CN109728196A - 显示面板、其制作方法和显示装置 - Google Patents
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Abstract
本发明描述了一种显示面板、其制作方法和显示装置。显示面板包括:衬底基板,具有显示区和非显示区,非显示区包括第一非显示区和第二非显示区;沿远离显示区的方向包括至少一阻隔物,阻隔物位于第一非显示区,第一非显示区围绕显示区,第二非显示区围绕第一非显示区;显示功能层,位于衬底基板之上,显示功能层包括至少一个无机绝缘层;无机层绝缘层在第二非显示区形成凹槽;阻挡层,位于显示功能层远离衬底基板一侧,阻挡层至少包括第一无机阻挡层;第一无机阻挡层至少部分覆盖凹槽。本发明能够阻挡裂纹扩散和水氧入侵,提高了显示面板的信赖性和寿命。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域,更具体地,涉及一种显示面板、其制作方法和显示装置。
背景技术
OLED(Organic Light Emitting Diode,有机发光二极管)显示器是一种自发光显示器,与LCD(Liquid Crystal Display,液晶显示器)相比,OLED显示器不需要背光源,因此OLED显示器更为轻薄,此外OLED显示器还因具有高亮度、低功耗、宽视角、高响应速度、宽使用温度范围等优点而越来越多地被应用于各种高性能显示领域当中。
OLED显示器的寿命一方面取决于所选用的有机材料,另一方面还取决于器件的封装方法。对于有机电子器件,尤其是OLED来说,要严格杜绝来自周围环境中的水汽和氧气。
研究表明,空气中的水汽和氧气等成分对OLED的寿命影响很大,其原因主要基于以下两点:一方面,OLED器件工作时要从阴极注入电子,这要求阴极功函数越低越好,但是做阴极的金属,一般比较活泼,易与渗透进来的水汽发生反应;另一方面,水汽还会与空穴传输层(ETL)发生化学反应,从而引起OLED器件的失效。因此,对OLED器件进行有效封装,使器件的各功能层与大气中的水汽、氧气等分隔开,就可以大大延长器件寿命。
另外,由于目前OLED显示设备的需求,封装技术逐渐受到追捧,对OLED器件进行有效封装的需求也越来越迫切。
发明内容
有鉴于此,本发明提供一种显示面板、其制造方法及显示装置,解决了裂纹从外向显示面板内部扩展,同时阻断水汽和氧气向内部渗透的技术问题。
第一方面,本发明提供了一种显示面板,包括:
衬底基板,具有显示区和非显示区,其中,非显示区包括第一非显示区和第二非显示区;
沿远离显示区的方向包括至少一阻隔物,阻隔物位于第一非显示区,第一非显示区围绕显示区,第二非显示区围绕第一非显示区;
显示功能层,位于衬底基板之上,显示功能层包括至少一个无机绝缘层;至少一个无机绝缘层分布在所述显示区、第一非显示区和第二非显示区;无机层绝缘层在第二非显示区形成凹槽;
阻挡层,位于显示功能层远离衬底基板一侧,阻挡层至少包括第一无机阻挡层;第一无机阻挡层至少部分覆盖凹槽。
可选的,无机绝缘层包括:依次设置的缓冲层、栅极绝缘层和层间绝缘层中的一层或几层;凹槽的底部位于缓冲层、栅极绝缘层和层间绝缘层其中任意一层或各膜层间交界处。
可选的,显示面板包括封装结构;封装结构包括阻挡层。
可选的,第一无机阻挡层部分覆盖凹槽。
可选的,第一无机阻挡层的厚度介于0.5μm到2μm之间;第一无机阻挡层的材料为SiNx或SiON。
可选的,第一无机阻挡层的厚度介于30nm到100nm之间;第一无机阻挡层的材料为Al2O3。
可选的,第一无机阻挡层完全覆盖凹槽。
