CN109656055A - 阵列基板及制作方法、显示面板、显示装置、显示系统 - Google Patents

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Abstract

本申请实施例提供了一种阵列基板及制作方法、显示面板、显示装置、显示系统，该阵列基板包括：衬底基板、位于衬底基板一侧的反射层；反射层包括：若干个微胶囊；每个微胶囊包括：若干个吸收粒子和若干个反射粒子；吸收粒子为磁性粒子，用于吸收光线；反射粒子为非磁性粒子，用于反射光线。本申请实施例中，不需要持续供电即可实现正常的显示功能和手写功能，提高了用户使用体验，同时，与现有技术相比，制作工艺简单，节约制作成本。

Description

阵列基板及制作方法、显示面板、显示装置、显示系统
技术领域
本申请涉及显示技术领域，具体而言，本申请涉及一种阵列基板及制作方法、显示面板、显示装置、显示系统。
背景技术
反射式液晶显示面板通过设置反射层反射外界环境的光线来照亮整个液晶显示面板，不需要提供背光模组，达到省电节能的效果，目前的反射式液晶显示面板中的反射层，一般采用金属材料制成反射层，例如，银或铝，实现对外界环境光线的反射。
然而，本申请的发明人经过研究发现，在反射式液晶显示面板上实现手写功能时，一般需要添加手写触控模组，例如，电阻触摸膜片或电容触摸膜片等，手写触控模组的制作工艺复杂，成本较高，并且，手写触控模组往往需要持续供电驱动液晶分子进行状态调整，在没有持续供电或供电不足时，手写及显示效果不佳，降低了用户的使用体验。
发明内容
本申请针对现有方式的缺点，提出一种阵列基板及制作方法、显示面板、显示装置、显示系统，用以解决现有技术存在添加手写触控模组的制作工艺复杂，成本较高，以及在没有持续供电或供电不足时，手写及显示效果不佳的技术问题。
第一个方面，本申请实施例提供了一种阵列基板，包括：衬底基板、位于衬底基板一侧的反射层；
反射层包括：若干个微胶囊；
每个微胶囊包括：若干个吸收粒子和若干个反射粒子；
吸收粒子为磁性粒子，用于吸收光线；
反射粒子为非磁性粒子，用于反射光线。
可选地，吸收粒子包括：纳米磁性层和非磁性粒子；纳米磁性层包覆于非磁性粒子表面。
可选地，吸收粒子的颜色为黑色，反射粒子的颜色为白色，纳米磁性层的颜色为黑色。
可选地，纳米磁性层的材料包括：四氧化三铁。
可选地，吸收粒子与反射粒子的数量相等。
第二个方面，本申请实施例提供了一种显示面板，该显示面板包括：如第一方面提供的阵列基板，以及与阵列基板对盒设置的彩膜基板；其中，反射层位于衬底基板远离彩膜基板的一侧。
可选地，该显示面板还包括：依次位于彩膜基板远离阵列基板一侧的散射膜、四分之一波片、半波片、及偏光片。
第三个方面，本申请实施例提供了一种显示装置，该显示装置包括：如第二方面提供的显示面板，以及磁场产生装置；
磁场产生装置位于反射层远离彩膜基板的一侧。
可选地，磁场产生装置包括：第一导电线圈、第一电源和第一开关；
第一导电线圈与第一电源及第一开关串联连接，且第一导电线圈在衬底基板上的正投影区域与反射层在衬底基板上的正投影区域完全重叠。
第四个方面，本申请实施例提供了一种显示系统，该显示系统包括：如第三方面提供的显示装置和用于在显示面板表面进行书写操作的触控笔。
可选地，触控笔包括：笔芯、第二导电线圈、第二电源和第二开关；
第二导电线圈与第二电源及第二开关串联连接，且第二导电线圈缠绕于笔芯周围。
可选地，磁场产生装置包括第一导电线圈，第二导电线圈产生的磁场强度小于第一导电线圈产生的磁场强度。
第五个方面，本申请实施例提供了一种阵列基板的制作方法，该阵列基板的制作方法包括：
提供一衬底基板，在衬底基板一侧制作包括若干个微胶囊的反射层；其中：
每个微胶囊包括：若干个反射粒子和若干个吸收粒子；
吸收粒子为磁性粒子，用于吸收光线；
反射粒子为非磁性粒子，用于反射光线。
可选地，在衬底基板一侧制作包括若干个微胶囊的反射层，包括：
提供一保护基板，保护基板与衬底基板相对设置；
在衬底基板和保护基板内部封装墨水层，墨水层中分布有若干微胶囊，每一微胶囊中封装有若干个反射粒子和若干个吸收粒子。
可选地，若干个吸收粒子的制作方法包括：
在非磁性粒子表面沉积纳米磁性层，纳米磁性层的颜色为黑色。
