CN110028418A - 一种碘佛醇的制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明描述了一种碘佛醇的制备新方法。该方法以5‑羟乙酰胺基‑N,N’‑双(2,3‑二羟丙基)‑2,4,6‑三碘‑1,3‑苯二甲酰胺经上保护基、碱性条件下烷基化反应、脱保护制备得碘佛醇。采用本发明申请制备方法在烷基化制备前对羟基进行保护,有效控制了烷基化制备过程碘佛醇重排杂质(杂质II)的生成,降低了成品精制难度、提高了精制收率,更适于工业化。
Description
技术领域
本发明属医药技术领域,具体描述了一种碘佛醇的制备新方法,碘佛醇是非离子型X 射线造影剂,适用于成人心血管系统的血管造影、头部和体部CT检查和尿路造影等。
背景技术
碘佛醇(Ivoersol)是美国万灵科医药有限公司(Mallinckrodt Medical Inc.)研发的一种新型的非离子型造影剂,1988年被美国FDA批准上市,目前已在日本、英国、法国、中国等地区上市。碘佛醇注射后由于其含碘量高使X射线衰减,能使途经的血管显像清楚。
碘佛醇的化学名为N,N’-双(2,3-二羟基丙基)-5-[N-(2-羟乙基)羟乙酰氨基]-2,4,6-三碘-1,3-苯二甲酰胺,化学结构式(I):
碘佛醇的制备方法文献报道较多。多以5-氨基-2,4,6-三碘异酞酸为起始物料依次经侧链取代制备得碘佛醇,文献报道工艺多围绕该方法进行调整。
美国专利US4396598公开了一种碘佛醇的制备方法,以5-氨基-2,4,6-三碘异酞酸为起始物料,经酰氯化、1、3位侧链取代(2,3-二羟基丙胺)、乙酰基保护、与乙酰氧基乙酰氯(专利报道为经羟基乙酸制备获得。乙酰氧基乙酰氯同时可通过市售获得)、脱乙酰基保护、最后与氯乙醇取代得碘佛醇成品。
工艺侧链乙酰氧基乙酰氯稳定性较差,虽可通过市售获得,但其质量需严格控制,且工艺成本不易控制。工艺最后一步与氯乙醇反应,文献报道该步反应在碱性环境下进行易发生Smiles重排产生杂质II,式(II),在成品中难以去除。
美国专利US5648536报道了一种改进的制备碘佛醇的方法,将乙酰氧基乙酰氯替换为稳定性更好的氯乙酰氯。
路线最后一步反应仍需在碱性环境下进行N-烷基化反应,难以避免杂质II的产生,专利报道制备所得粗品HPLC纯度仅93%。
中国专利CN1187317公开了另一种制备碘佛醇方法,在美国专利US5648536基础上调整了氯水解顺序。
路线在步骤1反应过程需在强碱环境下长时间反应进行N-烷基化反应,氯原子存在较大水解风险,且最后一步水解步骤反应时间长,仍难以避免杂质II的产生。
杂质II生成途径如下:
目前已公开的碘佛醇制备方法均无法有效避免杂质II的产生,制备所得成品需经多次精制方能达到药用要求。
为此,本发明提供了一种碘佛醇的制备新方法,路线可显著降低或避免产生难以去除的杂质II。
发明内容
本发明提供了一种碘佛醇的制备新方法。该制备方法包括:5-羟乙酰胺基-N,N’-双(2,3- 二羟丙基)-2,4,6-三碘-1,3-苯二甲酰胺经上保护基、碱性条件下烷基化反应、脱保护制备得碘佛醇。本发明方法从反应机理上可有效降低或避免粗品中杂质II的产生,通过本工艺方法制备所得粗品中杂质II的含量(HPLC法)通常在0.1%~0.6%、粗品纯度通常可达97.5%以上,所得粗品经一次重结晶杂质II即可满足药典标准(0.5%),完全避免了现有公开报道纯化方法:高效液相制备柱纯化、连续电渗析法纯化、反渗析法纯化、大孔吸附树脂纯化、连续反复多次重结晶等不利于工业化生产及成本控制方法。本发明申请所述的碘佛醇的合成路线为:
本发明提供的碘佛醇制备新方法,包括以下步骤:
