CN113589594A - 显示面板及其制备方法 - Google Patents

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Abstract

本申请公开了一种显示面板及其制备方法，所述显示面板的制备方法包括以下步骤：提供一基板，所述基板包括显示区以及绑定区，且在所述基板内设有磁性复合结构；在所述基板的一侧对应于所述绑定区的位置放置磁探针；以及在所述基板的上表面滴加液滴，控制所述磁探针开启，使得所述磁探针与所述磁性复合结构之间相互作用，进而在所述基板的上表面形成均匀厚度的配向膜。

Description

显示面板及其制备方法
技术领域
本申请涉及显示领域，具体涉及一种显示面板及其制备方法。
背景技术
PS-VA(polymer stabilized vertical alignment)是TFT-LCD的一种技术。在PS-VA的成盒制程中，需要在彩膜基板和阵列基板上涂布聚酰亚胺配向膜，所述配向膜起着控制液晶分子排列方向的作用。高性能的配向膜层结构，需要具备良好的印刷性，要求聚酰亚胺液体能在基板上流平，在加热后能形成厚度均一的薄膜。
喷墨印刷方式是一种非接触的聚酰亚胺液体印刷方式，储罐中的聚酰亚胺液体在压力作用下到达喷头部分，在脉冲电压控制下，喷头上的一排细细的喷口喷吐出皮升(pL)量级的小液滴。根据事先设定的液滴涂布点阵，小液滴喷涂在整个基板上，再经过预固化和主固化，最后形成配向膜。整个喷墨印刷方式中小液滴都依靠和基板间的浸润作用，小液滴间融合形成湿膜。
喷墨印刷方式中滴下的聚酰亚胺液体呈微滴状，仍具有很强的流动性，所以在未固化之前的形态对配向膜的影响很大。而在某些情况下，由于聚酰亚胺组分搭配性或者聚酰亚胺溶剂系统等的原因，会出现边缘直线性差导致各种不良状况出现，如聚酰亚胺液体流动不均，配向膜边缘膜厚不均，显示区周边显示不均、边缘漏光等，而如果在相关区域设置挡墙的话，也有出项聚酰亚胺液体回流的风险。随着未来高阶机种向超窄边框发展，边框区域宽度进一步被压缩，边框区域设计变得进一步复杂，并且市场高阶机种占比越来越大，精细控制聚酰亚胺液体涂布精度的必要性越来愈突出。
发明内容
本申请的目的在于，提供一种显示面板及其制备方法，可以解决现有的聚酰亚胺液体涂布精度不高的技术问题。
为实现上述目的，本发明提供一种显示面板的制备方法，包括以下步骤：提供一基板，所述基板包括显示区以及绑定区，且在所述基板内设有磁性复合结构；在所述基板的一侧对应于所述绑定区的位置放置磁探针；以及在所述基板的上表面滴加液滴，控制所述磁探针开启，使得所述磁探针与所述磁性复合结构之间相互作用，进而在所述基板的上表面形成均匀厚度的配向膜。
进一步地，所述在所述基板的上表面滴加液滴，控制所述磁探针开启的步骤包括：采用喷墨打印的方式在所述磁性复合结构上滴加液滴；将所述磁探针放置于任意两个所述液滴之间空隙处的下方，并控制所述磁探针开启，所述磁探针与所述磁性复合结构之间相互作用，在所述磁性复合结构的表面形成凹槽，所述液滴延伸至所述凹槽内，控制所述磁探针关闭后，所述磁性复合结构恢复成平整面，使得所述液滴均匀分布。
进一步地，控制所述磁探针开启时，所述磁探针与所述磁性复合结构相互作用，所述磁性复合结构发生形变时，所述液滴所在磁性复合结构与水平面之间的倾斜角度为0～2°。
进一步地，所述磁性复合结构的制备步骤包括以下步骤：在所述基板的上表面制备出驱动反馈层；在驱动反馈层的上表面制备出磁响应层；以及在所述磁响应层的上表面制备出润滑层。
进一步地，在所述基板的上表面制备出驱动反馈层包括以下步骤：将聚二甲基硅氧烷基体与交联剂放置于真空腔体中进行真空脱泡；以及将所述聚二甲基硅氧烷基体与所述交联剂以50:1的比例混合后涂布于所述基板的绑定区，对其进行固化处理，形成驱动反馈层。
进一步地，所述在驱动反馈层的上表面制备出磁响应层的步骤包括：将磁性颗粒添加至所述聚二甲基硅氧烷基体中，涂布于所述驱动反馈层的上表面，对其固化处理后，形成磁响应层。