本申请实施例提供的技术方案带来的有益技术效果包括：
本申请实施例提供的阵列基板，包括位于衬底基板一侧的反射层，反射层包括若干个微胶囊，每个微胶囊包括：若干个吸收粒子和若干个反射粒子，当将本申请实施例提供的阵列基板放置在外置磁场产生装置的上方，并使得反射层靠近外置磁场产生装置时，当外置磁场产生装置产生磁场时，可以吸引吸收粒子，进而使得靠近衬底基板的一侧全部为反射粒子，远离衬底基板的一侧全部为吸收粒子，光线从阵列基板上方的任何位置入射时，反射粒子可以将光线进行反射，可以实现包含该阵列基板的显示面板正常的显示及反射功能；当外置磁场产生装置不产生磁场时，可以利用具有磁性的书写装置，在包含该阵列基板的显示面板的表面进行书写操作，在书写位置处，书写装置利用自身的磁性将吸收粒子吸引至靠近衬底基板的一侧，反射粒子位于远离衬底基板的一侧，在该位置处，外界入射的光线不能形成反射，则在显示面板相应位置处形成暗态，可以实现包含该阵列基板的显示面板的书写功能；本申请实施例不需要持续供电即可实现正常的显示功能和手写功能提高了用户使用体验，同时，与现有技术相比，制作工艺简单，节约制作成本。
本申请附加的方面和优点将在下面的描述中部分给出，这些将从下面的描述中变得明显，或通过本申请的实践了解到。
附图说明
本申请上述的和/或附加的方面和优点从下面结合附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：
图1为本申请实施例提供的一种阵列基板的结构示意图；
图2为本申请实施例提供的一种吸收粒子的剖面结构示意图；
图3为本申请实施例提供的一种显示面板的结构示意图；
图4为本申请实施例提供的另一种显示面板的结构示意图；
图5为本申请实施例提供的一种显示装置的结构示意图；
图6为本申请实施例提供的一种磁场产生装置的结构示意图；
图7为本申请实施例提供的一种显示系统的结构示意图；
图8为本申请实施例提供的一种触控笔的结构示意图；
图9a-图9g为本申请实施例提供的一种显示面板的不同制作过程中的结构示意图。
附图标记说明：
10-阵列基板、101-衬底基板、102-反射层、201-微胶囊、2011-吸收粒子、2012-反射粒子、2013-纳米磁性层、2014-非磁性粒子、20-彩膜基板、30-散射膜、40-四分之一波片、50-半波片、60-偏光片、300-显示面板、400-磁场产生装置、500-显示装置、601-第一导电线圈、602-第一电源、603-第一开关、700-触控笔、701-笔芯、702-第二导电线圈、703-第二电源、704-第二开关、901-第一封框胶、902-液晶、903-液晶层、904-第二封框胶、905-墨水层和906-保护基板。
具体实施方式
下面详细描述本申请，本申请的实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的部件或具有相同或类似功能的部件。此外，如果已知技术的详细描述对于示出的本申请的特征是不必要的，则将其省略。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本申请，而不能解释为对本申请的限制。
本技术领域技术人员可以理解，除非另外定义，这里使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)，具有与本申请所属领域中的普通技术人员的一般理解相同的意义。还应该理解的是，诸如通用字典中定义的那些术语，应该被理解为具有与现有技术的上下文中的意义一致的意义，并且除非像这里一样被特定定义，否则不会用理想化或过于正式的含义来解释。
首先对本申请涉及的几个名词进行介绍和解释：
微胶囊：用涂层薄膜或壳材料封存微小的固体颗粒、液滴或气泡的微型容器或包装物。
目前，为了实现显示面板的手写功能，往往需要在显示面板表面添加手写触控模组，该手写触控模组需要持续的供电来驱动液晶分子进行调整来显示相应的画面，在没有持续供电或供电不足的情况下，手写及显示效果不佳，降低了用户使用体验，并且，手写触控模组的制作工艺复杂，成本较高。
本申请提供的阵列基板及制作方法、显示面板、显示装置、显示系统，旨在解决现有技术的如上技术问题。
