CN104353594B - 一种涂布方法及涂布装置 - Google Patents

Abstract

根据本发明涉及一种涂布方法及涂布装置，其中涂布方法步骤包括：将混入磁性颗粒的待涂物涂布在载体的待涂面上；在待涂面上施加交变磁场以促使磁性颗粒在待涂物内产生振动，从而使得待涂物在待涂面上分布均匀。根据本发明的涂布方法和喷涂装置，能够把待涂物均匀涂布在载体的待涂面上，以避免因待涂物的分布不均而带来不利影响。

Description

一种涂布方法及涂布装置

技术领域

本发明属于涂布技术领域，尤其涉及一种涂布方法及涂布装置。

背景技术

涂布方法通常分为辊压式涂布方法和喷涂式涂布方法，其能够把胶液或油漆等待涂物涂布在玻璃基板、纸、布、树脂或机械零部件等载体上。涂布方法的应用非常广泛，例如机械零部件的喷漆、薄膜的制造以及液晶面板的TFT玻璃和彩膜滤光片的制造等。

目前，通常使用气压方式把喷嘴内的待涂物喷涂在载体上，喷嘴在载体的上方匀速移动进行喷涂，以得到相对均匀的待涂物层。但是，当喷嘴内存在异物或喷嘴移动过程出现振动，喷涂在载体上的待涂物层就会出现不均。

发明内容

为了解决上述问题，本发明的目的是提供一种涂布方法和涂布装置，其能够把待涂物均匀涂布在载体的待涂面上。

根据本发明的第一方面，提供了一种涂布方法，其步骤包括：将混入磁性颗粒的待涂物涂布在载体的待涂面上；在待涂面上施加交变磁场以促使磁性颗粒在待涂物内产生振动，从而使得待涂物在待涂面上分布均匀。当涂布在载体的待涂面上的待涂物分布不均时，待涂物内振动的磁性颗粒将促动待涂物产生小范围流动，从而使其均匀分布在载体的待涂面上。

在一个实施例中，交变磁场由输入交变电流的电磁铁组形成。由于电磁铁组形成的交变磁场的灵活性较强，因此通过输入的交变电流可以改变磁场强度和交变频率，以使该涂布方法适用于不同厚度的涂布于待涂面的待涂物层。

在一个实施例中，电磁铁组由以阵列分布的电磁铁组成，阵列由多个排和多个列组成，各排内的任意相邻电磁铁的间距均等于各列内的任意相邻电磁铁的间距。这种阵列分布的电磁铁组能够使其产生大致均匀的电磁场，促使运动在磁场内大部分磁性颗粒运动大致相同，进一步促使待涂物在载体的待涂面上分布均匀。

在一个实施例中，交变电流为恒定频率的交变电流。当输入恒定频率的交变电流时，电磁铁组能够产生均匀有序的变化磁场，使得其作用于各磁性颗粒的磁力和时间相等，从而使得各磁性颗粒的往复运动的行程大致相同，更进一步地促使待涂物在载体的待涂面上分布均匀。

在一个实施例中，待涂物为光刻胶，而载体为制造液晶面板TFT玻璃或彩膜滤光片的玻璃基板。使用本发明的涂布方法在玻璃基板上涂布的光刻胶，能够促使光刻胶的分布均匀，避免在显示屏上出现宏观色不均。

在一个实施例中，交流电流的频率大于3000Hz，磁性颗粒选择成能够在150℃-300℃时失去磁性的且粒径为10-99nm的颗粒，每毫升混合物内含有100-200粒磁性颗粒。通过这种方法，不仅可以确保光刻胶层的分布均匀，满足液晶面板TFT或彩膜滤光片的需求，而且还可以避免磁性颗粒干扰显示面板的正常显示。

在一个实施例中，在待涂面的边缘处施加恒定磁场，以促使磁性颗粒在待涂面的边缘处进行堆积，以阻止待涂物外流。由此可以避免资源浪费，扩大涂布后载体的可利用面积，从而可以省略后续的切边步骤，提高生产效率。

