KR20190077230A

KR20190077230A - 광학 부재의 곤포물의 제조 방법

Info

Publication number: KR20190077230A
Application number: KR1020180165824A
Authority: KR
Inventors: ?스케 무라야마; 아유무 나카하라; 미에 나카타
Original assignee: 닛토덴코 가부시키가이샤
Priority date: 2017-12-25
Filing date: 2018-12-20
Publication date: 2019-07-03
Also published as: JP2019113743A; TW201934334A; JP7175083B2; CN109959984A; CN109959984B; KR102636897B1; TWI781265B

Abstract

본 발명은, 편광 필름에 적어도 점착제층 및 표면 보호 필름을 마련한 광학 부재를 액정 셀 등의 셀 기판에 부착할 때, 컬이 발생하기 어려운 상기 광학 부재의 곤포물의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명의 광학 부재의 곤포물의 제조 방법은, 편광자의 편면 또는 양면에 접착제층을 개재시켜 보호 필름을 마련하여 편광 필름을 제작하는 공정 A, 상기 편광 필름에 적어도 점착제층 및 표면 보호 필름을 마련하여 광학 부재를 제작하는 공정 B, 및 상기 광학 부재를 곤포하는 공정 C를 포함하고,
상기 곤포물을 곤포 개방하고 나서 상기 광학 부재를 셀 기판에 접합시킬 때까지의 상기 광학 부재 중의 편광 필름의 평형 수분율을 X중량％라 할 때,
상기 공정 C에 있어서, 상기 광학 부재 중의 편광 필름의 수분율 Y중량％가 상기 평형 수분율 X중량％ 미만이 되지 않도록 상기 수분율 Y중량％를 조정하는 것을 특징으로 한다.

Description

광학 부재의 곤포물의 제조 방법 {METHOD FOR MANUFACTURING A PACKING MATERIAL OF AN OPTICAL MEMBER}

본 발명은, 광학 부재의 곤포물의 제조 방법에 관한 것이다. 상기 광학 부재는, 액정 표시 장치(LCD), 유기 EL 표시 장치 등의 화상 표시 장치를 형성할 수 있다.

액정 표시 장치 등은, 그의 화상 형성 방식으로부터 액정 셀의 양측에 편광 소자를 배치하는 것이 필수 불가결하여, 일반적으로는 편광 필름이 접착되어 있다. 상기 편광 필름을 액정 셀에 부착할 때는, 통상 점착제가 사용된다. 또한, 편광 필름과 액정 셀의 접착은, 통상 빛의 손실을 저감하기 위하여 각각의 재료는 점착제를 사용하여 밀착되어 있다. 이러한 경우에, 편광 필름을 고착시키는데 건조 공정을 필요로 하지 않는 등의 장점을 가진다는 점에서, 점착제는, 편광 필름의 편측에 미리 점착제층으로서 마련된 점착제층 구비 편광 필름이 일반적으로 사용된다. 점착제층 구비 편광 필름의 점착제층에는, 통상 이형 필름이 부착되어 있다.

또한, 가공, 반송 시에 발생하는 흠집이나 오염으로부터 상기 점착제층 구비 편광 필름의 편광 필름측 표면을 보호하기 위하여, 통상 상기 점착제층 구비 편광 필름의 편광 필름측 표면에는 표면 보호 필름이 점착제를 개재시켜 부착되어 있다.

편광 필름에 상기 점착제층 및 상기 표면 보호 필름 등을 마련한 광학 부재는, 통상 소정의 크기로 커트되어 적층된 상태로 곤포되고, 혹은 롤 형상으로 감긴 상태로 곤포되어서 패널 메이커에 배송된다.

그리고, 패널 메이커에 있어서, 온도 및 습도가 일정하게 관리된 분위기 하에서 광학 부재를 액정 셀 등의 셀 기판에 부착하는 작업이 행하여지는데, 그때, 광학 부재에 불필요한 컬이나 의도하지 않은 컬(컬이란 뒤틀리는 현상을 말하고, 예를 들어 평판 형상인 것이 어느 한쪽 면측으로 전체적으로 뒤틀리는 현상, 평판 형상인 것이 전체적으로 물결치듯이 뒤틀리는 현상 등을 말한다.)이 있으면, 광학 부재의 취급성이 나빠지거나, 광학 부재와 셀 기판의 사이에 기포가 말려 들어가는 등의 결함이 발생한다는 문제가 있었다.

편광 필름 (편광판)의 컬의 발생을 억제하기 위하여, 예를 들어 특허문헌 1에서는, 200g/m²/24h 이하의 투습도를 갖는 제1 투명 보호 필름을 편광자의 한쪽 면에 접합시켜서 적층체를 형성한 후, 해당 적층체를 권취하지 않고, 해당 제1 투명 보호 필름보다도 높은 투습도를 갖는 제2 투명 보호 필름을 해당 편광자의 다른 쪽 면에 접합시키는 공정을 포함하는, 편광판의 제조 방법이 제안되어 있다.

또한, 특허문헌 2에서는, 편광자의 편면에 투명 보호 필름 (A), 다른 한쪽 편면에 투명 보호 필름 (B)를 각각 접착제에 의해 접합시키는 편광판의 제조 방법이며,

편광자는 수분율이 15 내지 30중량％이고,

투명 보호 필름 (A) 및 투명 보호 필름 (B)는 동질 재료이며, 투명 보호 필름 A)의 두께는 투명 보호 필름 (B)의 두께보다도 두껍고, 또한 투명 보호 필름 (A)의 수분율은 투명 보호 필름 (B)의 수분율보다도 큰 것을 특징으로 하는 편광판의 제조 방법이 제안되어 있다.

일본 특허 공개 제2005-309394호 공보 일본 특허 공개 제2008-122790호 공보

그러나, 광학 부재 메이커에 있어서 컬이 없는 광학 부재를 제작하였다고 해도, 패널 메이커에 있어서 상기 광학 부재를 셀 기판에 부착할 때, 상기 광학 부재에 불필요한 컬이나 의도하지 않은 컬이 발생한다는 문제가 있었다.

본 발명은 상기 문제점을 감안하여 이루어진 것으로, 패널 메이커에 있어서 광학 부재를 액정 셀 등의 셀 기판에 부착할 때, 상기 광학 부재에 컬이 발생하기 어려운 상기 광학 부재의 곤포물의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.

본 발명자들은, 예의 검토한 결과, 하기의 광학 부재의 곤포물의 제조 방법에 의해 상기 과제를 해결할 수 있다는 것을 알아내고, 본 발명을 완성시키기에 이르렀다.