下面以具体地实施例对本申请的技术方案以及本申请的技术方案如何解决上述技术问题进行详细说明。
本申请实施例提供了一种阵列基板，图1为本申请实施例提供的一种阵列基板的结构示意图，如图1所示，该阵列基板10包括：衬底基板101、位于衬底基板101一侧的反射层102。
反射层102包括：若干个微胶囊201；每个微胶囊201包括：若干个吸收粒子2011和若干个反射粒子2012；吸收粒子2011为磁性粒子，用于吸收光线；反射粒子2012为非磁性粒子，用于反射光线。
需要说明的是，在每次使用前，可以将阵列基板10放置在外置磁场产生装置的上方，并使得反射层靠近外置磁场产生装置，对位于阵列基板10下方的外置磁场产生装置进行通电，产生磁场，由于吸收粒子2011为磁性粒子，吸收粒子2011被磁场吸引，位于远离衬底基板101的一侧，而反射粒子2012不受磁场影响，被吸收粒子2011排挤至靠近衬底基板101的一侧，反射粒子2012将吸收粒子2011完全遮挡，这样，靠近衬底基板101的一侧全部为反射粒子2012，远离衬底基板101的一侧全部为吸收粒子2011，光线从阵列基板10上方的任何位置入射时，反射粒子2012可以将光线进行反射，可以实现包含该阵列基板10的显示面板正常的显示及反射功能。
当位于阵列基板10下方的外置磁场产生装置处于断电状态，不产生磁场时，可以利用具有磁性的书写装置(例如触控笔)，在包含该阵列基板10的显示面板的表面进行书写操作，在书写位置处，书写装置利用自身的磁性将吸收粒子2011吸引至靠近衬底基板101的一侧，反射粒子2012位于远离衬底基板101的一侧，此时，吸收粒子2011对其对应位置的反射粒子2012进行遮挡，因此，在该位置处，外界入射的光线不能形成反射，则在显示面板相应位置处形成暗态，可以实现包含该阵列基板10的显示面板的书写功能。同时，可以通过对外置磁场产生装置进行通电，实现书写后的擦除功能。
本申请实施例提供的阵列基板，包括位于衬底基板一侧的反射层，反射层包括若干个微胶囊，每个微胶囊包括：若干个吸收粒子和若干个反射粒子，当将本申请实施例提供的阵列基板放置在外置磁场产生装置的上方，并使得反射层靠近外置磁场产生装置时，当外置磁场产生装置产生磁场时，可以吸引吸收粒子，进而使得靠近衬底基板的一侧全部为反射粒子，远离衬底基板的一侧全部为吸收粒子，光线从阵列基板上方的任何位置入射时，反射粒子可以将光线进行反射，可以实现包含该阵列基板的显示面板正常的显示及反射功能；当外置磁场产生装置不产生磁场时，可以利用具有磁性的书写装置，在包含该阵列基板的显示面板的表面进行书写操作，在书写位置处，书写装置利用自身的磁性将吸收粒子吸引至靠近衬底基板的一侧，反射粒子位于远离衬底基板的一侧，在该位置处，外界入射的光线不能形成反射，则在显示面板相应位置处形成暗态，可以实现包含该阵列基板的显示面板的书写功能；本申请实施例不需要持续供电即可实现正常的显示功能和手写功能，提高了用户使用体验，同时，与现有技术相比，制作工艺简单，节约制作成本。
基于上述实施例提供的阵列基板，本申请实施例将结合附图对上述阵列基板进行进一步详细描述。
图2为本申请实施例提供的一种吸收粒子的剖面结构示意图，如图2所示，吸收粒子2011包括：纳米磁性层2013和非磁性粒子2014；纳米磁性层2013包覆于非磁性粒子2014表面；纳米磁性层2013的颜色为黑色。
需要说明的是，纳米磁性层2013包覆于非磁性粒子2014表面，使得整个吸收粒子2011具有磁性，可以被磁场吸引，为了实现光线吸收作用，纳米磁性层2013的颜色可以为黑色。
可选地，吸收粒子2011的颜色为黑色，反射粒子2012的颜色为白色，纳米磁性层2013的颜色为黑色。
需要说明的是，颜色相对较深的物体可以将照射到其表面的光线进行吸收，颜色相对较浅的物体可以将照射到其表面的光线进行反射，为了得到更好的吸收光线与反射光线的效果，吸收粒子2011的颜色可以为黑色，反射粒子2012的颜色可以为白色，纳米磁性层2013的颜色可以为黑色，并且，黑色与白色的色差较大，使得显示效果更加明显。
可选地，纳米磁性层2013的材料包括：四氧化三铁(Fe3O4)。
需要说明的是，四氧化三铁颜色为黑色，可以更好的对光线进行吸收，并且，四氧化三铁的获得方式较为简单，节约了制作成本。