根据本发明第二方面，提供了一种涂布装置，其包括：用于放置载体的承载面；能够把混入磁性颗粒的待涂物涂布在载体的待涂面上的涂布机构；以及设在承载面下方的交变磁场源。其中，交变磁场源构造成能够在待涂面上产生交变磁场，并促使磁性颗粒在待涂物内产生振动，从而使待涂物在待涂面上均匀分布。

在一个实施例中，交变磁场源为输入交流电流的第一电磁铁组。第一电磁铁组形成的交变磁场的灵活性较强，通过改变输入的交变电流能够改变磁场强度和交变频率，以使该涂布装置适用于不同厚度的涂布于待涂面的待涂物层。

在一个实施例中，第一电磁铁组由以阵列分布的第一电磁铁组成，阵列由多个排和多个列组成，排内任意相邻的第一电磁铁的间距等于列内任意相邻的第一电磁铁的间距。这种阵列分布的第一电磁铁组能够使其产生大致均匀的电磁场，促使各磁性颗粒的运动大致相同，进一步促使待涂物在载体的待涂面上分布均匀。

在一个实施例中，交流电流为恒定频率的交流电流。当输入恒定频率的交变电流时，电磁铁组能够产生均匀有序的变化磁场，使得其作用于各磁性颗粒的磁力和时间相等，从而使得各磁性颗粒的往复运动的行程大致相同，更进一步地促使待涂物在载体的待涂面上分布均匀。

在一个实施例中，待涂物为光刻胶，而载体为制造液晶面板TFT玻璃或彩膜滤光片的玻璃基板。使用本发明的涂布装置在玻璃基板上涂布的光刻胶，能够促使光刻胶的分布均匀，避免显示屏出现异常。

在一个实施例中，交流电流的频率大于3000Hz，磁性颗粒选择成能够在150℃-300℃时失去磁性的且粒径为10-99nm的颗粒，每毫升混合物内含有100-200粒磁性颗粒。使用本发明的涂布装置在玻璃基板上涂布的光刻胶，能够促使光刻胶的分布均匀，避免显示屏出现异常。

在一个实施例中，所述涂布装置还包括设置在承载面的边缘处下方的恒定磁场源，恒定磁场源构造成能够促使磁性颗粒在待涂面的边缘处进行堆积，从而阻止待涂物外流。由此可以避免资源浪费，扩大涂布后载体的可利用面积，从而省略后续的切边步骤，提高生产效率。

在一个实施例中，恒定磁场为输入直流电流的第二电磁铁组，第二电磁铁组由多个环绕在交变磁场源外的第二电磁铁组成，任意相邻第二电磁铁的间隔距离为定值。这种间隔距离间隔的第二电磁铁能够产生均匀电场，以使待涂面的边缘处的磁性颗粒分布比较均匀。

根据本发明的涂布方法和喷涂装置，能够把待涂物均匀涂布在载体的待涂面上，以避免因待涂物的分布不均而带来不利影响，例如漆层不均造成的美观效果不佳、薄膜厚度不均造成的性能降低以及TFT玻璃和彩膜滤光片的玻璃基板上的光刻胶层不均造成的显示异常。

同时，根据本发明的涂布方法和喷涂装置还能够避免资源浪费，扩大涂布后载体的可利用面积，从而可以省略后续的切边步骤，提高生产效率。

另外，根据本发明的喷涂装置的结构简单紧凑，加工方便，装配简单，使用安全高效，从而便于实施推广应用。

附图说明

在下文中将基于实施例并参考附图来对本发明进行更详细的描述。其中：

图1为根据本发明的涂布装置的结构示意图；以及

图2为沿图1中A-A线的剖视图。

在附图中，相同的部件使用相同的附图标记。附图并未按照实际的比例绘制。

具体实施方式

下面将结合附图对本发明作进一步说明。

图1和2显示了根据本发明的涂布装置10，其主要用于向载体3上涂布待涂物7，并促使形成在载体3上的待涂物层分布均匀。该涂布装置10包括基座2和形成在基座2的顶端的承载面2a。承载面2a用于放置载体3，其与载体3的接触面能够完全吻合。在一个优选的实施例中，承载面2a为平面，以用于放置玻璃基板(即载体3)。