즉 본 발명은, 편광자의 편면 또는 양면에 접착제층을 개재시켜 보호 필름을 마련하여 편광 필름을 제작하는 공정 A, 상기 편광 필름에 적어도 점착제층 및 표면 보호 필름을 마련하여 광학 부재를 제작하는 공정 B, 및 상기 광학 부재를 곤포하는 공정 C를 포함하는 광학 부재의 곤포물의 제조 방법이며,

상기 곤포물을 곤포 개방하고 나서 상기 광학 부재를 셀 기판에 접합시킬 때까지의 상기 광학 부재 중의 편광 필름의 평형 수분율을 X중량％라 할 때,

상기 공정 C에 있어서, 상기 광학 부재 중의 편광 필름의 수분율 Y중량％가 상기 평형 수분율 X중량％ 미만이 되지 않도록 상기 수분율 Y중량％를 조정하는 것을 특징으로 하는 광학 부재의 곤포물의 제조 방법에 관한 것이다.

본 발명자들은, 패널 메이커에 있어서 광학 부재를 셀 기판에 부착할 때, 상기 광학 부재에 컬이 발생하는 원인을 검토한바, 광학 부재를 제작하고 나서 셀 기판에 부착할 때까지의 사이에, 광학 부재 중의 편광 필름의 수분율이, 당해 광학 부재를 셀 기판에 접합시킬 때의 분위기 하에 있어서의 당해 광학 부재 중의 편광 필름의 평형 수분율보다도 낮아지는 것이 원인인 것을 알아냈다. 그리고, 패널 메이커에 있어서 광학 부재를 셀 기판에 부착할 때의 분위기 하에 있어서의 당해 광학 부재 중의 편광 필름의 평형 수분율을 사전에 알아두어, 상기 광학 부재를 곤포할 때 상기 광학 부재 중의 편광 필름의 수분율이 상기 평형 수분율 미만이 되지 않도록 조정함으로써, 상기 광학 부재를 셀 기판에 부착할 때, 상기 광학 부재에 컬이 발생하기 어려워진다는 것을 알아냈다.

제작한 광학 부재 중의 편광 필름의 수분율이, 상기 광학 부재를 셀 기판에 접합시킬 때의 분위기 하에 있어서의 상기 광학 부재 중의 편광 필름의 평형 수분율보다도 낮은 경우에 상기 광학 부재에 컬이 발생하는 이유는 명백하지 않지만, 광학 부재를 셀 기판에 접합시킬 때 편광 필름의 수분율이 상승함으로써 편광 필름이 팽윤하여 단부에 웨이브 형상의 컬 등이 발생하기 때문이라고 생각된다.

또한, 평형 수분율이란, 일정 온도, 일정 습도의 분위기 하에서, 수분율의 변화가 실질적으로 없어질 때까지 방치했을 때의 수분의 중량 분율을 의미한다.

상기 공정 C에 있어서, 상기 수분율 Y와 상기 평형 수분율 X의 차가 0 내지 1중량％가 되도록 상기 수분율 Y를 조정하는 것이 바람직하다.

또한, 상기 공정 C에 있어서, 상기 광학 부재를 가습함으로써 상기 수분율 Y를 조정하는 것이 바람직하다.

또한, 상기 공정 B에서 상기 공정 C까지 사이에, 상기 광학 부재 중의 편광 필름의 수분율 Z가 상기 평형 수분율 X 미만이 되지 않도록 상기 수분율 Z를 조정하는 공정 D를 포함하는 것이 바람직하다.

또한, 상기 공정 D에 있어서, 상기 수분율 Z와 상기 평형 수분율 X의 차가 0 내지 1중량％가 되도록 상기 수분율 Z를 조정하는 것이 바람직하다.

또한, 상기 공정 D에 있어서, 상기 광학 부재를 가습함으로써 상기 수분율 Z를 조정하는 것이 바람직하다.

또한, 상기 곤포물을 곤포 개방하고 나서 상기 광학 부재를 셀 기판에 접합시킬 때까지의 작업은, 클린룸 내에서 행하여지는 것이 바람직하다.

또한, 상기 클린룸은, 15 내지 25℃의 온도 범위 내의 어느 일정 온도 또한 45 내지 65% Rh의 상대 습도 내의 어느 일정 습도로 조정되어 있는 것이 바람직하다.

본 발명의 광학 부재의 곤포물의 제조 방법에 따르면, 패널 메이커에 있어서 광학 부재를 액정 셀 등의 셀 기판에 부착할 때 컬이 발생하기 어렵기 때문에, 광학 부재의 취급성이 양호하여 광학 부재와 셀 기판의 사이에 기포가 말려 들어가는 등의 접합의 결함이 발생할 일도 없다.

본 발명의 광학 부재의 곤포물의 제조 방법은, 편광자의 편면 또는 양면에 접착제층을 개재시켜 보호 필름을 마련하여 편광 필름을 제작하는 공정 A, 상기 편광 필름에 적어도 점착제층 및 표면 보호 필름을 마련하여 광학 부재를 제작하는 공정 B, 및 상기 광학 부재를 곤포하는 공정 C를 포함하고,

상기 공정 C에 있어서, 상기 광학 부재 중의 편광 필름의 수분율 Y중량％가 상기 평형 수분율 X중량％ 미만이 되지 않도록 상기 수분율 Y중량％를 조정하는 것을 특징으로 한다.

(공정 A)

공정 A는, 편광자의 편면 또는 양면에 접착제층을 개재시켜 보호 필름을 마련하여 편광 필름을 제작하는 공정이며, 공지의 방법을 채용할 수 있다.

편광자는 특별히 제한되지 않고, 통상 폴리비닐알코올계 수지를 사용한 것이 사용된다. 편광자로서는, 예를 들어 폴리비닐알코올계 필름, 부분 포르말화 폴리비닐알코올계 필름, 에틸렌·아세트산비닐 공중합체계 부분 비누화 필름 등의 친수성 고분자 필름에, 요오드나 2색성 염료의 2색성 물질을 흡착시켜서 1축 연신된 것, 폴리비닐알코올의 탈수 처리물이나 폴리염화 비닐의 탈염산 처리물 등 폴리엔계 배향 필름 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 폴리비닐알코올계 필름과 요오드 등의 2색성 물질로 이루어지는 편광자가 적합하다. 편광자의 두께는 특별히 제한되지 않고, 통상은 5 내지 300㎛, 바람직하게는 10 내지 200㎛, 보다 바람직하게는 20 내지 100㎛이다.