可选地，吸收粒子2011与反射粒子2012的数量相等。
需要说明的是，微胶囊201内填充满吸收粒子2011和反射粒子2012，吸收粒子2011与反射粒子2012的数量相等，吸收粒子2011被磁场吸引后，相应的位置，可以被反射粒子2012填充，避免了粒子之间的空隙造成的漏光。
基于同一发明构思，本申请实施例提供了一种显示面板，图3为本申请实施例提供的一种显示面板的结构示意图，如图3所示，该显示面板300包括如上述实施例提供的阵列基板10，以及与阵列基板10对盒设置的彩膜基板20；其中反射层102位于衬底基板101远离彩膜基板20的一侧。
需要说明的是，为了避免阵列基板10与彩膜基板20之间的厚度过厚，可以使反射层102位于衬底基板101远离彩膜基板20的一侧，有效减少厚度，提高显示效果。
图4为本申请实施例提供的另一种显示面板的结构示意图，如图4所示，该显示面板300还包括：依次位于彩膜基板20远离阵列基板10一侧的散射膜30、四分之一波片40、半波片50、及偏光片60。
需要说明的是，可以将散射膜30、四分之一波片40、半波片50、及偏光片60集成为一层膜，将该层膜贴附于彩膜基板20上，减小膜层厚度，达到更好的显示效果。
下面简单介绍本申请实施例提供的显示面板的显示原理：
如图4所示，外界自然光从阵列基板10上方入射，光线经过偏光片60形成具有第一方向的线偏振光，具有第一方向的线偏振光经过半波片50，具有第一方向的线偏振光进行旋转指定的角度，形成具有第二方向的线偏振光，具有第二方向的线偏振光经过四分之一波片40，形成圆偏振光，再经过散射膜30入射至反射层102。当吸收粒子2011位于反射层102的上方时，吸收粒子2011将光线吸收，不形成反射。当反射粒子2012位于反射层102的上方时，反射粒子2012对光线进行反射。经过反射层102反射的圆偏振光入射至彩膜基板20，光线呈现相应的颜色后，经过彩膜基板20入射至散射膜30，光线进行散射变得更加均匀。圆偏振光经过四分之一波片40形成具有与第二方向相同的线偏振光，具有与第二方向相同的线偏振光经过半波片50，恢复至具有与第一方向相同的线偏振光，并经过偏光片60出射，实现反射型显示面板的显示。
基于同一发明构思，本申请实施例提供了一种显示装置，图5为本申请实施例提供的一种显示装置的结构示意图，如图5所示，该显示装置500包括：上述实施例提供的显示面板300，以及磁场产生装置400，磁场产生装置400位于反射层102远离彩膜基板20的一侧。
需要说明的是，磁场产生装置400可以通电产生磁场，对吸收粒子2011进行吸引，实现显示及手写功能。
图6为本申请实施例提供的一种磁场产生装置的结构示意图，如图6所示，该磁场产生装置400包括：第一导电线圈601、第一电源602和第一开关603。
第一导电线圈601与第一电源602及第一开关603串联连接，且第一导电线圈601在衬底基板101上的正投影区域与反射层102在衬底基板101上的正投影区域完全重叠。
需要说明的是，第一导电线圈601在衬底基板101上的正投影区域与反射层102在衬底基板101上的正投影区域完全重叠，保证阵列基板10包括的所有的吸收粒子2011可以被磁场产生装置400产生的磁场吸引，提高显示效果。
基于同一发明构思，本申请实施例提供了一种显示系统，图7为本申请实施例提供的一种显示系统的结构示意图，如图7所示，该显示系统包括上述实施例提供的显示装置500和用于在显示面板300表面进行书写操作的触控笔700。
下面详细介绍一下本申请实施例中的显示系统的具体工作过程。
在每次使用前，磁场产生装置400会提前通电，产生磁场，由于吸收粒子2011具有磁性，吸收粒子2011被磁场吸引，位于靠近磁场产生装置400的一侧，反射粒子2012不受磁场影响，位于远离磁场产生装置400的一侧，此时显示面板任何位置均可以反射光线，外界环境光源充足的情况下，显示面板的显示内容由阵列基板对像素点的液晶偏转方向控制实现；在磁场产生装置400持续产生磁场的情况下，即使触控笔700在显示面板表面书写操作，显示内容不会随触控笔700书写而变化，显示面板可实现正常的显示功能。
