CN110047625B - 透明导电膜结构的制作方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种透明导电膜结构的制作方法，包括如下步骤：提供印刷工作平台；于印刷工作平台的上表面设置软衬垫；于软衬垫的上表面设置柔性叠层结构，柔性叠层结构包括柔性基底及柔性材料层，柔性基底位于软衬垫的上表面，柔性材料层位于柔性基底的上表面，柔性材料层的上表面形成有多个凹槽结构；将浆料置于柔性材料层的上表面；使用刮涂工具对浆料进行刮涂，以使得浆料填充于各凹槽结构内以形成种子层；基于种子层形成透明导电膜结构。本发明可以避免浆料在柔性基材表面的残留，确保在刮涂完成后柔性材料层上表面的清洁度，不需要额外的对浆料进行预固化的步骤及对柔性材料层的上表面进行清洗的步骤，从而简化了工艺流程，降低了生产成本。

Description

透明导电膜结构的制作方法
技术领域
本发明属于透明导电膜结构技术领域，特别是涉及一种透明导电膜结构的制作方法。
背景技术
触摸屏(又名触控屏)中含有的透明导电膜结构是通过在柔性材料层的表面设置对应的多个凹槽结构，凹槽结构内形成有透明导电膜结构。现有技术中，如图1所示，一般将包括柔性基底101及柔性材料层102的柔性叠层结构10置于一印刷工作平台12的上表面，在所述柔性材料层102的上表面滴涂导电浆料13后使用刮刀14刮涂所述导电浆料13以使得所述导电浆料13(譬如，银浆等浆料)填充于各所述凹槽结构11内。
在采用上述工艺方法进行所述导电浆料13的刮涂时，由于所述印刷工作平台12一般为金属工作平台，尤其是所述金属工作平台的面积比较大时，所述印刷工作平台12的上表面的平整度无法保证，即所述印刷工作平台12的上表面会有凹坑或凸起存在，在进行所述导电浆料13的刮涂时，由于所述印刷工作平台12的上表面有凹坑或凸起的存在，所述导电浆料13在填充于所述凹槽结构11内的同时，会在所述柔性材料层102的上表面残留；在刮涂完成后需要对所述柔性材料层102的上表面进行清洗，以将残留于所述柔性材料层102上表面的所述导电浆料13去除，从而使得整个工艺步骤复杂，成本较高。
发明内容
鉴于以上所述现有技术的缺点，本发明的目的在于提供一种透明导电膜结构的制作方法，用于解决现有技术中在柔性材料层的上表面进行导电浆料刮涂时会造成柔性材料层上表面有导电浆料残留，从而在刮涂完成后需要对所述柔性材料层的上表面进行清洗，使得整个工艺步骤比较复杂，生产成本较高的问题。
为实现上述目的及其他相关目的，本发明提供一种透明导电膜结构的制作方法，所述透明导电膜结构的制作方法包括如下步骤：
提供印刷工作平台；
于所述印刷工作平台的上表面设置软衬垫；
于所述软衬垫的上表面设置柔性叠层结构，所述柔性叠层结构包括柔性基底及柔性材料层，所述柔性基底位于所述软衬垫的上表面，所述柔性材料层位于所述柔性基底的上表面，所述柔性材料层的上表面形成有多个凹槽结构；
将浆料置于所述柔性材料层的上表面；
使用刮涂工具对所述浆料进行刮涂，以使得所述浆料填充于各所述凹槽结构内形成种子层；
基于所述种子层于各所述凹槽结构内形成金属线以形成透明导电膜结构。
可选地，所述印刷工作平台包括金属工作台。
可选地，所述软衬垫包括邵A硬度介于30度～80度之间的衬垫。
可选地，所述软衬垫包括橡胶垫、橡皮布、硅胶垫或硅橡胶垫。
可选地，所述软衬垫的厚度包括0.5毫米～10毫米。
可选地，所述刮涂工具包括刮刀。
可选地，刮涂过程中，所述刮涂工具与所述柔性材料层的上表面的夹角包括30°～70°。
可选地，刮涂过程中，刮涂压力包括4公斤力每平方厘米～6公斤力每平方厘米，刮涂速度包括50毫米每秒～260毫米每秒。
可选地，所述浆料包括种子油墨。
可选地，多个所述凹槽结构呈独立分布或呈网格状互连分布。
可选地，所述浆料填充于各所述凹槽结构内后，将所述浆料进行固化以形成所述种子层。
可选地，所述凹槽结构的深度包括1微米～20微米，所述凹槽结构的宽度包括1微米～10微米；所述金属线与所述种子层的厚度之和小于等于所述凹槽结构的深度，所述金属线的宽度与所述凹槽结构的宽度相同。
如上所述，本发明的透明导电膜结构的制作方法，具有以下有益效果：