根据本发明，该涂布装置10还包括能够把混入磁性颗粒的待涂物7涂布在载体3的待涂面3a上的涂布机构4，以及设在承载面2a下方的交变磁场源5。涂布机构4可选择成能够喷涂磁性颗粒的喷嘴，或者能够以滚压方式把待涂物7涂布在待涂面3a上的辊轮。其中，喷嘴和辊轮均属于本领域技术人员熟知，在此不作详细描述

根据本发明，交变磁场源5可设置在基座2的内部或底部的下方，其用于在待涂面3a上产生交变磁场，并促使磁性颗粒在待涂物7内产生振动，从而使待涂物7在待涂面3a上均匀分布。当涂布在载体3的待涂面3a上的待涂物7分布不均时，待涂物7内振动的磁性颗粒将促动待涂物7产生小范围流动，从而使其均匀分布在载体3的待涂面3a上。

待涂物7可为胶液或油漆，而载体3可为玻璃基板、纸、布、树脂或机械零部件等。通过涂布装置10进行涂布，可以避免因待涂物7的分布不均而带来不良影响，例如漆层不均造成的美观效果不佳、薄膜厚度不均造成的性能降低以及TFT玻璃和彩膜滤光片的玻璃基板上的光刻胶层不均造成的显示异常。

根据本发明，交变磁场源5可为输入交流电流的第一电磁铁组，当然也可以为能够切换永磁体磁极的装置。但是，由于第一电磁铁组形成的交变磁场的灵活性较强，因此在改变输入的交变电流同时能够改变磁场强度和交变频率，以使该涂布装置10适用于不同厚度的涂布于待涂面3a的待涂物层。

在该实施例中，第一电磁铁组由以阵列分布的第一电磁铁501组成，阵列由多个排和多个列组成，各排内的任意相邻第一电磁铁501的间距L1均等于各列内的任意相邻第一电磁铁501的间距L2。这种阵列分布的第一电磁铁501组能够产生大致均匀的电磁场，促使运动在磁场内大部分或全部磁性颗粒的运动大致相同，进一步促使待涂物7在载体3的待涂面3a上分布均匀。

在一个优选的实施例中，交变电流为恒定频率的交变电流。当第一电磁铁组输入恒定频率的交变电流时，第一电磁铁组能够产生均匀有序的变化磁场，使得其作用于各磁性颗粒的磁力和时间相等，从而使得各磁性颗粒的往复运动的行程大致相同，更进一步地促使待涂物7在载体3的待涂面3a上分布均匀。

在一个实施例中，各第一电磁铁501均为U形电磁铁，各U形电磁铁的缠绕方式和电流方向均相同，其开口端均处于同一平面并与承载面2a相平行。其中，U形电磁铁501的开口距离等于其与相邻U形电磁铁501之间的间隔距离。通过这种方式，可以促使交变磁场的磁场线的分布趋近均匀。

在另一个实施例中，各第一电磁铁501均为条形电磁铁，各条形电磁铁的缠绕方式和电流方向均相同，其一端均处于同一平面并与承载面2a相平行。通过这种方式，可以促使交变磁场的磁场线的分布趋近均匀。

在一个实施例中，待涂物7为光刻胶，而载体3为制造液晶面板TFT玻璃或彩膜滤光片的玻璃基板。通过根据本发明的涂布装置10在玻璃基板上涂布的光刻胶，能够确保涂布于玻璃基板的光刻胶层的分布趋近于均匀，进而避免显示屏出现异常。

交流电流的频率优选大于3000Hz，而磁性颗粒选择成能够在150℃-300℃时失去磁性的且粒径为10-99nm的颗粒，并且每毫升混合物内含有100-200粒磁性颗粒。所述的磁性颗粒可优选为铁氧体颗粒或NdFeB颗粒。通过这种方法，不仅可以确保光刻胶层的分布均匀，满足液晶面板TFT或彩膜滤光片的要求，而且还可以避免磁性颗粒干扰显示面板的正常显示。