폴리비닐알코올계 필름을 요오드로 염색하여 1축 연신된 편광자는, 예를 들어 폴리비닐알코올계 필름을 요오드의 수용액에 침지함으로써 염색하고, 원래 길이의 3 내지 7배로 연신함으로써 제작할 수 있다. 필요에 따라 붕산이나 황산아연, 염화 아연 등을 포함하고 있어도 되고, 요오드화 칼륨 등의 수용액에 침지할 수도 있다. 또한, 필요에 따라 염색 전에 폴리비닐알코올계 필름을 물에 침지하여 수세해도 된다. 폴리비닐알코올계 필름을 수세함으로써 폴리비닐알코올계 필름 표면의 오염이나 블로킹 방지제를 세정할 수 있는 것 외에, 폴리비닐알코올계 필름을 팽윤 시킴으로써 염색의 얼룩 등의 불균일을 방지하는 효과도 있다. 연신은 요오드로 염색한 후에 행하여도 되고, 염색하면서 연신해도 되고, 또한 연신하고 나서 요오드로 염색해도 된다. 붕산이나 요오드화 칼륨 등의 수용액이나 수욕 중이라도 연신할 수 있다.

보호 필름을 구성하는 재료로서는, 투명성, 기계적 강도, 열 안정성, 수분 차단성, 등방성 등이 우수한 것이 바람직하다. 예를 들어, 폴리에틸렌테레프탈레이트나 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스테르계 폴리머, 디아세틸셀룰로오스나 트리아세틸셀룰로오스 등의 셀룰로오스계 폴리머, 폴리메틸메타크릴레이트 등의 아크릴계 폴리머, 폴리스티렌이나 아크릴로니트릴·스티렌 공중합체(AS 수지) 등의 스티렌계 폴리머, 폴리카르보네이트계 폴리머 등을 들 수 있다. 또한, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 시클로계 내지는 노르보르넨 구조를 갖는 폴리올레핀, 에틸렌·프로필렌 공중합체와 같은 폴리올레핀계 폴리머, 염화 비닐계 폴리머, 나일론이나 방향족 폴리아미드 등의 아미드계 폴리머, 이미드계 폴리머, 술폰계 폴리머, 폴리에테르술폰계 폴리머, 폴리에테르에테르케톤계 폴리머, 폴리페닐렌술피드계 폴리머, 비닐알코올계 폴리머, 염화 비닐리덴계 폴리머, 비닐부티랄계 폴리머, 아릴레이트계 폴리머, 폴리옥시메틸렌계 폴리머, 에폭시계 폴리머 또는 상기 폴리머의 블렌드물 등도 상기 보호 필름을 형성하는 폴리머의 예로서 들 수 있다.

또한, 보호 필름 중에는 임의의 적절한 첨가제가 1종류 이상 포함되어 있어도 된다. 첨가제로서는, 예를 들어 자외선 흡수제, 산화 방지제, 활제, 가소제, 이형제, 착색 방지제, 난연제, 핵제, 대전 방지제, 안료, 착색제 등을 들 수 있다. 보호 필름 중 상기 열가소성 수지의 함유량은, 바람직하게는 50 내지 100중량％, 보다 바람직하게는 50 내지 99중량％, 더욱 바람직하게는 60 내지 98중량％, 특히 바람직하게는 70 내지 97중량％이다. 보호 필름 중 상기 열가소성 수지의 함유량이 50중량％ 이하인 경우, 열가소성 수지가 원래 갖는 고투명성 등이 충분히 발현될 수 없을 우려가 있다.

상기 보호 필름으로서는, 위상차 필름, 휘도 향상 필름, 확산 필름 등도 사용할 수 있다. 위상차 필름으로서는, 정면 위상차가 40nm 이상 및/또는, 두께 방향 위상차가 80nm 이상의 위상차를 갖는 것을 들 수 있다. 정면 위상차는, 통상 40 내지 200nm의 범위로, 두께 방향 위상차는 통상 80 내지 300nm의 범위로 제어된다. 보호 필름으로서 위상차 필름을 사용하는 경우에는, 당해 위상차 필름이 편광자 보호 필름으로서도 기능하기 때문에 박형화를 도모할 수 있다.

위상차 필름으로서는, 열가소성 수지 필름을 1축 또는 2축 연신 처리하여 이루어지는 복굴절성 필름을 들 수 있다. 상기 연신의 온도, 연신 배율 등은, 위상차 값, 필름의 재료, 두께에 의해 적절하게 설정된다.

보호 필름의 두께는 적절하게 결정할 수 있지만, 일반적으로는 강도나 취급성 등의 작업성, 박층성 등의 점에 의해 1 내지 500㎛ 정도이다. 특히 1 내지 300㎛가 바람직하고, 5 내지 200㎛가 보다 바람직하고, 나아가 5 내지 150㎛, 특히 20 내지 100㎛의 박형인 경우에 특히 적합하다.

상기 보호 필름의 편광자를 접착시키지 않는 면에는, 하드 코트층, 반사 방지층, 스티킹 방지층, 확산층 내지 안티글레어층 등의 기능 층을 마련할 수 있다. 또한, 상기 하드 코트층, 반사 방지층, 스티킹 방지층, 확산층이나 안티글레어층 등의 기능층은, 보호 필름 자체에 마련할 수 있는 것 외에, 별도로 보호 필름과는 별체인 것으로서 마련할 수도 있다.

상기 보호 필름과 편광자는, 접착제층을 개재시켜 적층된다.

접착제층은 접착제에 의해 형성된다. 접착제의 종류는 특별히 제한되지 않고, 다양한 것을 사용할 수 있다. 상기 접착제층은 광학적으로 투명하면 특별히 제한되지 않고, 접착제로서는 수계, 용제계, 핫 멜트계, 활성 에너지선 경화형 등 각종 형태의 것이 사용되는데, 수계 접착제 또는 활성 에너지선 경화형 접착제가 적합하다.

수계 접착제로서는, 이소시아네이트계 접착제, 폴리비닐알코올계 접착제, 젤라틴계 접착제, 비닐계 라텍스계, 수계 폴리에스테르 등을 예시할 수 있다. 수계 접착제는, 통상 수용액으로부터 이루어지는 접착제로서 사용되고, 통상 0.5 내지 60중량％의 고형분을 함유하여 이루어진다.

활성 에너지선 경화형 접착제는, 전자선, 자외선(라디칼 경화형, 양이온 경화형) 등의 활성 에너지선에 의해 경화가 진행되는 접착제이고, 예를 들어 전자선 경화형, 자외선 경화형의 형태로 사용할 수 있다. 활성 에너지선 경화형 접착제는, 예를 들어 광 라디칼 경화형 접착제를 사용할 수 있다. 광 라디칼 경화형의 활성 에너지선 경화형 접착제를 자외선 경화형으로서 사용하는 경우에는, 당해 접착제는, 라디칼 중합성 화합물 및 광중합 개시제를 함유한다.

접착제의 도공 방식은, 접착제의 점도나, 목적으로 하는 두께에 의해 적절하게 선택된다. 도공 방식의 예로서, 예를 들어 리버스 코터, 그라비아 코터(다이렉트, 리버스나 오프셋), 바 리버스 코터, 롤 코터, 다이 코터, 바 코터, 로드 코터 등을 들 수 있다. 그 외, 도공에는, 디핑 방식 등의 방식을 적절하게 사용할 수 있다.