本发明的透明导电膜结构的制作方法先在印刷工作平台的上表面设置软衬垫，然后再于所述软衬垫的上表面设置柔性基底及柔性材料层的柔性叠层结构后在所述柔性材料层的上表面进行浆料的刮涂，由于软衬垫的存在，在使用刮涂工具进行浆料的刮涂时，在刮涂压力的作用下，软衬垫会吸收印刷工作平台局部不平整的因素，从而避免浆料在柔性材料层表面的残留，确保在刮涂完成后柔性材料层上表面的清洁度，不需要额外的对浆料进行预固化的步骤及对柔性材料层的上表面进行清洗的步骤，从而简化了工艺流程，降低了生产成本。
附图说明
图1显示为现有技术中在柔性材料层的上表面进行导电浆料刮涂的结构示意图。
图2显示为本发明提供的透明导电膜结构的制作方法的流程图。
图3显示为本发明提供的透明导电膜结构的制作方法的步骤1)所得结构的截面结构示意图。
图4显示为本发明提供的透明导电膜结构的制作方法的步骤2)所得结构的截面结构示意图。
图5显示为本发明提供的透明导电膜结构的制作方法的步骤3)所得结构的截面结构示意图。
图6显示为本发明提供的透明导电膜结构的制作方法的步骤4)所得结构的截面结构示意图。
图7及图8显示为本发明提供的透明导电膜结构的制作方法的步骤5)所得结构的截面结构示意图。
图9显示为本发明提供的透明导电膜结构的制作方法的步骤6)所得结构的截面结构示意图。
元件标号说明
10 柔性叠层结构
101 柔性基底
102 柔性材料层
11 凹槽结构
12 印刷工作台
13 导电浆料
14 刮刀
20 印刷工作台
21 软衬垫
22 柔性叠层结构
221 柔性基底
222 柔性材料层
23 凹槽结构
24 浆料
241 种子层
25 刮涂工具
26 透明导电膜结构
261 金属线
具体实施方式
以下由特定的具体实施例说明本发明的实施方式，熟悉此技术的人士可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本发明的其他优点及功效。
请参阅图2至图9。须知，本说明书所附图式所绘示的结构、比例、大小等，均仅用以配合说明书所揭示的内容，以供熟悉此技术的人士了解与阅读，并非用以限定本发明可实施的限定条件，故不具技术上的实质意义，任何结构的修饰、比例关系的改变或大小的调整，在不影响本发明所能产生的功效及所能达成的目的下，均应仍落在本发明所揭示的技术内容得能涵盖的范围内。同时，本说明书中所引用的如“上”、“下”、“左”、“右”、“中间”及“一”等的用语，亦仅为便于叙述的明了，而非用以限定本发明可实施的范围，其相对关系的改变或调整，在无实质变更技术内容下，当亦视为本发明可实施的范畴。
请参阅图1，本发明提供一种透明导电膜结构的制作方法，所述透明导电膜结构的制作方法包括如下步骤：
1)提供印刷工作平台；
2)于所述印刷工作平台的上表面设置软衬垫；
3)于所述软衬垫的上表面设置柔性叠层结构，所述柔性叠层结构包括柔性基底及柔性材料层，所述柔性基底位于所述软衬垫的上表面，所述柔性材料层位于所述柔性基底的上表面，所述柔性材料层的上表面形成有多个凹槽结构；
4)将浆料置于所述柔性材料层的上表面；
5)使用刮涂工具对所述浆料进行刮涂，以使得所述浆料填充于各所述凹槽结构内形成种子层；
6)基于所述种子层于各所述凹槽结构内形成金属线以形成透明导电膜结构。
在步骤1)中，请参阅图2中的S1步骤及图3，提供印刷工作平台20。
作为示例，所述印刷工作平台20可以包括金属工作平台，具体的，所述印刷工作平台20可以包括铝工作平台、不锈钢工作平台或铝合金工作平台等等。
作为示例，所述印刷平台20的上表面并非绝对平整，即所述印刷平台20的上表面的平整度可以不佳，亦即所述印刷平台20的上表面部分区域可以形成有凹坑(未示出)或凸起结构。
在步骤2)中，请参阅图2中的S2步骤及图4，于所述印刷工作平台20的上表面设置软衬垫21。
作为示例，所述软垫21可以通过但不仅限于粘贴工艺粘贴于所述印刷工作平台20的上表面。
作为示例，所述软衬垫21可以包括邵A硬度介于30度～80度之间的衬垫。需要说明的是，此处所述的“介于30度～80度之间”是指包括30度、80度及30度～80度之间所有数值的数值范围，即此处所述的“介于30度～80度之间”是指包括端点的数值范围。
作为示例，所述软衬垫21可以包括橡胶垫、橡皮布、硅胶垫或硅橡胶垫等等。
作为示例，所述软衬垫21的厚度可以根据实际需要进行设定，优选地，本实施例中，所述软衬垫21的厚度可以包括0.5毫米(mm)～10毫米。