为了避免载体的待涂面3a外缘处的待涂物7外流，涂布装置10还包括设置在承载面2a的边缘处下方的恒定磁场源6。恒定磁场源6处于虚线框B外并围绕着虚线框B分布，而交变磁场源5处于虚线框B内。恒定磁场源6构造成能够促使磁性颗粒在待涂面3a的边缘处进行堆积，从而阻止待涂物7外流。由此，可以避免资源浪费，扩大涂布后载体的可利用面积，从而省略后续的切边步骤，提高生产效率。

如图2所示，恒定磁场源6可为输入直流电流的第二电磁铁组。第二电磁铁组由多个环绕在交变磁场源外的第二电磁铁601组成，任意相邻的第二电磁铁601的间隔距离L3为定值。第二电磁铁601既可以是U形电磁铁，也可以条形电磁铁。这种间隔距离相等的第二电磁铁601能够产生均匀电场，以使待涂面3a的边缘处的磁性颗粒的分布比较均匀。

除此之外，本发明还提供了一种涂布方法，其步骤包括：将混入磁性颗粒和待涂物涂布在载体的上；在待涂面上施加交变磁场以促使磁性颗粒在待涂物内产生振动，从而使得待涂物在待涂面上分布均匀。当涂布在载体的待涂面上的待涂物分布不均时，待涂物内振动的磁性颗粒将促动待涂物产生小范围流动，从而使其均匀分布在载体的待涂面上。

待涂物可为胶液或油漆，而载体可为玻璃基板、纸、布、树脂或机械零部件等。通过这种涂布方法，可以避免因待涂物的分布不均而给待涂布后的载体带来不良影响，例如漆层不均造成的美观效果不佳、薄膜厚度不均造成的性能降低以及TFT玻璃和彩膜滤光片的玻璃基板上的光刻胶层不均造成的显示异常。

根据本发明的交变磁场由输入交变电流的电磁铁组形成，当然也可以由能够切换永磁体磁极的装置形成。但是，由于电磁铁组形成的交变磁场的灵活性较强，因此在改变输入的交变电流同时能够改变磁场强度和交变频率，以使该涂布方法适用于不同厚度的涂布于待涂面的待涂物层。

在一个实施例中，电磁铁组是由以阵列分布的电磁铁组成的。见图2，阵列由多个排和多个列组成，各排内的任意相邻电磁铁的间距L1均等于各列内的任意相邻电磁铁的间距L2。这种阵列分布的电磁铁组能够产生大致均匀的电磁场，促使运动在磁场内大部分磁性颗粒运动大致相同，进一步促使待涂物在载体的待涂面上分布均匀。

在一个优选的实施例中，交变电流为恒定频率的交变电流。当电磁铁组输入恒定频率的交变电流时，电磁铁组能够产生均匀有序的变化磁场，使得其作用于各磁性颗粒的磁力和时间相等，从而使得各磁性颗粒的往复运动的行程大致相同，更进一步地促使待涂物在载体的待涂面上分布均匀。

在一个实施例中，待涂物为光刻胶，而载体为制造液晶面板TFT玻璃或彩膜滤光片的玻璃基板。使用根据本发明的涂布方法在玻璃基板上涂布的光刻胶，能够确保涂布于玻璃基板的光刻胶层的分布趋近于均匀，进而避免在显示屏上出现宏观色不均。

电流频率的交流电流的频率选择成大于3000Hz，磁性颗粒选择成能够在150℃-300℃时失去磁性的且粒径为10-99nm的颗粒，每毫升混合物内含有100-200粒磁性颗粒。其中，所述的磁性颗粒可优选为铁氧体颗粒或NdFeB颗粒。通过这种方法，不仅可以确保光刻胶层的分布均匀，满足液晶面板TFT或彩膜滤光片的需求，而且还可以避免磁性颗粒干扰显示屏的正常显示。

为了避免载体的待涂面外缘处的待涂物外流，可在待涂面的边缘处施加恒定磁场，以促使磁性颗粒在待涂面的边缘处进行堆积，从而阻止待涂物外流。由此，可以避免资源浪费，提高涂布后载体的可利用面积，从而可以省略后续的切边步骤，提高生产效率。