可选的,第一无机阻挡层的厚度介于3nm到10nm之间;无机阻挡层的材料为Al2O3。
可选的,凹槽在垂直于凹槽结构延伸的方向上的截面形状为矩形、梯形或弧形。
第二方面,本发明提供一种显示面板的制作方法,包括,
提供一衬底基板,具有显示区和非显示区,非显示区包括第一非显示区和第二非显示区,第一非显示区围绕显示区设置,第二非显示区围绕第一非显示区并远离显示区;
在衬底基板一侧制作一显示功能层,显示功能层包括至少一个无机绝缘层;
在所述第二非显示区,采用刻蚀工艺,对无机绝缘层远离衬底基板一侧将无机绝缘层刻蚀至一定深度形成凹槽;
在无机绝缘层远离衬底基板一侧制作阻挡层,阻挡层至少包括第一无机阻挡层,第一无机阻挡层至少部分覆盖所述凹槽;其中,形成第一无机阻挡层的方法包括原子层沉积镀膜方法(ALD)、化学气相沉积镀膜方法(CVD)或物理气相沉积镀膜方法(PVD)。
基于同一发明构思,本发明还提供一种显示装置,包括本发明提供的任意一种柔性显示面板
与现有技术相比,本发明提供的显示面板、其制作方法和显示装置,至少实现了如下的有益效果:
本发明提供的显示面板中,在现有显示面板的基础上,在阻隔物远离显示区一侧的无机绝缘层上设置了凹槽,并且使得无机阻挡层至少部分覆盖凹槽。相比于传统的显示面板,在边框区切割时或无机层在弯折时都会产生裂纹,但由于设置于无机绝缘层的凹槽能够释放开裂应力,使得裂纹在遇到凹槽时会停止扩散,由此避免了裂纹由边框区蔓延至显示区的缺陷,即凹槽通过释放开裂应力,起到了阻挡裂纹扩散的作用;并且无机阻挡层至少部分覆盖凹槽,将无机阻挡层向外延伸至无机绝缘层凹槽处,即使在凹槽处因膜层剥离导致了新的裂纹,由于无机阻挡层部分覆盖了凹槽,水汽和氧气也不会沿着裂纹进入到显示区,水汽和氧气也会被无机阻挡层阻挡,从而避免了水汽和氧气入侵显示面板。一方面,可以防止显示面板切割或无机绝缘层因为弯折产生的裂纹扩散现象,避免了裂纹由边框区蔓延至显示区的缺陷;另一方面,即使在凹槽处因膜层剥离导致了新的裂纹,无机阻挡层也能够进一步阻挡了水汽和氧气入侵显示面板,提高了显示面板的信赖性和寿命。
通过以下参照附图对本发明的示例性实施例的详细描述,本发明的其它特征及其优点将会变得清楚。
附图说明
图1为本发明实施提供的显示面板的一种可选的实施方式示意图;
图2为图1所示显示面板沿AA1的剖面示意图;
图3为本发明实施例提供的显示面板的一种可选的凹槽的示意图;
图4为本发明实施例提供的显示面板的另一种可选实施方式示意图;
图5为本发明实施例提供的显示面板的另一种可选实施方式示意图;
图6为本发明实施例提供的显示面板的另一种可选实施方式示意图;
图7为本发明实施例提供的显示面板的另一种可选实施方式示意图;
图8为本发明实施例提供的显示面板的制作方法的步骤流程图;
图9为本发明实施例提供的显示装置示意图。
具体实施方式
现在将参照附图来详细描述本发明的各种示例性实施例。应注意到:除非另外具体说明,否则在这些实施例中阐述的部件和步骤的相对布置、数字表达式和数值不限制本发明的范围。
以下对至少一个示例性实施例的描述实际上仅仅是说明性的,决不作为对本发明及其应用或使用的任何限制。
对于相关领域普通技术人员已知的技术、方法和设备可能不作详细讨论,但在适当情况下,所述技术、方法和设备应当被视为说明书的一部分。
在这里示出和讨论的所有例子中,任何具体值应被解释为仅仅是示例性的,而不是作为限制。因此,示例性实施例的其它例子可以具有不同的值。
应注意到:相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项,因此,一旦某一项在一个附图中被定义,则在随后的附图中不需要对其进行进一步讨论。