当磁场产生装置处于断电状态时，不产生磁场，且显示面板处于通电状态时，触控笔700在显示面板表面书写操作，触控笔700书写位置吸收粒子2011被触控笔700产生的磁场吸引至靠近触控笔700的一侧，此时反射粒子2012位于远离触控笔700的一侧，这种情况下，反射粒子2012被吸收粒子2011遮挡，即使显示面板处于通电状态，液晶处于偏转状态，书写位置处也无法反射出外部光线，可实现显示面板的书写操作，书写内容可通过磁场产生装置通电来擦除。
当磁场产生装置处于断电状态时，不产生磁场，且显示面板也处于断电状态时，触控笔700在显示面板表面书写操作时，反射粒子2012被吸收粒子2011遮挡，书写位置处无法反射出外部光线，可实现显示面板断电时的书写操作，书写内容可通过磁场产生装置通电来擦除。
图8为本申请实施例提供的一种触控笔的结构示意图，如图8所示，该触控笔700包括：笔芯701、第二导电线圈702、第二电源703和第二开关704。
第二导电线圈702与第二电源703及第二开关704串联连接，且第二导电线圈702缠绕于笔芯701周围。
需要说明的是，第二电源703可以为第二导电线圈702提供电流，使得第二导电线圈702在电流的驱动下产生磁场，并将磁场通过笔芯701传导，对具有磁性的粒子进行吸引。
可选地，磁场产生装置400包括第一导电线圈601，第二导电线圈702产生的磁场强度小于第一导电线圈601产生的磁场强度。
需要说明的是，在磁场产生装置400持续通电时，第二导电线圈702产生的磁场强度小于第一导电线圈601产生的磁场强度，磁场产生装置400更容易吸引具有磁性的黑色吸收粒子2011，使得触控笔700对吸收粒子2011的吸引不起作用，磁场产生装置400可以将吸收粒子2011吸引至反射层102底部，实现显示面板正常的显示及反射功能。
可选地，笔芯701可以采用软铁材料制成。
基于同一发明构思，本申请实施例提供了一种阵列基板的制作方法，该制作方法包括：提供一衬底基板，在衬底基板一侧制作包括若干个微胶囊的反射层；其中：每个微胶囊包括：若干个反射粒子和若干个吸收粒子；吸收粒子为磁性粒子，用于吸收光线；反射粒子为非磁性粒子，用于反射光线。
可选地，上述在衬底基板一侧制作包括若干个微胶囊的反射层，包括：
提供一保护基板，保护基板与衬底基板相对设置；在衬底基板和保护基板内部封装墨水层，墨水层中分布有若干微胶囊，每一微胶囊中封装有若干个反射粒子和若干个吸收粒子。
可选地，上述若干个吸收粒子的制作方法包括：
在非磁性粒子表面沉积纳米磁性层，纳米磁性层的颜色为黑色。
具体实施时，非磁性粒子可以为黑色粒子，在黑色粒子表面采用化学镀方法进行纳米磁性层的沉积，纳米磁性层的颜色为黑色。当然，实际制作过程中，纳米磁性层的颜色也可以不是黑色，这时需要再采用化学镀方式在纳米磁性层表面沉积颜色为黑色的颜色涂层。
图9a-图9g为本申请实施例提供的一种显示面板的制作方法，下面结合附图详细介绍包括本申请实施例提供的阵列基板的显示面板的制作方法。
如图9a所示，首先，制作一阵列基板10，阵列基板10各膜层的制作方法与常规反射型液晶显示面板的阵列基板的各膜层的制作方法相同，这里不再赘述。
接着，如图9b所示，在阵列基板10四周涂覆第一封框胶901，第一封框胶901的具体涂覆方法与现有技术相同，这里不再赘述。
接着，如图9c所示，在第一封框胶901构成的空间内注入液晶902，形成液晶层903，液晶902的具体注入方法与现有技术相同，这里不再赘述。
接着，如图9d所示，制作彩膜基板20，并将彩膜基板20与阵列基板10对盒，彩膜基板20的具体制作方法，以及对盒的具体方法均与现有技术相同，这里不再赘述。
接着，如图9e所示，在阵列基板10远离彩膜基板20的一侧的四周涂覆第二封框胶904，第二封框胶904的具体涂覆方法可以与第一封框胶901的涂覆方法相同。
接着，如图9f所示，在第二封框胶904构成的空间内制作墨水层905，墨水层905中分布有若干微胶囊201，每一微胶囊中封装有若干个反射粒子2012和若干个吸收粒子2011。
接着，如图9g所示，将阵列基板10、墨水层905和保护基板906通过粘贴工艺进行封装，本申请实施例中的保护基板906可以为透明基板，也可以为非透明基板。
本技术领域技术人员可以理解，在本申请的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。
