对组形成的液晶显示面板的结构示意图。
具体实施方式
为更进一步阐述本发明所采取的技术手段及其效果，以下结合本发明的优选实施例及其附图进行详细描述。
本发明提供一种采用POA技术的阵列基板，请参阅图3，所述阵列基板具有显示区91及位于显示区91外侧的外围区92。请结合图3及图4，所述阵列基板包括设于外围区92内的边缘色阻图案32及位于边缘色阻图案32上方的边缘隔垫物42。请结合图4及图5，所述边缘色阻图案32包括块状部321及位于块状部321外侧的挡墙322。
具体地，在图4所示的实施例中，所述阵列基板还包括衬底基板10、设于衬底基板10上的薄膜晶体管阵列层20、设于薄膜晶体管阵列层20上的第一钝化层60、设于第一钝化层60上且位于显示区91内的显示区色阻图案31、覆盖显示区色阻图案91的第二钝化层70，所述边缘色阻图案32设于第一钝化层60上，所述第二钝化层70覆盖边缘色阻图案32，所述边缘隔垫物42设于第二钝化层70上。
进一步地，请参阅图4，所述薄膜晶体管阵列层20包括间隔设于衬底基板10上栅极21、电容极板22及外围走线23、设于衬底基板10、栅极21、电容极板22及外围走线23上的栅极绝缘层24、设于栅极绝缘层24上且位于栅极21上方的有源层25、设于栅极绝缘层24上且分别与有源层25两端连接的源极26及漏极27，栅极21、电容极板22、有源层25、源极26及漏极27均位于显示区91内，外围走线23位于外围区92内。
具体地，在图4所示的实施例中，所述阵列基板还包括间隔设于第二钝化层70上且位于显示区91内的主隔垫物41及辅助隔垫物43。所述主隔垫物41及辅助隔垫物43均位于显示区色阻图案31上方。所述辅助隔垫物43的高度小于主隔垫物41及边缘隔垫物42的高度。
具体地，在图4所示的实施例中，所述阵列基板还包括设于第二钝化层70上且位于显示区91内的像素电极50。所述第一钝化层60、显示区色阻图案31及第二钝化层70设有过孔71，该过孔71位于漏极27上方，所述像素电极50经过孔71与薄膜晶体管阵列层20的漏极27接触。
具体地，所述块状部321及挡墙322的材料可以相同，也可以不同。
具体地，请参阅图5，所述挡墙322为环状。
优选地，请参阅图5，所述块状部321的横截面形状为正方形，所述挡墙322的横截面形状为矩形框。
更优选地，所述块状部321的长宽均为105μm-110μm。所述挡墙322的内侧边缘与外侧边缘之间的距离为20μm-50μm。所述挡墙322的内侧边缘与块状部321的边缘之间的距离为10μm-20μm。
具体地，请参阅图3，所述外围区92包括位于显示区91外侧且与显示区91间隔的胶框涂布区921及位于胶框涂布区921与显示区91之间的过渡区922，所述边缘色阻图案32及边缘隔垫物42均位于过渡区922内。
需要说明的是，本发明的阵列基板通过对支撑边缘隔垫物42的边缘色阻图案32的形状进行设计，使得边缘色阻图案32包括块状部321及位于块状部321外侧的挡墙322，从而请结合图9，在显示区色阻图案31及边缘色阻图案32上的第二钝化层70上形成一层隔垫物材料层49后，该隔垫物材料层49在边缘色阻图案32上方的部分的流平性大大降低，从而相比于现有技术采用块状的边缘色阻块，本发明能够减小隔垫物材料层49在边缘色阻图案32上方的部分的厚度与隔垫物材料层49在显示区色阻图案31上的部分的厚度的差值，从而采用一道半色调光罩对隔垫物材料层49进行图案化制作得到的主隔垫物41与边缘隔垫物42的高度差异被大大减小并趋于一致，使得请参阅图10，本发明的阵列基板与包括依次设置的对置基板衬底81及公共电极82的对置基板8进行对组形成液晶显示面板后，边缘隔垫物42能够对外围区92的面板盒厚进行有效的支撑，消除现有技术中由于边缘隔垫物无法对外围区的面板盒厚进行有效支撑而产生的显示不均，从而提升液晶显示面板的显示品质。
请参阅图6，基于同一发明构思，本发明还提供一种上述阵列基板的制作方法，包括如下步骤：
步骤S1、请参阅图7，提供衬底基板10，在衬底基板10上制作薄膜晶体管阵列层20。
