CN109959984A - 光学构件的包装物的制造方法 - Google Patents

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Abstract

本发明目的在于，提供在将在偏振膜上至少设置有粘合剂层及表面保护膜的光学构件贴附于液晶单元等单元基板时不易发生卷曲的上述光学构件的包装物的制造方法。本发明的光学构件的包装物的制造方法，特征在于，包括：工序A，在偏振片的单面或双面借助粘接剂层设置保护膜，制作偏振膜；工序B，在上述偏振膜上至少设置粘合剂层及表面保护膜，制作光学构件；以及工序C，将上述光学构件进行包装，在将从将上述包装物拆开包装到将上述光学构件贴合于单元基板为止的上述光学构件中的偏振膜的平衡水分率设为X重量％时，在上述工序C中，以使上述光学构件中的偏振膜的水分率Y重量％不小于上述平衡水分率X重量％的方式调整上述水分率Y重量％。

Description

光学构件的包装物的制造方法
技术领域
本发明涉及一种光学构件的包装物的制造方法。上述光学构件可以形成液晶显示装置(LCD)、有机EL显示装置等图像显示装置。
背景技术
液晶显示装置等根据其图像形成方式而在液晶单元的两侧配置偏振元件是必不可少的，一般会粘附偏振膜。在将上述偏振膜粘附于液晶单元时，通常使用粘合剂。另外，关于偏振膜与液晶单元的粘接，通常为了降低光的损失，而使用粘合剂使各自的材料密接。在这样的情况下，由于具有无需干燥工序而使偏振膜固定等优点，因此一般使用的是粘合剂预先以粘合剂层的形式设置于偏振膜的单侧的带粘合剂层的偏振膜。在带粘合剂层的偏振膜的粘合剂层上，通常贴附有脱模膜。
另外，为了保护上述带粘合剂层的偏振膜的偏振膜侧表面免受在加工、运送时产生的损伤或污物的影响，通常在上述带粘合剂层的偏振膜的偏振膜侧表面借助粘合剂贴附表面保护膜。
在偏振膜上设有上述粘合剂层及上述表面保护膜等的光学构件通常被切割为规定的大小，并以被层叠的状态进行包装，或者以被卷绕成卷状的状态进行包装，再配送至面板制造商。
而且，在面板制造商处，在温度及湿度被管理为规定水平的气氛下进行将光学构件贴附于液晶单元等单元基板的操作，此时，一旦光学构件有不必要的卷曲或无意的卷曲(卷曲称作翘曲的现象，例如是指：平板状的光学构件整体向某一面侧翘曲的现象、平板状的光学构件整体波状起伏地翘曲的现象等。)，则存在发生光学构件的处理性变差、或在光学构件与单元基板之间咬入气泡等不良情况的问题。
为了抑制偏振膜(偏振板)的卷曲的发生，例如在专利文献1中提出一种偏振板的制造方法，其包括如下工序：将具有200g/m2/24h以下的透湿度的第1透明保护膜贴合于偏振片的一面而形成层叠体后，不将该层叠体卷取，而在该偏振片的另一面贴合具有比该第1透明保护膜高的透湿度的第2透明保护膜。
另外，在专利文献2中提出一种偏振板的制造方法，其特征在于，其是在偏振片的单面利用粘接剂贴合透明保护膜(A)、并且在另一面利用粘接剂贴合透明保护膜(B)的偏振板的制造方法，
偏振片的水分率为15～30重量％，
透明保护膜(A)及透明保护膜(B)为同质材料，透明保护膜(A) 的厚度比透明保护膜(B)的厚度更厚，且透明保护膜(A)的水分率大于透明保护膜(B)的水分率。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2005－309394号公报
专利文献2：日本特开2008－122790号公报
发明内容
发明要解决的课题
但是，即使在光学构件制造商处制作出无卷曲的光学构件，在面板制造商处将上述光学构件贴合于单元基板时，仍存在上述光学构件发生不需要的卷曲或无意的卷曲这样的问题。
本发明是鉴于上述问题点而完成的发明，其目的在于，提供在面板制造商处将光学构件贴附于液晶单元等单元基板时，上述光学构件不易发生卷曲的上述光学构件的包装物的制造方法。
用于解决课题的手段
本发明人等进行了深入研究，结果发现利用下述的光学构件的包装物的制造方法能够解决上述课题，以至完成本发明。
即，本发明涉及一种光学构件的包装物的制造方法，其特征在于，包括：工序A，在偏振片的单面或双面借助粘接剂层设置保护膜，从而制作偏振膜；工序B，在上述偏振膜上至少设置粘合剂层及表面保护膜，从而制作光学构件；以及工序C，将上述光学构件进行包装，