发明人发现现有的显示面板中,在边框区因切割易产生裂纹,无机绝缘层也因为频繁弯折而产生裂纹,产生的裂纹会向显示面板显示区扩展,同时,水汽会顺着裂纹渗透至显示区导致器件失效,影响了显示面板的信赖性和寿命。发明人经过深入研究,提供了一种显示面板,在现有显示面板的基础上,在阻隔物远离显示区一侧的无机绝缘层上设置了凹槽,并且使得无机阻挡层至少部分覆盖凹槽。一方面,可以防止显示面板切割或无机绝缘层因为弯折产生的裂纹扩散现象,通过凹槽释放开裂应力,防止裂纹向显示面板显示区扩散,避免了裂纹由边框区蔓延至显示区的缺陷;另一方面,即使在凹槽处因膜层剥离导致了新的裂纹,无机阻挡层也能够进一步阻挡了水汽和氧气入侵显示面板,提高了显示面板的信赖性和寿命。
图1为本发明实施提供的显示面板的一种可选的实施方式示意图。图2为图1所示显示面板沿AA1的剖面示意图。
如图1所示,显示面板包括:衬底基板100,具有显示区AA和非显示区NDA,其中,非显示区包括第一非显示区NDA1和第二非显示区NDA2;沿远离显示区AA的方向包括至少一阻隔物500,阻隔物500位于第一非显示区NDA1,第一非显示区NDA1围绕显示区AA,第二非显示区NDA2围绕第一非显示区NDA1;示例性的,本发明实施例提供的显示面板中均包括两个阻隔物,但本发明并不限定于此,继续参考图1,阻隔物500包括第一阻隔物501和第二阻隔物502,第一阻隔物501位于第二阻隔物502于显示区AA之间。
图2为图1所示的显示面板沿AA1的剖面图,如图2所示,显示面板包括衬底基板100,具有显示区AA和非显示区NDA,其中,非显示区包括第一非显示区NDA1和第二非显示区NDA2;沿远离显示区AA的方向包括至少一阻隔物500,阻隔物500位于第一非显示区NDA1,第一非显示区NDA1围绕显示区AA,第二非显示区NDA2围绕第一非显示区NDA1;显示功能层200(显示区AA部分未示出),位于衬底基板100之上,显示功能层200包括至少一个无机绝缘层201,至少一个无机绝缘层201分布在显示区AA、第一非显示区NDA1和第二非显示区NDA2,无机层绝缘层201在第二非显示区NDA2形成凹槽Z,第一无机阻挡层402部分覆盖凹槽Z;可选的,显示功能层包括阵列层和发光层,其中,阵列层包括多个薄膜晶体管,薄膜晶体管包括半导体有源层、栅电极、源电极、漏电极以及各个电极之间的绝缘层,发光层包括多个发光器件,发光器件可以为有机发光器件,包括阳极、发光层和阴极。参考图3,显示面板包括平坦化层300,采用平坦化层300能够平整显示器件的衬底基板上因各种不同膜层图案所造成的面内段差。显示面板还包括阻挡层,位于显示功能层200远离衬底基板100一侧,阻挡层至少包括第一无机阻挡层,第一无机阻挡层至少部分覆盖凹槽Z,可选的,显示面板包括封装结构,封装结构位于显示功能层远离衬底基板一侧,阻止水氧入侵显示面板,防止显示面板内部失效,从而提升显示面板的稳定性和寿命,封装结构包括阻挡层,即封装层复用为阻挡层。
继续参考图2,如图所示,显示面板包括封装结构400,封装结构400至少包括一无机层,本发明对封装结构400的无机层层数以及堆叠方式不做任何限定;示例性的,本发明实施例提供的显示面板的封装结构400包括第一无机层、有机层403和第二无机层,其中,第一无机层复用为第一无机阻挡层402,但是本发明不限定于此;第一无机阻挡层402部分覆盖凹槽Z,即第一无机阻挡层402的边缘截止位置位于凹槽内。