또한, 상기 접착제의 도공은, 수계 접착제 등을 사용하는 경우에는, 최종적으로 형성되는 접착제층의 두께가 30 내지 300nm가 되도록 행하는 것이 바람직하다. 상기 접착제층의 두께는, 더욱 바람직하게는 60 내지 250nm이다. 한편, 활성 에너지선 경화형 접착제를 사용하는 경우에는, 상기 접착제층의 두께는, 0.1 내지 200㎛가 되도록 행하는 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는, 0.5 내지 50㎛, 더욱 바람직하게는 0.5 내지 10㎛이다.

또한, 편광자와 보호 필름의 적층에 있어서, 보호 필름과 접착제층의 사이에는, 접착 용이층을 마련할 수 있다. 접착 용이층은, 예를 들어 폴리에스테르 골격, 폴리에테르 골격, 폴리카르보네이트 골격, 폴리우레탄 골격, 실리콘계, 폴리아미드 골격, 폴리이미드 골격, 폴리비닐알코올 골격 등을 갖는 각종 수지에 의해 형성할 수 있다. 이들 폴리머 수지는 1종을 단독으로, 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 또한 접착 용이층의 형성에는 다른 첨가제를 첨가해도 된다. 구체적으로는 또한 점착 부여제, 자외선 흡수제, 산화 방지제, 내열 안정제 등의 안정제 등을 사용해도 된다.

접착 용이층은, 통상 보호 필름에 미리 마련해 두고, 당해 보호 필름의 접착 용이층측과 편광자를 접착제층에 의해 적층한다. 접착 용이층의 형성은, 접착 용이층의 형성재를 보호 필름 상에, 공지의 기술에 의해 도공, 건조함으로써 행하여진다. 접착 용이층의 형성재는, 건조 후의 두께, 도공의 원활성 등을 고려하여 적당한 농도에 희석한 용액으로서, 통상 조정된다. 접착 용이층의 건조 후의 두께는, 바람직하게는 0.01 내지 5㎛, 더욱 바람직하게는 0.02 내지 2㎛, 더욱 바람직하게는 0.05 내지 1㎛이다. 또한, 접착 용이층은 복수층 마련할 수 있는데, 이 경우에도 접착 용이층의 총 두께는 상기 범위가 되도록 하는 것이 바람직하다.

(공정 B)

공정 B는, 상기 편광 필름에 적어도 점착제층 및 표면 보호 필름을 마련하여 광학 부재를 제작하는 공정이고, 공지의 방법을 채용할 수 있다.

편광자의 양면에 보호 필름을 마련한 양 보호 편광 필름의 경우, 양 보호 편광 필름의 한쪽 면에 직접 또는 다른 층을 개재시켜 표면 보호 필름을 마련하고, 양 보호 편광 필름의 다른 쪽 면에 직접 또는 다른 층을 개재시켜 점착제층을 형성한다.

편광자의 편면에만 보호 필름을 마련한 편 보호 편광 필름의 경우, 편 보호 편광 필름의 보호 필름측에 직접 또는 다른 층을 개재시켜 표면 보호 필름을 마련하고, 편 보호 편광 필름의 편광자측에 직접 또는 다른 층을 개재시켜 점착제층을 형성한다.

상기 다른 층은 특별히 제한되지 않고, 편광 필름에 마련되는 공지의 기능층이나 광학층 등을 들 수 있다. 광학층으로서는, 예를 들어 반사판, 반투과판, 위상차판(1/2이나 1/4 등의 파장판을 포함한다), 시각 보상 필름 및 휘도 향상 필름 등을 들 수 있다. 상기 다른 층은, 1층 마련되어 있어도 되고, 2층 이상 마련되어 있어도 된다.

상기 점착제층은, 편광 필름을 액정 셀 등의 셀 기판에 접합시키기 위하여 편광 필름의 편면에 마련된다.

상기 점착제층의 두께는 특별히 한정되지 않고, 예를 들어 1 내지 100㎛ 정도이고, 바람직하게는 2 내지 50㎛, 보다 바람직하게는 2 내지 40㎛, 더욱 바람직하게는 5 내지 35㎛이다.

상기 점착제층의 형성에는 적당한 점착제를 사용할 수 있고, 그의 종류에 대해서 특별히 제한은 없다. 점착제로서는, 고무계 점착제, 아크릴계 점착제, 실리콘계 점착제, 우레탄계 점착제, 비닐알킬에테르계 점착제, 폴리비닐알코올계 점착제, 폴리비닐피롤리돈계 점착제, 폴리아크릴아미드계 점착제, 셀룰로오스계 점착제 등을 들 수 있다.

이들 점착제 중에서도 광학적 투명성이 우수하고, 적당한 습윤성과 응집성과 접착성의 점착 특성을 나타내고, 내후성이나 내열성 등이 우수한 것이 바람직하게 사용된다. 이러한 특징을 나타내는 것으로서 아크릴계 점착제가 바람직하게 사용된다.

점착제층을 형성하는 방법으로서는, 예를 들어 상기 점착제를 박리 처리한 세퍼레이터 등에 도포하고, 중합 용제 등을 건조 제거하여 점착제층을 형성한 후에 편광 필름에 전사하는 방법, 또는 상기 점착제를 도포하고, 중합 용제 등을 건조 제거하여 점착제층을 편광 필름에 형성하는 방법 등을 들 수 있다. 또한, 점착제의 도포에 있어서는, 적절하게 중합 용제 이외의 1종 이상의 용제를 새롭게 첨가해도 된다.

박리 처리한 세퍼레이터로서는, 실리콘 박리 라이너가 바람직하게 사용된다. 이러한 라이너 상에 점착제를 도포, 건조시켜서 점착제층을 형성하는 공정에 있어서, 점착제를 건조시키는 방법으로서는, 목적에 따라 적의, 적절한 방법이 채용될 수 있다. 바람직하게는, 상기 도포막을 과열 건조하는 방법이 사용된다. 가열 건조 온도는, 바람직하게는 40℃ 내지 200℃이고, 더욱 바람직하게는 50℃ 내지 180℃이고, 특히 바람직하게는 70℃ 내지 170℃이다. 가열 온도를 상기의 범위로 함으로써, 우수한 점착 특성을 갖는 점착제를 얻을 수 있다.

건조 시간은, 적의, 적절한 시간이 채용될 수 있다. 상기 건조 시간은, 바람직하게는 5초 내지 20분, 더욱 바람직하게는 5초 내지 10분, 특히 바람직하게는 10초 내지 5분이다.