在将从将上述包装物拆开包装到将上述光学构件贴合于单元基板为止的上述光学构件中的偏振膜的平衡水分率设为X重量％时，
在上述工序C中，以使上述光学构件中的偏振膜的水分率Y重量％不小于上述平衡水分率X重量％的方式调整上述水分率Y重量％。
本发明人等对于在面板制造商处将光学构件贴附于单元基板时、上述光学构件发生卷曲的原因进行了研究，结果发现该原因在于：在从制作光学构件到贴附于单元基板为止的期间，光学构件中的偏振膜的水分率低于将该光学构件贴合于单元基板时的气氛下的该光学构件中的偏振膜的平衡水分率。而且发现：预先得知在面板制造商处将光学构件贴附于单元基板时的气氛下的该光学构件中的偏振膜的平衡水分率，并在对上述光学构件进行包装时，以使上述光学构件中的偏振膜的水分率不小于上述平衡水分率的方式进行调整，由此在将上述光学构件贴附于单元基板时，上述光学构件变得不易发生卷曲。
在所制作的光学构件中的偏振膜的水分率低于在将上述光学构件贴合于单元基板时的气氛下的上述光学构件中的偏振膜的平衡水分率的情况下，上述光学构件发生卷曲的理由并不明确，但认为其原因在于：在将光学构件贴合于单元基板时偏振膜的水分率上升，故偏振膜溶胀，在端部发生波状的卷曲等。
需要说明的是，平衡水分率是指：在一定温度且一定湿度的气氛下，进行放置至水分率的变化实质上不变为止时的水分的重量比率。
优选的是：在上述工序C中，以使上述水分率Y与上述平衡水分率 X之差为0～1重量％的方式来调整上述水分率Y。
另外，优选的是：在上述工序C中，通过对上述光学构件进行加湿来调整上述水分率Y。
另外，优选的是包括：工序D，在从上述工序B到上述工序C为止之间，以使上述光学构件中的偏振膜的水分率Z不小于上述平衡水分率X 的方式调整上述水分率Z。
另外，优选的是：在上述工序D中，以使上述水分率Z与上述平衡水分率X之差为0～1重量％的方式调整上述水分率Z。
另外，优选的是：在上述工序D中，通过对上述光学构件进行加湿来调整上述水分率Z。
另外，优选的是：从将上述包装物拆开包装到将上述光学构件贴合于单元基板为止的操作在洁净室内进行。
另外，优选的是：上述洁净室被调整为处于15～25℃的温度范围内的一定温度且处于45～65％Rh的相对湿度内的一定湿度。
发明效果
根据本发明的光学构件的包装物的制造方法，在面板制造商处将光学构件贴附于液晶单元等单元基板时不易发生卷曲，因此光学构件的处理性良好，也不会发生在光学构件与单元基板之间咬入气泡等的贴合的不良情况。
图1为卷曲量的评价方法的样品的示意图。
具体实施方式
本发明的光学构件的包装物的制造方法，其特征在于，包括：工序A，在偏振片的单面或双面借助粘接剂层设置保护膜，从而制作偏振膜；工序 B，在上述偏振膜上至少设置粘合剂层及表面保护膜，从而制作光学构件；以及工序C，将上述光学构件进行包装，
在将从将上述包装物拆开包装到将上述光学构件贴合于单元基板为止的上述光学构件中的偏振膜的平衡水分率设为X重量％时，
在上述工序C中，以使上述光学构件中的偏振膜的水分率Y重量％不小于上述平衡水分率X重量％的方式调整上述水分率Y重量％。
(工序A)
工序A是在偏振片的单面或双面借助粘接剂层设置保护膜而制作偏振膜的工序，可以采用公知的方法。
偏振片并无特别限制，通常使用的是使用聚乙烯醇系树脂的偏振片。作为偏振片，可列举例如：使聚乙烯醇系膜、部分缩甲醛化聚乙烯醇系膜、乙烯－乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化膜等亲水性高分子膜吸附碘、二色性染料的二色性物质并进行单轴拉伸而得的偏振片；聚乙烯醇的脱水处理物、聚氯乙烯的脱盐酸处理物等聚烯系取向膜等。其中，适合为包含聚乙烯醇系膜和碘等二色性物质的偏振片。偏振片的厚度并无特别限制，通常为5～300μm，优选为10～200μm，更优选为20～100μm。
将聚乙烯醇系膜用碘染色并进行单轴拉伸而得的偏振片例如可以通过以下方式来制作：通过将聚乙烯醇系膜浸渍于碘的水溶液中，从而进行染色，再拉伸至原长的3～7倍。可以根据需要包含硼酸、硫酸锌、氯化锌等，也可以浸渍于碘化钾等的水溶液中。也可以进一步根据需要在染色前将聚乙烯醇系膜浸渍于水中，进行水洗。通过将聚乙烯醇系膜进行水洗，从而可以清洗聚乙烯醇系膜表面的污物、防粘连剂，而且还具有通过使聚乙烯醇系膜溶胀而防止染色的不均等不均匀的效果。拉伸可以在用碘进行染色后进行，也可以边染色边进行拉伸，另外，还可以在拉伸后用碘进行染色。即使在硼酸、碘化钾等的水溶液或水浴中也能进行拉伸。