进一步地，所述在所述磁响应层的上表面制备出润滑层的步骤包括：将所述聚二甲基硅氧烷基体与所述交联剂以15：1～25：1的比例混合后，均匀涂布于所述磁响应层的上表面，对其进行固化处理，形成多孔结构膜层；以及将三氯硅烷涂覆于所述多孔结构膜层的上表面，对其进行氟化处理，形成润滑层。
为实现上述目的，本发明还提供一种显示面板，包括：基板，所述基板包括显示区以及绑定区；磁性复合结构，设于所述基板的绑定区内；以及配向膜，均匀设于所述基板的上表面。
进一步地，所述磁性复合结构包括：驱动反馈层，设于所述基板上；磁响应层，设于所述驱动反馈层远离所述基板的一侧；以及润滑层，设于所述磁响应层远离所述驱动反馈层的一侧。
进一步地，将磁探针放置于所述磁性复合结构的下方，并控制所述磁探针开启，所述磁探针与所述磁性复合结构之间相互作用，在所述磁性复合结构的表面形成凹槽，所述配向膜的液滴延伸至所述凹槽内，控制所述磁探针关闭后，所述磁性复合结构恢复成平整面，使得所述液滴均匀分布。
本发明的技术效果在于，在显示面板的边框绑定区内设置磁性复合结构，通过磁探针和磁性复合结构的相互作用，所述磁性复合结构发生可恢复性微形变，促使位于所述磁性复合结构上的配向膜液滴快速流平填补空隙，提高所述配向膜的分布均匀性，提高所述配向膜的涂布精度，改善所述显示面板的显示均一性。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本申请实施例提供的显示面板的制备方法的流程图；
图2是本申请实施例提供的显示面板的示意图；
图3是本申请实施例提供的磁性复合结构的示意图；
图4是本申请实施例提供的控制磁探针开启时的状态图；
图5是本申请实施例提供的控制磁探针关闭时的状态图；
图6是本申请实施例提供的显示面板的结构示意图；
图7是本申请实施例提供的控制磁探针开启时的倾斜角度示意图。
附图标记说明：
1、显示面板；2、磁性复合结构；3、磁探针；4、配向膜；
100、显示区；200、绑定区；
201、凹槽；
21、驱动反馈层；22、磁响应层；23、润滑层；
221、磁性颗粒；
41、液滴。
具体实施方式
下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。此外，应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本申请，并不用于限制本申请。在本申请中，在未作相反说明的情况下，使用的方位词如“上”和“下”通常是指装置实际使用或工作状态下的上和下，具体为附图中的图面方向；而“内”和“外”则是针对装置的轮廓而言的。
本申请实施例提供一种显示面板及其制备方法。以下分别进行详细说明。需说明的是，以下实施例的描述顺序不作为对实施例优选顺序的限定。
如图1至图7所示，本实施例提供一种显示面板的制备方法，包括步骤S1～S4。
S1提供基板1，所述基板1包括显示区100以及绑定区200(参见图2)，所述显示区100用以实现显示功能，所述绑定区200设于所述显示区100的下边框处，用以邦定走线。
S2在所述基板1的绑定区200内设置磁性复合结构2，形成所述磁性复合结构2包括依次制备出驱动反馈层21、磁响应层22以及润滑层23(参见图3)。
所述磁性复合结构2的制备过程具体包括：在所述基板1的绑定区200的上表面制备出驱动反馈层21；在所述驱动反馈层21的上表面制备出磁响应层22；在所述磁响应层22的上表面制备出润滑层23。
所述驱动反馈层21由低交联密度的聚二甲基硅氧烷弹性体制备而成，具体的，制备所述驱动反馈层21的步骤包括：提供聚二甲基硅氧烷基体与交联剂材料备用，在本实施例中以所述聚二甲基硅氧烷基体与所述交联剂的比例为50:1为例，先将所述聚二甲基硅氧烷基体与所述交联剂放置于真空腔体中进行真空脱泡，目的为增强所述聚二甲基硅氧烷基体与所述交联剂之间的粘合度，形成所述聚二甲基硅氧烷基体与所述交联剂的混合物，将所述混合物均匀涂布于所述绑定区200，涂布厚度为1～3微米，在60～65℃的温度下，对其进行固化处理，固化时间为5～6小时，形成所述驱动反馈层21。