在步骤3)中，请参阅图2中的S3步骤及图5，于所述软衬垫21的上表面设置柔性叠层结构22，所述柔性叠层结构22包括柔性基底221及柔性材料层222，所述柔性基底221位于所述软衬垫21的上表面，所述柔性材料层222位于所述柔性基底221的上表面，所述柔性材料层222的上表面形成有多个凹槽结构23。
作为示例，所述凹槽结构23可以采用压印工艺形成于所述柔性材料层222的上表面。
作为示例，所述柔性基底221可以包括但不仅限于聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)基底、聚酰亚胺(PI)基底、聚碳酸酯(PC)基底或聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)基底。
作为示例，所述柔性材料层222可以包括光刻胶层或UV(紫外光)树脂层。需要说明的是，所述UV树脂层又称为光敏树脂层、紫外光固化树脂层，它可以作为油漆、涂料、油墨等的胶料使用。UV是英文Ultraviolet Rays的缩写，即紫外线。紫外线是肉眼看不见的，是可见光以外的一段电磁辐射，波长在10nm～400nm的范围。所述UV树脂层的固化原理是所述UV树脂中的光引发剂(或光敏剂)在紫外线的照射下吸收紫外光后产生活性自由基或阳离子，引发单体聚合、交联和接支化学反应，使得所述UV树脂层在数秒钟内由液态转化为固态。
作为示例，多个所述凹槽结构23可以呈独立分布，多个所述凹槽结构23也可以呈网格状互连分布，即所述凹槽结构23也可以相互连接成网格状。
作为示例，所述凹槽结构23的宽度及深度可以根据实际需要进行设定，优选地，所述凹槽结构23的深度可以包括1微米～20微米，所述凹槽结构23的宽度可以包括1微米～10微米。
在步骤4)中，请参阅图2中的S4步骤及图6，将浆料24置于所述柔性材料层222的上表面。
作为示例，可以将所述浆料24滴置于所述柔性材料层222的上表面。
作为示例，所述浆料24可以包括导电浆料，具体的，本实施例中，所述浆料24包括种子油墨；所述种子油墨的具体成分可以由本领域技术人员根据需要进行选择，此处不做限定。当然，在其他示例中，所述浆料24还可以包括铜浆料、银浆料或可被光还原的溴化银浆料。
作为示例，所述浆料24可以滴置于所述柔性柔性材料层222上表面的任意位置处，优选地，本实施例中，所述浆料24可以滴置于多个所述凹槽结构23一侧，以便于后续刮涂时可以自所述柔性材料层222上表面的一侧向相对的另一侧刮涂。
在步骤5)中，请参阅图2中的S5步骤及图7及图8，使用刮涂工具25对所述浆料24进行刮涂，以使得所述浆料24填充于各所述凹槽结构23内形成种子层241。
作为示例，所述刮涂工具25可以包括但不仅限于刮刀；所述刮刀的结构为本领域技术人员所知晓，此次不再累述。
作为示例，在刮涂过程中，所述刮涂工具25以相较于所述柔性材料层222上表面倾斜一定角度的姿态对所述浆料24进行刮涂，优选地，本实施例中，所述刮涂工具25与所述柔性材料层222上表面的夹角可以根据实际需要进行设置，优选地，本实施例中，所述刮涂工具25与所述柔性材料层222上表面的夹角可以包括30°～70°，更为优选地，本实施例中，所述刮涂工具25与所述柔性材料层222上表面的夹角可以包括60°～70°。
作为示例，在使用所述刮涂工具25对所述浆料24进行刮涂时，所述刮涂工具25对所述柔性材料层222施加预设的压力，优选地，本实施例中，刮涂过程中所述刮涂工具25对所述柔性材料层222施加的刮涂压力可以包括4公斤力每平方厘米～6公斤力每平方厘米。
作为示例，刮涂过程中，所述刮涂工具25刮涂的速度可以根据实际需要进行设定，优选地，使用所述刮涂工具25对所述浆料24进行刮涂的刮涂速度可以包括50毫米每秒～260毫米每秒，更为优选地，本实施例中，使用所述刮涂工具25对所述浆料24进行刮涂的刮涂速度可以包括160毫米每秒～260毫米每秒。
本发明的透明导电膜结构的制作方法先在所述印刷工作平台20的上表面设置所述软衬垫21，然后再于所述软衬垫21的上表面设置包括所述柔性基底221及所述柔性材料层222的所述柔性叠层结构11后在所述柔性材料层222的上表面进行所述浆料24的刮涂，由于所述软衬垫21的存在，在使用所述刮涂工具25进行所述浆料24的刮涂时，在刮涂压力的作用下，所述软衬垫21会吸收所述印刷工作平台20局部不平整的因素，从而避免所述浆料24在所述柔性材料层222表面的残留，确保在刮涂完成后所述柔性材料层222上表面的清洁度，不需要额外的清洗步骤对所述柔性材料层222的上表面进行清洗，从而简化了工艺流程，降低了生产成本。