作为构成保护膜的材料，优选透明性、机械强度、热稳定性、水分隔绝性、各向同性等优异的材料。可列举例如：聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯系聚合物；二乙酰基纤维素、三乙酰基纤维素等纤维素系聚合物；聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸系聚合物；聚苯乙烯、丙烯腈－苯乙烯共聚物(AS树脂)等苯乙烯系聚合物；聚碳酸酯系聚合物等。另外，还可列举例：如聚乙烯、聚丙烯、具有环系或降冰片烯结构的聚烯烃、乙烯－丙烯共聚物之类的聚烯烃系聚合物、氯乙烯系聚合物、尼龙、芳香族聚酰胺等酰胺系聚合物、酰亚胺系聚合物、砜系聚合物、聚醚砜系聚合物、聚醚醚酮系聚合物、聚苯硫醚系聚合物、乙烯醇系聚合物、偏二氯乙烯系聚合物、乙烯基缩丁醛系聚合物、芳酯系聚合物、聚甲醛系聚合物、环氧系聚合物或上述聚合物的掺混物等作为形成上述保护膜的聚合物的例子。
需要说明的是，在保护膜中可以包含1种以上的任意适当的添加剂。作为添加剂，可列举例如：紫外线吸收剂、抗氧化剂、润滑剂、增塑剂、脱模剂、防着色剂、阻燃剂、成核剂、抗静电剂、颜料、着色剂等。保护膜中的上述热塑性树脂的含量优选为50～100重量％，更优选为50～99 重量％，进一步优选为60～98重量％，特别优选为70～97重量％。在保护膜中的上述热塑性树脂的含量为50重量％以下的情况下，存在无法充分体现热塑性树脂本来具有的高透明性等的风险。
作为上述保护膜，也可以使用相位差膜、增亮膜、扩散膜等。作为相位差膜，可列举：具有正面相位差为40nm以上和/或、厚度方向相位差为80nm以上的相位差的相位差膜。正面相位差通常被控制为40～ 200nm的范围，厚度方向相位差通常被控制为80～300nm的范围。在使用相位差膜作为保护膜的情况下，该相位差膜也作为偏振片保护膜发挥功能，因此能够实现薄型化。
作为相位差膜，可列举将热塑性树脂膜进行单轴或双轴拉伸处理而成的双折射性膜。上述拉伸的温度、拉伸倍率等根据相位差值、膜的材料、厚度进行适当设定。
保护膜的厚度可以适当地决定，一般从强度、处理性等操作性、薄层性等方面出发，为1～500μm左右。特别优选为1～300μm，更优选为 5～200μm，此外，特别适合于5～150μm、尤其是20～100μm的薄型的情况。
在上述保护膜的不粘接偏振片的面上可以设置硬涂层、防反射层、防粘附层、扩散层或防眩光层等功能层。需要说明的是，上述硬涂层、防反射层、防粘附层、扩散层、防眩光层等功能层除了可以设置成保护膜本身以外，还可以另行设置成与保护膜分体的功能层。
上述保护膜和偏振片夹着粘接剂层进行层叠。
粘接剂层利用粘接剂来形成。粘接剂的种类并无特别限制，可以使用各种粘接剂。上述粘接剂层只要光学上透明，则并无特别限制，作为粘接剂，使用水系、溶剂系、热熔系、活性能量射线固化型等各种形态的粘接剂，适合为水系粘接剂或活性能量射线固化型粘接剂。
作为水系粘接剂，可例示异氰酸酯系粘接剂、聚乙烯醇系粘接剂、明胶系粘接剂、乙烯基系胶乳系、水系聚酯等。水系粘接剂通常以包含水溶液的粘接剂的形式来使用，通常含有0.5～60重量％的固体成分而成。
活性能量射线固化型粘接剂是利用电子射线、紫外线(自由基固化型、阳离子固化型)等活性能量射线进行固化的粘接剂，例如可以以电子射线固化型、紫外线固化型的样态来使用。活性能量射线固化型粘接剂例如可以使用光自由基固化型粘接剂。在将光自由基固化型的活性能量射线固化型粘接剂以紫外线固化型粘接剂形式使用的情况下，该粘接剂含有自由基聚合性化合物及光聚合引发剂。
粘接剂的涂敷方式根据粘接剂的粘度和目标厚度进行适当选择。作为涂敷方式的例子，可列举例如：反向涂布机、凹版涂布机(直接(direct)、逆转辊(reverse)、胶版(offset))、棒式逆转辊涂布机、辊涂机、模涂机、棒涂机、杆式涂布机等。此外，涂敷可以适宜使用浸渍方式等方式。
另外，在使用水系粘接剂等的情况下，上述粘接剂的涂敷优选以使最终所形成的粘接剂层的厚度达到30～300nm的方式来进行。上述粘接剂层的厚度进一步优选为60～250nm。另一方面，在使用活性能量射线固化型粘接剂的情况下，优选以使上述粘接剂层的厚度达到0.1～200μm 的方式来进行。更优选为0.5～50μm，进一步优选为0.5～10μm。