制备所述磁响应层22的步骤包括：提供所述聚二甲基硅氧烷基体与所述交联剂材料备用，先将所述聚二甲基硅氧烷基体与所述交联剂放置于真空腔体中进行真空脱泡，目的为增强所述聚二甲基硅氧烷基体与所述交联剂之间的粘合度，将质量分数为60～90wt％的磁性颗粒221加入到所述聚二甲基硅氧烷基体中，在本实施例中，所述磁性颗粒221与所述聚二甲基硅氧烷基体的比例范围为20:1～70:1，所述磁性颗粒221在本实施例之后优选为微米级铁颗粒，涂布在所述驱动反馈层21的上表面，涂布厚度为0.1～3微米，在60～65℃的温度下对其进行固化处理，固化时间为5～6小时，形成所述磁响应层22，所述磁响应层22为含有磁性颗粒221的高分子聚合物复合结构。
制备所述润滑层23的步骤包括：提供所述聚二甲基硅氧烷基体与所述交联剂材料备用，先将所述聚二甲基硅氧烷基体与所述交联剂放置于真空腔体中进行真空脱泡，目的为增强所述聚二甲基硅氧烷基体与所述交联剂之间的粘合度，在本实施例中，所述聚二甲基硅氧烷基体与所述交联剂的质量比为15:1～25:1，所述聚二甲基硅氧烷基体与所述交联剂当做遮蔽物。
将所述聚二甲基硅氧烷基体与所述交联剂混合均匀后，涂布在所述磁响应层22的上表面，涂布厚度为0.1～3um，在60～65℃的温度下，先对其进行固化处理半个小时，当形成二氧化硅多孔结构后，所述遮蔽物在65℃的温度下再进行固化处理4～6小时，使所述遮蔽物完全固化，形成多孔结构膜层。
最后通过化学气相沉积的方法将三氯(1H，1H，2H，2H-全氟辛基)硅烷涂覆在所述多孔结构膜层的上表面，对其进行氟化处理，形成所述润滑层23。所述多孔结构膜层即能表现出超疏液性，涂布所述三氯硅烷是为了增强所述润滑层23表面的润滑效果，防止阻碍后续配向膜的液滴41的滑动与流平。所述润滑层23内具有微纳多孔结构，液体灌注于所述多孔结构后形成超滑疏液表面，所述润滑层23为可形变固态润滑层。
S3在所述基板1的一侧对应于所述绑定区200的位置放置磁探针3。
S4在所述基板1的上表面滴加液滴41，控制所述磁探针3开启，使得所述磁探针3与所述磁性复合结构2之间相互作用，进而在所述基板1的上表面形成厚度均匀的配向膜4。
采用喷墨打印的方式，在所述磁性复合结构2的所述润滑层23的上表面滴加液滴41。
如图4所示，将所述磁探针3放置于任意两个所述液滴41之间空隙处的下方，并控制所述磁探针3开启，所述磁探针3与所述磁性复合结构2相互作用，所述磁性复合结构2会发生可恢复性形变，在所述磁性复合结构2的表面形成若干凹槽201，因为所述磁性复合结构2的上表面为具有超强润滑性能的润滑层23，所以所述液滴41会迅速流平并延伸至所述凹槽201内，填补所述液滴41未覆盖的区域，进而改善所述配向膜4的膜层均匀性，提高所述配向膜4的涂布精度。
如图5所示，当所述液滴41流平到一定程度后，即可控制所述磁探针3关闭，即关闭磁场环境，此时，所述磁性复合结构2即可恢复成平整面，形成均匀平整的配向膜4(参见图6)，进而可以保证显示区域显示均一性，提高所述配向膜4的涂布精度，改善显示效果。
一般情况下，所述液滴41在滴下后会迅速流平，但是在位于所述基板1的边缘处的所述绑定区200内，会出现因为边缘直线性差导致的各种不良状况，例如液滴41流动不均，配向膜4的边缘膜厚不均，显示区100周边显示不均、边缘漏光等现象。
而在本实施中，在所述绑定区200内设置所述磁性复合结构2和磁探针3，开启所述磁探针3后，通过构建磁场来刺激液滴41的精细移动，所述磁性复合结构2将含有所述磁性颗粒221的磁响应层22与微纳结构液体灌注形成的超滑疏液表面润滑层23相结合。由于所述磁探针3与所述磁响应层22之间的相互作用力，所述驱动反馈层21会发生可逆微形变(参见图4)，实现所述绑定区200由磁场刺激驱动所述液滴41及周边膜厚不均的区域发生微形变，进而实现精细操控，改善配向膜4的膜层均匀性。