术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本发明的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。
在本申请的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
以上所述仅是本申请的部分实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本申请原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本申请的保护范围。

Claims (15)

1.一种阵列基板，其特征在于，包括：衬底基板、位于所述衬底基板一侧的反射层；
所述反射层包括：若干个微胶囊；
每个所述微胶囊包括：若干个吸收粒子和若干个反射粒子；
所述吸收粒子为磁性粒子，用于吸收光线；
所述反射粒子为非磁性粒子，用于反射光线。
2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述吸收粒子包括：纳米磁性层和非磁性粒子；所述纳米磁性层包覆于所述非磁性粒子表面。
3.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述吸收粒子的颜色为黑色，所述反射粒子的颜色为白色，所述纳米磁性层的颜色为黑色。
4.根据权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，所述纳米磁性层的材料包括：四氧化三铁。
5.根据权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，所述吸收粒子与所述反射粒子的数量相等。
6.一种显示面板，其特征在于，包括如权利要求1-5任一项所述的阵列基板，以及与阵列基板对盒设置的彩膜基板；其中，所述反射层位于所述衬底基板远离所述彩膜基板的一侧。
7.根据权利要求6所述的显示面板，其特征在于，还包括：依次位于彩膜基板远离阵列基板一侧的散射膜、四分之一波片、半波片、及偏光片。
8.一种显示装置，其特征在于，包括：如权利要求6或7所述显示面板，以及磁场产生装置；
所述磁场产生装置位于所述反射层远离所述彩膜基板的一侧。
9.根据权利要求8所述的显示装置，其特征在于，所述磁场产生装置包括：第一导电线圈、第一电源和第一开关；
所述第一导电线圈与所述第一电源及所述第一开关串联连接，且所述第一导电线圈在所述衬底基板上的正投影区域与所述反射层在所述衬底基板上的正投影区域完全重叠。
10.一种显示系统，其特征在于，包括如权要求8或9所述的显示装置和用于在所述显示面板表面进行书写操作的触控笔。
11.根据权利要求10所述的显示系统，其特征在于，所述触控笔包括：笔芯、第二导电线圈、第二电源和第二开关；
所述第二导电线圈与所述第二电源及所述第二开关串联连接，且所述第二导电线圈缠绕于所述笔芯周围。
12.根据权利要求11所述的显示系统，其特征在于，所述磁场产生装置包括第一导电线圈，所述第二导电线圈产生的磁场强度小于所述第一导电线圈产生的磁场强度。
13.一种阵列基板的制作方法，其特征在于，包括：
提供一衬底基板，在衬底基板一侧制作包括若干个微胶囊的反射层；其中：
每个所述微胶囊包括：若干个反射粒子和若干个吸收粒子；
所述吸收粒子为磁性粒子，用于吸收光线；
所述反射粒子为非磁性粒子，用于反射光线。
14.根据权利要求13所述的阵列基板的制作方法，其特征在于，所述在衬底基板一侧制作包括若干个微胶囊的反射层，包括：
提供一保护基板，所述保护基板与所述衬底基板相对设置；
在所述衬底基板和所述保护基板内部封装墨水层，所述墨水层中分布有若干微胶囊，每一微胶囊中封装有若干个反射粒子和若干个吸收粒子。
15.根据权利要求14所述的阵列基板的制作方法，其特征在于，所述若干个吸收粒子的制作方法包括：
在非磁性粒子表面沉积纳米磁性层，所述纳米磁性层的颜色为黑色。
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