需要说明的是，在偏振片与保护膜的层叠时，在保护膜与粘接剂层之间可以设置易粘接层。易粘接层例如可以利用具有聚酯骨架、聚醚骨架、聚碳酸酯骨架、聚氨酯骨架、有机硅系、聚酰胺骨架、聚酰亚胺骨架、聚乙烯醇骨架等的各种树脂来形成。这些聚合物树脂可以单独使用1种或组合使用2种以上。另外，在易粘接层的形成中可以添加其他添加剂。具体而言，可以进一步使用增粘剂、紫外线吸收剂、抗氧化剂、耐热稳定剂等稳定剂等。
易粘接层通常预先设置于保护膜，并且利用粘接剂层将该保护膜的易粘接层侧与偏振片进行层叠。易粘接层的形成通过在保护膜上利用公知的技术涂敷并干燥易粘接层的形成材料来进行。易粘接层的形成材料通常被调整成考虑干燥后的厚度、涂敷的顺滑性等而稀释成适当浓度的溶液。易粘接层的干燥后的厚度优选为0.01～5μm，进一步优选为0.02～2μm、进一步优选为0.05～1μm。需要说明的是，易粘接层可以设置多层，但在该情况下，也优选使易粘接层的总厚度达到上述范围。
(工序B)
工序B是在上述偏振膜上至少设置粘合剂层及表面保护膜而制作光学构件的工序，可以采用公知的方法。
当在偏振片的双面设有保护膜的双侧保护偏振膜的情况下，在双侧保护偏振膜的一面直接或隔着其他层设置表面保护膜，并且在双侧保护偏振膜的另一面直接或隔着其他层设置粘合剂层。
当仅在偏振片的单面设有保护膜的单侧保护偏振膜的情况下，在单侧保护偏振膜的保护膜侧直接或隔着其他层设置表面保护膜，并且在单侧保护偏振膜的偏振片侧直接或隔着其他层设置粘合剂层。
上述其他层并无特别限制，可列举设置在偏振膜上的公知的功能层、光学层等。作为光学层，可列举例如反射板、半透射板、相位差板(包含 1/2、1/4等波片)、视角补偿膜及增亮膜等。上述其他层可以设置1层，也可以设置2层以上。
为了将偏振膜贴合于液晶单元等单元基板，而在偏振膜的单面设置上述粘合剂层。
上述粘合剂层的厚度并无特别限定，例如为1～100μm左右，优选为 2～50μm，更优选为2～40μm，进一步优选为5～35μm。
在上述粘合剂层的形成中可以使用适当的粘合剂，对其种类并无特别限制。作为粘合剂，可列举：橡胶系粘合剂、丙烯酸系粘合剂、有机硅系粘合剂、氨基甲酸酯系粘合剂、乙烯基烷基醚系粘合剂、聚乙烯醇系粘合剂、聚乙烯基吡咯烷酮系粘合剂、聚丙烯酰胺系粘合剂、纤维素系粘合剂等。
在这些粘合剂中，优选使用光学透明性优异、显示适宜的润湿性、凝聚性和粘接性的粘合特性、且耐候性、耐热性等优异的粘合剂。作为显示这样的特征的粘合剂，优选使用丙烯酸系粘合剂。
作为形成粘合剂层的方法，可列举例如：将上述粘合剂涂布于经剥离处理后的间隔件等，干燥除去聚合溶剂等而形成粘合剂层后，将其转印于偏振膜的方法；或者，涂布上述粘合剂，干燥除去聚合溶剂等而在偏振膜上形成粘合剂层的方法等。需要说明的是，在粘合剂的涂布时，可以适宜新添加除聚合溶剂以外的一种以上的溶剂。
作为经剥离处理后的间隔件，优选使用有机硅剥离衬垫。在这样的衬垫上涂布粘合剂并使其干燥而形成粘合剂层的工序中，作为使粘合剂干燥的方法，可以根据目标适宜采用适当的方法。优选使用将上述涂布膜过热干燥的方法。加热干燥温度优选为40℃～200℃，进一步优选为50℃～180℃，特别优选为70℃～170℃。通过使加热温度为上述的范围，从而可以得到具有优异的粘合特性的粘合剂。
干燥时间可以适宜采用适当的时间。上述干燥时间优选为5秒～20 分钟，进一步优选为5秒～10分钟，特别优选为10秒～5分钟。
作为粘合剂层的形成方法，使用各种方法。具体而言，可列举例如：辊涂、辊舐式涂布、凹版涂布、逆转辊涂布、辊式刷涂、喷涂、浸渍辊涂、棒涂、刮刀涂布、气刀涂布、淋涂、模唇涂布、基于模涂机等的挤出涂布法等方法。
在露出上述粘合剂层的情况下，可以用直至供于实用之前进行剥离处理的片材(间隔件)保护粘合剂层。
作为间隔件的构成材料，可列举例如：聚乙烯、聚丙烯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚酯膜等塑料膜；纸、布、无纺布等多孔材料；网状物、发泡片、金属箔及它们的层压体等适当的薄片体等，从使表面平滑性优异的方面出发，适合使用塑料膜。