如图7所示，在所述磁性复合结构2发生微形变时，会形成一个倾斜角度，所述倾斜角度可称为低滑动角θ，所述低滑动角的范围为0～2°，且θrec与θadv的角度大小相等或近似相等，θrec与θadv的角度的差值越小越好，便于所述液滴41的流平。
当所述磁响应层22中所述磁性颗粒221的质量分数固定时，所述磁性复合结构2变形的主要原因取决于所述磁探针3的作用距离、场强以及所述聚二甲基硅氧烷基体的模量。
所述作用距离即为所述驱动反馈层21的厚度，所以可以通过改变所述驱动反馈层21的厚度来控制所述作用距离的长度，所述模量可以通过所述聚二甲基硅氧烷基体与所述交联剂的交联度来控制，在本实施例中，所述聚二甲基硅氧烷基体与所述交联剂的比例为20:1～70:1。
本实施例通过在所述绑定区200设置所述磁性复合结构2，来刺激所述配向膜4的液滴41在滴落后精细移动流平，改善显示面板边缘处的显示均一性，提高所述配向膜4的涂布精度，进而更适用于超窄边框。
如图2、图6所示，本申请还提供一种显示面板，所述显示面板包括显示区100以及绑定区200，所述显示面板具有基板1、磁性复合结构2以及配向膜4。
磁性复合结构2包括驱动反馈层21、磁响应层22以及润滑层23(参见图3)。
所述驱动反馈层21由低交联密度的聚二甲基硅氧烷弹性体制备而成，膜层厚度为1～3微米。
所述磁响应层22为包含磁性颗粒221的高分子聚合物复合结构，所述磁性颗粒221优选为微米级铁颗粒，所述磁响应层22的膜层厚度为0.1～3微米。
所述润滑层23内具有微纳多孔结构，液体灌注于所述多孔结构后形成超滑疏液表面，所述润滑层23为可形变固态润滑层，所述润滑层23的膜层厚度为0.1～3微米。
所述配向膜4均匀地分布于所述基板1以及所述润滑层23的上表面。
如图4所示，，将磁探针3放置于所述配向膜4的涂布不均处，并控制所述磁探针3开启，所述磁探针3与所述磁性复合结构2之间相互作用，所述磁性复合结构2会发生可恢复性形变，所述磁性复合结构2的上表面形成若干凹槽201，因为所述磁性复合结构2的上表面为具有超强润滑性能的润滑层23，所以所述液滴41会迅速流平并延伸至所述凹槽201内，来填补所述液滴41未覆盖的区域，进而改善所述配向膜4的膜层均匀性。
如图5所示，当所述液滴41流平到一定程度后，即可控制所述磁探针3关闭，即关闭磁场环境，此时，所述磁性复合结构2即可恢复成平整面，形成均匀平整的配向膜4，进而可以保证显示区域显示均一性，提高所述配向膜4的涂布精度，改善所述显示面板的显示效果。
如图7所示，在所述磁性复合结构2发生微形变时，会形成一个倾斜角度，所述倾斜角度可称为低滑动角θ，所述低滑动角的范围为0～2°，且θrec与θadv的角度大小相等或近似相等，θrec与θadv的角度的差值越小越好，便于所述液滴41的流平。
当所述磁响应层22中所述磁性颗粒221的质量分数固定时，所述磁性复合结构2变形的主要原因取决于所述磁探针3的作用距离、场强以及所述聚二甲基硅氧烷基体的模量。
所述作用距离即为所述驱动反馈层21的厚度，所以可以通过改变所述驱动反馈层21的厚度来控制所述作用距离的长度，所述模量可以通过所述聚二甲基硅氧烷基体与交联剂的交联度来控制，在本实施例中，所述聚二甲基硅氧烷基体与所述交联剂的比例为20:1～70:1。
本实施例通过在所述绑定区200设置所述磁性复合结构2，来刺激所述配向膜4的液滴41在滴落后精细移动流平，改善显示面板边缘处的显示均一性，提高所述配向膜4的涂布精度，进而更适用于超窄边框显示面板。
