JP4755132B2 - 液晶表示素子、その製造装置及びその製造方法 - Google Patents
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Description
300 インクジェットスペーサー噴射装置
400 スペーサー
610 ゲート配線
620 データ配線
630 薄膜トランジスタ
640 画素電極
Claims (16)
- 第1基板及び第2基板を準備する工程と、
インクジェット工程を用いて前記第1基板または前記第2基板の上に正の電荷に帯電したスペーサーと負の電荷に帯電したスペーサーを混合して噴射する工程とを含み、
前記正の電荷に帯電したスペーサーと前記負の電荷に帯電したスペーサーとの間の電気的引力によってスペーサーの移動が防止されることを特徴とする液晶表示素子の製造方法。
- 前記スペーサーは、揮発性溶剤と一緒に噴射されることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示素子の製造方法。
- 前記第1基板を準備する工程は、
前記第1基板上に遮光層を形成する工程と、
前記遮光層を含む第1基板上にカラーフィルタ層を形成する工程とを含むことを特徴とする請求項1に記載の液晶表示素子の製造方法。
- 前記スペーサーは、前記遮光層に対応する領域に噴射されることを特徴とする請求項3に記載の液晶表示素子の製造方法。
- 前記第2基板を準備する工程は、
互いに縦横に交差して画素領域を定義するゲート配線及びデータ配線を前記第2基板上に形成する工程と、
前記ゲート配線とデータ配線との交差領域に薄膜トランジスタを形成する工程と、
前記薄膜トランジスタと電気的に連結された画素電極を形成する工程とを含むことを特徴とする請求項1に記載の液晶表示素子の製造方法。
- 前記スペーサーは、前記ゲート配線、データ配線及び薄膜トランジスタのうち少なくとも何れか一つに対応する領域に噴射されることを特徴とする請求項5に記載の液晶表示素子の製造方法。
- 前記インクジェット工程を用いてスペーサーを噴射する工程は、少なくとも一つの噴射ノズル及び少なくとも一つのスペーサー供給部を含んで構成されるインクジェットスペーサー噴射装置を用いて行われることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示素子の製造方法。
- 前記正の電荷に帯電したスペーサー及び負の電荷に帯電したスペーサーは、互いに異なるスペーサー供給部から噴射されることを特徴とする請求項7に記載の液晶表示素子の製造方法。
- 前記第1基板または前記第2基板のうち何れか一つの基板上に、注入口のないシール材を形成する工程と、
前記第1基板または前記第2基板のうち前記スペーサーが噴射された基板上に液晶を滴下する工程と、
前記第1基板と前記第2基板とを合着する工程とをさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の液晶表示素子の製造方法。
- 前記正の電荷に帯電したスペーサー及び負の電荷に帯電したスペーサーは、同一の個数で混合されることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示素子の製造方法。
- 前記スペーサーは、ボール形態に形成されることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示素子の製造方法。
- 正の電荷に帯電したスペーサー及び負の電荷に帯電したスペーサーを供給するスペーサー供給部と、
前記スペーサー供給部から供給された、正の電荷に帯電したスペーサーと負の電荷に帯電したスペーサーを、インクジェット工程を用いて第1及び第2基板のうち何れか一つの基板上に混合して噴射する少なくとも一つの噴射ノズルとを備え、
前記正の電荷に帯電したスペーサーと前記負の電荷に帯電したスペーサーとの間の電気的引力によってスペーサーの移動が防止されることを特徴とする液晶表示素子の製造装置。
- 前記噴射ノズルは、
カラーフィルタを区分するために前記第1基板上に形成された遮光層に対応する領域に前記スペーサーを噴射することを特徴とする請求項12に記載の液晶表示素子の製造装置。
- 前記噴射ノズルは、
前記第2基板上に形成されたゲート配線、データ配線及び薄膜トランジスタのうち少なくとも何れか一つに対応する領域に噴射されることを特徴とする請求項12に記載の液晶表示素子の製造装置。
- 前記スペーサー供給部は、
前記正の電荷に帯電したスペーサーを供給する第1スペーサー供給部と、
前記負の電荷に帯電したスペーサーを供給する第2スペーサー供給部と、を含むことを特徴とする請求項12に記載の液晶表示素子の製造装置。
- 前記噴射ノズルは、
前記正の電荷に帯電したスペーサー及び負の電荷に帯電したスペーサーを同一の個数で混合して噴射することを特徴とする請求項12に記載の液晶表示素子の製造装置。
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