점착제층의 형성 방법으로서는, 각종 방법이 사용된다. 구체적으로는, 예를 들어 롤 코트, 키스 롤 코트, 그라비아 코트, 리버스 코트, 롤 브러시, 스프레이 코트, 딥 롤 코트, 바 코트, 나이프 코트, 에어 나이프 코트, 커튼 코트, 립 코트, 다이 코터 등에 의한 압출 코트법 등의 방법을 들 수 있다.

상기 점착제층이 노출될 경우에는, 실용에 제공될 때까지 박리 처리한 시트(세퍼레이터)로 점착제층을 보호해도 된다.

세퍼레이터의 구성 재료로서는, 예를 들어 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에스테르 필름 등의 플라스틱 필름, 종이, 천, 부직포 등의 다공질 재료, 네트, 발포 시트, 금속박 및 이들의 라미네이트체 등의 적당한 박엽체 등을 들 수 있지만, 표면 평활성이 우수하다는 점에서 플라스틱 필름이 적합하게 사용된다.

그의 플라스틱 필름으로서는, 상기 점착제층을 보호할 수 있는 필름이라면 특별히 한정되지 않고, 예를 들어 폴리에틸렌 필름, 폴리프로필렌 필름, 폴리부텐 필름, 폴리부타디엔 필름, 폴리메틸펜텐 필름, 폴리염화 비닐 필름, 염화 비닐 공중합체 필름, 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름, 폴리부틸렌테레프탈레이트 필름, 폴리우레탄 필름, 에틸렌-아세트산비닐 공중합체 필름 등을 들 수 있다.

상기 세퍼레이터의 두께는, 통상 5 내지 200㎛, 바람직하게는 5 내지 100㎛ 정도이다. 상기 세퍼레이터에는, 필요에 따라 실리콘계, 불소계, 장쇄 알킬계 혹은 지방산 아미드계의 이형제, 실리카분 등에 의한 이형 및 방오 처리나, 도포형, 반죽형, 증착형 등의 대전 방지 처리도 할 수도 있다. 특히, 상기 세퍼레이터의 표면에 실리콘 처리, 장쇄 알킬 처리, 불소 처리 등의 박리 처리를 적절히 행함으로써, 상기 점착제층으로부터의 박리성을 보다 높일 수 있다.

상기 표면 보호 필름은, 통상 기재 필름 및 점착제층을 가지고, 당해 점착제 층을 개재시켜 편광 필름을 보호한다.

상기 표면 보호 필름의 기재 필름으로서는, 검사성이나 관리성 등의 관점에서, 등방성을 갖는 또는 등방성에 가까운 필름 재료가 선택된다. 그의 필름 재료로서는, 예를 들어 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 등의 폴리에스테르계 수지, 셀룰로오스계 수지, 아세테이트계 수지, 폴리에테르술폰계 수지, 폴리카르보네이트계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리이미드계 수지, 폴리올레핀계 수지, 아크릴계 수지와 같은 투명한 폴리머를 들 수 있다. 이들 중에서도 폴리에스테르계 수지가 바람직하다. 기재 필름은, 1종 또는 2종 이상의 필름 재료의 라미네이트체로서 사용할 수도 있고, 또한 상기 필름의 연신물을 사용할 수도 있다. 기재 필름의 두께는, 일반적으로는 500㎛ 이하, 바람직하게는 10 내지 200㎛이다.

상기 표면 보호 필름의 점착제층을 형성하는 점착제로서는, (메타)아크릴계 폴리머, 실리콘계 폴리머, 폴리에스테르, 폴리우레탄, 폴리아미드, 폴리에테르, 불소계나 고무계 등의 폴리머를 베이스 폴리머로 하는 점착제를 적절하게 선택하여 사용할 수 있다. 투명성, 내후성, 내열성 등의 관점에서, 아크릴계 폴리머를 베이스 폴리머로 하는 아크릴계 점착제가 바람직하다. 점착제층의 두께(건조 막 두께)는, 필요로 되는 점착력에 따라 결정된다. 통상 1 내지 100㎛ 정도, 바람직하게는 5 내지 50㎛이다.

또한, 표면 보호 필름에는, 기재 필름에 있어서의 점착제층을 마련한 면의 반대면에, 실리콘 처리, 장쇄 알킬 처리, 불소 처리 등의 저접착성 재료에 의해, 박리 처리 층을 마련할 수 있다.

공정 B에 있어서, 상기 편광 필름에 상기 점착제층 및 상기 표면 보호 필름을 마련하는 순서는 특별히 제한되지 않고, 상기 점착제층을 형성한 후에 상기 표면 보호 필름을 마련해도 되고, 상기 표면 보호 필름을 마련한 후에 상기 점착제층을 마련해도 된다.

제작한 광학 부재는, 소정의 크기로 커트해도 된다.

(공정 D)

본 발명에 있어서는, 상기 공정 B에서 하기 공정 C까지 사이에, 제작한 광학 부재 중의 편광 필름의 수분율 Z(중량％)가 상기 평형 수분율 X(중량％) 미만이 되지 않도록 상기 수분율 Z(중량％)를 조정하는 공정 D를 포함하는 것이 바람직하다.

상기 수분율 Z(중량％)를 조정하는 방법은 특별히 제한되지 않지만, 가습 처리를 하는 것이 바람직하고, 가습 처리의 방법으로서는, 예를 들어 (1) 제작한 광학 부재를 롤에 권취할 때, 광학 부재에 가습 공기를 분사하는 방법, (2) 제작한 광학 부재를 가습 분위기 내에서 롤에 권취하는 방법, (3) 커트한 광학 부재에 가습 공기를 분사하는 방법, (4) 커트한 광학 부재를 가습 분위기 내에서 보존하는 방법 등을 들 수 있다. 또한, 상기 수분율 Z가 상기 평형 수분율 X에 비하여 지나치게 큰 경우에는, 상기 수분율 Z와 상기 평형 수분율 X의 차를 작게 하기 위하여 제습 처리를 행하여도 된다.

상기 공정 D에 있어서, 상기 수분율 Z와 상기 평형 수분율 X의 차가 0 내지 1중량％가 되도록 상기 수분율 Z를 조정하는 것이 바람직하고, 상기 수분율 Z와 상기 평형 수분율 X의 차가 0 내지 0.5중량％가 되도록 상기 수분율 Z를 조정하는 것이 보다 바람직하다.

가습 처리 시의 온도 및 상대 습도는, 상기 평형 수분율 X에 기초하여 적절히 조정할 필요가 있는데, 통상, 온도는 15 내지 25℃ 정도이고, 상대 습도는 45 내지 65% Rh 정도이다. 또한, 광학 부재의 반송 속도는, 통상 1 내지 40m/분 정도이다.