作为该塑料膜，只要是可以保护上述粘合剂层的膜，则并无特别限定，可列举例如：聚乙烯膜、聚丙烯膜、聚丁烯膜、聚丁二烯膜、聚甲基戊烯膜、聚氯乙烯膜、氯乙烯共聚物膜、聚对苯二甲酸乙二醇酯膜、聚对苯二甲酸丁二醇酯膜、聚氨酯膜、乙烯－乙酸乙烯酯共聚物膜等。
上述间隔件的厚度通常为5～200μm，优选为5～100μm左右。对于上述间隔件也可以根据需要进行：基于有机硅系、氟系、长链烷基系或脂肪酸酰胺系的脱模剂、二氧化硅粉等的脱模、防污处理，以及涂布型、混炼型、蒸镀型等的抗静电处理。尤其是，通过对上述间隔件的表面适当进行有机硅处理、长链烷基处理、氟处理等剥离处理，从而可以进一步提高来自上述粘合剂层的剥离性。
上述表面保护膜通常具有基材膜及粘合剂层，隔着该粘合剂层来保护偏振膜。
作为上述表面保护膜的基材膜，从检查性、管理性等的观点出发，选择具有各向同性或接近各向同性的膜材料。作为该膜材料，可列举例如：聚对苯二甲酸乙二醇酯膜等聚酯系树脂、纤维素系树脂、乙酸酯系树脂、聚醚砜系树脂、聚碳酸酯系树脂、聚酰胺系树脂、聚酰亚胺系树脂、聚烯烃系树脂、丙烯酸系树脂之类的透明聚合物。其中，优选聚酯系树脂。基材膜也可以以1种或2种以上的膜材料的层压体的形式来使用，另外，也可以使用上述膜的拉伸物。基材膜的厚度一般为500μm以下，优选为10～ 200μm。
作为形成上述表面保护膜的粘合剂层的粘合剂，可以适当选择使用以(甲基)丙烯酸系聚合物、有机硅系聚合物、聚酯、聚氨酯、聚酰胺、聚醚、氟系或橡胶系等的聚合物为基础聚合物的粘合剂。从透明性、耐候性、耐热性等的观点出发，优选以丙烯酸系聚合物为基础聚合物的丙烯酸系粘合剂。粘合剂层的厚度(干燥膜厚)根据所需的粘合力来决定。通常为1～100μm左右，优选为5～50μm。
需要说明的是，对于表面保护膜，可以在基材膜的设有粘合剂层的面的相反面，利用有机硅处理、长链烷基处理、氟处理等的低粘接性材料设置剥离处理层。
在工序B中，在上述偏振膜上设置上述粘合剂层及上述表面保护膜的顺序并无特别限制，可以在设置上述粘合剂层后设置上述表面保护膜，也可以在设置上述表面保护膜后设置上述粘合剂层。
所制作的光学构件可以切割成规定的大小。
(工序D)
在本发明中，优选包括：工序D，在从上述工序B到下述工序C为止之间，以使所制作的光学构件中的偏振膜的水分率Z(重量％)不小于上述平衡水分率X(重量％)的方式调整上述水分率Z(重量％)。
调整上述水分率Z(重量％)的方法并无特别限制，但优选进行加湿处理，作为加湿处理的方法，可列举例如：(1)在将所制作的光学构件卷取成卷材时，对光学构件吹送加湿空气的方法；(2)将所制作的光学构件在加湿气氛内卷取成卷材的方法；(3)对切割后的光学构件吹送加湿空气的方法；(4)将切割后的光学构件保存在加湿气氛内的方法等。需要说明的是，在上述水分率Z与上述平衡水分率X相比过大的情况下，为了减小上述水分率Z与上述平衡水分率X之差，可以进行除湿处理。
在上述工序D中，优选以使上述水分率Z与上述平衡水分率X之差达到0～1重量％的方式调整上述水分率Z，更优选以使上述水分率Z与上述平衡水分率X之差达到0～0.5重量％的方式调整上述水分率Z。
加湿处理时的温度及相对湿度需要基于上述平衡水分率X进行适当调整，通常，温度为15～25℃左右，相对湿度为45～65％Rh左右。需要说明的是，光学构件的运送速度通常为1～40m/分钟左右。
(工序C)
工序C是将上述光学构件进行包装的工序。在上述工序C中，以使上述光学构件中的偏振膜的水分率Y(重量％)不小于上述平衡水分率X (重量％)的方式调整上述水分率Y(重量％)。作为调整上述水分率Y (重量％)的方法，可列举在加湿气氛下将上述光学构件进行包装的方法。
上述光学构件的包装优选在被调温调湿成上述水分率Y与上述平衡水分率X之差为0～1重量％的气氛下进行，更优选在被调温调湿成上述水分率Y与上述平衡水分率X之差为0～0.5重量％的气氛下进行。
包装时的温度及相对湿度需要基于上述平衡水分率X进行适当调整，通常，温度为15～25℃左右，相对湿度为45～65％Rh左右。
面板制造商处进行如下操作：从包装物取出上述光学构件，在温度及湿度被管理为规定水平的气氛下将上述光学构件贴附于单元基板。从将包装物拆开包装到将上述光学构件贴合于单元基板为止的操作优选在洁净室内进行。另外，上述洁净室优选被调整为处于15～25℃的温度范围内的一定温度且处于45～65％Rh的相对湿度内的一定湿度。