结合图1和图2,本发明通过在第二非显示区NDA2的无机绝缘层设置凹槽Z,无机绝缘层的凹槽Z能够释放开裂应力,使得裂纹在遇到凹槽Z时会停止扩散,由此避免了裂纹由边框区蔓延至显示区AA的缺陷,即凹槽Z通过释放开裂应力,起到了阻挡裂纹扩散的作用,提升了显示面板的信耐性和可靠性。同时,第一无机阻挡层402延伸至凹槽Z内,即部分覆盖凹槽Z,即使在边框区切割或无机层在弯折时产生裂纹,水汽和氧气也不会沿着裂纹进入到显示区,水汽和氧气也会被无机阻挡层阻挡,从而避免了水汽和氧气入侵显示面板。相比于现有技术,本发明提供的显示面板,一方面,可以防止显示面板切割或无机绝缘层因为弯折产生的裂纹扩散现象,避免了裂纹由边框区蔓延至显示区的缺陷;另一方面,即使在凹槽处因膜层剥离导致了新的裂纹,第一无机阻挡层也能够进一步阻挡了水汽和氧气入侵显示面板,提高了显示面板的信赖性和寿命。
需要说明的是,图2以及本申请中的其他膜层图,仅用于示意性的示出上述各膜层的一种相对位置关系,各膜层之间还可设置其他膜层,每个膜层根据实际功能可以是图案化的结构,也可以是整层结构,本申请对此并不进行限定。
可选的,无机绝缘层包括:依次设置的缓冲层、栅极绝缘层和层间绝缘层中的一层或几层;凹槽的底部位于缓冲层、栅极绝缘层和层间绝缘层其中任意一层或各膜层间交界处。
图3为本发明实施例提供的显示面板的一种可选的凹槽的示意图。如图3所示,无机绝缘层在第二非显示区包括依次设置的缓冲层、栅极绝缘层和层间绝缘层中的一层或几层,示例性的,本实施例中示出了无机绝缘层201包括第一无机绝缘层2011、第二无机绝缘层2012和第三无机绝缘层2013,但本发明对无机绝缘层201膜层层数不作限定。凹槽的底部可位于第一无机层2011、第二无机层2012和第三无机层2013或任意膜层间的交界处,可选的,凹槽的底部也可延伸至衬底基板100,需要说明的是,图3中凹槽的底部截止位置位于第二无机层2012,这仅仅是示例性的,本发明并不限定于此。本发明实施例对凹槽的底部不作任何限定,保证无机绝缘层的凹槽能够释放开裂应力,使得裂纹在遇到凹槽时会停止扩散,避免了裂纹由边框区蔓延至显示区的缺陷,同时,降低了凹槽蚀刻的工艺难度,提升了显示面板良率。
可选的,上述实施例并未对凹槽的形状做任何限定,凹槽在垂直于凹槽结构延伸的方向上的截面形状可为矩形、梯形或者弧形,本发明实施例提供的显示面板中的凹槽均为倒梯形,但实际情况可以根据显示面板的实际需要求来设置凹槽的形状,这种设置方式具有很强的灵活性。
可选的,第一无机阻挡层的厚度介于0.5μm到2μm之间,其中第一无机阻挡层的材料为SiNx或SiON。继续参考图2,第一无机阻挡层402厚度介于0.5μm到2μm之间,第一无机阻挡层402的材料为SiNx或SiON,第一无机阻挡层402沉积工艺为化学气相沉积镀膜方法(CVD)等。一方面由于工艺及设备条件限制膜层厚度受到限制,此外,当显示面板为柔性显示面板时,第一无机阻挡层厚度大于2微米,显示面板存在膜层剥离风险,不利于显示面板的弯折特性且易导致新的裂纹。另一方面,即使在凹槽处因膜层剥离导致了新的裂纹,无机阻挡层也能够进一步阻挡了水汽和氧气入侵显示面板,提高了显示面板的信赖性和寿命。
可选的,第一无机阻挡层的厚度介于30nm到100nm之间,其中第一无机阻挡层的材料为Al2O3。继续参考图2,第一无机阻挡层402厚度介于30nm到100nm之间,第一无机阻挡层402的材料为Al2O3,第一无机阻挡层402沉积工艺为原子层沉积镀膜方法(ALD)等,一方面由于工艺及设备条件限制了膜层厚度,另一方面介于此区间的第一无机阻挡层保证即使在凹槽处因膜层剥离导致了新的裂纹,无机阻挡层也能够进一步阻挡了水汽和氧气入侵显示面板,提高了显示面板的信赖性和寿命,并且能够保证当显示面板为柔性显示面板时,柔性显示面板具有良好的弯折特性。