作为示例，将所述浆料24刮涂至填充于各所述凹槽结构23内后，还包括将所述浆料24进行固化的步骤。具体的，当所述浆料24为种子油墨时，可以将所述浆料24进行烘烤以使得所述浆料24固化而形成所述种子层241，如图8所示。
在步骤6)中，请参阅图2中的S6步骤及图9，基于所述种子层241于各所述凹槽结构23内形成金属线261以形成透明导电膜结构26。
作为示例，可以采用电镀工艺或化学镀工艺于各所述凹槽结构23内形成导电材料作为所述金属线261。
作为示例，所述金属线261与所述种子层241的厚度之后小于等于所述凹槽结构23的深度，优选地，本实施例中，所述金属线261与所述种子层241的厚度之和等于所述凹槽结构23的深度，即在形成所述金属线261的过程中，采用电镀工艺或化学镀工艺于各所述凹槽结构23内填充所述导电材料直至所述导电材料填满所述凹槽结构23为止。
作为示例，所述金属线261的宽度可以与所述凹槽结构23的宽度相同，即所述金属线261的宽度可以为1微米～10微米。
作为示例，所述金属线261的材料可以包括但不仅限于铜，即所述金属线261可以包括但不仅限于铜金属线。
作为示例，多条所述金属线261可以呈独立分布，即所述透明导电膜结构26可以包括多条独立分布的所述金属线261；当然，多条所述金属线261也可以呈网格状互连分布，即所述透明导电膜结构26也可以多条相互连接成网格状的所述金属线261。
综上所述，本发明提供一种透明导电膜结构的制作方法，所述透明导电膜结构的制作方法包括如下步骤：提供印刷工作平台；于所述印刷工作平台的上表面设置软衬垫；于所述软衬垫的上表面设置柔性叠层结构，所述柔性叠层结构包括柔性基底及柔性材料层，所述柔性基底位于所述软衬垫的上表面，所述柔性材料层位于所述柔性基底的上表面，所述柔性材料层的上表面形成有多个凹槽结构；将浆料置于所述柔性材料层的上表面；使用刮涂工具对所述浆料进行刮涂，以使得所述浆料填充于各所述凹槽结构内形成种子层；基于所述种子层于各所述凹槽结构内形成金属线以形成透明导电膜结构。本发明的透明导电膜结构的制作方法先在印刷工作平台的上表面设置软衬垫，然后再于所述软衬垫的上表面设置柔性基底及柔性材料层的柔性叠层结构后在所述柔性材料层的上表面进行浆料的刮涂，由于软衬垫的存在，在使用刮涂工具进行浆料的刮涂时，在刮涂压力的作用下，软衬垫会吸收印刷工作平台局部不平整的因素，从而避免浆料在柔性材料层表面的残留，确保在刮涂完成后柔性材料层上表面的清洁度，不需要额外的对浆料进行预固化的步骤及对柔性材料层的上表面进行清洗的步骤，从而简化了工艺流程，降低了生产成本。
上述实施例仅例示性说明本发明的原理及其功效，而非用于限制本发明。任何熟悉此技术的人士皆可在不违背本发明的精神及范畴下，对上述实施例进行修饰或改变。因此，举凡所属技术领域中具有通常知识者在未脱离本发明所揭示的精神与技术思想下所完成的一切等效修饰或改变，仍应由本发明的权利要求所涵盖。

Claims (11)

1.一种透明导电膜结构的制作方法，其特征在于，所述透明导电膜结构的制作方法包括如下步骤：
提供印刷工作平台；
于所述印刷工作平台的上表面设置软衬垫，所述软衬垫的邵A硬度介于30度～80度之间；
于所述软衬垫的上表面设置柔性叠层结构，所述柔性叠层结构包括柔性基底及柔性材料层，所述柔性基底位于所述软衬垫的上表面，所述柔性材料层位于所述柔性基底的上表面，所述柔性材料层的上表面形成有多个凹槽结构；
将浆料置于所述柔性材料层的上表面；
使用刮涂工具对所述浆料进行刮涂，以使得所述浆料填充于各所述凹槽结构内形成种子层；刮涂过程中，刮涂压力包括4公斤力每平方厘米～6公斤力每平方厘米；在刮涂压力的作用下，所述软衬垫吸收所述印刷工作平台局部不平整的因素；
基于所述种子层于各所述凹槽结构内形成金属线以形成透明导电膜结构，所述金属线与所述种子层的厚度之和小于等于所述凹槽结构的深度。
2.根据权利要求1所述的透明导电膜结构的制作方法，其特征在于，所述印刷工作平台包括金属工作台。