具体地，所述薄膜晶体管阵列层20包括间隔设于衬底基板10上栅极21、电容极板22及外围走线23、设于衬底基板10、栅极21、电容极板22及外围走线23上的栅极绝缘层24、设于栅极绝缘层24上且位于栅极21上方的有源层25、设于栅极绝缘层24上且分别与有源层25两端连接的源极26及漏极27。
步骤S2、请参阅图8，在薄膜晶体管阵列层20上形成第一钝化层60，在第一钝化层60上制作显示区色阻图案31及位于显示区色阻图案31外侧的边缘色阻图案32，在第一钝化层60、显示区色阻图案31及边缘色阻图案32上形成第二钝化层70。请结合图8及图5，所述边缘色阻图案32包括块状部321及位于块状部321外侧的挡墙322。
具体地，所述块状部321及挡墙322的材料可以相同，也可以不同。
具体地，请参阅图5，所述挡墙322为环状。
优选地，请参阅图5，所述块状部321的横截面形状为正方形，所述挡墙322的横截面形状为矩形框。
更优选地，所述块状部321的长宽均为105μm-110μm。所述挡墙322的内侧边缘与外侧边缘之间的距离为20μm-50μm。所述挡墙322的内侧边缘与块状部321的边缘之间的距离为10μm-20μm。
具体地，所述步骤S2在形成第二钝化层70后还对第一钝化层60、显示区色阻图案31及第二钝化层70进行图案化形成位于薄膜晶体管阵列层20的漏极27上方的过孔71。
步骤S3、请参阅图9，在第二钝化层70上形成隔垫物材料层49。对隔垫物材料层49进行图案化，形成位于显示区色阻图案31上方的主隔垫物41以及位于边缘色阻图案32上方的边缘隔垫物42，从而形成如图3及图4所示的阵列基板。
具体地，所述步骤S3中采用一道半色调光罩对隔垫物材料层49进行图案化形成主隔垫物41及边缘隔垫物42。
具体地，所述步骤S3中对隔垫物材料层49进行图案化形成主隔垫物41及边缘隔垫物42的同时还形成位于显示区色阻图案31上方且与主隔垫物41间隔的辅助隔垫物43。辅助隔垫物43的高度小于主隔垫物41及边缘隔垫物42的高度。
具体地，所述步骤S3在第二钝化层70上形成隔垫物材料层49之前还在第二钝化层70上制作位于显示区色阻图案31上方的像素电极50，所述像素电极50经过孔71与薄膜晶体管阵列层20的漏极27接触。
需要说明的是，本发明的阵列基板的制作方法通过对支撑边缘隔垫物42的边缘色阻图案32的形状进行设计，使得边缘色阻图案32包括块状部321及位于块状部321外侧的挡墙322，从而请结合图9，在显示区色阻图案31及边缘色阻图案32上的第二钝化层70上形成一层隔垫物材料层49后，该隔垫物材料层49在边缘色阻图案32上方的部分的流平性大大降低，从而相比于现有技术采用块状的边缘色阻块，本发明能够减小隔垫物材料层49在边缘色阻图案32上方的部分的厚度与隔垫物材料层49在显示区色阻图案31上的部分的厚度的差值，从而采用一道半色调光罩对隔垫物材料层49进行图案化制作得到的主隔垫物41与边缘隔垫物42的高度差异被大大减小并趋于一致，使得请参阅图10，本发明制得的阵列基板与包括依次设置的对置基板衬底81及公共电极82的对置基板8进行对组形成液晶显示面板后，边缘隔垫物42能够对外围区92的面板盒厚进行有效的支撑，消除现有技术中由于边缘隔垫物无法对外围区的面板盒厚进行有效支撑而产生的显示不均，从而提升液晶显示面板的显示品质。
综上所述，阵列基板及其制作方法。本发明的阵列基板具有显示区及位于显示区外侧的外围区，阵列基板包括设于外围区内的边缘色阻图案及位于边缘色阻图案上方的边缘隔垫物，边缘色阻图案包括块状部及位于块状部外侧的挡墙，从而在显示区色阻图案及边缘色阻图案上方形成用于制作主隔垫物及边缘隔垫物的隔垫物材料层时，隔垫物材料层在边缘色阻图案上方的部分的流平性大大降低，使得最终形成的位于显示区色阻图案上方的主隔垫物与位于边缘色阻图案上方的边缘隔垫物的高度差降低，能够提升液晶显示面板的显示品质。本发明液晶显示面板能够降低主隔垫物与边缘隔垫物的高度差，显示品质好。
以上所述，对于本领域的普通技术人员来说，可以根据本发明的技术方案和技术构思作出其他各种相应的改变和变形，而所有这些改变和变形都应属于本发明权利要求的保护范围。