图4为发明实施例提供的显示面板的另一种可选实施方式示意图,衬底基板100,具有显示区AA和非显示区NDA,其中,非显示区NDA包括第一非显示区NDA1和第二非显示区NDA2;阻隔物500包括第一阻隔物501和第二阻隔物502,位于第一非显示区NDA1,第一非显示区NDA1围绕显示区AA(图中未示出),第二非显示区NDA2围绕第一非显示区NDA1;平坦化层300和封装结构400,其中,封装结构400包括第一无机层、有机层403和第二无机层,其中,第一无机层复用为第一无机阻挡层402,第二无机阻挡层复用为第二无机阻挡401层,但是本发明不限定于此;第一无机阻挡层402和第二无机阻挡层401部分覆盖凹槽Z。与前述实施例不同的是本实施例提供的显示面板的阻挡层包括两层无机阻挡层第一无机阻挡层402和第二无机阻挡层401,使得显示面板的阻止水汽和氧气入侵显示面板效果更好,同时,降低了薄膜沉积的工艺难度,降低了生产成本。
可选的,第一无机阻挡层完全覆盖凹槽。可选的,第一无机阻挡层的厚度介于3nm到10nm之间,第一无机阻挡层沉积工艺为原子层沉积镀膜方法(ALD),第一无机阻挡层的材料为Al2O3。相比较于前述实施例,本实施例提供的显示面板的第一无机阻挡层的厚度较小,其中,第一无机阻挡层的厚度可以通过调控沉积工艺的沉膜时间,通过缩短第一无机层的沉膜时间,保证第一无机阻挡层具有较小的厚度。而当第一无机阻挡层402厚度介于3nm与10nm之间时,由于第一无机阻挡层的厚度较小,此时第一无机阻挡层不会因为弯折而产生膜层剥离而产生新的裂纹,故此时的第一无机阻挡层可以完全覆盖凹槽,同时,不影响凹槽通过释放开裂应力,起到了阻挡裂纹扩散的作用,以及水汽和氧气也不会入侵显示面板。
图5为本发明实施例提供的显示面板的另一种可选实施方式示意图。如图5所示,封装结构400第一无机层复用为第一无机阻挡层402,第一无机阻挡层完全覆盖凹槽Z,第一无机阻挡层402的厚度介于3nm到10nm之间,第一无机阻挡层的材料为Al2O3,第一无机阻挡层402沉积工艺为原子层沉积镀膜方法(ALD),其中,通过调控沉积工艺的沉膜时间来调整第一无机阻挡层的厚度,缩短膜层沉膜的时间使得第一无机阻挡层402的厚度介于3nm到10nm之间;此时第一无机阻挡层402厚度较小不会因为弯折而产生膜层剥离而产生新的裂纹,故此时的第一无机阻挡层402可以完全覆盖凹槽,同时,不影响凹槽通过释放开裂应力,起到了阻挡裂纹扩散的作用,以及水汽和氧气也不会入侵显示面板。
图6为本发明实施例提供的显示面板的另一种可选实施方式示意图。如图6所示,封装结构400第一无机层不覆盖凹槽,第二无机层复用为第二无机阻挡层401,无机阻挡层完全覆盖凹槽Z,第二无机阻挡层401的厚度介于3nm到10nm之间,无机阻挡层的材料为Al2O3,第二无机阻挡层401沉积工艺为原子层沉积镀膜方法(ALD),其中,通过调控沉积工艺的沉膜时间来调整第一无机阻挡层的厚度,缩短膜层沉膜的时间使得第二无机阻挡层401的厚度介于3nm到10nm之间;此时第二无机阻挡层401厚度较小不会因为弯折而产生膜层剥离而产生新的裂纹,故此时的第二无机阻挡层401可以完全覆盖凹槽,同时,不影响凹槽通过释放开裂应力,起到了阻挡裂纹扩散的作用,以及水汽和氧气也不会入侵显示面板。
需要说明的是,本发明实施例提供的显示面板中,凹槽分布于第二非显示区,但所有实施例中并未对凹槽个数做任何限定,只要从第一非显示区指向第二非显示区的方向上存在凹槽,以凹槽通过释放开裂应力,起到了阻挡裂纹扩散的作用,提升显示面板的信赖性;示例性的,前述实施例均以一个凹槽为示例做阐述,但本发明并不限定于此。