3.根据权利要求1所述的透明导电膜结构的制作方法，其特征在于，所述软衬垫包括橡胶垫、橡皮布、硅胶垫或硅橡胶垫。
4.根据权利要求1所述的透明导电膜结构的制作方法，其特征在于，所述软衬垫的厚度介于0.5毫米～10毫米之间。
5.根据权利要求1所述的透明导电膜结构的制作方法，其特征在于，所述刮涂工具包括刮刀。
6.根据权利要求1所述的透明导电膜结构的制作方法，其特征在于，刮涂过程中，所述刮涂工具与所述柔性材料层的上表面的夹角介于30°～70°之间。
7.根据权利要求1所述的透明导电膜结构的制作方法，其特征在于，刮涂过程中，刮涂速度介于50毫米每秒～260毫米每秒之间。
8.根据权利要求1所述的透明导电膜结构的制作方法，其特征在于，所述浆料包括种子油墨。
9.根据权利要求1所述的透明导电膜结构的制作方法，其特征在于，多个所述凹槽结构呈独立分布或呈网格状互连分布。
10.根据权利要求1所述的透明导电膜结构的制作方法，其特征在于，所述浆料填充于各所述凹槽结构内后，将所述浆料进行固化以形成所述种子层。
11.根据权利要求1至10中任一项所述的透明导电膜结构的制作方法，其特征在于，所述凹槽结构的深度介于1微米～20微米之间，所述凹槽结构的宽度介于1微米～10微米之间；所述金属线的宽度与所述凹槽结构的宽度相同。
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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN115884506B (zh) * 2023-01-03 2023-06-09 苏州艾乐格电子科技有限公司 一种柔性薄膜电路及其制备方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103009788A (zh) * 2013-01-05 2013-04-03 上海卓凯电子科技有限公司 碳墨印刷装置
CN105304157A (zh) * 2014-06-25 2016-02-03 上海量子绘景电子股份有限公司 具有导电铜网络的透明导电薄膜及其制备方法

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008246829A (ja) * 2007-03-30 2008-10-16 Nec Lcd Technologies Ltd 凸版反転オフセット印刷用印刷版及びその製造方法、並びに表示装置及び表示装置用基板の製造方法
CN104756050B (zh) * 2012-11-30 2017-07-28 Lg化学株式会社 触摸屏及其制造方法
WO2014208947A1 (ko) * 2013-06-24 2014-12-31 주식회사 티메이 터치 스크린 패널
KR101529885B1 (ko) * 2013-09-11 2015-06-19 주식회사 상보 탄소나노튜브를 사용한 투명 전도성 필름 및 그 제조방법
EP2913139B1 (en) * 2014-02-26 2019-04-03 Heraeus Precious Metals North America Conshohocken LLC A glass comprising molybdenum and lead in a solar cell paste
CN108848660B (zh) * 2018-07-16 2024-04-30 苏州维业达科技有限公司 一种电磁屏蔽膜及其制作方法
CN109041557B (zh) * 2018-07-16 2020-04-24 苏州维业达触控科技有限公司 一种金属网格及其制作方法

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103009788A (zh) * 2013-01-05 2013-04-03 上海卓凯电子科技有限公司 碳墨印刷装置
CN105304157A (zh) * 2014-06-25 2016-02-03 上海量子绘景电子股份有限公司 具有导电铜网络的透明导电薄膜及其制备方法

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