(공정 C)

공정 C는, 상기 광학 부재를 곤포하는 공정이다. 상기 공정 C에 있어서, 상기 광학 부재 중의 편광 필름의 수분율 Y(중량％)가 상기 평형 수분율 X(중량％) 미만이 되지 않도록 상기 수분율 Y(중량％)를 조정한다. 상기 수분율 Y(중량％)를 조정하는 방법으로서는, 가습 분위기 하에서 상기 광학 부재를 곤포하는 방법을 들 수 있다.

상기 광학 부재를, 곤포는, 상기 수분율 Y와 상기 평형 수분율 X의 차가 0 내지 1중량％가 되도록 조온 조습된 분위기 하에서 행하는 것이 바람직하고, 상기 수분율 Y와 상기 평형 수분율 X의 차가 0 내지 0.5중량％가 되도록 조온 조습된 분위기 하에서 행하는 것이 보다 바람직하다.

곤포 시의 온도 및 상대 습도는, 상기 평형 수분율 X에 기초하여 적절히 조정할 필요가 있는데, 통상, 온도는 15 내지 25℃ 정도이고, 상대 습도는 45 내지 65% Rh 정도이다.

패널 메이커에 있어서, 곤포물로부터 상기 광학 부재가 취출되고, 온도 및 습도가 일정하게 관리된 분위기 하에서 상기 광학 부재를 셀 기판에 부착하는 작업이 행하여진다. 곤포물을 곤포 개방하고 나서 상기 광학 부재를 셀 기판에 접합시킬 때까지의 작업은, 클린룸 내에서 행하여지는 것이 바람직하다. 또한, 상기 클린룸은, 15 내지 25℃의 온도 범위 내의 어느 일정 온도로, 또한 45 내지 65% Rh의 상대 습도 내의 어느 일정 습도로 조정되어 있는 것이 바람직하다.

[실시예]

이하에, 본 발명을 실시예를 들어서 설명하지만, 본 발명은 이하에 나타낸 실시예로 제한되는 것은 아니다. 또한, 각 예 내의 부 및 %는 모두 중량 기준이다.

(자외선 경화형 접착제의 제작)

N-히드록시에틸아크릴아미드(HEAA) 40중량부와 아크릴로일모르폴린(ACMO) 60중량부와 광 개시제 「IRGACURE 819」(BASF사제) 3중량부를 혼합하여 자외선 경화형 접착제를 조제하였다.

실시예 1

<평형 수분율을 측정하기 위한 편광 필름의 제작>

두께 40㎛인 락톤환 구조를 갖는 아크릴 수지 필름의 접착 용이 처리면에 코로나 처리를 실시한 보호 필름과 위상차 필름 (제온사제, 상품명: ZB12-50135, 두께: 52㎛)의 접합면에, 상기 자외선 경화형 접착제를, 경화 후의 두께가 0.7㎛가 되도록 도포하고, 편광자(쿠라레사제, 상품명: PS4500, 두께: 45㎛)의 양면에 롤기로 접합시켰다. 그 후, 자외선을 조사하여 접착제를 경화시켜서 편광 필름을 제작하였다. 그리고, 제작한 편광 필름의 평형 수분율을 하기의 방법으로 측정한바, 온도 20℃ 상대 습도 55% Rh의 분위기 하에 있어서의 평형 수분율 X는, 2.5중량％였다.

(편광 필름의 평형 수분율 X의 측정)

제작한 편광 필름 (TD 폭 1200mm)의 TD 폭 방향에 있어서의 중앙부 및 양단부(단으로부터 6.5cm 내측으로부터)로부터 10cm×10cm 크기의 샘플을 3장 잘라내었다. 당해 샘플을 온도 20℃ 상대 습도 55% Rh의 분위기 하에 24시간 방치하고, 그 후, 샘플의 중량 W1을 측정하였다. 이어서, 샘플을 120℃에서 5시간 건조시켜서, 건조 후의 샘플의 중량 W0을 측정하였다. 온도 20℃ 상대 습도 55% Rh의 분위기 하에 있어서의 샘플(편광 필름)의 평형 수분율은, 하기식으로 산출하였다. 또한, 3장의 샘플(편광 필름)의 평형 수분율의 평균값을 평형 수분율 X라 하였다.

편광 필름의 평형 수분율 X(중량％)={(W1-W0)/W1}×100

<편광 필름의 제작>

상기와 마찬가지의 방법으로 편광 필름을 제작하였다. 제작한 편광 필름의 수분율 P를 하기의 방법으로 측정한바 2.9중량％였다.

(편광 필름의 수분율 P의 측정)

제작한 편광 필름 (TD 폭 1200mm)의 TD 폭 방향에 있어서의 중앙부 및 양단부(단으로부터 6.5cm 내측으로부터)로부터 10cm×10cm 크기의 샘플을 3장 잘라내었다. 당해 샘플의 건조 전의 중량 W2를 측정하였다. 또한, 샘플을 120℃에서 5시간 건조시켜서, 건조 후의 샘플의 중량 W0을 측정하였다. 제작한 샘플(편광 필름)의 수분율은, 하기식으로 산출하였다. 또한, 3장의 샘플(편광 필름)의 수분율의 평균값을 수분율 P라 하였다.

편광 필름의 수분율 P(중량％)={(W2-W0)/W2}×100

<점착제층 구비 편광 필름의 제작>

(점착제 조성물의 조제)

교반 블레이드, 온도계, 질소 가스 도입관, 냉각기를 구비한 4구 플라스크에, 부틸아크릴레이트 99부 및 아크릴산4-히드록시부틸 1부를 함유하는 모노머 혼합물을 투입하였다. 또한, 상기 모노머 혼합물(고형분) 100부에 대하여, 중합 개시제로서 2,2´-아조비스이소부티로니트릴 0.1부를 아세트산에틸과 함께 투입하여, 완만하게 교반하면서 질소 가스를 도입하여 질소 치환한 후, 플라스크 내의 액온을 60℃ 부근으로 유지하여 7시간 중합 반응을 행하였다. 그 후, 얻어진 반응액에 아세트산에틸을 첨가하여 고형분 농도 30%로 조정한, 중량 평균 분자량 140만인 아크릴계 폴리머의 용액을 조제하였다.

상기 아크릴계 폴리머 용액의 고형분 100부에 대하여, 에틸메틸피롤리디늄-비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드(도꾜 가세이 고교제) 0.2부 및 리튬비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드(미쯔비시 매터리얼 전자 가세이사제) 1부를 배합하고, 또한 트리메틸올프로판크실릴렌디이소시아네이트(미쯔이 가가꾸사제: 타케네이트D110N) 0.1부와, 디벤조일퍼옥사이드 0.3부와, γ-글리시독시프로필 메톡시실란(신에쯔 가가꾸 고교사제: KBM-403) 0.075부를 배합하여 아크릴계 점착제 용액을 조제하였다.