步骤(1):在有机溶剂中加入式(V)5-羟乙酰胺基-N,N’-双(2,3-二羟丙基)-2,4,6- 三碘-1,3-苯二甲酰胺和缚酸剂后,于-25℃~35℃温度条件下与卤代硅烷试剂反应。
在步骤(1)反应过程保护基R1的选择尤为重要,在后续步骤(2)中保证具有适当的稳定性避免保护基脱去后重排杂质II的生成。所述步骤(1)反应所用卤代硅烷试剂为三甲基氯硅烷(TMSCl)、三乙基氯硅烷(TESCl)、三异丙基氯硅烷(TIPSCl)、二甲基异丙基氯硅烷(IPDMSCl)、二乙基异丙基氯硅烷(DEIPSCl)、叔丁基二甲基氯硅烷(TBDMSCl)、叔丁基二苯基氯硅烷(TBDPSCl)、叔丁基甲氧基苯基氯硅烷(TBMPSCl)、叔丁氧基二苯基氯硅烷(DPTBOSCl),优选叔丁基二甲基氯硅烷(TBDMSCl)、三甲基氯硅烷(TMSCl)、三乙基氯硅烷(TESCl)、三异丙基氯硅烷(TIPSCl)。
在该反应步骤中卤代硅烷试剂投料摩尔比为式(V)的1~8倍,优选5~6倍。该步反应温度宜选择在较低温度下进行,通常情况下-25℃~35℃即可满足反应进行的条件,过低温度反应几乎不能发生,过高温度可能导致不必要的副反应。该步反应缚酸剂可选择三乙胺、吡啶、二甲氨基吡啶、无水碳酸钾、无水碳酸钠等。反应溶剂可选择N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、二甲基亚砜。该步骤反应完毕后,通常无需分离即可进行下步反应。
步骤(2):步骤(1)反应完成后反应液直接加入式(VI)、缚酸剂,在0~50℃温度条件下反应。
该反应步骤式(VI),在该式中X为氟、氯、溴、碘,优选氯、溴。该式中R2为三甲基硅烷基(TMS-)、三乙基硅烷基(TES-)、三异丙基硅烷基(TIPS-)、二甲基异丙基硅烷基(IPDMS-)、二乙基异丙基硅烷基(DEIPS-)、叔丁基二甲基硅烷基(TBDMS-)、叔丁基二苯基硅烷基(TBDPS-)、叔丁基甲氧基苯基硅烷基(TBMPS-)、叔丁氧基二苯基硅烷基(DPTBOS-)、乙酰基(Ac-)、氯乙酰基,优选叔丁基二甲基硅烷基(TBDMS-)、三甲基硅烷基(TMS-)、三乙基硅烷基(TES-)、三异丙基硅烷基(TIPS-)、乙酰基(Ac-)、氯乙酰基。
该步反应缚酸剂可选择三乙胺、吡啶、二甲氨基吡啶、无水碳酸钾、无水碳酸钠等。反应溶剂可选择N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、二甲基亚砜。反应温度通常可选择0~50℃,优选20~40℃。反应完毕,反应液无需分离直接进行下步反应。
步骤(3):将步骤(2)所得反应液加入酸性溶液中,在30~100℃温度条件下反应脱去保护基,反应完毕蒸除溶剂加不良溶剂搅拌析晶即得碘佛醇粗品。
该步反应所用酸性溶液可选择硫酸水溶液、盐酸水溶液、醋酸水溶液、三氟乙酸水溶液、盐酸甲醇溶液、醋酸甲醇溶液、三氟乙酸甲醇溶液。该步反应温度可选择30~100℃,优选40~60℃。该步反应析晶所用不良溶剂可选择四氢呋喃、乙腈、乙醇、异丙醇、正丁醇、二氯甲烷、三氯甲烷等,优选二氯甲烷、乙醇、异丙醇、正丁醇。
通过上述步骤(1)、步骤(2)和步骤(3)所得的碘佛醇粗品纯度通常可达97.5%以上,杂质II含量通常在0.1%~0.6%,所得粗品按目前已公开方法经一次精制即可满足药用要求。工艺路线中间过程无需分离,工业化生产操作简便,路线总收率在80%以上。
式(V)、式(VI)可根据已公开的文献资料进行制备,或通过其他商业途径获得。
综上所述,本发明提供了一种碘佛醇的制备新方法。该方法与现有已公开的其他碘佛醇合成方法比较具有如下优点:
1.本发明所述制备方法,通过在工艺路线中引入适宜的保护基可显著降低或避免杂质 II的产生。现有已公开的其他碘佛醇制备方法,在烷基化均不可避免的产生杂质II(smiles 重排杂质)。本发明通过先期引入保护基制备式(IV),式(IV)中R1基团为对碱具有适宜的稳定性,从而避免了重排杂质的产生,制备所得碘佛醇粗品杂质II含量通常在0.1%~0.6%,经一次精制及可满足药用要求。
2.本发明所述制备方法,在保证成品质量的前提下,工艺中间环节不经分离直接制备得到碘佛醇粗品,简化了操作,工业化生产操作更加简便。同时因粗品中杂质含量的降低,大大减少了后续精制次数,降低了工业化成本。且本发明所述制备方法无需特殊生产设备,通常可以在常规标准化生产设备上进行生产。
本发明所述杂质含量或纯度是通过HPLC检测面积归一化数据。
具体实施方式
本发明公开了一种碘佛醇的制备新方法,本领域技术人员可以借鉴本文内容,并对工艺参数进行适当改进。特别需要指出的是,所有类似的替换和改动对本领域技术人员来说都是显而易见的,它们都将被视为包括在本发明范围内。以下将结合实施例更详细地解释本发明,本发明的实施例仅用于说明本发明的技术方案,并非限定本发明的实质。
实施例1(式(IV)的制备)
在5L反应瓶中加入式(V)5-羟乙酰胺基-N,N’-双(2,3-二羟丙基)-2,4,6-三碘-1,3- 苯二甲酰胺1kg和2L二甲基亚砜搅拌溶解,加入1.5kg无水碳酸钾降温至20℃,滴加1.1kg 叔丁基二甲基氯硅烷,滴加完毕,控温30~35℃搅拌反应10h。直接用于下步反应。
实施例2(式(IV)的制备)
向实施例1所得反应液中加入440g 2-溴乙基乙酸酯,控温30~35℃搅拌反应16h。过滤除去不溶物,滤液直接用于下步反应。
实施例3(碘佛醇粗品制备)
向实施例2所得滤液中加至1%硫酸水溶液中调pH值1~3,升温至40~50℃搅拌反应,反应过程保持pH值1~3,搅拌反应5h。反应完毕,用1%氢氧化钠溶液中和至pH值6~7。50~60℃减压浓缩至无明显溶剂蒸出,浓缩残留加二氯甲烷搅拌析晶,过滤,固体加甲醇充分搅拌滤除不溶物,滤液浓缩干得碘佛醇粗品861g,收率81.4%。(HPLC检测:纯度97.8%,杂质II含量0.39%)
实施例4(式(IV)的制备)
在5L反应瓶中加入式(V)5-羟乙酰胺基-N,N’-双(2,3-二羟丙基)-2,4,6-三碘-1,3- 苯二甲酰胺1kg和N,N-二甲基甲酰胺2L搅拌溶解,加入862g三乙胺降温至10℃,滴加854g三甲基氯硅烷,滴加完毕,控温20~30℃搅拌反应8h。直接用于下步反应。
实施例5(式(IV)的制备)
向实施例4所得反应液中加入2-氯乙基乙酸酯、362g无水碳酸钾,控温30~35℃搅拌反应24h。过滤,滤液直接用于下步反应。
实施例6(碘佛醇粗品制备)
向实施例5所得反应液加1%盐酸水溶液调pH值1~3,升温至50~60℃搅拌反应,反应过程保持pH值1~3,搅拌反应8h。反应完毕,用1%氢氧化钠溶液中和至pH值6~7。 50~60℃减压浓缩至无明显溶剂蒸出,浓缩残留加正丁醇搅拌析晶,过滤,固体加甲醇充分搅拌滤除不溶物,滤液浓缩干得碘佛醇粗品879g,收率83.1%。(HPLC检测:纯度97.8%,杂质II含量0.46%)
实施例7(式(IV)的制备)
反应瓶中加入式(V)5-羟乙酰胺基-N,N’-双(2,3-二羟丙基)-2,4,6-三碘-1,3-苯二甲酰胺80g和N,N-二甲基乙酰胺160ml搅拌溶解,加入50g吡啶降温至5℃,滴加82g三乙基氯硅烷,滴加完毕,控温15~25℃搅拌反应16h。直接用于下步反应。
实施例8(式(IV)的制备)
向实施例7所得反应液中加入51.7g 2-溴乙基三甲基硅酯、29g无水碳酸钾,控温25~30℃搅拌反应24h。过滤,滤液直接用于下步反应。
实施例9(碘佛醇粗品制备)