Claims (10)

1.一种阵列基板，其特征在于，所述阵列基板具有显示区(91)及位于显示区(91)外侧的外围区(92)；所述阵列基板包括设于外围区(92)内的边缘色阻图案(32)及位于边缘色阻图案(32)上方的边缘隔垫物(42)；所述边缘色阻图案(32)包括块状部(321)及位于块状部(321)外侧的挡墙(322)。
2.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，还包括衬底基板(10)、设于衬底基板(10)上的薄膜晶体管阵列层(20)、设于薄膜晶体管阵列层(20)上的第一钝化层(60)、设于第一钝化层(60)上且位于显示区(91)内的显示区色阻图案(31)、覆盖显示区色阻图案(91)的第二钝化层(70)，所述边缘色阻图案(32)设于第一钝化层(60)上，所述第二钝化层(70)覆盖边缘色阻图案(32)，所述边缘隔垫物(42)设于第二钝化层(70)上。
3.如权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，还包括间隔设于第二钝化层(70)上且位于显示区(91)内的主隔垫物(41)及辅助隔垫物(43)；所述主隔垫物(41)及辅助隔垫物(43)均位于显示区色阻图案(31)上方；所述辅助隔垫物(43)的高度小于主隔垫物(41)及边缘隔垫物(42)的高度。
4.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述块状部(321)及挡墙(322)的材料相同或不同。
5.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述外围区(92)包括位于显示区(91)外侧且与显示区(91)间隔的胶框涂布区(921)及位于胶框涂布区(921)与显示区(91)之间的过渡区(922)，所述边缘色阻图案(32)及边缘隔垫物(42)均位于过渡区(922)内。
6.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述挡墙(322)为环状。
7.如权利要求6所述的阵列基板，其特征在于，所述块状部(321)的横截面形状为正方形，所述挡墙(322)的横截面形状为矩形框。
8.如权利要求7所述的阵列基板，其特征在于，所述块状部(321)的长宽均为105μm-110μm；所述挡墙(322)的内侧边缘与外侧边缘之间的距离为20μm-50μm；所述挡墙(322)的内侧边缘与块状部(321)的边缘之间的距离为10μm-20μm。
9.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，还包括设于第二钝化层(70)上且位于显示区(91)内的像素电极(50)；所述第一钝化层(60)、显示区色阻图案(31)及第二钝化层(70)设有过孔(71)，所述像素电极(50)经过孔(71)与薄膜晶体管阵列层(20)接触。
10.一种阵列基板的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：
步骤S1、提供衬底基板(10)，在衬底基板(10)上制作薄膜晶体管阵列层(20)；
步骤S2、在薄膜晶体管阵列层(20)上形成第一钝化层(60)，在第一钝化层(60)上制作显示区色阻图案(31)及位于显示区色阻图案(31)外侧的边缘色阻图案(32)，在第一钝化层(60)、显示区色阻图案(31)及边缘色阻图案(32)上形成第二钝化层(70)；
所述边缘色阻图案(32)包括块状部(321)及位于块状部(321)外侧的挡墙(322)；
步骤S3、在第二钝化层(70)上形成隔垫物材料层(49)；对隔垫物材料层(49)进行图案化，形成位于显示区色阻图案(31)上方的主隔垫物(41)以及位于边缘色阻图案(32)上方的边缘隔垫物(42)。
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