(점착제층의 형성)

상기 아크릴계 점착제 용액을, 실리콘계 박리제로 처리된 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 (세퍼레이터 필름)의 표면에 파운틴 코터로 균일하게 도공하고, 155℃의 공기 순환식 항온 오븐에서 2분간 건조하여 세퍼레이터 필름의 표면에 두께 20㎛인 점착제층을 형성하였다.

(점착제층 구비 편광 필름의 제작)

롤로부터 상기 편광 필름을 송출하면서, 상기 편광 필름의 위상차 필름에, 상기 세퍼레이터 필름의 박리 처리면에 형성한 점착제층을 접합시켜서 점착제층 구비 편광 필름을 제작하였다. 제작한 점착제층 구비 편광 필름 (TD 폭 1200mm)의 TD 폭 방향에 있어서의 중앙부 및 양단부(단으로부터 6.5cm 내측으로부터)로부터 10cm×10cm 크기의 필름편을 3장 잘라내었다. 당해 필름편으로부터 점착제층 및 세퍼레이터 필름을 제거하여 수분율 Q를 측정하기 위한 샘플(편광 필름)을 얻었다. 당해 샘플(편광 필름)의 수분율 Q를 하기 방법으로 측정한바 2.6중량％였다.

(편광 필름의 수분율 Q의 측정)

샘플(편광 필름)의 건조 전의 중량 W3을 측정하였다. 또한, 샘플(편광 필름)을 120℃에서 5시간 건조시켜서, 건조 후의 샘플(편광 필름)의 중량 W0을 측정하였다. 샘플(편광 필름)의 수분율 Q는, 하기식으로 산출하였다. 또한, 3장의 샘플(편광 필름)의 수분율의 평균값을 수분율 Q라 하였다.

편광 필름의 수분율 Q(중량％)={(W3-W0)/W3}×100

<점착제층 및 표면 보호 필름 부착 편광 필름 (광학 부재)의 제작 및 편광 필름의 수분율 Z1의 조정>

(표면 보호 필름의 제작)

PET 필름 (두께: 38㎛) 상에 아크릴계 점착제층(두께: 23㎛)을 형성하여 표면 보호 필름을 제작하였다.

(점착제층 및 표면 보호 필름 부착 편광 필름의 제작)

롤로부터 상기 점착제층 구비 편광 필름을 송출하면서, 상기 점착제층 구비 편광 필름의 보호 필름에, 상기 표면 보호 필름의 점착제층을 접합시켜서 점착제층 및 표면 보호 필름 부착 편광 필름을 제작하였다.

(편광 필름의 수분율 Z1의 조정)

제작한 점착제층 및 표면 보호 필름 부착 편광 필름을 롤에 권취할 때, 점착제층 및 표면 보호 필름 부착 편광 필름에 온도 23℃ 상대 습도 65% Rh인 가습 공기를 500mL/h로 분사하면서 롤에 권취하였다. 그리고 24시간 후에, 점착제층 및 표면 보호 필름 부착 편광 필름을 롤로부터 되감고, 그리고, 점착제층 및 표면 보호 필름 부착 편광 필름 (TD 폭 1200mm)의 TD 폭 방향에 있어서의 중앙부 및 양단부(단으로부터 6.5cm 내측으로부터)로부터 10cm×10cm 크기의 필름편을 3장 잘라내었다. 당해 필름편으로부터 점착제층, 세퍼레이터 필름 및 표면 보호 필름을 제거하여 수분율 Z1을 측정하기 위한 샘플(편광 필름)을 얻었다. 당해 샘플(편광 필름)의 수분율 Z1을 하기 방법으로 측정한바 2.5중량％였다.

(편광 필름의 수분율 Z1의 측정)

샘플(편광 필름)의 건조 전의 중량 W4를 측정하였다. 또한, 샘플(편광 필름)을 120℃에서 5시간 건조시켜서, 건조 후의 샘플(편광 필름)의 중량 W0을 측정하였다. 샘플(편광 필름)의 수분율 Z1은, 하기식으로 산출하였다. 또한, 3장의 샘플(편광 필름)의 수분율의 평균값을 수분율 Z1라 하였다.

편광 필름의 수분율 Z1(중량％)={(W4-W0)/W4}×100

<점착제층 및 표면 보호 필름 부착 편광 필름의 커트 공정 및 편광 필름의 수분율 Z2의 조정>

(커트 공정)

롤로부터 상기 점착제층 및 표면 보호 필름 부착 편광 필름을 송출하면서, MD 길이 400mm×TD 폭 1200mm의 크기로 커트하여 광학 부재를 얻었다.

(편광 필름의 수분율 Z2의 조정)

커트하여 얻어진 광학 부재를 반송하면서, 당해 광학 부재에 온도 23℃ 상대 습도 65% Rh인 가습 공기를 500mL/h로 분사하였다. 그 후, 광학 부재(TD 폭 1200mm)의 TD 폭 방향에 있어서의 중앙부 및 양단부(단으로부터 6.5cm 내측으로부터)로부터 10cm×10cm 크기의 필름편을 3장 잘라내었다. 당해 필름편으로부터 점착제층, 세퍼레이터 필름 및 표면 보호 필름을 제거하여 수분율 Z2를 측정하기 위한 샘플(편광 필름)을 얻었다. 당해 샘플(편광 필름)의 수분율 Z2를 하기 방법으로 측정한바 2.5중량％였다.

(편광 필름의 수분율 Z2의 측정)

샘플(편광 필름)의 건조 전의 중량 W5를 측정하였다. 또한, 샘플(편광 필름)을 120℃에서 5시간 건조시켜서, 건조 후의 샘플(편광 필름)의 중량 W0을 측정하였다. 샘플(편광 필름)의 수분율 Z2는, 하기식으로 산출하였다. 또한, 3장의 샘플(편광 필름)의 수분율의 평균값을 수분율 Z2라 하였다.

편광 필름의 수분율 Z2(중량％)={(W5-W0)/W5}×100

<광학 부재의 곤포>

상기 광학 부재를 온도 23℃ 상대 습도 65% Rh인 가습 분위기 내에서, 가습 공기와 함께 곤포하였다. 그 후, 광학 부재를 곤포 주머니로부터 취출하고, 당해 광학 부재(TD 폭 1200mm)의 TD 폭 방향에 있어서의 중앙부 및 양단부(단으로부터 6.5cm 내측으로부터)로부터 10cm×10cm 크기의 필름편을 3장 잘라내었다. 당해 필름편으로부터 점착제층, 세퍼레이터 필름 및 표면 보호 필름을 제거하여 수분율 Y를 측정하기 위한 샘플(편광 필름)을 얻었다. 당해 샘플(편광 필름)의 수분율 Y를 상기와 마찬가지의 방법으로 측정한바 2.5중량％였다. 또한, 3장의 샘플(편광 필름)의 수분율의 평균값을 수분율 Y라 하였다. 곤포된 광학 부재 중의 편광 필름의 수분율 Y는, 상기 평형 수분율 X와 같았다.