实施例
以下，列举实施例对本发明进行说明，但是，本发明并不受以下所示的实施例的限制。需要说明的是，各例中的份及％均为重量基准。
(紫外线固化型粘接剂的制作)
将N－羟基乙基丙烯酰胺(HEAA)40重量份、丙烯酰基吗啉(ACMO) 60重量份和光引发剂“IRGACURE 819”(BASF公司制)3重量份混合，制备成紫外线固化型粘接剂。
实施例1
＜用于测定平衡水分率的偏振膜的制作＞
在对厚度40μm的具有内酯环结构的丙烯酸类树脂膜的易粘接处理面实施了电晕处理的保护膜与相位差膜(ZEON公司制、商品名：ZB12 －50135、厚度：52μm)的贴合面上，以固化后的厚度达到0.7μm的方式涂布上述紫外线固化型粘接剂，用辊轧机使它们与偏振片(可乐丽公司制、商品名：PS4500、厚度：45μm)的双面贴合。之后，照射紫外线，使粘接剂固化，制作偏振膜。然后，利用下述的方法测定所制作的偏振膜的平衡水分率，结果在温度20℃且相对湿度55％Rh的气氛下的平衡水分率X 为2.5重量％。
(偏振膜的平衡水分率X的测定)
从所制作的偏振膜(TD宽度1200mm)的TD宽度方向上的中央部及两端部(从距离端部6.5cm的内侧)切取3片10cm×10cm的大小的样品。将该样品在温度20℃且相对湿度55％Rh的气氛下放置24小时，之后，测定了样品的重量W1。接着，使样品在120℃下干燥5小时，测定干燥后的样品的重量W0。在温度20℃且相对湿度55％Rh的气氛下的样品(偏振膜)的平衡水分率按照下述式来计算。需要说明的是，将3片样品(偏振膜)的平衡水分率的平均值设为平衡水分率X。
偏振膜的平衡水分率X(重量％)＝{(W1－W0)/W1}×100
＜偏振膜的制作＞
利用与上述同样的方法制作偏振膜。利用下述的方法测定所制作的偏振膜的水分率P，结果为2.9重量％。
(偏振膜的水分率P的测定)
从所制作的偏振膜(TD宽度1200mm)的TD宽度方向上的中央部及两端部(从距离端部6.5cm的内侧)切取3片10cm×10cm的大小的样品。测定该样品的干燥前的重量W2。另外，使样品在120℃下干燥5小时，测定干燥后的样品的重量W0。所制作的样品(偏振膜)的水分率按照下述式来计算。需要说明的是，将3片样品(偏振膜)的水分率的平均值设为水分率P。
偏振膜的水分率P(重量％)＝{(W2－W0)/W2}×100
＜带粘合剂层的偏振膜的制作＞
(粘合剂组合物的制备)
向具备搅拌叶片、温度计、氮气导入管、冷凝器的四口烧瓶中投入含有丙烯酸丁酯99份及丙烯酸4－羟基丁酯1份的单体混合物。此外，相对于上述单体混合物(固体成分)100份，将作为聚合引发剂的2,2′－偶氮二异丁腈0.1份与乙酸乙酯一起投入，边缓缓地搅拌，边导入氮气进行氮气置换后，将烧瓶内的液温保持在60℃附近，进行7小时聚合反应。之后，向所得的反应液中加入乙酸乙酯，制备调整成固体成分浓度30％的、重均分子量140万的丙烯酸系聚合物的溶液。
相对于上述丙烯酸系聚合物溶液的固体成分100份，将乙基甲基吡咯烷鎓－双(三氟甲烷磺酰基)酰亚胺(东京化成工业制)0.2份及双(三氟甲烷磺酰基)酰亚胺锂(三菱材料电子化成公司制)1份配合，再将三羟甲基丙烷苯二亚甲基二异氰酸酯(三井化学公司制：Takenate D110N) 0.1份、过氧化二苯甲酰0.3份和γ－环氧丙氧基丙基甲氧基硅烷(信越化学工业公司制：KBM－403)0.075份配合，制备丙烯酸系粘合剂溶液。
(粘合剂层的形成)
用喷注式涂布机将上述丙烯酸系粘合剂溶液均匀地涂敷于经有机硅系剥离剂处理过的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(间隔件膜)的表面，在155℃的空气循环式恒温烘箱中干燥2分钟，在间隔件膜的表面形成厚度20μm 的粘合剂层。
(带粘合剂层的偏振膜的制作)
一边从卷材送出上述偏振膜，一边在上述偏振膜的相位差膜上贴合在上述间隔件膜的剥离处理面上所形成的粘合剂层，制作带粘合剂层的偏振膜。从所制作的带粘合剂层的偏振膜(TD宽度1200mm)的TD宽度方向上的中央部及两端部(从距离端部6.5cm的内侧)切取3片10cm× 10cm的大小的膜片。从该膜片除去粘合剂层及间隔件膜，得到用于测定水分率Q的样品(偏振膜)。利用下述方法测定该样品(偏振膜)的水分率Q，结果为2.6重量％。