向实施例5所得反应液加1%醋酸甲醇液调pH值1~3,升温至40~50℃搅拌反应,反应过程保持pH值1~3,搅拌反应5h。反应完毕,用1%氢氧化钠甲醇溶液中和至pH值6~7。50~60℃减压浓缩至无明显溶剂蒸出,浓缩残留加异丙醇搅拌析晶,过滤,固体加甲醇充分搅拌滤除不溶物,滤液浓缩干得碘佛醇粗品72g,收率85.1%。(HPLC检测:纯度97.5%,杂质II含量0.55%)
实施例10(碘佛醇粗品精制)
将制备所得碘佛醇粗品经离子交换树脂除盐后,加入至4倍丙二醇单甲醚中升温至 120℃搅拌3h,降温至80℃趁热过滤得碘佛醇成品。(HPLC检测:纯度99.3%,杂质II0.16%) 。
Claims (9)
1.一种碘佛醇(式(I))的制备方法,式(I)为:
其特征是以5-羟乙酰胺基-N,N’-双(2,3-二羟丙基)-2,4,6-三碘-1,3-苯二甲酰胺经上保护基、碱性条件下烷基化反应、脱保护制备得碘佛醇,其工艺路线如下:
步骤(1):在有机溶剂中加入式(V)5-羟乙酰胺基-N,N’-双(2,3-二羟丙基)-2,4,6-三碘-1,3-苯二甲酰胺和缚酸剂后,于-25℃~35℃温度条件下与卤代硅烷试剂反应。
步骤(2):步骤1反应完成后反应液直接加入式(VI)、缚酸剂,在0~50℃温度条件下反应。
步骤(3):将步骤(2)所得反应液加入酸性溶液中,在30~100℃温度条件下反应脱去保护基,反应完毕蒸除溶剂加不良溶剂搅拌析晶,除盐后即得碘佛醇粗品。
2.如权利要求1所述的制备方法,其特征在于步骤(1)中所用的卤代硅烷试剂为叔丁基二甲基氯硅烷(TBDMSCl)、三甲基氯硅烷(TMSCl)、三乙基氯硅烷(TESCl)、三异丙基氯硅烷(TIPSCl)。中的一种。
3.如权利要求1-2所述的制备方法,其特征在于步骤(1)所用的有机溶剂为N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、二甲基亚砜中的一种。
4.如权利要求1-3所述的制备方法,其特征在于步骤(1)所用的缚酸剂为三乙胺、吡啶、二甲氨基吡啶、无水碳酸钾、无水碳酸钠中的一种。
5.如权利要求1-4所述的制备方法,其特征在于步骤(1)制备所得式(IV)中R1基团为叔丁基二甲基硅烷基(TBDMS-)、三甲基硅烷基(TMS-)、三乙基硅烷基(TES-)、三异丙基硅烷基(TIPS-)中的一种。
6.如权利要求1-5所述的制备方法,其特征在于步骤(2)所用的烷基化试剂式(VI)中X基团为氯、溴中的一种;R2基团为叔丁基二甲基硅烷基(TBDMS-)、三甲基硅烷基(TMS-)、三乙基硅烷基(TES-)、三异丙基硅烷基(TIPS-)、乙酰基(Ac-)、氯乙酰基中的一种。
7.如权利要求1-6所述的制备方法,其特征在于步骤(2)所用缚酸剂为三乙胺、吡啶、二甲氨基吡啶、无水碳酸钾、无水碳酸钠中的一种。
8.如权利要求1-7所述的制备方法,其特征在于步骤(3)所用酸性溶液为硫酸水溶液、盐酸水溶液、醋酸水溶液、三氟乙酸水溶液、盐酸甲醇溶液、醋酸甲醇溶液、三氟乙酸甲醇溶液中的一种。
9.如权利要求1-8所述的制备方法,其特征在于制备所得碘佛醇粗品中杂质II的含量为0.1%~0.6%。
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PB01 | Publication | ||
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SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20190719 |
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