需要说明的是，由于本领域技术人员根据实际的载体3和待涂物7能够选择合适的电压、电流和电磁铁线圈圈数等参数，因此为了节约篇幅不再详述。

根据本发明的涂布方法及涂布装置10能够把待涂物均匀涂布在载体的待涂面上，以避免因待涂物的分布不均而给载体带来不良影响，例如因光刻胶的分布不均而造成液晶面板的宏观色不均。

虽然已经参考优选实施例对本发明进行了描述，但在不脱离本发明的范围的情况下，可以对其进行各种改进并且可以用等效物替换其中的部件。尤其是，只要不存在结构冲突，各个实施例中所提到的各项技术特征均可以任意方式组合起来。本发明并不局限于文中公开的特定实施例，而是包括落入权利要求的范围内的所有技术方案。

Claims (13)

1.一种涂布方法，其特征在于，包括步骤：

步骤1，将混入磁性颗粒的待涂物涂布在载体的待涂面上；

步骤2，在所述待涂面上施加交变磁场，以促使所述磁性颗粒在所述待涂物内产生振动，从而使得所述待涂物在所述待涂面上均匀分布，

其中，在步骤2中，在所述待涂面的边缘处施加恒定磁场，以促使所述磁性颗粒在所述待涂面的边缘处进行堆积，以阻止所述待涂物外流。

2.根据权利要求1所述的涂布方法，其特征在于，所述交变磁场由输入交变电流的电磁铁组形成。

3.根据权利要求2所述的涂布方法，其特征在于，所述电磁铁组由以阵列分布的电磁铁组成，所述阵列由多个排和多个列组成，所述排内任意相邻的所述电磁铁的间距等于所述列内任意相邻的所述电磁铁的间距。

4.根据权利要求3所述的涂布方法，其特征在于，所述交变电流为恒定频率的交流电流。

5.根据权利要求1到4中任一项所述的涂布方法，其特征在于，所述待涂物为光刻胶，而所述载体为制造液晶面板TFT玻璃或彩膜滤光片的玻璃基板。

6.根据权利要求5所述的涂布方法，其特征在于，所述交流电流的频率大于3000Hz，所述磁性颗粒选择成能够在150℃-300℃时失去磁性的且粒径为10-99nm的颗粒，每毫升所述待涂物内含有100-200粒所述磁性颗粒。

7.一种涂布装置，其包括用于放置载体的承载面，其特征在于，所述涂布装置还包括能够把混入磁性颗粒的待涂物涂布在所述载体的待涂面上的涂布机构，以及设在所述承载面下方的交变磁场源，其中，所述交变磁场源构造成能够在所述待涂面上产生交变磁场，并促使所述磁性颗粒在所述待涂物内产生振动，从而使所述待涂物在所述待涂面上均匀分布，并且所述涂布装置包括设置在所述承载面的边缘处下方的恒定磁场源，所述恒定磁场源构造成能够促使所述磁性颗粒在所述待涂面的边缘处进行堆积，从而阻止所述待涂物外流。

8.根据权利要求7所述的涂布装置，其特征在于，所述交变磁场源为输入交流电流的第一电磁铁组。

9.根据权利要求8所述的涂布装置，其特征在于，所述第一电磁铁组由以阵列分布的第一电磁铁组成，所述阵列由多个排和多个列组成，所述排内任意相邻的所述第一电磁铁的间距等于所述列内任意相邻的所述第一电磁铁的间距。

10.根据权利要求7所述的涂布装置，其特征在于，所述交流电流为恒定频率的交流电流。

11.根据权利要求7到10中任一项所述的涂布装置，其特征在于，所述待涂物为光刻胶，而所述载体为制造液晶面板TFT玻璃或彩膜滤光片的玻璃基板。

12.根据权利要求11所述的涂布装置，其特征在于，所述交流电流的频率大于3000Hz，所述磁性颗粒选择成能够在150℃-300℃时失去磁性的且粒径为10-99nm的颗粒，每毫升所述待涂物内含有100-200粒所述磁性颗粒。

13.根据权利要求7所述的涂布装置，其特征在于，所述恒定磁场为输入直流电流的第二电磁铁组，所述第二电磁铁组由多个环绕在所述交变磁场源外的电磁铁组成，任意相邻所述第二电磁铁的间隔距离为定值。