(偏振膜的水分率Q的测定)
测定样品(偏振膜)的干燥前的重量W3。另外，使样品(偏振膜) 在120℃下干燥5小时，测定干燥后的样品(偏振膜)的重量W0。样品(偏振膜)的水分率Q按照下述式来计算。需要说明的是，将3片样品 (偏振膜)的水分率的平均值设为水分率Q。
偏振膜的水分率Q(重量％)＝{(W3－W0)/W3}×100
＜带粘合剂层及表面保护膜的偏振膜(光学构件)的制作以及偏振膜的水分率Z1的调整＞
(表面保护膜的制作)
在PET膜(厚度：38μm)上形成丙烯酸系粘合剂层(厚度：23μm)，制作表面保护膜。
(带粘合剂层及表面保护膜的偏振膜的制作)
一边从卷材送出上述带粘合剂层的偏振膜，一边在上述带粘合剂层的偏振膜的保护膜上贴合上述表面保护膜的粘合剂层，制作带粘合剂层及表面保护膜的偏振膜。
(偏振膜的水分率Z1的调整)
在将所制作的带粘合剂层及表面保护膜的偏振膜卷取成卷材时，一边对带粘合剂层及表面保护膜的偏振膜以500mL/h吹送温度23℃且相对湿度65％Rh的加湿空气，一边卷取成卷材。然后，在24小时后，将带粘合剂层及表面保护膜的偏振膜从卷材退卷，然后，从带粘合剂层及表面保护膜的偏振膜(TD宽度1200mm)的TD宽度方向上的中央部及两端部 (从距离端部6.5cm的内侧)切取3片10cm×10cm的大小的膜片。从该膜片除去粘合剂层、间隔件膜及表面保护膜，得到用于测定水分率Z1的样品(偏振膜)。利用下述方法测定该样品(偏振膜)的水分率Z1，结果为2.5重量％。
(偏振膜的水分率Z1的测定)
测定样品(偏振膜)的干燥前的重量W4。另外，使样品(偏振膜) 在120℃下干燥5小时，测定干燥后的样品(偏振膜)的重量W0。样品 (偏振膜)的水分率Z1按照下述式来计算。需要说明的是，将3片样品 (偏振膜)的水分率的平均值设为水分率Z1。
偏振膜的水分率Z1(重量％)＝{(W4－W0)/W4}×100
＜带粘合剂层及表面保护膜的偏振膜的切割工序、以及偏振膜的水分率Z2的调整＞
(切割工序)
一边从卷材送出上述带粘合剂层及表面保护膜的偏振膜，一边切割成MD长度400mm×TD宽度1200mm的大小，得到光学构件。
(偏振膜的水分率Z2的调整)
一边运送进行切割而得的光学构件，一边对该光学构件以500mL/h 吹送温度23℃且相对湿度65％Rh的加湿空气。之后，从光学构件(TD 宽度1200mm)的TD宽度方向上的中央部及两端部(从距离端部6.5cm 的内侧)切取3片10cm×10cm的大小的膜片。从该膜片除去粘合剂层、间隔件膜及表面保护膜，得到用于测定水分率Z2的样品(偏振膜)。利用下述方法测定该样品(偏振膜)的水分率Z2，结果为2.5重量％。
(偏振膜的水分率Z2的测定)
测定样品(偏振膜)的干燥前的重量W5。另外，使样品(偏振膜) 在120℃下干燥5小时，测定干燥后的样品(偏振膜)的重量W0。样品 (偏振膜)的水分率Z2按照下述式来计算。需要说明的是，将3片样品 (偏振膜)的水分率的平均值设为水分率Z2。
偏振膜的水分率Z2(重量％)＝{(W5－W0)/W5}×100
＜光学构件的包装＞
将上述光学构件在温度23℃且相对湿度65％Rh的加湿气氛内与加湿空气一起进行包装。之后，从包装袋取出光学构件，从该光学构件(TD 宽度1200mm)的TD宽度方向上的中央部及两端部(从距离端部6.5cm 的内侧)切取3片10cm×10cm的大小的膜片。从该膜片除去粘合剂层、间隔件膜及表面保护膜，得到用于测定水分率Y的样品(偏振膜)。利用与上述同样的方法测定该样品(偏振膜)的水分率Y，结果为2.5重量％。需要说明的是，将3片样品(偏振膜)的水分率的平均值设为水分率Y。所包装的光学构件中的偏振膜的水分率Y与上述平衡水分率X相同。
实施例2～5、比较例1～2
在实施例1中，如表1所示那样地变更保护膜的种类及厚度、相位差膜的种类及厚度、以及加湿处理的有无，除此以外，与实施例1同样地制作光学构件，并进行包装。另外，与实施例1同样地测定各偏振膜的水分率。
需要说明的是，实施例2的涂布层利用以下的方法来形成。