可选的,显示面板凹槽个数为两个或多个。
图7为本发明实施例提供的显示面板的另一种可选实施方式示意图。如图7所示,显示面板中第二非显示区包括凹槽Z,其中,凹槽Z包括第一凹槽Z1和第二凹槽Z2,其中第一阻挡层402完全覆盖第一凹槽Z1和部分覆盖第二凹槽。通过设置两个凹槽进一步释放开裂应力,使得裂纹在遇到凹槽时会停止扩散,由此避免了裂纹由边框区蔓延至显示区的缺陷,即凹槽通过释放开裂应力,起到了阻挡裂纹扩散的作用,提高了显示面板信赖性,同时,无机阻挡层向外延伸至无机绝缘层凹槽处,避免了水汽和氧气入侵显示面板,提高了显示面板的寿命。可选的,第一无机阻挡层覆盖的截止位置也可位于第一凹槽Z1或者第一凹槽Z1与第二凹槽Z2之间,只需要存在一个凹槽被第一无机阻挡层部分覆盖,就能够进一步防止水汽和氧气沿着裂纹方向进一步入侵,提高显示面板的稳定性和寿命。
基于同一发明构思,本发明还提供实施例还提供了一种显示面板的制作方法,用于制作本发明实施例提供的上述显示面板。图8为本发明实施例提供的显示面板的制作方法的步骤流程图。如图8所示,具体可以采用如下步骤实现:
S01,提供一衬底基板;
S02,在所提供的衬底基板之上制作显示功能层,其中,显示功能层包括依次沉积的无机绝缘层;
具体的,显示功能层包括阵列层和发光层,其中,发光层位于显示区。
S03,在第二非显示区的无机绝缘层,无机绝缘层远离衬底基板一侧,采用半色调掩膜工艺制作凹槽,利用光刻或干刻等工艺刻蚀形成凹槽;
S04,在无机绝缘层远离衬底基板一侧制作阻挡层,阻挡层至少包括第一无机阻挡层,形成的第一无机阻挡层部分覆盖上述凹槽,即第一无机阻挡层的截止边缘位于上述凹槽中,或第一无机阻挡层完全覆盖上述凹槽。
具体的,步骤S04在形成第一无机阻挡层可以采用多种工艺,包括原子层沉积镀膜方法(ALD)、化学气相沉积镀膜方法(CVD)或物理气相沉积镀膜方法(PVD),其中,采用半色调掩膜工艺沉膜形成无机阻挡层。
本发明还提供一种显示装置,图9为本发明实施例提供的显示装置示意图。如图9所示,显示装置包括本发明任一实施例提供的显示面板。本发明提供的显示装置包括但不限于以下类别:电视机、笔记本电脑、桌上型显示器、平板电脑、数码相机、手机、只能手环、智能眼镜、车载显示器、医疗设备、照明显示、工控设备、触摸交互终端等。
通过上述实施例可知,本发明提供的显示面板、其制作方法和显示装置,至少实现了如下的有益效果:
本发明提供的显示面板中,在现有显示面板的基础上,在阻隔物远离显示区一侧的无机绝缘层上设置了凹槽,并且使得无机阻挡层至少部分覆盖凹槽。相比于传统的显示面板,在边框区在切割时或无机层在弯折时都会产生裂纹,但由于设置于无机绝缘层的凹槽能够释放开裂应力,使得裂纹在遇到凹槽时会停止扩散,由此避免了裂纹由边框区蔓延至显示区的缺陷,即凹槽通过释放开裂应力,起到了阻挡裂纹扩散的作用;并且无机阻挡层至少部分覆盖凹槽,将无机阻挡层向外延伸至无机绝缘层凹槽处,即使在边框区在切割或无机层在弯折时产生裂纹,水汽和氧气也不会沿着裂纹进入到显示区,水汽和氧气也会被无机阻挡层阻挡,从而避免了水汽和氧气入侵显示面板。一方面,可以防止显示面板切割或无机绝缘层因为弯折产生的裂纹扩散现象,避免了裂纹由边框区蔓延至显示区的缺陷;另一方面,即使在凹槽处因膜层剥离导致了新的裂纹,无机阻挡层也能够进一步阻挡了水汽和氧气入侵显示面板,提高了显示面板的信赖性和寿命。
以上内容是结合具体的优选实施方式对本发明所作的进一步详细说明,不能认定本发明的具体实施只局限于这些说明。对于本发明所属技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明构思的前提下,还可以做出若干简单推演或替换,都应当视为属于本发明的保护范围。