실시예 2 내지 5, 비교예 1 내지 2

실시예 1에 있어서, 보호 필름의 종류 및 두께, 위상차 필름의 종류 및 두께 및 가습 처리의 유무를 표 1에 나타내는 바와 같이 바꾼 것 외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 광학 부재를 제작하고 곤포하였다. 또한, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 각 편광 필름의 수분율을 측정하였다.

또한, 실시예 2의 코팅층은, 이하의 방법으로 형성하였다.

자외선 경화형 우레탄 아크릴레이트 수지(닛본 고세 가가꾸 고교(주)제, 상품명 「UV1700B」, 고형분 100%) 50중량부 및 펜타에리트리톨트리아크릴레이트를 주성분으로 하는 다관능 아크릴레이트(오사까 유끼 가가꾸 고교(주)제, 상품명 「 비스코트#300」, 고형분 100%) 50중량부를 준비하였다. 상기 수지의 수지 고형분 100중량부당, 입자로서 아크릴과 스티렌의 공중합 입자(세키스이 가세힝 고교(주)제, 상품명 「테크폴리머」, 중량 평균 입경: 3.0㎛, 굴절률: 1.520)를 2중량부, 틱소트로피 부여제로서 유기 점토인 합성 스멕타이트(코프 케미컬(주)제, 상품명 「루센타이트SAN」)을 1.5중량부, 광중합 개시제(BASF사제, 상품명 「이르가큐어907)」)를 3중량부, 레벨링제(DIC(주)제, 상품명 「PC4100」, 고형분 10%)를 0.2부 혼합하였다. 또한, 상기 유기 점토는, 톨루엔에서 고형분이 6.0%가 되도록 희석하여 사용하였다. 이 혼합물을, 고형분 농도가 40중량%로 되도록 톨루엔/MIBK(메틸이소부틸케톤) 혼합 용매(중량비 80/20)로 희석하여 도공액을 조제하였다. 도공액을, 콤마 코터를 사용하여 편광 필름의 보호 필름 상에 도포하여 도막을 형성하였다. 그리고, 이 도막이 형성된 필름을, 약 30°의 각도로 경사지게 하면서 건조 공정으로 반송하였다. 건조 공정에 있어서, 100℃에서 2분간 가열함으로써 상기 도막을 건조시켰다. 그 후, 고압 수은 램프로 적산 광량 300mJ/cm²인 자외선을 조사하여 상기 도막을 경화 처리하여 두께 7.5㎛인 코팅층을 형성하였다.

상기 실시예 및 비교예에서 얻어진 광학 부재에 대해서 하기 평가를 행하였다. 결과를 표 1에 나타낸다.

(컬량의 평가 방법)

제작한 광학 부재로부터 한 변이 150mm인 정사각형의 샘플을 아래 도면과 같이 하나의 코너부를 MD 방향으로 선두로 하여, 양단(단으로부터 6.5cm 내측으로부터) 및 중앙의 3군데로부터 잘라내었다. 당해 샘플을 컬에 의해 아래로 볼록해지도록 수평한 측정대 위에 두고, MD·TD 방향의 각 코너부(4점)의 측정대로부터의 높이를 측정하고, 그 최댓값을 컬량(mm)이라 하였다. 또한, 세퍼레이터측에 컬링한 경우(표면 보호 필름측으로 볼록한 상태)를 마이너스라 하고, 그 반대인 경우를 플러스라 하였다.

[표 1]

표 1 내의 필름은 이하와 같다.

아크릴 수지 필름: 실시예 1에서 사용한 아크릴 수지 필름

TG60UL: 후지 필름사제

코스모 펑션: 도요보사제

ZB12-50135: 제온사제

KC4DR-1: 코니카사제

본 발명의 광학 부재는, 이것 단독으로, 또는 이것을 적층한 광학 필름으로서 액정 표시 장치(LCD), 유기 EL 표시 장치 등의 화상 표시 장치에 사용된다.

Claims

편광자의 편면 또는 양면에 접착제층을 개재시켜 보호 필름을 마련하여 편광 필름을 제작하는 공정 A, 상기 편광 필름에 적어도 점착제층 및 표면 보호 필름을 마련하여 광학 부재를 제작하는 공정 B, 및 상기 광학 부재를 곤포하는 공정 C를 포함하는 광학 부재의 곤포물의 제조 방법이며,
상기 곤포물을 곤포 개방하고 나서 상기 광학 부재를 셀 기판에 접합시킬 때까지의 상기 광학 부재 중의 편광 필름의 평형 수분율을 X중량％라 할 때,
상기 공정 C에 있어서, 상기 광학 부재 중의 편광 필름의 수분율 Y중량％가 상기 평형 수분율 X중량％ 미만이 되지 않도록 상기 수분율 Y중량％를 조정하는 것을 특징으로 하는 광학 부재의 곤포물의 제조 방법.
제1항에 있어서,
상기 공정 C에 있어서, 상기 수분율 Y와 상기 평형 수분율 X의 차가 0 내지 1중량％가 되도록 상기 수분율 Y를 조정하는 광학 부재의 곤포물의 제조 방법.
제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 공정 C에 있어서, 상기 광학 부재를 가습함으로써 상기 수분율 Y를 조정하는 광학 부재의 곤포물의 제조 방법.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 공정 B에서 상기 공정 C까지 사이에, 상기 광학 부재 중의 편광 필름의 수분율 Z가 상기 평형 수분율 X 미만이 되지 않도록 상기 수분율 Z를 조정하는 공정 D를 포함하는 광학 부재의 곤포물의 제조 방법.
제4항에 있어서,
상기 공정 D에 있어서, 상기 수분율 Z와 상기 평형 수분율 X의 차가 0 내지 1중량％가 되도록 상기 수분율 Z를 조정하는 광학 부재의 곤포물의 제조 방법.
제4항 또는 제5항에 있어서,
상기 공정 D에 있어서, 상기 광학 부재를 가습함으로써 상기 수분율 Z를 조정하는 광학 부재의 곤포물의 제조 방법.
제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 곤포물을 곤포 개방하고 나서 상기 광학 부재를 셀 기판에 접합시킬 때까지의 작업은, 클린룸 내에서 행하여지는 광학 부재의 곤포물의 제조 방법.
제7항에 있어서,
상기 클린룸은, 15 내지 25℃의 온도 범위 내의 어느 일정 온도 또한 45 내지 65% Rh의 상대 습도 내의 어느 일정 습도로 조정되어 있는 광학 부재의 곤포물의 제조 방법.