准备紫外线固化型氨基甲酸酯丙烯酸酯树脂(日本合成化学工业 (株)制、商品名“UV1700B”、固体成分100％)50重量份、及以季戊四醇三丙烯酸酯为主成分的多官能丙烯酸酯(大阪有机化学工业(株)制、商品名“VISCOAT#300”、固体成分100％)50重量份。相对于上述树脂的树脂固体成分100重量份，混合作为粒子的丙烯酸(日文：アクリル) 与苯乙烯的共聚粒子(积水化成品工业(株)制、商品名“Techpolymer”、重量平均粒径：3.0μm、折射率：1.520)2重量份、作为触变赋予剂的作为有机粘土的合成蒙脱石(Co－op chemical(株)制、商品名“Lucentite SAN”)1.5重量份、光聚合引发剂(BASF公司制、商品名“Irgacure 907”)3重量份、流平剂(DIC(株)制、商品名“PC4100”、固体成分10％) 0.2份。需要说明的是，上述有机粘土用甲苯按照使固体成分达到6.0％的方式稀释后再使用。将该混合物用甲苯/MIBK(甲基异丁基酮)混合溶剂 (重量比80/20)按照使固体成分浓度达到40重量％的方式进行稀释，制备涂敷液。使用逗点涂布机将涂敷液涂布于偏振膜的保护膜上，形成涂膜。然后，一边使形成有该涂膜的膜以约30°的角度倾斜，一边将其向干燥工序运送。在干燥工序中，在100℃下加热2分钟，由此使上述涂膜干燥。之后，用高压汞灯照射累积光量为300mJ/cm2的紫外线，将上述涂膜进行固化处理，形成厚度7.5μm的涂布层。
对上述实施例及比较例中所得的光学构件进行下述评价。结果如表1 所示。
(卷曲量的评价方法)
从所制作的光学构件，如下图那样使1个角部于MD方向上成为最前部，从两端(从距离端部6.5cm的内侧)及中央的3处切割边长150mm 的正方形的样品。以通过卷曲使该样品向下凸起的方式将其放置于水平的测定台上，测定MD·TD方向的各角部(4点)距离测定台的高度，将其最大值设为卷曲量(mm)。需要说明的是，将向间隔件侧卷曲的情况 (向表面保护膜侧凸起的状态)设为负，将其相反的情况设为正。
[表1]
表1中的膜如以下所示。
丙烯酸类树脂膜：实施例1中使用的丙烯酸类树脂膜
TG60UL：富士胶片公司制
Cosmo Function：东洋纺公司制
ZB12－50135：ZEON公司制
KC4DR－1：Konica公司制
产业上的可利用性
本发明的光学构件以其单独或层叠其的光学膜的形式用于液晶显示装置(LCD)、有机EL显示装置等图像显示装置中。

Claims (8)

1.一种光学构件的包装物的制造方法，其特征在于，包括：
工序A，在偏振片的单面或双面借助粘接剂层设置保护膜，从而制作偏振膜；
工序B，在所述偏振膜上至少设置粘合剂层及表面保护膜，从而制作光学构件；以及
工序C，将所述光学构件进行包装，
在将从将所述包装物拆开包装到将所述光学构件贴合于单元基板为止的所述光学构件中的偏振膜的平衡水分率设为X重量％时，
在所述工序C中，以使所述光学构件中的偏振膜的水分率Y重量％不小于所述平衡水分率X重量％的方式调整所述水分率Y重量％。
2.根据权利要求1所述的光学构件的包装物的制造方法，其中，在所述工序C中，以使所述水分率Y与所述平衡水分率X之差为0重量％～1重量％的方式调整所述水分率Y。
3.根据权利要求1或2所述的光学构件的包装物的制造方法，其中，在所述工序C中，通过对所述光学构件进行加湿来调整所述水分率Y。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的光学构件的包装物的制造方法，其中，包括：工序D，在从所述工序B到所述工序C为止之间，以使所述光学构件中的偏振膜的水分率Z不小于所述平衡水分率X的方式调整所述水分率Z。
5.根据权利要求4所述的光学构件的包装物的制造方法，其中，在所述工序D中，以使所述水分率Z与所述平衡水分率X之差为0重量％～1重量％的方式调整所述水分率Z。
6.根据权利要求4或5所述的光学构件的包装物的制造方法，其中，在所述工序D中，通过对所述光学构件进行加湿来调整所述水分率Z。
7.根据权利要求1～6中任一项所述的光学构件的包装物的制造方法，其中，从将所述包装物拆开包装到将所述光学构件贴合于单元基板为止的操作在洁净室内进行。
8.根据权利要求7所述的光学构件的包装物的制造方法，其中，所述洁净室被调整为处于15℃～25℃的温度范围内的一定温度且处于45％Rh～65％Rh的相对湿度内的一定湿度。
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