Claims (11)
1.一种显示面板,其特征在于,包括,
衬底基板,具有显示区和非显示区,所述非显示区包括第一非显示区和第二非显示区;
沿远离所述显示区的方向包括至少一阻隔物,所述阻隔物位于所述第一非显示区,所述第一非显示区围绕所述显示区,所述第二非显示区围绕所述第一非显示区;
显示功能层,位于所述衬底基板之上,所述显示功能层包括至少一个无机绝缘层;至少一个所述无机绝缘层分布在所述显示区、所述第一非显示区和所述第二非显示区;所述无机层绝缘层在所述第二非显示区形成凹槽;
阻挡层,位于所述显示功能层远离所述衬底基板一侧,所述阻挡层至少包括第一无机阻挡层;所述第一无机阻挡层至少部分覆盖所述凹槽。
2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,
所述无机绝缘层包括:依次设置的缓冲层、栅极绝缘层和层间绝缘层中的一层或几层;所述凹槽的底部位于所述缓冲层、所述栅极绝缘层和所述层间绝缘层其中任意一层或各膜层间交界处。
3.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,
所述显示面板包括封装结构;
所述封装结构包括所述阻挡层。
4.根据权利要求3所述的显示面板,其特征在于,
所述第一无机阻挡层部分覆盖所述凹槽。
5.根据权利要求4所述的显示面板,其特征在于,
所述第一无机阻挡层的厚度介于0.5μm到2μm之间;所述第一无机阻挡层的材料为SiNx或SiON。
6.根据权利要求4所述的显示面板,其特征在于,
所述第一无机阻挡层的厚度介于30nm到100nm之间;
所述第一无机阻挡层的材料为Al2O3。
7.根据权利要求3所述的显示面板,其特征在于,
所述第一无机阻挡层完全覆盖所述凹槽。
8.根据权利要求7所述的显示面板,其特征在于,
所述第一无机阻挡层的厚度介于3nm到10nm之间;
所述第一无机阻挡层的材料为Al2O3。
9.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,
所述凹槽在垂直于所述凹槽结构延伸的方向上的截面形状为矩形、梯形或弧形。
10.一种显示面板的制作方法,其特征在于,包括,
提供一衬底基板,具有显示区和非显示区,所述非显示区包括第一非显示区和第二非显示区,所述第一非显示区围绕所述显示区设置,所述第二非显示区围绕所述第一非显示区并远离所述显示区;
在所述衬底基板一侧制作一显示功能层,所述显示功能层包括至少一个无机绝缘层;
在所述第二非显示区,采用刻蚀工艺,对所述无机绝缘层远离所述衬底基板一侧将所述无机绝缘层刻蚀至一定深度形成凹槽;
在所述无机绝缘层远离所述衬底基板一侧制作阻挡层,所述阻挡层至少包括第一无机阻挡层,所述第一无机阻挡层至少部分覆盖所述凹槽;其中,形成所述第一无机阻挡层的方法包括原子层沉积镀膜方法(ALD)、化学气相沉积镀膜方法(CVD)或物理气相沉积镀膜方法(PVD)。
11.一种显示装置,其特征在于,包括如权利要求1-10任一项所述的显示面板。
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CN201811641959.8A CN109728196B (zh) | 2018-12-29 | 2018-12-29 | 显示面板、其制作方法和显示装置 |
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