以上对本申请实施例所提供的一种显示面板及其制备方法进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请的方法及其核心思想；同时，对于本领域的技术人员，依据本申请的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本申请的限制。

Claims (10)

1.一种显示面板的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
提供一基板，所述基板包括显示区以及绑定区，且在所述基板内设有磁性复合结构；
在所述基板的一侧对应于所述绑定区的位置放置磁探针；以及
在所述基板的上表面滴加液滴，控制所述磁探针开启，使得所述磁探针与所述磁性复合结构之间相互作用，进而在所述基板的上表面形成均匀厚度的配向膜。
2.如权利要求1所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述在所述基板的上表面滴加液滴，控制所述磁探针开启的步骤包括：
采用喷墨打印的方式在所述磁性复合结构上滴加液滴；
将所述磁探针放置于任意两个所述液滴之间空隙处的下方，并控制所述磁探针开启，所述磁探针与所述磁性复合结构之间相互作用，在所述磁性复合结构的表面形成凹槽，所述液滴延伸至所述凹槽内，控制所述磁探针关闭后，所述磁性复合结构恢复成平整面，使得所述液滴均匀分布。
3.如权利要求1所述的显示面板的制备方法，其特征在于，
控制所述磁探针开启时，所述磁探针与所述磁性复合结构相互作用，所述磁性复合结构发生形变时，所述液滴所在磁性复合结构与水平面之间的倾斜角度为0～2°。
4.如权利要求1所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述磁性复合结构的制备步骤包括以下步骤：
在所述基板的上表面制备出驱动反馈层；
在驱动反馈层的上表面制备出磁响应层；以及
在所述磁响应层的上表面制备出润滑层。
5.如权利要求4所述的显示面板的制备方法，其特征在于，在所述基板的上表面制备出驱动反馈层包括以下步骤：
将聚二甲基硅氧烷基体与交联剂放置于真空腔体中进行真空脱泡；以及
将所述聚二甲基硅氧烷基体与所述交联剂以50:1的比例混合后涂布于所述基板的绑定区，对其进行固化处理，形成驱动反馈层。
6.如权利要求5所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述在驱动反馈层的上表面制备出磁响应层的步骤包括：
将磁性颗粒添加至所述聚二甲基硅氧烷基体中，涂布于所述驱动反馈层的上表面，对其固化处理后，形成磁响应层。
7.如权利要求6所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述在所述磁响应层的上表面制备出润滑层的步骤包括：
将所述聚二甲基硅氧烷基体与所述交联剂以15：1～25：1的比例混合后，均匀涂布于所述磁响应层的上表面，对其进行固化处理，形成多孔结构膜层；以及
将三氯硅烷涂覆于所述多孔结构膜层的上表面，对其进行氟化处理，形成润滑层。
8.一种显示面板，其特征在于，包括：
基板，所述基板包括显示区以及绑定区；
磁性复合结构，设于所述基板的绑定区内；以及
配向膜，均匀设于所述基板的上表面。
9.如权利要求8所述的显示面板，其特征在于，
所述磁性复合结构包括：
驱动反馈层，设于所述基板上；
磁响应层，设于所述驱动反馈层远离所述基板的一侧；以及
润滑层，设于所述磁响应层远离所述驱动反馈层的一侧。
10.如权利要求8所述的显示面板，其特征在于，
将磁探针放置于所述磁性复合结构的下方，并控制所述磁探针开启，所述磁探针与所述磁性复合结构之间相互作用，在所述磁性复合结构的表面形成凹槽，所述配向膜的液滴延伸至所述凹槽内，控制所述磁探针关闭后，所述磁性复合结构恢复成平整面，使得所述液滴均匀分布。
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